JPH078228B2 - Incubator - Google Patents

Incubator

Info

Publication number
JPH078228B2
JPH078228B2 JP2156304A JP15630490A JPH078228B2 JP H078228 B2 JPH078228 B2 JP H078228B2 JP 2156304 A JP2156304 A JP 2156304A JP 15630490 A JP15630490 A JP 15630490A JP H078228 B2 JPH078228 B2 JP H078228B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
sensor
culture
culture chamber
path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2156304A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0445784A (en
Inventor
裕一 玉置
定美 萩口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2156304A priority Critical patent/JPH078228B2/en
Publication of JPH0445784A publication Critical patent/JPH0445784A/en
Publication of JPH078228B2 publication Critical patent/JPH078228B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は室内のガス環境を制御し、細胞等の培養を行う
ための培養装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a culture device for controlling a gas environment in a room and culturing cells and the like.

(ロ)従来の技術 従来この種培養装置は、癌細胞等の細胞組織を培養する
ため特開昭60−141279号公報に示される如く、室内の+
30℃以上の比較的高温とし、湿度を95%以上の高湿とす
ると共に、二酸化炭素濃度や酸素濃度等のガス環境を制
御できるように構成されている。
(B) Conventional Technology In order to culture a cell tissue such as a cancer cell, this seed culture device has conventionally been used in a room + as shown in JP-A-60-141279.
The temperature is set to a relatively high temperature of 30 ° C or higher, the humidity is set to a high humidity of 95% or higher, and the gas environment such as carbon dioxide concentration and oxygen concentration can be controlled.

このガス濃度の制御は、赤外線や、電気伝導度の変化を
利用して所定のガス濃度を検出するガスセンサーを用い
て行われるが、これらセンサーは当該センサーが測定し
ようとする資料ガスの温度や湿度によって影響を受けて
出力が変化してしまう。特に培養室内のガスは高湿であ
るので、この影響は大きい。
This gas concentration control is performed by using infrared rays or a gas sensor that detects a predetermined gas concentration by utilizing a change in electric conductivity. These sensors measure the temperature of the material gas to be measured by the sensor or The output changes due to the influence of humidity. Especially, since the gas in the culture chamber has high humidity, this influence is great.

そこで、前記公報では濃度を検出するための資料ガスを
冷却装置によって冷却することにより、一定の低温とし
て且つ除湿し、100%の恒湿状態としてガスセンサーに
送るようにしている。
Therefore, in the above publication, the material gas for detecting the concentration is cooled by a cooling device to be dehumidified at a constant low temperature and sent to the gas sensor as a 100% constant humidity state.

また、センサーとして赤外線式のセンサーを用いる場
合、光路の汚れや光源自体の劣化により長期的に赤外線
検出素子に到達する光の量が変化してしまうので、第3
図のような構造により、零点校正を行っていた。
Further, when an infrared type sensor is used as the sensor, the amount of light reaching the infrared detecting element changes over a long period of time due to dirt on the optical path or deterioration of the light source itself.
The zero point calibration was performed by the structure as shown in the figure.

第3図中、100は資料ガスを流す資料セル、101は比較ガ
スを封入した比較セル、102、103は赤外線の光源、104
はチョッパ、105は検出器であり、比較セル101透過する
赤外線による出力を用いて、定期的に零点校正を行うも
のである。
In FIG. 3, 100 is a reference cell in which a reference gas flows, 101 is a reference cell in which a reference gas is sealed, 102 and 103 are infrared light sources, and 104.
Is a chopper, and 105 is a detector for periodically performing zero-point calibration using the output of infrared rays transmitted through the comparison cell 101.

(ハ)発明が解決しようとする課題 然し乍ら、上記公報の如き構成では冷却装置が必要とな
るので装置全体が大型化してしまう。また、資料ガスの
水分を除去排出してしまうので、資料ガスを培養室内に
帰還させても培養室内の水分は浪費される。
(C) Problems to be Solved by the Invention However, since the cooling device is required in the configuration of the above publication, the entire device becomes large. Further, since the water content of the material gas is removed and discharged, even if the material gas is returned to the culture chamber, the water content inside the culture chamber is wasted.

更に、センサーはそれ自体の温度によっても影響を受け
る。特に、赤外線式ガスセンサーでは光源から発生する
赤外線の量が変化するので、外気温度が変化した場合に
は検出々力が変化してしまう問題があった。
Moreover, the sensor is also affected by its own temperature. In particular, in the infrared gas sensor, since the amount of infrared rays generated from the light source changes, there is a problem that the detected force changes when the outside air temperature changes.

更にまた、第3図の如き構造の零点校正法では常に2光
路が必要であり、高価なものとなると共に、実際には比
較セル101外面にも不純物が付着するので、零点は変動
する問題があった。
Furthermore, in the zero point calibration method having the structure as shown in FIG. 3, two optical paths are always required, which is expensive, and in reality, impurities adhere to the outer surface of the comparison cell 101, so that there is a problem that the zero point fluctuates. there were.

本発明は、これらの課題を解決することを目的とする。The present invention aims to solve these problems.

(ニ)課題を解決するための手段 本発明は、高湿度にて維持される培養室と、この培養室
内のガスを流通させる資料ガス経路と、この資料ガス経
路に設けたガスセンサーと、加熱手段と、培養室内のガ
ス濃度を制御する制御手段とから培養装置を構成し、制
御手段は資料ガス経路とガスセンサーを培養室内の温度
よりも高い所定の温度に維持するよう加熱手段を制御す
るよう構成したものである。
(D) Means for Solving the Problems The present invention is directed to a culture chamber maintained at high humidity, a reference gas path for circulating gas in the culture chamber, a gas sensor provided in the reference gas path, and heating. And a control unit for controlling the gas concentration in the culture chamber, the control unit controls the heating unit so as to maintain the material gas path and the gas sensor at a predetermined temperature higher than the temperature in the culture chamber. It is configured as follows.

また、上記培養装置において、資料ガス経路に導入した
資料ガスは培養室内に帰還させるようにしたものであ
る。
Further, in the above culture device, the material gas introduced into the material gas path is returned to the culture chamber.

更に、上記において、ガスセンサーには赤外線式ガスセ
ンサーを用い、この赤外線式ガスセンサーには湿度によ
って吸収される波長の透過を阻止するフィルタを設けた
ものである。
Further, in the above description, an infrared gas sensor is used as the gas sensor, and this infrared gas sensor is provided with a filter that blocks the transmission of wavelengths absorbed by humidity.

又、この培養装置において、ガスセンサーが位置する資
料ガス経路に外気を流通させる手段を設け、制御手段は
この外気を用いて赤外線式ガスセンサーの零点校正を行
うようにしたものである。
Further, in this culture device, means for circulating the outside air is provided in the material gas path in which the gas sensor is located, and the control means uses this outside air to calibrate the zero point of the infrared gas sensor.

(ホ)作用 本発明によれば、センサーは一定の温度に維持されるの
で外気温度に影響されず、安定した濃度検出が可能とな
る。また、資料ガス経路内に水分が疑結しないので雑菌
が成長しない。
(E) Action According to the present invention, since the sensor is maintained at a constant temperature, stable concentration detection can be performed without being affected by the outside air temperature. In addition, since there is no doubt that water is in the source gas path, bacteria will not grow.

また、資料ガスの水分を除去するものではないので、資
料ガスを培養室内に帰還せしめれば、ガスや加湿用の水
分の浪費が防止される。
Further, since the water content of the sample gas is not removed, if the sample gas is returned to the culture chamber, the waste of the gas and the humidifying water can be prevented.

更に、センサーとして赤外線式ガスセンサーを用い湿度
にて吸収される波長を除去するフィルタを設ければ、湿
度の変化によっても検出々力が変化しない。
Furthermore, if an infrared gas sensor is used as a sensor and a filter that removes wavelengths absorbed by humidity is provided, the detected power does not change even when the humidity changes.

また、資料ガス経路に外気を流通させて零点校正を行わ
せれば、零点校正に2光路を必要としない。
If the zero point calibration is performed by circulating the outside air through the sample gas path, the zero point calibration does not require two optical paths.

(ヘ)実施例 次に本発明の実施例を説明する。第1図は本発明の培養
装置1の構成図を示す。培養装置1の培養室2内は断熱
材7にて断熱されており、二酸化炭素を封入したガスボ
ンベ3と、窒素を封入したガスボンベ4とが別々の経路
5、6にてそれぞれ培養室2と連通せられる形となって
いる。各経路5及び6には二方弁から成るバルブ8、9
がそれぞれ介設されている。
(F) Example Next, an example of the present invention will be described. FIG. 1 shows a block diagram of a culture device 1 of the present invention. The inside of the culture chamber 2 of the culture device 1 is insulated by a heat insulating material 7, and a gas cylinder 3 enclosing carbon dioxide and a gas cylinder 4 enclosing nitrogen are connected to the culture chamber 2 via separate paths 5 and 6, respectively. It is a form that can be passed. Valves 8 and 9 consisting of two-way valves are provided in each of the paths 5 and 6.
Are installed respectively.

10は資料ガス経路であり、入口10aを培養室2に連通し
ており、ここにエアポンプ11と、流通ガス中の塵埃を除
去するフィルタ12と、二酸化炭素ガス濃度センサー13及
び酸素ガス濃度センサー14が介設され、エアポンプ11
は、入口10aから培養室2内の雰囲気を資料ガスとして
吸引し、各センサー13及び14に流通させた後、出口10b
より再び培養室2内に戻すよう動作する。
Reference numeral 10 denotes a reference gas path, which has an inlet 10a communicating with the culture chamber 2, where an air pump 11, a filter 12 for removing dust in the circulating gas, a carbon dioxide gas concentration sensor 13 and an oxygen gas concentration sensor 14 are provided. Is installed, the air pump 11
Sucks the atmosphere in the culture chamber 2 as a reference gas from the inlet 10a and circulates it to each sensor 13 and 14, and then the outlet 10b.
It operates so as to return it to the inside of the culture chamber 2 again.

二酸化炭素ガス濃度センサー13は第2図に分解図で示す
ような赤外線式ガスセンサーである。センサー13は近年
開発された所謂モジュレーションタイプの焦電形赤外線
検出器15と、遠赤外線を発生するヒーター等の光源16と
から構成される。赤外線検出器15はシールドボックス17
内に赤外線検出部Sを収納し、シールドボックス17に形
成した図示しない透孔に対応する位置に圧電バイモルフ
振動子18によって駆動されるスリット部材19から成るチ
ョッパCを設け、更にそれに対応する位置に透孔20を形
成したケース21にて全体をカバーし、このケース21内に
これらの部品を内蔵せしめている。スリット部材19は、
スリットを形成した2枚の板を重合関係に取り付けて構
成され、チョッパCに入力される駆動電圧の周波数と同
じ周波数で圧電バイモルフ振動子18が振動することによ
りスリットを開閉し透孔20より入射して赤外線検出部S
に到達する赤外線Uを断続して、赤外線量に応じた出力
をチョッパCの入力周波数と同じ周波数の交流信号とし
て発生する。
The carbon dioxide gas concentration sensor 13 is an infrared gas sensor as shown in the exploded view of FIG. The sensor 13 is composed of a so-called modulation type pyroelectric infrared detector 15 which has been developed in recent years and a light source 16 such as a heater which generates far infrared rays. Infrared detector 15 is shield box 17
The infrared detector S is housed inside, and a chopper C composed of a slit member 19 driven by the piezoelectric bimorph oscillator 18 is provided at a position corresponding to a through hole (not shown) formed in the shield box 17, and further at a position corresponding to that. The case 21 having the through holes 20 formed therein is entirely covered, and these parts are incorporated in the case 21. The slit member 19 is
It is configured by attaching two plates having slits in a superposed relationship, and the piezoelectric bimorph vibrator 18 vibrates at the same frequency as the frequency of the drive voltage input to the chopper C to open and close the slits and to enter through the through holes 20. And infrared detector S
The infrared ray U that reaches to is intermittently generated, and an output corresponding to the infrared ray amount is generated as an AC signal having the same frequency as the input frequency of the chopper C.

この光源16と透孔20間に第2図中破線矢印の如く資料ガ
スを流通させ、資料ガス中の二酸化炭素に赤外線が吸収
される性質を利用してガス濃度を検出する。
A material gas is circulated between the light source 16 and the through hole 20 as indicated by a broken line arrow in FIG. 2, and the gas concentration is detected by utilizing the property that infrared rays are absorbed by carbon dioxide in the material gas.

また、透孔20にはサファイヤガラス22がはめ込まれる
が、そこには湿度によって吸収される波長を除去するフ
ィルタが塗布形成されている。
A sapphire glass 22 is fitted into the through hole 20, and a filter for removing a wavelength absorbed by humidity is applied and formed there.

酸素ガス濃度センサー14は電気伝導度を検知する方式の
ガスセンサーであり、各センサー13及び14の出力はマイ
クロコンピュータにて構成される制御装置23に入力され
る。制御装置23には培養室2内の温度を検出するセンサ
ー24の出力も入力される。
The oxygen gas concentration sensor 14 is a gas sensor of a type that detects electrical conductivity, and outputs of the sensors 13 and 14 are input to a control device 23 configured by a microcomputer. The output of a sensor 24 that detects the temperature inside the culture chamber 2 is also input to the control device 23.

26は外気を導入するための外気経路であり、外気導入口
27にて一端を開口し、他端はフィルタ12と二酸化炭素ガ
ス濃度センサー13の間の資料ガス経路10に接続されてい
る。外気経路26には順次エアポンプ28とフィルタ29が介
設され、このエアポンプ28にて外気(大気)を資料ガス
経路10に流通させる。
26 is an outside air path for introducing outside air,
One end is opened at 27, and the other end is connected to the material gas path 10 between the filter 12 and the carbon dioxide gas concentration sensor 13. An air pump 28 and a filter 29 are sequentially provided on the outside air path 26, and the outside air (atmosphere) is circulated to the material gas path 10 by this air pump 28.

資料ガス経路10とエアポンプ11、フィルタ12及び29、各
センサー13及び14は断熱ケース30内に収納されて、外気
と断熱されると共に、このケース30内にはヒータ31及び
ケース30内の温度を検出するための温度センサー32が設
けられセンサー32の出力は制御装置23に入力される。
The material gas path 10, the air pump 11, the filters 12 and 29, and the sensors 13 and 14 are housed in a heat insulating case 30 to be insulated from the outside air, and the temperature in the heater 31 and the case 30 is kept in the case 30. A temperature sensor 32 for detection is provided, and the output of the sensor 32 is input to the control device 23.

34は培養室2内を加熱するためのヒータ、35は培養室2
加湿用の水を入れた容器である。
34 is a heater for heating the inside of the culture chamber 2, 35 is the culture chamber 2
It is a container containing water for humidification.

制御装置23はバルブ8及び9の制御出力をそれぞれ発生
すると共に、各エアポンプ11及び28の運転を制御し、更
に、SSR36及び37の導通を制御してヒータ31及び34の発
熱を制御する。
The control device 23 generates the control outputs of the valves 8 and 9, respectively, controls the operation of the air pumps 11 and 28, and further controls the conduction of the SSRs 36 and 37 to control the heat generation of the heaters 31 and 34.

次に、制御装置23の動作を説明する。一般にこの種培養
装置は、培養室2内の温度は+30〜40℃、湿度は95%以
上、二酸化炭素ガス濃度5%、酸素ガス濃度5%におけ
る用途が多い。また、酸素ガス濃度の制御に窒素ガスを
用いるのは大気中の酸素濃度が約21%であり、5%で使
用する場合は窒素ガスによって培養室2内の酸素ガス濃
度を下げる必要があるからである。
Next, the operation of the control device 23 will be described. Generally, this seed culture apparatus has many applications in which the temperature in the culture chamber 2 is +30 to 40 ° C., the humidity is 95% or more, the carbon dioxide gas concentration is 5%, and the oxygen gas concentration is 5%. Further, nitrogen gas is used to control the oxygen gas concentration because the oxygen concentration in the atmosphere is about 21%, and when it is used at 5%, it is necessary to lower the oxygen gas concentration in the culture chamber 2 by nitrogen gas. Is.

尚、大気中の二酸化炭素濃度は約0.03%であり、また、
説明の便宜上二酸化炭素ガス濃度の制御についてのみ説
明する。
The carbon dioxide concentration in the atmosphere is about 0.03%, and
For convenience of explanation, only the control of the carbon dioxide gas concentration will be described.

制御装置23はセンサー24の出力に基づき、SSR37を制御
してヒータ34の発熱を調節し培養室2内を例えば+37℃
等の一定の温度に維持する。
Based on the output of the sensor 24, the control device 23 controls the SSR 37 to control the heat generation of the heater 34 so that the inside of the culture chamber 2 is, for example, + 37 ° C.
Etc. to maintain a constant temperature.

また、ポンプ11を運転し、資料ガスを経路10に導入し、
各センサ13、14に流通させて各センサ13及び14から二酸
化炭素ガス濃度及び酸素ガス濃度に関する出力を得て各
バルブ8及び9を開閉し、培養室2内のガス環境を調節
する。
In addition, the pump 11 is operated, the reference gas is introduced into the path 10,
The gas environment in the culture chamber 2 is adjusted by circulating the gas through the sensors 13 and 14 and obtaining outputs related to the carbon dioxide gas concentration and the oxygen gas concentration from the sensors 13 and 14 to open and close the valves 8 and 9.

更に、制御装置23はセンサー32の出力に基づいてSSR36
を制御することにより、断熱ケース30内を培養室2内の
温度よりも高い一定の温度に維持する。例えば、培養室
2が前述の+3℃であれば断熱ケース30内は+42℃に維
持する。これによって資料ガス経路10及び各センサー13
及び14の温度は一定となるので、外気温度の変動に対し
ても検出々力が変化することはない。また、経路10は資
料ガスの温度より高いから、資料ガス中の水分が経路10
内で凝結することはなく、従って経路10内は常に乾燥状
態を維持され、雑菌が繁殖することもなく、更に、セン
サー13、14に水滴が付いて検出誤差が生じることもな
い。また、この資料ガスは培養室2内に戻されるから、
培養室2内の水分の浪費も生じない。
Further, the controller 23 uses the output of the sensor 32 to
Is controlled to maintain the inside of the heat insulating case 30 at a constant temperature higher than the temperature inside the culture chamber 2. For example, if the culture chamber 2 is + 3 ° C., the inside of the heat insulating case 30 is maintained at + 42 ° C. As a result, the reference gas path 10 and each sensor 13
Since the temperatures of 14 and 14 are constant, the detected force does not change even when the outside air temperature changes. Further, since the temperature of the route 10 is higher than the temperature of the source gas, the water content in the source gas is
Therefore, the inside of the passage 10 is always maintained in a dry state, no germs propagate, and the sensors 13 and 14 do not have a water drop to cause a detection error. Also, since this source gas is returned to the culture chamber 2,
There is no waste of water in the culture chamber 2.

次に、制御装置23は例えば4時間に1回エアポンプ11を
停止し(エアポンプの停止中に空気の逆流はない。以下
同じ。)、エアポンプ28を2分間運転して、外気の各セ
ンサー13及び14に流通し、それぞれが検出する大気の二
酸化炭素ガス濃度及び酸素ガス濃度を記憶し、大気の各
濃度は分かっているので、これによって二酸化炭素ガス
濃度センサー13の零点校正を実行する。
Next, the control device 23 stops the air pump 11 once every four hours (for example, there is no backflow of air while the air pump is stopped. The same applies hereinafter), and the air pump 28 is operated for 2 minutes to detect each sensor 13 for outside air and the outside air. The carbon dioxide gas concentration and the oxygen gas concentration of the atmosphere which are distributed to each of the air conditioners 14 are detected and stored, and since the respective concentrations of the atmosphere are known, the zero point calibration of the carbon dioxide gas concentration sensor 13 is executed by this.

従って、従来の如く零点校正のために2光路式の構造を
採る必要はなくなる。また、この零点校正は、二酸化炭
素ガス濃度センサー13の透孔20にはめこまれたサファイ
ヤガラス22には湿度によって吸収される波長を除去する
フィルタが塗布形成されているので、導入した外気の湿
度に影響されない。
Therefore, it is not necessary to adopt a two-optical path structure for zero point calibration as in the conventional case. Further, in this zero point calibration, the sapphire glass 22 fitted in the through hole 20 of the carbon dioxide gas concentration sensor 13 is formed with a filter for removing the wavelength absorbed by humidity, so that the humidity of the outside air introduced. Not affected by.

尚、制御装置23は同時に酸素ガス濃度センサー14のスパ
ン補正をも実行する。また、上記零点校正用の外気は活
性炭や石炭等の二酸化炭素吸着剤を通して導入しても良
く、それによって例えば1%以下の低二酸化炭素濃度の
制御も長期安定的に実行できる。
The controller 23 also executes span correction of the oxygen gas concentration sensor 14 at the same time. Further, the outside air for zero-point calibration may be introduced through a carbon dioxide adsorbent such as activated carbon or coal, whereby a low carbon dioxide concentration of, for example, 1% or less can be stably controlled for a long period of time.

(ト)発明の効果 本発明によれば、ガスセンサーは一定の温度に維持され
るので外気温度に影響されず、安定した濃度検出が可能
となる。また、資料ガス経路内に水分が凝結しないので
雑菌が成長せず、この水滴がガスセンサーに付着して検
出不能となることもない。
(G) Effect of the Invention According to the present invention, since the gas sensor is maintained at a constant temperature, stable concentration detection is possible without being affected by the outside air temperature. In addition, since moisture does not condense in the sample gas path, bacteria do not grow, and the water droplets do not adhere to the gas sensor and become undetectable.

また、資料ガスの水分を除去するものではないので、資
料ガスを培養室内に帰還せしめれば、ガスや加湿用の水
分の浪費が防止される。
Further, since the water content of the sample gas is not removed, if the sample gas is returned to the culture chamber, the waste of the gas and the humidifying water can be prevented.

更に、センサーとして赤外線式ガスセンサーを用い湿度
にて吸収される波長を除去するフィルタを設ければ、湿
度の変化によっても検出々力が変化しない。加えて資料
ガス経路に外気を流通させて零点校正を行わせれば、従
来の如く零点校正に2光路を必要とせず、総じて安価な
培養装置を提供できる。
Furthermore, if an infrared gas sensor is used as a sensor and a filter that removes wavelengths absorbed by humidity is provided, the detected power does not change even when the humidity changes. In addition, if the zero point calibration is performed by circulating the outside air through the source gas path, it is possible to provide an inexpensive culture device as a whole without the need for two optical paths for the zero point calibration as in the conventional case.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の培養装置の構成図、第2図は二酸化炭
素ガス濃度センサーの分解斜視図、第3図は従来の零点
校正を説明する図である。 1……培養装置、2……培養室、10……資料ガス経路、
13……二酸化炭素ガス濃度センサー、14……酸素ガス濃
度デンサー、22……サファイヤガラス、23……制御装
置、26……外気経路、30……断熱ケース、31……ヒー
タ、32……温度センサー。
FIG. 1 is a configuration diagram of a culture device of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of a carbon dioxide gas concentration sensor, and FIG. 3 is a diagram for explaining a conventional zero point calibration. 1 ... Incubator, 2 ... Incubator, 10 ... Data gas path,
13 …… Carbon dioxide gas concentration sensor, 14 …… Oxygen gas concentration denser, 22 …… Sapphire glass, 23 …… Control device, 26 …… Outside air path, 30 …… Insulation case, 31 …… Heater, 32 …… Temperature sensor.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】高湿度にて維持される培養室と、該培養室
内のガスを流通させる資料ガス経路と、該資料ガス経路
に設けたガスセンサーと、加熱手段と、前記培養室内の
ガス濃度を制御する制御手段とから成り、前記制御手段
は前記資料ガス経路とガスセンサーを前記培養室内の温
度よりも高い所定の温度に維持するよう前記加熱手段を
制御することを特徴とする培養装置。
1. A culture chamber maintained at high humidity, a material gas path for circulating a gas in the culture room, a gas sensor provided in the material gas path, a heating means, and a gas concentration in the culture room. And a control means for controlling the heating means, the control means controlling the heating means so as to maintain the material gas path and the gas sensor at a predetermined temperature higher than the temperature in the culture chamber.
【請求項2】資料ガス経路に導入した資料ガスは培養室
内に帰還させることを特徴とする請求項1記載の培養装
置。
2. The culture apparatus according to claim 1, wherein the material gas introduced into the material gas path is returned to the culture chamber.
【請求項3】ガスセンサーには赤外線式ガスセンサーを
用い、該赤外線式ガスセンサーには湿度によって吸収さ
れる波長の透過を阻止するフィルタを設けた請求項1記
載の培養装置。
3. The culture device according to claim 1, wherein an infrared gas sensor is used as the gas sensor, and the infrared gas sensor is provided with a filter for blocking transmission of wavelengths absorbed by humidity.
【請求項4】ガスセンサーが位置する資料ガス経路に外
気を流通させる手段を設け、制御手段はこの外気を用い
て赤外線式ガスセンサーの零点校正を行うことを特徴と
する請求項3記載の培養装置。
4. The culture according to claim 3, wherein a means for circulating outside air is provided in a material gas path in which the gas sensor is located, and the control means performs zero point calibration of the infrared gas sensor using this outside air. apparatus.
JP2156304A 1990-06-13 1990-06-13 Incubator Expired - Fee Related JPH078228B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2156304A JPH078228B2 (en) 1990-06-13 1990-06-13 Incubator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2156304A JPH078228B2 (en) 1990-06-13 1990-06-13 Incubator

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0445784A JPH0445784A (en) 1992-02-14
JPH078228B2 true JPH078228B2 (en) 1995-02-01

Family

ID=15624884

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2156304A Expired - Fee Related JPH078228B2 (en) 1990-06-13 1990-06-13 Incubator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH078228B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4799221B2 (en) * 2006-03-06 2011-10-26 三洋電機株式会社 Incubator for isolator
JP2008220235A (en) * 2007-03-12 2008-09-25 Sanyo Electric Co Ltd Culture apparatus
EP3372984B1 (en) * 2015-12-28 2020-08-12 PHC Holdings Corporation Gas-borne fine particle measuring instrument and clean environmental device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0445784A (en) 1992-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5468961A (en) Infrared gas analyser and humidity sensor
US9803877B2 (en) Bio sensor and air cleaner having same
US5792427A (en) Controlled atmosphere incubator
US20060148094A1 (en) Process for humidifying the useful space in an incubator and in a controlled atmosphere incubator
Field et al. Photosynthesis: principles and field techniques
JP4317089B2 (en) Equipment for quantitative determination of impurities in gas
DE60033802D1 (en) STERILIZATION OF COMPLETED SPACES
USRE28801E (en) Apparatus for evaluation of biological fluid
JP3548761B2 (en) Transparent thermostatic culture vessel for microscope observation
CN105702553A (en) Ion mobility spectrometer and carrier gas flow control method thereof
WO2020021835A1 (en) Ozone sensor and ozone detector
US4045679A (en) Fluorescent gas analyzer
KR20140002006A (en) Sensor unit, and constant-temperature device using sensor unit
JPH078228B2 (en) Incubator
JPH0422861A (en) Gaseous carbon dioxide detector
GB2162940A (en) Infrared fluid analyzer
JP4727444B2 (en) Gas analyzer and semiconductor manufacturing apparatus
JP3751148B2 (en) Gas measuring device
WO2018104529A1 (en) Measurement apparatus for measuring the concentration of a gaseous substance
GB2138949A (en) Method to zero-set a gas sensor in a gas-fed incubator
JPH05227942A (en) Apparatus for culturing
RU2762858C1 (en) Gas analyzer for monitoring the state of environmental objects and the method for its operation
JP2893086B2 (en) Control method of atmosphere in culture chamber in incubator
JP2006078338A (en) Space dose rate monitor
JPH0775552A (en) Culture system

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090201

Year of fee payment: 14

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees