JPH0778992B2 - Dynamic semiconductor memory device - Google Patents

Dynamic semiconductor memory device

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JPH0778992B2
JPH0778992B2 JP63040017A JP4001788A JPH0778992B2 JP H0778992 B2 JPH0778992 B2 JP H0778992B2 JP 63040017 A JP63040017 A JP 63040017A JP 4001788 A JP4001788 A JP 4001788A JP H0778992 B2 JPH0778992 B2 JP H0778992B2
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refresh
self
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ring oscillator
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正樹 熊野谷
宏之 山▲崎▼
隆宏 小松
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ダイナミック型半導体記憶装置に関し、特
に、少ない消費電力で基板バイアス電圧を発生すること
が可能なダイナミック型半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dynamic semiconductor memory device, and more particularly to a dynamic semiconductor memory device capable of generating a substrate bias voltage with low power consumption.

[従来の技術] 近年、パーソナルコンピュータ(以下PCと略す)の普及
が著しい。特に、最近では、携帯型PCに対する需要が増
大している。携帯型PCに用いられる記憶装置は、バッテ
リバックアップ(電池保持)が可能な、低消費電力のも
のが要求される。
[Prior Art] In recent years, personal computers (hereinafter abbreviated as PCs) have become extremely popular. In particular, recently, the demand for portable PCs is increasing. A storage device used for a portable PC is required to have a low power consumption capable of battery backup.

このような記憶装置として、通常、ダイナミック型半導
体記憶装置またはスタチック型半導体記憶装置が用いら
れる。このうちダイナミック型半導体記憶装置は、MOS
キャパシタに情報電荷を蓄積するという原理を利用して
いる。しかし、接合リークなどにより蓄積電荷が徐々に
失われるため、或る一定時間ごとに蓄積情報を再書込み
する必要がある。この再書込動作をリフレッシュとい
う。携帯用PCにおいてダイナミック型半導体記憶装置を
用いた場合、バッテリバックアップ時においても、一定
時間ごとにリフレッシュを行なう必要がある。
As such a memory device, a dynamic semiconductor memory device or a static semiconductor memory device is usually used. Of these, the dynamic semiconductor memory device is a MOS
It uses the principle of storing information charges in a capacitor. However, since the accumulated charge is gradually lost due to junction leakage or the like, it is necessary to rewrite the accumulated information at a certain fixed time. This rewriting operation is called refresh. When a dynamic semiconductor memory device is used in a portable PC, it is necessary to refresh at regular intervals even during battery backup.

一方、ダイナミック型半導体記憶装置では、▲▼
オンリーリフレッシュ、▲▼ビフォア▲▼
リフレッシュなどの通常のリフレッシュモードは、外部
クロック信号により1サイクルずつ制御されて実行され
る。したがって、バッテリバックアップ時にこのような
通常のリフレッシュモードを用いるのは、複雑な制御が
必要となり好ましくない。
On the other hand, in the dynamic semiconductor memory device,
Only refresh, ▲ ▼ before ▲ ▼
A normal refresh mode such as refresh is executed by being controlled one cycle by an external clock signal. Therefore, it is not preferable to use such a normal refresh mode at the time of battery backup because complicated control is required.

そこでこの問題を解決するため、たとえば、山田他「Au
to/Self Refresh機能内蔵64Kbit MOSダイナミックRA
M」と題された電子通信学会論文誌(83/1 vol.J66−C,
No.1,pp,62−69.)に示されているように、アドレスカ
ウンタとタイマを内蔵して、自動的にリフレッシュ動作
を続行するという、セルフリフレッシュ(自己リフレッ
シュ)モードを有するダイナミック型半導体記憶装置が
考案され、商用に供されている。
To solve this problem, for example, Yamada et al. “Au
64Kbit MOS Dynamic RA with built-in to / Self Refresh function
Transactions of the Institute of Electronics and Communication Engineers (83/1 vol.J66-C,
No. 1, pp, 62-69.), A dynamic semiconductor having a self-refresh (self-refresh) mode in which an address counter and a timer are built in and the refresh operation is automatically continued. A storage device has been devised and is commercially available.

このセルフリフレッシュ動作は、前述の文献に詳しく記
載されているが、以下に簡単に説明する。
This self-refresh operation is described in detail in the above-mentioned document, but will be briefly described below.

ダイナミック型半導体記憶装置の待機状態と動作状態と
を制御する信号▲▼を高レベル(待機状態)に保
ち、リフレッシュ制御信号▲▼をタイマのセット
時間(16μs以下の時間)以上低レベルに保持し続ける
と、セルフリフレッシュモードが開始され、内蔵タイマ
によってセットされた16μs以下の時間ごとにリフレッ
シュアドレスカウンタが動作し、そのロウアドレスが選
択されてリフレッシュされる。▲▼を低レベルに
保持し続ける限り、たとえば64Kの場合、このセルフリ
フレッシュモードが継続され、通常のリフレッシュモー
ドと同様に2ms以下の時間ごとに128サイクルのリフレッ
シュが行なわれ、全メモリセルがリフレッシュされる。
The signal ▲ ▼ for controlling the standby state and the operating state of the dynamic semiconductor memory device is kept at a high level (standby state), and the refresh control signal ▲ ▼ is kept at a low level for a timer set time (16 μs or less). Continuing, the self-refresh mode is started, and the refresh address counter operates every 16 μs or less set by the built-in timer, and the row address is selected and refreshed. As long as ▲ ▼ is kept at a low level, for example, in the case of 64K, this self-refresh mode is continued, and like the normal refresh mode, 128 cycles are refreshed every 2 ms or less to refresh all memory cells. To be done.

第15図は、従来のセルフリフレッシュ(自己リフレッシ
ュ)モードを有するダイナミック型半導体記憶装置の基
板バイアス電圧発生回路を示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a substrate bias voltage generation circuit of a conventional dynamic semiconductor memory device having a self-refresh (self-refresh) mode.

第15図を参照して、この基板バイアス電圧発生回路41
は、リングオシレータ411とリングオシレータ411の出力
信号を受けるチャージポンプ用のキャパシタCと、Nチ
ャネルMOSトランジスタQ1とQ2とを含む。なお、NBは内
部ノード、VBBはこの基板バイアス電圧発生回路41の出
力を示す。
Referring to FIG. 15, this substrate bias voltage generating circuit 41
Includes a ring oscillator 411, a charge pump capacitor C that receives the output signal of ring oscillator 411, and N-channel MOS transistors Q 1 and Q 2 . Incidentally, N B is an internal node, V BB shows the output of the substrate bias voltage generating circuit 41.

第16図は、第15図に示された基板バイアス電圧発生回路
の動作を説明するための波形図である。第15図と第16図
を参照して、以下に動作について簡単に説明する。
FIG. 16 is a waveform diagram for explaining the operation of the substrate bias voltage generating circuit shown in FIG. The operation will be briefly described below with reference to FIGS. 15 and 16.

まず、リングオシレータ411の出力信号φCPの立上がり
の電圧信号がチャージポンプ用のキャパシタCに印加さ
れると、容量結合によりノードNBの電位が上昇する。す
るとトランジスタQ1がオンするので、ノードNBの電位は
トランジスタQ1のしきい値電圧にクランプされる。次
に、φCPの立下がりの電圧信号が印加されると、容量結
合によりノードNBの電位は低下するが、今度はトランジ
スタQ2がオンするので、出力VBBの電圧レベルは低下
し、ノードNBの電位はトランジスタQ2のしきい値電圧に
等しい負の電位にクランプされる。このようなサイクル
は何度か続くことにより、出力VBBのレベルは徐々に低
下し所定の負電位になる。
First, when the rising voltage signal of the output signal φ CP of the ring oscillator 411 is applied to the charge pump capacitor C, the potential of the node N B rises due to capacitive coupling. Then, the transistor Q 1 is turned on, so that the potential of the node N B is clamped to the threshold voltage of the transistor Q 1 . Then, when the voltage signal of the fall of phi CP is applied, but decreases the potential at the node N B by capacitive coupling, turn the transistor Q 2 is turned on, the voltage level of the output V BB drops, The potential of node N B is clamped to a negative potential equal to the threshold voltage of transistor Q 2 . By repeating such a cycle several times, the level of the output V BB gradually decreases to a predetermined negative potential.

ところが、ダイナミック型半導体記憶装置の待機状態に
おいては、この基板バイアス電圧発生回路における消費
電流は電力消費の大部分を占めるので、これを低減する
ために、たとえば、W.L.Martino他「An On−Chip Bac
k−Bias Generator for MOS Dynamic Memory」と
題されたIEEE JOURNAL(Solid−State Circuits,vol.
SC−15,No.5,pp.820−826,oct.1980)に記載されている
ように、基板バイアス電圧発生回路を間欠動作させる方
法が考案されている。
However, in the standby state of the dynamic semiconductor memory device, the current consumption in the substrate bias voltage generation circuit occupies most of the power consumption, and therefore, in order to reduce this, for example, WM Martino et al.
IEEE JOURNAL (Solid-State Circuits, vol.
As described in SC-15, No. 5, pp. 820-826, oct. 1980), a method of intermittently operating a substrate bias voltage generating circuit has been devised.

第17図は、間欠動作することが可能な基板バイアス電圧
発生回路を示す回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing a substrate bias voltage generating circuit capable of intermittent operation.

第17図を参照して、この基板バイアス電圧発生回路は第
15図と比較して、さらに、基板電位検出回路442と、そ
の検出信号に応答してリングオシレータ441を制御する
ための制御回路443とを含む。
Referring to FIG. 17, this substrate bias voltage generating circuit is
Compared to FIG. 15, it further includes a substrate potential detection circuit 442 and a control circuit 443 for controlling ring oscillator 441 in response to the detection signal.

動作において、基板電位検出回路442により、基板電圧
(出力VBBの電圧)を常時監視して、これが所定のレベ
ルに到達した後は、制御回路443によりリングオシレー
タ441の発振を停止させ、この部分の消費電力を低減さ
せるものである。なお、基板電位が何らかの理由により
所定のレベルより浅くなれば、再びリングオシレータ44
1を動作させるように構成されている。
In the operation, the substrate potential detection circuit 442 constantly monitors the substrate voltage (voltage of the output V BB ), and after this reaches a predetermined level, the control circuit 443 stops the oscillation of the ring oscillator 441, and this portion The power consumption of is reduced. If the substrate potential becomes shallower than the predetermined level for some reason, the ring oscillator 44
1 is configured to work.

[発明が解決しようとする課題] 従来のダイナミック型半導体記憶装置は、以上のように
構成されているので、通常モード動作時およびセルフリ
フレッシュモード動作時のいずれにおいても、基板バイ
アス電圧発生回路が同じ電力量を消費するので、たとえ
ばバッテリバックアップ時等において不必要な電力消費
をもたらすという課題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] Since the conventional dynamic semiconductor memory device is configured as described above, the substrate bias voltage generating circuit is the same in both the normal mode operation and the self refresh mode operation. Since electric power is consumed, there is a problem that unnecessary electric power is consumed, for example, at the time of battery backup.

この発明は、上記のような課題を解消するためになされ
たもので、セルフリフレッシュモードにおける基板バイ
アス電圧発生回路の消費電力を通常の動作モード時より
も小さくすることにより、不必要な電力消費が減じられ
たダイナミック型半導体記憶装置を得ることを目的とす
る。
The present invention has been made to solve the above problems, and by reducing the power consumption of the substrate bias voltage generation circuit in the self-refresh mode to that in the normal operation mode, unnecessary power consumption is reduced. An object is to obtain a reduced dynamic semiconductor memory device.

[課題を解決するための手段] この発明に係るダイナミック型半導体記憶装置は、セル
フリフレッシュ機能を有するダイナミック型半導体記憶
装置であって、リングオシレータ回路手段を有し、基板
バイアス電圧を発生するための基板電圧発生手段と、外
部から半導体記憶装置の状態を制御するための状態制御
信号を受け、制御信号を発生するための制御信号発生手
段と、基板電圧発生手段の出力電圧および制御信号に応
答して、リングオシレータ回路手段を制御するためのリ
ングオシレータ制御手段と、制御信号に応答して、セル
フリフレッシュ動作の終了を検出する検出手段と、検出
手段の検出出力に応答して、セルフリフレッシュ動作終
了時に一時的に基板電圧発生手段の出力能力を高める追
加の基板電圧発生手段とを含む。
[Means for Solving the Problem] A dynamic semiconductor memory device according to the present invention is a dynamic semiconductor memory device having a self-refresh function, which has a ring oscillator circuit means for generating a substrate bias voltage. Substrate voltage generating means, a state control signal for controlling the state of the semiconductor memory device from the outside, and a control signal generating means for generating a control signal, and an output voltage of the substrate voltage generating means and a response signal to the control signal. A ring oscillator control means for controlling the ring oscillator circuit means, a detection means for detecting the end of the self refresh operation in response to the control signal, and a self refresh operation end in response to the detection output of the detection means. And occasionally additional substrate voltage generating means for temporarily increasing the output capability of the substrate voltage generating means.

[作用] この発明におけるダイナミック型半導体記憶装置は、リ
ングオシレータ制御手段が基板電圧発生手段の出力電圧
および制御信号に応答してリングオシレータ回路手段の
動作を制御するので、セルフリフレッシュモードでの動
作における基板電圧発生手段の出力電圧を、通常モード
の動作時または待機モード時における値よりも絶対値で
小さな値にすることができ、セルフリフレッシュモード
における消費電流を減少させることができる。
[Operation] In the dynamic semiconductor memory device according to the present invention, the ring oscillator control means controls the operation of the ring oscillator circuit means in response to the output voltage of the substrate voltage generation means and the control signal, so that the operation in the self-refresh mode is performed. The output voltage of the substrate voltage generating means can be made smaller in absolute value than the value in the normal mode operation or the standby mode, and the current consumption in the self-refresh mode can be reduced.

さらに、この発明におけるダイナミック型半導体記憶装
置は、セルフリフレッシュ動作の終了を検出し、セルフ
リフレッシュ動作終了直後から一時的に基板電圧発生手
段の出力能力を高めることができる。これにより、セル
フリフレッシュモードの次に続くモードにおける動作を
その変化直後から安定して確実に行なうことができる。
Furthermore, the dynamic semiconductor memory device according to the present invention can detect the end of the self-refresh operation and temporarily increase the output capability of the substrate voltage generating means immediately after the end of the self-refresh operation. As a result, the operation in the mode following the self-refresh mode can be stably and reliably performed immediately after the change.

[発明の実施例] 第2図は、この発明に係るダイナミック型半導体記憶装
置を示す概略ブロック図である。
[Embodiment of the Invention] FIG. 2 is a schematic block diagram showing a dynamic semiconductor memory device according to the present invention.

第2図を参照して、このダイナミック型半導体記憶装置
は、基板バイアス電圧発生回路3と、端子1に外部から
与えられる信号に応答してセルフリフレッシュ制御信号
φを発生するセルフリフレッシュ制御信号発生回路2
とを含む。セルフリフレッシュ制御信号φは基板バイ
アス電圧発生回路3およびリフレッシュ制御回路91に与
えられる。セルフリフレッシュ動作において、リフレッ
シュ制御回路91は、セルフリフレッシュ制御信号φ
応答してアドレス切換回路94を制御し、アドレスバッフ
ァ95にリフレッシュアドレスカウンタ93により発生され
た内部アドレス信号を供給する。この内部アドレス信号
により、メモリセルアレイ96のワード線が活性化され
て、メモリセルがリフレッシュされる。アドレスカウン
タ93の歩進は、内蔵のタイマ92によりリフレッシュ制御
回路91を通じて行なわれ、これにより順次ワード線が活
性化されて全メモリセルがリフレッシュされる。
Referring to FIG. 2, this dynamic semiconductor memory device includes a substrate bias voltage generating circuit 3 and a self-refresh control signal generating circuit for generating self-refresh control signal φ S in response to a signal externally applied to terminal 1. Circuit 2
Including and Self refresh control signal φ S is applied to substrate bias voltage generating circuit 3 and refresh control circuit 91. In the self-refresh operation, the refresh control circuit 91 controls the address switching circuit 94 in response to the self-refresh control signal φ S to supply the address buffer 95 with the internal address signal generated by the refresh address counter 93. This internal address signal activates the word line of the memory cell array 96 to refresh the memory cell. The increment of the address counter 93 is performed by the built-in timer 92 through the refresh control circuit 91, whereby word lines are sequentially activated and all memory cells are refreshed.

第1図は、この発明によるダイナミック型半導体記憶装
置の基板バイアス電圧発生回路の一実施例を示すブロッ
ク図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a substrate bias voltage generating circuit of a dynamic semiconductor memory device according to the present invention.

第1図を参照して、この基板バイアス電圧発生回路は、
リングオシレータ311を含み基板バイアス電圧を発生す
る基板バイアス電圧発生部31と、外部からの状態制御信
号に応答して動作するセルフリフレッシュ制御信号発生
回路2と、基板電位検出回路321および制御回路322を含
む制御部32と、基板バイアス電圧発生部31の出力にその
出力が結合された追加の基板バイアス電圧発生部33とを
含む。
Referring to FIG. 1, the substrate bias voltage generating circuit
A substrate bias voltage generation unit 31 including a ring oscillator 311 for generating a substrate bias voltage, a self-refresh control signal generation circuit 2 which operates in response to a state control signal from the outside, a substrate potential detection circuit 321 and a control circuit 322. It includes a control unit 32 that includes it, and an additional substrate bias voltage generation unit 33 whose output is coupled to the output of the substrate bias voltage generation unit 31.

基板バイアス電圧発生部31は、第15図で説明された従来
の基板バイアス電圧発生回路41とほぼ同じ構成である。
制御部32は、セルフリフレッシュ制御信号発生回路2と
出力VBBとに接続された基板電位検出回路321と、それに
接続されたリングオシレータ311を制御する制御回路322
とを含む。追加の基板バイアス電圧発生部33は、セルフ
リフレッシュ終了検出回路331と、制御回路332と、リン
グオシレータ333を有する回路336とを含む。回路336
は、基板バイアス電圧発生部31と同じ回路構成を持つ。
The substrate bias voltage generating unit 31 has almost the same structure as the conventional substrate bias voltage generating circuit 41 described in FIG.
The control unit 32 controls the substrate potential detection circuit 321 connected to the self-refresh control signal generation circuit 2 and the output V BB, and the control circuit 322 for controlling the ring oscillator 311 connected thereto.
Including and The additional substrate bias voltage generator 33 includes a self-refresh end detection circuit 331, a control circuit 332, and a circuit 336 having a ring oscillator 333. Circuit 336
Has the same circuit configuration as the substrate bias voltage generator 31.

第3図および第4図は、いずれもセルフリフレッシュ制
御信号発生回路2の一例を示す回路図である。
3 and 4 are circuit diagrams each showing an example of the self-refresh control signal generating circuit 2.

第3図は、外部から専用の制御信号TSが与えられる場合
で、低レベルの外部信号TSが与えられたときインバータ
21は高レベルの出力信号φを出力する。信号TSが高レ
ベルまたはオープン状態となったとき、インバータ21の
入力は高抵抗RSによりプルアップされるので、インバー
タ21は低レベルの信号φを出力する。
FIG. 3 shows a case where a dedicated control signal T S is given from the outside, and when the low level external signal T S is given, the inverter
21 outputs a high level output signal φ S. When the signal T S becomes the high level or the open state, the input of the inverter 21 is pulled up by the high resistance R S, so that the inverter 21 outputs the low level signal φ S.

第4図は、外部からの▲▼信号および▲▼
信号を利用する場合で、▲▼信号はRSフリップフ
ロップ22のセット入力Sに、また、▲▼信号はRS
フリップフロップ22のリセット入力Rに入力される。RS
フリップフロップの一方出力Qが比較器23の入力に接続
される。タイマ24は比較回路23に接続される。
Fig. 4 shows the ▲ ▼ signal and ▲ ▼ from the outside.
When using the signal, the ▲ ▼ signal is the set input S of the RS flip-flop 22, and the ▲ ▼ signal is the RS signal.
It is input to the reset input R of the flip-flop 22. RS
One output Q of the flip-flop is connected to the input of the comparator 23. The timer 24 is connected to the comparison circuit 23.

動作において、▲▼ビフォア▲▼リフレッ
シュ状態では、フリップフロップ22がセットされ、出力
CbRが高レベルになる。タイマ24はこの後動作し、或る
一定時間Tの間出力CbRが高レベルのとき比較回路23が
高レベルの信号φを出力する。▲▼信号が高レ
ベルになったときフリップフロップ22がリセットされ、
出力CbRが低レベルとなり信号φが低レベルとなる。
In operation, the flip-flop 22 is set and the output is
CbR goes high. The timer 24 operates thereafter, and when the output CbR is at a high level for a certain period of time T, the comparison circuit 23 outputs a high level signal φ S. Flip-flop 22 is reset when the signal goes high,
The output CbR becomes low level and the signal φ S becomes low level.

第5図は、第1図の基板バイアス電圧発生回路の動作を
説明するためのタイミングチャートである。以下に、第
1図および第5図を参照して、この基板バイアス電圧発
生回路の動作を説明する。
FIG. 5 is a timing chart for explaining the operation of the substrate bias voltage generating circuit of FIG. The operation of the substrate bias voltage generating circuit will be described below with reference to FIGS. 1 and 5.

まず、セルフリフレッシュ制御信号φが高レベルのと
き、すなわちセルフリフレッシュモード時の動作につい
て説明する。
First, the operation when the self-refresh control signal φ S is at a high level, that is, in the self-refresh mode will be described.

この基板バイアス電圧発生回路は、時刻t0から動作を開
始するものとする。リングオシレータ311の出力信号φ
CPによるチャージポンプ作用により、出力VBBのレベル
が低下し始める。時刻t1において、出力VBBが所定レベ
ルVBBLに到達すると、基板電位検出回路321は低レベル
の検出信号φを出力し、制御回路322がこれを受けて
時刻t1aにおいて低レベルの制御信号φを出力しリン
グオシレータ311の発振を停止させる。
This substrate bias voltage generation circuit is assumed to start operating at time t 0 . Output signal φ of ring oscillator 311
Due to the charge pump action of CP, the level of output V BB begins to drop. At time t 1 , when the output V BB reaches the predetermined level V BBL , the substrate potential detection circuit 321 outputs a low level detection signal φ D , and the control circuit 322 receives this and controls the low level at time t 1a . The signal φ C is output and the oscillation of the ring oscillator 311 is stopped.

その後、出力VBBのレベルは、何らかの原因によりVBBL
よりも高いVBBHになると、基板電位検出回路321はこれ
を検出し、高レベルの検出信号φを出力する。リング
オシレータ311はこの検出信号φに応答して発生され
た制御信号φを受けて時刻t2aにおいて発振を再開す
る。
After that, the output V BB level changes to V BBL for some reason.
When it becomes higher than V BBH , the substrate potential detection circuit 321 detects it and outputs a high level detection signal φ D. Ring oscillator 311 receives control signal φ C generated in response to detection signal φ D , and restarts oscillation at time t 2a .

このように、リフレッシュモード時において、主に制御
部32がリングオシレータ311の間欠動作を制御するので
あるが、リフレッシュモード終了時において追加の基板
バイアス電圧発生部33が動作する。
In this way, the control unit 32 mainly controls the intermittent operation of the ring oscillator 311 in the refresh mode, but the additional substrate bias voltage generation unit 33 operates at the end of the refresh mode.

時刻tEにおいて、セルフリフレッシュモードの動作が終
了し、同時にセルフリフレッシュ制御信号φが低レベ
ルに変化する。セルフリフレッシュ終了検出回路331
は、信号φに応答してワンショットパルスであるセル
フリフレッシュ終了信号φを出力する。制御回路332
は、この信号φに応答してリングオシレータ333の発
振を開始させる。このとき、リングオシレータ311も信
号φが低レベルに変化することによって発振するの
で、時刻tEから時刻tFの期間において両方のリングオシ
レータ311と333とが発振することになる。これにより、
出力VBBは急速に所定の深いレベルVBBD(VBBDはVBBL
りも深いレベル)にもたらされる。
At time t E , the self-refresh mode operation ends, and at the same time, the self-refresh control signal φ S changes to low level. Self refresh end detection circuit 331
Outputs a self-refresh end signal φ E which is a one-shot pulse in response to the signal φ S. Control circuit 332
Causes the ring oscillator 333 to start oscillating in response to the signal φ E. At this time, the ring oscillator 311 also oscillates when the signal φ S changes to the low level, so that both ring oscillators 311 and 333 oscillate during the period from time t E to time t F. This allows
The output V BB is rapidly brought to a predetermined deep level V BBD (V BBD is deeper than V BBL ).

時刻tFにおいて、基板電位検出回路321はレベルVBBD
検出して低レベルの検出信号φを出力するで、制御回
路322と332から出力される制御信号φC1とφC2は共に低
レベルとなる。したがって、リングオシレータ311と333
は共に発振動作を停止する。
At time t F , the substrate potential detection circuit 321 detects the level V BBD and outputs the low level detection signal φ D , so that the control signals φ C1 and φ C2 output from the control circuits 322 and 332 are both low level. Becomes Therefore, ring oscillators 311 and 333
Both stop the oscillation operation.

その後、他のモードにおいて、出力VBBのレベルが浅く
なったとき、制御信号φC1だけが高レベルになり、リン
グオシレータ311だけが発振動作する。
After that, in another mode, when the level of the output V BB becomes shallow, only the control signal φ C1 becomes high level, and only the ring oscillator 311 oscillates.

このように、第1図の基板バイアス電圧発生回路では、
セルフリフレッシュモード時に、出力VBBの電圧をVBBH
ないしVBBLの浅い範囲内に制御することができ、その時
の消費電流を減少させることができる。
As described above, in the substrate bias voltage generating circuit of FIG.
In self-refresh mode, the voltage of output V BB is changed to V BBH
Or V BBL can be controlled within a shallow range, and the current consumption at that time can be reduced.

第6図は、この発明に用いられるリングオシレータの回
路の一例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a circuit of the ring oscillator used in the present invention.

第6図を参照して、このリングオシレータ311は、直列
に接続された偶数段のインバータI1ないしInと、2つの
入力を有し偶数段接続のインバータの出力に一方入力が
接続されたANDゲートAnとを含む。ANDゲートAnの他方入
力には、制御信号φC1が与えられる。ANDゲートAnの出
力と偶数段接続のインバータとの入力とが一体接続され
る。この回路により、リングオシレータ311は制御信号
φC1に応答してその発振動作の始動と停止が制御され
る。
With reference to FIG. 6, the ring oscillator 311 to inverters I 1 of the even-numbered stages connected in series with I n, whereas the input connected to the output of the inverter of the even-numbered stages connected has two inputs Including AND gate An. The control signal φ C1 is applied to the other input of the AND gate An. The output of the AND gate An and the input of the even-stage connected inverter are integrally connected. With this circuit, the ring oscillator 311 controls the start and stop of its oscillation operation in response to the control signal φ C1 .

第7図は、この発明において使用される基板電位検出回
路の一例を示す回路図と、回路内のノード点の電圧ヒス
テリシスを示すグラフである。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of the substrate potential detection circuit used in the present invention and a graph showing voltage hysteresis at node points in the circuit.

第7図を参照して、この基板電位検出回路は、基板バイ
アス電圧発生回路の出力VBBの電圧を受け、セルフリフ
レッシュ制御信号φに応答して動作する制御部と、制
御部に結合されヒステリシス動作を行なうヒステリシス
回路部とを含む。制御部は、PチャネルMOSトランジス
タQ3とNチャネルMOSトランジスタQ4とQ5との直列接続
と、NチャネルMOSトランジスタQ6とQ7との並列接続と
が直列に接続される。トランジスタQ3とQ4のゲートが接
地VSSに接続される。トランジスタQ3とQ4との接続点が
ノードN1を構成する。トランジスタQ4とQ5との接続点が
ノードN2を構成する。トランジスタQ5とQ6との接続点が
ノードN3を構成する。トランジスタQ6とQ7それぞれの一
方端子が結合されノードN4を構成し、そこに基板バイア
ス電圧発生回路の出力VBBが接続される。トランジスタQ
7のゲートにセルフリフレッシュ制御信号φが与えら
れる。
Referring to FIG. 7, the substrate potential detecting circuit receives a voltage of output V BB of the substrate bias voltage generating circuit and is coupled to the control unit which operates in response to the self-refresh control signal φ S. And a hysteresis circuit section that performs a hysteresis operation. The control unit includes a P-channel MOS transistor Q 3 , a N-channel MOS transistor Q 4 and Q 5 connected in series and a N-channel MOS transistor Q 6 and Q 7 connected in parallel. The gates of transistors Q 3 and Q 4 are connected to ground V SS . The connection point between the transistors Q 3 and Q 4 constitutes the node N 1 . The connection point between the transistors Q 4 and Q 5 constitutes the node N 2 . The connection point between the transistors Q 5 and Q 6 constitutes the node N 3 . One terminal of each of the transistors Q 6 and Q 7 is coupled to form a node N 4, to which the output V BB of the substrate bias voltage generating circuit is connected. Transistor Q
The self-refresh control signal φ S is applied to the gate of 7 .

ヒステリシス回路部は、PチャネルMOSトランジスタQ8
とQ10およびNチャネルMOSトランジスタQ9とQ11とから
なるフリップフロップ回路と、PチャネルMOSトランジ
スタQ12とNチャネルMOSトランジスタQ13とからなるイ
ンバータとを含む。トランジスタQ8とQ9との接続点はノ
ードN1に接続される。トランジスタQ10とトランジスタQ
11との接続点がノードN5を構成し、インバータの入力に
接続される。インバータの出力から、検出信号φが出
力される。
The hysteresis circuit section is a P-channel MOS transistor Q 8
And Q 10 and N-channel MOS transistors Q 9 and Q 11, and a flip-flop circuit, and an inverter formed of P-channel MOS transistor Q 12 and N-channel MOS transistor Q 13 . The connection point between the transistors Q 8 and Q 9 is connected to the node N 1 . Transistor Q 10 and transistor Q
The connection point with 11 constitutes node N 5 and is connected to the input of the inverter. The detection signal φ D is output from the output of the inverter.

以下の記載において、説明を簡単にするために、Nチャ
ネルトランジスタQ4ないしQ7のしきい値電圧はすべて1V
であると仮定する。また、セルフリフレッシュ制御信号
φは、通常のモードにおいては低レベルであり、セル
フリフレッシュモードにおいては高レベルとなるような
信号とする。さらに、検出信号φが高レベルのときリ
ングオシレータは発振され、低レベルのときはリングオ
シレータの発振が停止されるものとする。
In the following description, for simplification of explanation, the threshold voltages of the N-channel transistors Q 4 to Q 7 are all 1V.
Suppose that Further, the self-refresh control signal φ S is a signal which is low level in the normal mode and is high level in the self-refresh mode. Furthermore, it is assumed that the ring oscillator oscillates when the detection signal φ D is at a high level, and the oscillation of the ring oscillator is stopped when the detection signal φ D is at a low level.

まず、通常のモードにおける動作について説明する。出
力VBBが浅い場合、たとえば0Vのときは、トランジスタQ
5とQ6のしきい値電圧により、ノードN2が0V以上のレベ
ルにもたらされる。よって、トランジスタQ4はオフす
る。ノードN1はトランジスタQ3により高レベルにもたら
される。したがって、検出信号φは高レベルであり、
出力VBBのレベルは、第15図で説明したように、リング
オシレータにより深くなってゆく。
First, the operation in the normal mode will be described. If the output V BB is shallow, for example 0V, the transistor Q
The threshold voltages of 5 and Q 6 bring node N 2 to a level above 0V. Therefore, the transistor Q 4 turns off. Node N 1 is brought high by transistor Q 3 . Therefore, the detection signal φ D is at a high level,
The level of the output V BB becomes deeper by the ring oscillator, as described in FIG.

出力VBBが−3Vより深くなると、ノードN2はトランジス
タQ5とQ6のしきい値電圧により−1Vより低いレベルにも
たらされる。よって、トランジスタQ4がオンする。すな
わち、トランジスタQ3とQ4がともにオンすることになる
が、トランジスタQ3とQ4のコンダクタンスの比を適切に
選ぶことにより、ノードN1を低レベルにもたらすことが
できる。このとき低レベルの検出信号φが出力される
ので、リングオシレータの発振が停止され、消費電流が
低減される。その後、何らかの理由により出力VBBが−3
Vより浅くなると、再び検出信号φが高レベルとなっ
て、リングオシレータの発振が再開される。
When the output V BB goes deeper than −3V, the node N 2 is brought to a level lower than −1V by the threshold voltage of the transistors Q 5 and Q 6 . Therefore, the transistor Q 4 turns on. That is, both the transistors Q 3 and Q 4 are turned on, but the node N 1 can be brought to a low level by appropriately selecting the ratio of the conductances of the transistors Q 3 and Q 4 . At this time, since the low-level detection signal φ D is output, the oscillation of the ring oscillator is stopped and the current consumption is reduced. After that, the output V BB is −3 for some reason.
When it becomes shallower than V, the detection signal φ D becomes high level again, and the oscillation of the ring oscillator is restarted.

ここでヒステリシス回路部において、ノードN1が出力V
BBの電圧の変化を受けて、高レベルから低レベルに下が
ろうとする場合、ノードN1はトランジスタQ8により高レ
ベルにもたらされているので、低レベルになるのに時間
がかかる。しかし、ノードN5がトランジスタQ10により
高レベルにもたらされれば、ノードN1はトランジスタQ9
を介して急速に低レベルにもたらされる。逆に、ノード
N1が低レベルから高レベルに変化する場合も、同様に或
る幅をもって変化するので、第7図に示したように、ノ
ードN1の電圧はヒステリシスをもって変化する。したが
って、基板バイアス電圧発生回路の出力VBBは、所定の
レベルVBBSに対し第8図に示すようにヒステリシスをも
って変化する。
Here, in the hysteresis circuit section, the node N 1 outputs V
When trying to go from a high level to a low level in response to a change in the voltage of BB , it takes time for the node N 1 to go to a low level because it is brought to a high level by the transistor Q 8 . However, if the node N 5 is brought to a high level by the transistor Q 10, the node N 1 is transistor Q 9
Is rapidly brought to a low level via. Conversely, the node
Similarly, when N 1 changes from low level to high level, it also changes with a certain width, so that the voltage of the node N 1 changes with hysteresis as shown in FIG. Therefore, the output V BB of the substrate bias voltage generating circuit changes with hysteresis as shown in FIG. 8 with respect to a predetermined level V BBS .

第8図は、基板バイアス電圧発生回路の出力電圧と検出
信号φとの変化の対応を示すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing the correspondence between changes in the output voltage of the substrate bias voltage generating circuit and the detection signal φ D.

次に、再び第7図を参照して、セルフリフレッシュモー
ド時の動作について説明する。この場合、セルフリフレ
ッシュ制御信号φが高レベルであるので、トランジス
タQ7がオンし、したがって、ノードN3とN4は同じ電位に
もたらされる。基板バイアス電圧発生回路の出力VBB
レベルが−2Vより深くなるとリングオシレータの発振が
停止する。すなわち、通常モードにおける動作よりも出
力VBBのレベルが浅く制御されるので、リングオシレー
タに供給すべき電荷量が少なくてよく、したがって、消
費電力が低減される。
Next, referring to FIG. 7 again, the operation in the self refresh mode will be described. In this case, since the self-refresh control signal φ S is high level, the transistor Q 7 is turned on, and therefore the nodes N 3 and N 4 are brought to the same potential. The oscillation of the ring oscillator stops when the level of the output V BB of the substrate bias voltage generator becomes deeper than −2V. That is, since the level of the output V BB is controlled to be shallower than that in the operation in the normal mode, the amount of charges to be supplied to the ring oscillator may be small, thus reducing the power consumption.

第9図は、この発明によって使用される制御回路の一例
を示す回路図である。第9図は、第1図に示された制御
回路322の最も簡単な例であり、遅延用バッファ323が示
される。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of the control circuit used by the present invention. FIG. 9 is a simplest example of the control circuit 322 shown in FIG. 1, and a delay buffer 323 is shown.

第10図は、この発明によって使用されるセルフリフレッ
シュ終了検出回路の一例を示す回路図である。このセル
フリフレッシュ終了検出回路331は、2入力を有するNOR
素子Nrと、遅延回路を構成するインバータI1ないしI
m(mは奇数)とを含む。
FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of a self-refresh end detection circuit used in the present invention. This self-refresh end detection circuit 331 is a NOR having two inputs.
The element Nr and the inverters I 1 to I forming the delay circuit
m (m is an odd number) and.

第11図は、第10図の回路の動作の説明をするためのタイ
ミングチャートである。第11図に示すように、この回路
331はセルフリフレッシュ制御信号φに応答して、セ
ルフリフレッシュモード終了時に遅延回路によって決め
られる遅延時間Tdに相当するパルス幅を有するワンショ
ットパルスを終了検出信号φとして出力する。
FIG. 11 is a timing chart for explaining the operation of the circuit of FIG. This circuit, as shown in Figure 11,
In response to the self-refresh control signal φ S , 331 outputs a one-shot pulse having a pulse width corresponding to the delay time Td determined by the delay circuit as the end detection signal φ E at the end of the self-refresh mode.

第12図は、この発明に使用される制御回路332の一例を
示す回路図である。この制御回路332は、RSフリップフ
ロップ334と、インバータ335とを含む。フリップフロッ
プ334のセット端子Sはセルフリフレッシュ終了検出信
号φを受けるように接続され、リセット端子Rは、イ
ンバータ335により反転された検出信号φを受けるよ
うに接続される。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of the control circuit 332 used in the present invention. The control circuit 332 includes an RS flip-flop 334 and an inverter 335. The set terminal S of the flip-flop 334 is connected to receive the self-refresh end detection signal φ E , and the reset terminal R is connected to receive the detection signal φ D inverted by the inverter 335.

動作において、フリップフロップ334は、セルフリフレ
ッシュモード終了時に一時的に高レベルになった信号φ
を受け、セットされ、高レベルの制御信号φC2を出力
する。これにより、前述のように、追加の基板バイアス
電圧発生部33のリングオシレータ333が活性化される。
なお、このとき既に、セルフリフレッシュ制御信号φ
は低レベルとなっているので、基板電位検出回路321は
通常モードにおける所定の深いレベルを検出するように
なっている。
In operation, the flip-flop 334 outputs the signal φ that temporarily becomes high level at the end of the self-refresh mode.
Upon receiving E , it is set and outputs a high level control signal φ C2 . As a result, the ring oscillator 333 of the additional substrate bias voltage generator 33 is activated as described above.
At this time, the self-refresh control signal φ S
Is at a low level, the substrate potential detection circuit 321 detects a predetermined deep level in the normal mode.

以上の実施例の説明において、基板バイアス電圧発生回
路のバイアス能力を一時的に高める手段として、追加の
基板バイアス電圧発生部を設けたものを示したが、これ
に限らず、たとえば、第13図に示すようなリングオシレ
ータの発振周波数を一時的に高める手段(NチャネルMO
SトランジスタQ16)、または、第14図に示すようなチャ
ージポンプ用のキャパシタの容量を一時的に増大させる
手段(キャパシタC2およびNチャネルMOSトランジスタQ
17とQ18)などのいずれを用いても、同様の効果が得ら
れる。
In the above description of the embodiments, as a means for temporarily increasing the bias capability of the substrate bias voltage generating circuit, an additional substrate bias voltage generating section is provided, but the present invention is not limited to this. For example, FIG. A means for temporarily increasing the oscillation frequency of the ring oscillator as shown in (N-channel MO
S transistor Q 16 ) or means for temporarily increasing the capacitance of the charge pump capacitor as shown in FIG. 14 (capacitor C 2 and N channel MOS transistor Q
The same effect can be obtained by using either of 17 and Q 18 ).

[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、リングオシレータ回
路手段を有する基板電圧発生手段と、その出力電圧およ
び状態制御信号に応答してリングオシレータ回路手段を
制御するリングオシレータ制御手段と、セルフリフレッ
シュ動作の終了を検出する検出手段と、セルフリフレッ
シュ動作終了時に一時的に基板電圧発生手段の出力能力
を高める追加の基板電圧発生手段とを含むので、セルフ
リフレッシュモードでの電力消費量を減じることがで
き、かつ、セルフリフレッシュモードの後のモードに変
わった直後からその動作を安定して確実に行なうことが
できるダイナミック型半導体記憶装置を得ることができ
る。
As described above, according to the present invention, the substrate voltage generation means having the ring oscillator circuit means and the ring oscillator control means for controlling the ring oscillator circuit means in response to the output voltage and the state control signal thereof. And a detection means for detecting the end of the self-refresh operation, and an additional substrate voltage generation means for temporarily increasing the output capability of the substrate voltage generation means at the end of the self-refresh operation. It is possible to obtain a dynamic semiconductor memory device which can reduce the number of charges and can perform its operation in a stable and reliable manner immediately after changing to a mode after the self-refresh mode.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、この発明による基板バイアス電圧発生回路の
一実施例を示すブロック図である。第2図は、この発明
が適用されるダイナミック型半導体記憶装置を示す概略
のブロック図である。第3図および第4図は、それぞれ
この発明において使用されるセルフリフレッシュ制御信
号発生回路の具体例を示す回路図およびブロック図であ
る。第5図は、第1図の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。第6図は、この発明において使用さ
れるリングオシレータの一例を示す回路図である。第7
図は、この発明において使用される基板電位検出回路の
一例を示す回路図である。第8図は、第7図の動作を説
明するための電圧変動を示すグラフである。第9図は、
この発明において使用される制御回路322の一例を示す
図である。第10図は、この発明において使用されるセル
フリフレッシュ終了検出回路の一例を示す回路図であ
る。第11図は、第10図の動作を説明するためのタイミン
グチャートである。第12図は、この発明において使用さ
れる制御回路332の一例を示す図である。第13図は、こ
の発明の他の実施例に用いられる基板バイアス電圧発生
回路のバイアス能力を一時的に高める手段を示す回路図
である。第14図は、この発明のさらに他の実施例におい
て用いられる基板バイアス電圧発生回路のバイアス能力
を一時的に高める手段を示す回路図である。第15図は、
従来の基板バイアス電圧発生回路を示す回路図である。
第16図は、第15図の動作を説明するための波形図であ
る。第17図は、従来の他の基板バイアス電圧発生回路を
示す回路図である。 図において、1は外部端子、2はセルフリフレッシュ制
御信号発生回路、3は基板バイアス電圧発生回路、31は
基板バイアス電圧発生部、32はリングオシレータ制御
部、33は追加の基板バイアス電圧発生部、311と333はリ
ングオシレータ、321は基板電位検出回路、322と332は
制御回路、331はセルフリフレッシュ終了検出回路、41
は従来の基板バイアス電圧発生回路、411はリングオシ
レータ、442は基板電位検出回路、443は制御回路であ
る。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a substrate bias voltage generating circuit according to the present invention. FIG. 2 is a schematic block diagram showing a dynamic semiconductor memory device to which the present invention is applied. FIGS. 3 and 4 are a circuit diagram and a block diagram showing a specific example of the self-refresh control signal generating circuit used in the present invention. FIG. 5 is a timing chart for explaining the operation of FIG. FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a ring oscillator used in the present invention. 7th
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a substrate potential detecting circuit used in the present invention. FIG. 8 is a graph showing the voltage fluctuation for explaining the operation of FIG. Figure 9 shows
It is a figure which shows an example of the control circuit 322 used in this invention. FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of a self-refresh end detection circuit used in the present invention. FIG. 11 is a timing chart for explaining the operation of FIG. FIG. 12 is a diagram showing an example of the control circuit 332 used in the present invention. FIG. 13 is a circuit diagram showing means for temporarily increasing the bias capability of the substrate bias voltage generating circuit used in another embodiment of the present invention. FIG. 14 is a circuit diagram showing means for temporarily increasing the bias capability of the substrate bias voltage generating circuit used in still another embodiment of the present invention. Figure 15 shows
It is a circuit diagram which shows the conventional substrate bias voltage generation circuit.
FIG. 16 is a waveform diagram for explaining the operation of FIG. FIG. 17 is a circuit diagram showing another conventional substrate bias voltage generating circuit. In the figure, 1 is an external terminal, 2 is a self-refresh control signal generator, 3 is a substrate bias voltage generator, 31 is a substrate bias voltage generator, 32 is a ring oscillator controller, 33 is an additional substrate bias voltage generator, 311 and 333 are ring oscillators, 321 is a substrate potential detection circuit, 322 and 332 are control circuits, 331 is a self-refresh end detection circuit, 41
Is a conventional substrate bias voltage generation circuit, 411 is a ring oscillator, 442 is a substrate potential detection circuit, and 443 is a control circuit. The same reference numerals in the drawings indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】セルフリフレッシュ機能を有するダイナミ
ック型半導体記憶装置であって、 リングオシレータ回路手段を有し、基板バイアス電圧を
発生するための基板電圧発生手段と、 外部から前記半導体記憶装置の状態を制御するための状
態制御信号を受け、制御信号を発生するための制御信号
発生手段と、 前記基板電圧発生手段の出力電圧および前記制御信号に
応答して、前記リングオシレータ回路手段を制御するた
めのリングオシレータ制御手段と、 前記制御信号に応答して、セルフリフレッシュ動作の終
了を検出する検出手段と、 前記検出手段の検出出力に応答して、セルフリフレッシ
ュ動作終了時に一時的に前記基板電圧発生手段の出力能
力を高める追加の基板電圧発生手段とを含む、ダイナミ
ック型半導体記憶装置。
1. A dynamic semiconductor memory device having a self-refresh function, comprising ring oscillator circuit means, a substrate voltage generating means for generating a substrate bias voltage, and a state of the semiconductor memory device from the outside. Control signal generating means for receiving a state control signal for controlling and generating a control signal, and for controlling the ring oscillator circuit means in response to the output voltage of the substrate voltage generating means and the control signal. Ring oscillator control means, detection means for detecting the end of the self-refresh operation in response to the control signal, and substrate voltage generation means for temporarily ending the self-refresh operation in response to the detection output of the detection means. And a substrate voltage generating means for enhancing the output capability of the dynamic semiconductor memory device.
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