JPH0773133B2 - SQUID - Google Patents

SQUID

Info

Publication number
JPH0773133B2
JPH0773133B2 JP5039479A JP3947993A JPH0773133B2 JP H0773133 B2 JPH0773133 B2 JP H0773133B2 JP 5039479 A JP5039479 A JP 5039479A JP 3947993 A JP3947993 A JP 3947993A JP H0773133 B2 JPH0773133 B2 JP H0773133B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
squid
magnetic flux
washer
shielding layer
hole portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP5039479A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH06232463A (en
Inventor
三郎 田中
秀夫 糸▲ざき▼
Original Assignee
株式会社超伝導センサ研究所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社超伝導センサ研究所 filed Critical 株式会社超伝導センサ研究所
Priority to JP5039479A priority Critical patent/JPH0773133B2/en
Publication of JPH06232463A publication Critical patent/JPH06232463A/en
Publication of JPH0773133B2 publication Critical patent/JPH0773133B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Magnetic Variables (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁場分解能が著しく高
いSQUIDに関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to SQUIDs having a remarkably high magnetic field resolution.

【0002】[0002]

【従来の技術】SQUIDは、ジョセフソン接合を利用
した高感度磁気センサであり、量子干渉効果を利用して
磁束量子φ0 (1.5×10-15 Wb)の10万分の1
の磁束を電圧に変換して計測するものである。したがっ
て、このようなSQUIDは、微弱磁気の測定に有用で
あり、生体磁気計測、物理定数計測、非破壊検査などに
応用される。なかでも生体磁場計測への応用は超伝導の
応用研究の中でも大きな駆動力となっており、例えば心
臓のQRS波や特別な磁気遮蔽を施せば脳波もSQUI
Dにより容易に検出することができることが知られてい
る。
2. Description of the Related Art SQUID is a high-sensitivity magnetic sensor using a Josephson junction, which utilizes quantum interference effect to reduce magnetic flux quantum φ 0 (1.5 × 10 −15 Wb) to 1 / 100,000.
The magnetic flux of is converted into a voltage and measured. Therefore, such a SQUID is useful for measuring weak magnetism, and is applied to biomagnetic measurement, physical constant measurement, nondestructive inspection, and the like. Among them, the application to biomagnetic field measurement is a big driving force in the applied research of superconductivity. For example, the QRS wave of the heart and the EEG of the electroencephalogram if a special magnetic shield is applied.
It is known that D can be easily detected.

【0003】このSQUIDにはジョセフソン接合が1
個のrfSQUIDと2個のdcSQUIDとがあり、
そのワッシャー部の面積は0.1mm2 程度の微小なも
のであった。これはNb或いはNbNを用いたSQUI
Dではワッシャー面積を大きくすると、磁束ノイズが大
きくなると考えられていたためである。
There is one Josephson junction in this SQUID
There are two rfSQUIDs and two dcSQUIDs,
The area of the washer portion was as small as about 0.1 mm 2 . This is SQUI using Nb or NbN
This is because, in D, it was considered that when the washer area was increased, the magnetic flux noise was increased.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ような従来のSQUIDではSQUID自身の磁場分解
能が優れていないため、磁束トランスと組合せて使用し
なければならなかった。しかもこの磁束トランスは、構
造が複雑であり、特に高温超伝導体を用いた作製には極
めて高度な技術を必要とし、歩留も悪いものであった。
However, in the conventional SQUID as described above, since the magnetic field resolution of the SQUID itself is not excellent, it has to be used in combination with the magnetic flux transformer. In addition, this magnetic flux transformer has a complicated structure, requires an extremely advanced technique especially for production using a high temperature superconductor, and has a low yield.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は上記に鑑み提案
されたもので、酸化物超伝導体薄膜で形成されたワッシ
ャー部と、該ワッシャー部の略中央に開設されたホール
部と、高温超伝導体薄膜で構成された少なくとも1つの
ジョセフソン接合部と、該ジョセフソン接合部より外周
へ向かって設けられたスリット部とからなるSQUID
であり、前記ワッシャー部の面積が25〜1000mm
2 であることを特徴とするSQUIDに関するものであ
る。
The present invention has been proposed in view of the above, and has a washer portion formed of an oxide superconductor thin film, a hole portion formed substantially in the center of the washer portion, and a high temperature SQUID including at least one Josephson junction formed of a superconductor thin film and a slit provided from the Josephson junction toward the outer circumference
And the area of the washer part is 25 to 1000 mm.
It is related to SQUID characterized by being 2 .

【0006】上記本発明のSQUIDにおけるワッシャ
ー部は、特にその形状を限定するものではないが、正方
形或いは正方形に近い長方形、或いは円形とすることが
望ましい。また、その面積は前記のように25〜100
0mm2 であり、磁束濃縮効果を高め、従来のSQUI
Dに比べて磁束分解能を10〜100倍以上に飛躍的に
向上させることができるものである。そして、面積が2
5mm2 より小さいと、上記磁束濃縮効果が低く、充分
な磁場分解能を得ることができない。また、面積が10
00mm2 より大きいと、位置の分解能が低下すること
となる。したがって、例えばその形状に依存することな
く前記効果を安定に維持するためのワッシャー部の面積
は25〜1000mm2 の範囲にすることが望ましく、
さらには100〜400mm2 とすることがより一層望
ましい。
The washer portion in the SQUID of the present invention is not particularly limited in its shape, but it is desirable that it is a square, a rectangle close to a square, or a circle. The area is 25 to 100 as described above.
It is 0mm 2 and enhances the effect of magnetic flux concentration, and the conventional SQUI
The magnetic flux resolution can be dramatically improved 10 to 100 times or more as compared with D. And the area is 2
If it is smaller than 5 mm 2 , the above-mentioned magnetic flux concentration effect is low and sufficient magnetic field resolution cannot be obtained. Also, the area is 10
If it is larger than 00 mm 2 , the position resolution will be reduced. Therefore, for example, it is desirable that the area of the washer portion for maintaining the above effect stably regardless of its shape is in the range of 25 to 1000 mm 2 ,
Furthermore, it is even more desirable to set it to 100 to 400 mm 2 .

【0007】一方、本発明のSQUIDにおけるホール
部も、特にその形状を限定するものではないが、前記ワ
ッシャー部と同様に正方形、或いは正方形に近い長方
形、或いは円形とすることが望ましい。また、その面積
は4〜2000μm2 であることが望ましく、面積が2
000μm2 より大きいと、SQUID自身のインダク
タンスが大きくなると共にSQUID出力電圧が小さく
なるため、磁場分解能が低下する。面積が4μm2 より
小さいと、磁束の捕捉量が小さくなり磁場分解能が低下
する。したがって、例えばその形状に依存することなく
前記効果を安定に維持するためのホール部の面積は10
0〜2000μm2 の範囲にすることが望ましく、さら
には100〜400μm2 とすることがより一層望まし
い。
On the other hand, the hole portion in the SQUID of the present invention is not particularly limited in its shape, but it is desirable that the hole portion be a square, a rectangle close to a square, or a circle like the washer portion. The area is preferably 4 to 2000 μm 2 , and the area is 2
If it is larger than 000 μm 2 , the inductance of the SQUID itself increases and the SQUID output voltage decreases, so that the magnetic field resolution decreases. If the area is smaller than 4 μm 2 , the amount of trapped magnetic flux is small and the magnetic field resolution is reduced. Therefore, for example, the area of the hole portion for maintaining the above effect stably without depending on its shape is 10
It is desirable in the range of 0~2000μm 2, more and even more preferably to 100-400 2.

【0008】このような構成を有する本発明のSQUI
Dは特にその作製方法を限定するものではなく、公知の
方法を用いて基板上に酸化物超伝導体薄膜を形成させた
後、前記構成のワッシャー部やホール部、或いはスリッ
ト部などを加工・成型すれば良い。例えば基板として
は、SrTiO3 、MgO、LaAlO3 、NeGaO
3 等からなるものを使用すれば良いし、酸化物超伝導体
薄膜を作製する方法としては、レーザ蒸着法、スパッタ
リング法、真空蒸着法、MBE等を適用してY(イット
リウム)系、或いはBi(ビスマス)系、Tl(タリウ
ム)系の酸化物超伝導体薄膜を形成すれば良いし、さら
に、前記ワッシャー部、ホール部、スリット部を加工・
成型するには、イオンミリング、或いはケミカルエッチ
ング等を適用すれば良い。尚、ジョセフソン接合部は、
基板段差を利用した弱結合型、或いはバイクリスタル
型、トンネル型などのものを用いることができる。
The SQUI of the present invention having such a configuration
D is not particularly limited to its manufacturing method, and after forming the oxide superconductor thin film on the substrate by using a known method, the washer portion, the hole portion, or the slit portion having the above-mentioned structure is processed. Just mold it. For example, as the substrate, SrTiO 3 , MgO, LaAlO 3 , NeGaO
It is sufficient to use a material composed of 3 etc., and as a method for producing an oxide superconductor thin film, laser vapor deposition method, sputtering method, vacuum vapor deposition method, MBE, etc. are applied to apply Y (yttrium) system or Bi. It is sufficient to form a (bismuth) -based or Tl (thallium) -based oxide superconductor thin film, and further processing the washer portion, hole portion, and slit portion.
For molding, ion milling, chemical etching, or the like may be applied. The Josephson junction is
It is possible to use a weak-coupling type utilizing a step difference in the substrate, a bicrystal type, a tunnel type, or the like.

【0009】そして、本発明のSQUIDは、従来のS
QUIDに比べて磁束分解能を10〜100倍以上に飛
躍的に向上させることができるので、従来のSQUID
のように磁気トランスを組合せて使用する必要がない。
そして、より微小な磁場計測に応用することができるも
のである。
The SQUID of the present invention is the conventional SQUID.
Since the magnetic flux resolution can be dramatically improved by 10 to 100 times or more compared with the QUID, the conventional SQUID
It is not necessary to use a magnetic transformer in combination as in the above.
And, it can be applied to a smaller magnetic field measurement.

【0010】さらに、酸化物超伝導体で形成されたワッ
シャー部分と、該ワッシャー部分の略中央に開設された
ホール部分と、該ホール部分から外周へ向かって延設さ
れたスリット部分とからなる磁束遮蔽層を積層させた場
合は、SQUIDのスリット部からの磁束のリークを防
止することができ、磁束分解能をより一層向上させるこ
とができる。即ち、この場合、上記磁束遮蔽層のワッシ
ャー部分を、前記構成のSQUIDのワッシャー部と対
向させ、さらに磁束遮蔽層のスリット部分とSQUID
のスリット部とが重ならないように積層させるのであ
る。
Further, a magnetic flux composed of a washer portion formed of an oxide superconductor, a hole portion opened substantially in the center of the washer portion, and a slit portion extending from the hole portion toward the outer periphery. When the shielding layer is laminated, leakage of magnetic flux from the slit portion of the SQUID can be prevented, and the magnetic flux resolution can be further improved. That is, in this case, the washer portion of the magnetic flux shielding layer is made to face the washer portion of the SQUID having the above-mentioned configuration, and the slit portion of the magnetic flux shielding layer and the SQUID are further arranged.
The slits are stacked so that they do not overlap.

【0011】上記磁束遮蔽層のワッシャー部分及びホー
ル部分は、前記SQUIDのワッシャー部及びホール部
と同様な大きさで加工・成型すれば良い。尚、この磁束
遮蔽層に設けたスリット部分は、遮蔽電流が流れて、ホ
ール部に磁束が侵入するのを妨げるのを防止するための
構成である。そして、このような磁束遮蔽層を作製する
には、前記SQUIDの作製方法に準じて支持基板上に
薄膜状のワッシャー部分を形成するようにしても良い
し、或いは全体を一体成型の焼結体(磁束遮蔽板)とし
て作製するようにしても良い。
The washer portion and the hole portion of the magnetic flux shielding layer may be processed and molded in the same size as the washer portion and the hole portion of the SQUID. The slit portion provided in the magnetic flux shielding layer is configured to prevent a shielding current from flowing and preventing the magnetic flux from entering the hole portion. In order to manufacture such a magnetic flux shielding layer, a thin film washer portion may be formed on a supporting substrate according to the above-mentioned SQUID manufacturing method, or the whole sintered body is integrally molded. It may be manufactured as a (magnetic flux shielding plate).

【0012】この磁束遮蔽層でSQUIDのジョセフソ
ン接合部をカバーするようにした場合、接合部への磁束
の影響が少なくなるため、SQUIDの磁場−電圧特性
におけるフランホッファー回折的な挙動を小さくするこ
とができる。また、磁束遮蔽層のホール部分の大きさは
SQUIDのホール部と同じ或いは小さくすることによ
り上記効果を期待することができるのであるが、SQU
IDのスリット部からの磁束のリーク防止効果だけを期
待する場合はSQUIDのホール部よりも大きくても良
い。
When the Josephson junction of the SQUID is covered with this magnetic flux shielding layer, the influence of the magnetic flux on the junction is reduced, so that the Franhoffer diffraction behavior in the magnetic-voltage characteristics of the SQUID is reduced. be able to. Further, the above effect can be expected by making the size of the hole portion of the magnetic flux shielding layer equal to or smaller than the hole portion of the SQUID.
If only the effect of preventing the leakage of magnetic flux from the slit portion of the ID is expected, it may be larger than the hole portion of the SQUID.

【0013】尚、このような磁束遮蔽層は、上述のよう
にSQUIDとは別の基板(或いは別の基板上に設けた
薄膜層)としても良いが、前記SQUIDの表面に絶縁
層を形成させた後、その上に酸化物超伝導薄膜(磁束遮
蔽層)を形成するようにしたものでも良い。このように
構成されたSQUIDは、スリット部への密着性が向上
するので、前述の磁束のリーク防止効果をさらに向上さ
せることができる。
Although such a magnetic flux shielding layer may be formed on a substrate (or a thin film layer provided on another substrate) different from the SQUID as described above, an insulating layer is formed on the surface of the SQUID. After that, an oxide superconducting thin film (magnetic flux shielding layer) may be formed thereon. Since the SQUID thus configured has improved adhesion to the slit portion, it is possible to further improve the above-described magnetic flux leakage prevention effect.

【0014】[0014]

【実施例】以下に、本発明を図面の実施例に基づいて説
明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to embodiments of the drawings.

【0015】実施例1;図1に示すSQUID11 を作
製するには、まず高さ2000Åの段差を形成したSr
TiO3 (100)基板2上にレーザ蒸着法によりYB
CO酸化物超伝導体薄膜(膜厚2000Å)を形成し
た。尚、成膜条件は、レーザ波長248nm、レーザパ
ワー300mJ/Pulse、基板温度670℃、成膜
速度500Å/分、酸素分圧400mTorrである。
次に、イオンミリングによりワッシャー部3(10mm
×10mm)、ホール部4(25μm×25μm)、ス
リット部5,5(幅10μm)を加工・成型し、ホール
部4とスリット部5,5との間にジョセフソン接合部
6,6を形成した。
Example 1 In order to manufacture the SQUID 1 1 shown in FIG. 1, first, Sr having a height difference of 2000 Å was formed.
YB was formed on the TiO 3 (100) substrate 2 by the laser deposition method.
A CO oxide superconductor thin film (film thickness 2000Å) was formed. The film forming conditions are a laser wavelength of 248 nm, a laser power of 300 mJ / Pulse, a substrate temperature of 670 ° C., a film forming rate of 500 Å / min, and an oxygen partial pressure of 400 mTorr.
Next, the washer part 3 (10 mm
× 10 mm), the hole portion 4 (25 μm × 25 μm), and the slit portions 5 and 5 (width 10 μm) are processed and molded to form the Josephson joint portions 6 and 6 between the hole portion 4 and the slit portions 5 and 5. did.

【0016】こうして得られた実施例1のSQUID1
1 に計測系(図示せず)を接続して液体窒素中で磁場分
解能を計測したところ、0.5pTesla/Hz1/2
at10Hzであった。尚、従来のワッシャーサイズが
250μm×250μmのSQUIDでは10pTes
la/Hz1/2 at10Hzであった。したがって、上
記実施例1のSQUID11 は、従来のSQUIDに対
して磁場分解能が約20倍向上した結果となった。
SQUID 1 of Example 1 thus obtained
When a measurement system (not shown) was connected to 1 and the magnetic field resolution was measured in liquid nitrogen, it was 0.5 pTesla / Hz 1/2
It was at 10 Hz. The conventional SQUID with a washer size of 250 μm × 250 μm has 10 pTes.
It was la / Hz 1/2 at 10 Hz. Therefore, the SQUID 1 1 of Example 1 has a magnetic field resolution improved by about 20 times as compared with the conventional SQUID.

【0017】実施例2;まず、図2に示す磁束遮蔽層
(板)1’を前記実施例1に示した方法に準じて作製し
た。尚、図中、2’は支持基板、3’はワッシャー部分
(10mm×10mm)、4’はホール部分(25μm
×25μm)、5’はスリット部分(幅5μm)であ
る。次に、図3に示すように上記磁束遮蔽層1’のワッ
シャー部分3’を前記SQUID11 のワッシャー部3
と対向させると共に磁束遮蔽層1’のスリット部分5’
とSQUID11 のスリット部5とが重ならないように
積層させて一体化させた。
Example 2 First, a magnetic flux shielding layer (plate) 1'shown in FIG. 2 was produced according to the method shown in Example 1 above. In the figure, 2'is a support substrate, 3'is a washer part (10 mm x 10 mm), 4'is a hole part (25 μm).
× 25 μm) and 5 ′ are slit portions (width 5 μm). Next, as shown in FIG. 3, the washer portion 3 ′ of the magnetic flux shielding layer 1 ′ is replaced with the washer portion 3 of the SQUID1 1.
And the slit portion 5'of the magnetic flux shielding layer 1 '
And the slit portion 5 of SQUID1 1 are laminated and integrated so as not to overlap.

【0018】こうして得られた実施例2のSQUID1
2 に計測系(図示せず)を接続して液体窒素中で磁場分
解能を計測したところ、0.2pTesla/Hz1/2
at10Hzであった。このように実施例2のSQUI
D12 の磁場分解能が実施例1のSQUID11 よりも
さらに向上したのはSQUID12 のスリット部5,5
からリークしていた磁束が磁束遮蔽層1’によって妨げ
られたからと考えられた。
SQUID 1 of Example 2 thus obtained
When a measurement system (not shown) was connected to 2 and the magnetic field resolution was measured in liquid nitrogen, it was found to be 0.2 pTesla / Hz 1/2
It was at 10 Hz. Thus, the SQUI of the second embodiment
The magnetic field resolution of D1 2 was further improved as compared with SQUID 1 1 of Example 1 because the slit portions 5 and 5 of SQUID 1 2 were
It was considered that the magnetic flux leaking from the magnetic field was blocked by the magnetic flux shielding layer 1 '.

【0019】以上本発明を実施例に基づいて説明した
が、本発明は前記した実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載した構成を変更しない限りど
のようにでも実施することができる。
Although the present invention has been described above based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and can be carried out in any manner as long as the configuration described in the claims is not changed. You can

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように本発明のSQUID
は、磁束濃縮効果及び位置の分解能が高く、従来のSQ
UIDに比べて磁束分解能を10〜100倍以上に飛躍
的に向上させることができる。したがって、従来のSQ
UIDのように複雑な構成の磁気トランスを組合せて使
用する必要がなく、より微小な磁場計測に応用すること
ができるものである。
As described above, the SQUID of the present invention
Has high magnetic flux concentration effect and high position resolution,
The magnetic flux resolution can be dramatically improved 10 to 100 times or more as compared with UID. Therefore, the conventional SQ
It is not necessary to use a magnetic transformer having a complicated structure such as UID in combination, and can be applied to a smaller magnetic field measurement.

【0021】また、ホール部の面積が4〜2000μm
2 であるSQUIDは、SQUID自身のインダクタン
スの上昇を抑制すると共にSQUID出力電圧を大きく
して磁場分解能を向上することができる。
Further, the area of the hole portion is 4 to 2000 μm.
The SQUID of 2 can suppress the increase in the inductance of the SQUID itself and increase the SQUID output voltage to improve the magnetic field resolution.

【0022】さらに、ホール部の面積が100〜200
0μm2 であるSQUIDは、例えばその形状等に依存
することなく上記効果をより安定に実現するものとな
る。
Further, the area of the hole portion is 100 to 200.
The SQUID of 0 μm 2 achieves the above effect more stably without depending on the shape or the like.

【0023】また、酸化物超伝導体で形成されたワッシ
ャー部分と、該ワッシャー部分の略中央に開設されたホ
ール部分と、該ホール部分から外周へ向かって延設され
たスリット部分とからなる磁束遮蔽層のワッシャー部分
を、SQUIDのワッシャー部と対向させると共に磁束
遮蔽層のスリット部分とSQUIDのスリット部とが重
ならないように積層させてなる構成のSQUIDは、ス
リット部からリークしていた磁束が磁束遮蔽層によって
妨げられ、磁場分解能をより一層向上させるものとな
る。
Further, a magnetic flux composed of a washer portion formed of an oxide superconductor, a hole portion opened substantially in the center of the washer portion, and a slit portion extending from the hole portion toward the outer periphery. The SQUID has a structure in which the washer portion of the shielding layer is opposed to the washer portion of the SQUID and the slit portion of the magnetic flux shielding layer and the slit portion of the SQUID are laminated so as not to overlap each other. It is hindered by the magnetic flux shielding layer and further improves the magnetic field resolution.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1のSQUIDの構成を示す平面図であ
る。
FIG. 1 is a plan view showing the configuration of an SQUID according to a first embodiment.

【図2】実施例2のSQUIDに積層させる磁束遮蔽層
の構成を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a magnetic flux shielding layer to be laminated on the SQUID of Example 2.

【図3】実施例2のSQUIDの積層状態を示す斜視図
である。
FIG. 3 is a perspective view showing a stacked state of SQUIDs according to a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ,12 SQUID 2 基板 3 ワッシャー部 4 ホール部 5 スリット部 6 ジョセフソン接合部 1’ 磁束遮蔽層 2’ 支持基板 3’ ワッシャー部分 4’ ホール部分 5’ スリット部分1 1 , 1 2 SQUID 2 substrate 3 washer part 4 hole part 5 slit part 6 Josephson junction part 1'flux shielding layer 2'support substrate 3'washer part 4'hole part 5'slit part

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸化物超伝導体薄膜で形成されたワッシ
ャー部と、該ワッシャー部の略中央に開設されたホール
部と、高温超伝導体薄膜で構成された少なくとも1つの
ジョセフソン接合部と、該ジョセフソン接合部より外周
へ向かって設けられたスリット部とからなるSQUID
であり、前記ワッシャー部の面積が25〜1000mm
2 であることを特徴とするSQUID。
1. A washer portion formed of an oxide superconductor thin film, a hole portion formed substantially in the center of the washer portion, and at least one Josephson junction formed of a high temperature superconductor thin film. , A SQUID including a slit portion provided from the Josephson junction portion toward the outer periphery
And the area of the washer part is 25 to 1000 mm.
SQUID characterized by being 2 .
【請求項2】 ホール部の面積が4〜2000μm2
あることを特徴とする請求項1に記載のSQUID。
2. The SQUID according to claim 1, wherein the area of the hole portion is 4 to 2000 μm 2 .
【請求項3】 ホール部の面積が100〜2000μm
2 であることを特徴とする請求項1乃至2に記載のSQ
UID。
3. The area of the hole portion is 100 to 2000 μm.
3. The SQ according to claim 1, wherein the SQ is 2.
UID.
【請求項4】 酸化物超伝導体で形成されたワッシャー
部分と、該ワッシャー部分の略中央に開設されたホール
部分と、該ホール部分から外周へ向かって延設されたス
リット部分とからなる磁束遮蔽層のワッシャー部分を、
SQUIDのワッシャー部と対向させると共に磁束遮蔽
層のスリット部分とSQUIDのスリット部とが重なら
ないように積層させてなることを特徴とする請求項1乃
至3に記載のSQUID。
4. A magnetic flux comprising a washer portion formed of an oxide superconductor, a hole portion opened substantially in the center of the washer portion, and a slit portion extending from the hole portion toward the outer periphery. The washer part of the shielding layer,
The SQUID according to any one of claims 1 to 3, wherein the slit portion of the magnetic flux shielding layer and the slit portion of the SQUID are laminated so as not to overlap each other while facing the washer portion of the SQUID.
JP5039479A 1993-02-03 1993-02-03 SQUID Expired - Lifetime JPH0773133B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5039479A JPH0773133B2 (en) 1993-02-03 1993-02-03 SQUID

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5039479A JPH0773133B2 (en) 1993-02-03 1993-02-03 SQUID

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06232463A JPH06232463A (en) 1994-08-19
JPH0773133B2 true JPH0773133B2 (en) 1995-08-02

Family

ID=12554206

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5039479A Expired - Lifetime JPH0773133B2 (en) 1993-02-03 1993-02-03 SQUID

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0773133B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06232463A (en) 1994-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5465049A (en) Integrated type planar magnetic sensor having SQUID and flux transformer formed of oxide superconductor
US5574290A (en) Superconducting quantum interference device
US5218297A (en) Superconductive quantum interference device in high temperature environments having reduced inductance and improved thermal noise response
JP2749048B2 (en) Superconducting quantum interferometer
US5462762A (en) Fabrication method of superconducting quantum interference device constructed from short weak links with ultrafine metallic wires
US5313074A (en) Josephson device formed over a recess step with protective layer
Kaczmarek et al. Advanced HTS dc SQUIDs with step-edge Josephson junctions for geophysical applications
US5438036A (en) Planar squid of oxide superconductor
US6226538B1 (en) Magnetic sensor with squid and having superconducting coils formed on sapphire substrate
JPH0773133B2 (en) SQUID
JP2564246B2 (en) SQUID magnetic sensor
JP2528075B2 (en) SQUID magnetic sensor
KR20010050950A (en) SQUID elements
JP2001091611A (en) High magnetic field resolution fluxmeter
JP2539584B2 (en) Superconducting quantum interference device
JPH07191113A (en) Squid magnetic sensor
JPS5846197B2 (en) Josephson junction device and its manufacturing method
JPH05196715A (en) Superconductive magnetism sensor
JPH08186300A (en) Pickup coil for oxide squid
JPH05297093A (en) Magnetic sensor
JP3076503B2 (en) Superconducting element and method of manufacturing the same
JP2768276B2 (en) Oxide superconducting junction element
JPH11312830A (en) Plane type gradiometer
JPH03297178A (en) Squid device
JPH02205785A (en) Superconductor device