JPH0768621B2 - Continuous vacuum deposition equipment - Google Patents

Continuous vacuum deposition equipment

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JPH0768621B2
JPH0768621B2 JP63113469A JP11346988A JPH0768621B2 JP H0768621 B2 JPH0768621 B2 JP H0768621B2 JP 63113469 A JP63113469 A JP 63113469A JP 11346988 A JP11346988 A JP 11346988A JP H0768621 B2 JPH0768621 B2 JP H0768621B2
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vacuum
atmosphere
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俊夫 田口
肇 沖田
平三郎 古川
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチツクフイルム、紙等の可撓性のある
走行基板に連続的に真空蒸着する装置に関し、特に好ま
しいシール装置を備えた上記装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for continuously vacuum-depositing on a flexible traveling substrate such as a plastic film or paper, and the above apparatus including a particularly preferable sealing device. Regarding

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来は、プラスチツクフイルム、紙等に対する真空蒸着
はバツチ方式で行なわれていたため、連続真空シール装
置は知られていない。ここでは参考として鋼板を対象と
した連続真空シール装置を第6図に示す。
Conventionally, continuous vacuum sealing devices have not been known because vacuum deposition on a plastic film, paper, etc. has been performed by a batch method. For reference, FIG. 6 shows a continuous vacuum sealing device for steel plates.

第6図において、1は走行基板、2a,2b,2c,…は入側シ
ールロール、3a,3b,3c,…は出側シールロール、4a,4b,4
c,…は真空ポンプ、5は蒸着装置、6a,6b,6c,…は圧力
室、7は蒸着室、8はデフレクターロール、9は巻付ロ
ールである。
In FIG. 6, 1 is a traveling substrate, 2a, 2b, 2c, ... Are inlet seal rolls, 3a, 3b, 3c, ... Are outlet seal rolls, 4a, 4b, 4
are vacuum pumps, 5 is a vapor deposition device, 6a, 6b, 6c, ... are pressure chambers, 7 is a vapor deposition chamber, 8 is a deflector roll, and 9 is a winding roll.

走行基板1は、一対のピンチロールで構成されたシール
ロール2a,2b,2c,…で仕切られた圧力室6a,6b,6c,…を経
て、所定の真空度に保たれた蒸着室7に達し、該蒸着室
7内で蒸着装置5によつて蒸着めつきされた後、出側シ
ールロール3a,3b,3c,…を経て、大気中へ搬出される。
The traveling substrate 1 passes through pressure chambers 6a, 6b, 6c, ... Divided by seal rolls 2a, 2b, 2c, ... Composed of a pair of pinch rolls, and then into a vapor deposition chamber 7 maintained at a predetermined vacuum degree. After reaching the temperature and being vapor-deposited by the vapor-depositing device 5 in the vapor-deposition chamber 7, it is carried out to the atmosphere through the output side seal rolls 3a, 3b, 3c ,.

各シールロールの詳細を第7図(A)と、第7図(A)
のIII−III線断面矢視図である第7図(B)に示す。
Details of each seal roll are shown in FIG. 7 (A) and FIG. 7 (A).
FIG. 7B is a sectional view taken along the line III-III of FIG.

第7図(A),(B)において、11,12は一対のピンチ
ロール、14はシールバー、16はケーシング、17は上流側
圧力室、18は下流側圧力室、19a,19b,19cはリーク隙
間、すなわち19aはピンチロール11とシールバー14との
隙間、19bはピンチロール11の軸端とケーシング16との
隙間、19cはピンチロール11及び12の間で走行基板1が
存在していない部分の隙間である。
7A and 7B, 11 and 12 are a pair of pinch rolls, 14 is a seal bar, 16 is a casing, 17 is an upstream pressure chamber, 18 is a downstream pressure chamber, and 19a, 19b and 19c are Leakage gap, that is, 19a is a gap between the pinch roll 11 and the seal bar 14, 19b is a gap between the shaft end of the pinch roll 11 and the casing 16, and 19c is the traveling substrate 1 between the pinch rolls 11 and 12. It is a gap between parts.

上流側圧力室17と下流側圧力室18とはピンチロール11、
12及びシールバー14とで仕切られ、上記の僅かなリーク
隙間19a,19b,19cを通つて上流側から下流側へガスが流
れる。
The upstream pressure chamber 17 and the downstream pressure chamber 18 are the pinch rolls 11,
It is partitioned by 12 and the seal bar 14, and the gas flows from the upstream side to the downstream side through the slight leak gaps 19a, 19b, 19c.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

第6図及び第7図に示したような従来の構成の真空シー
ル装置ではリーク隙間19a〜19c面積を小さくして、上流
側から下流側へ流れるガス流量を小さくすることが、真
空ポンプ4a,4b,4c…の容量を小さく抑えるために必要で
ある。
In the vacuum seal device having the conventional configuration as shown in FIGS. 6 and 7, it is possible to reduce the area of the leak gaps 19a to 19c so as to reduce the gas flow rate from the upstream side to the downstream side. It is necessary to keep the capacity of 4b, 4c… small.

しかしながら、回転するピンチロール11,12と固定され
たシールバー14あるいはケーシング16との間の隙間は接
触防止のため或る一定値以上小さくすることができず、
リーク隙間面積を小さくするには限界があつた。
However, the gap between the rotating pinch rolls 11 and 12 and the fixed seal bar 14 or the casing 16 cannot be made smaller than a certain value to prevent contact,
There was a limit in reducing the leak gap area.

また、リーク隙間をガスが流れるときに走行基板1のば
たつきが発生し、走行基板1のしわの発生、走行基板1
の切断につながる虞れが強かつた。
Further, when the gas flows through the leak gap, flapping of the traveling substrate 1 occurs, wrinkles occur on the traveling substrate 1, and the traveling substrate 1
There was a strong fear that it would lead to disconnection.

本発明は、リーク隙間面積を極力小さくし、この隙間へ
ガスが流れるのを極力抑えて、上記した走行基板のばた
つき等が発生しないシール装置を備えた連続真空蒸着装
置を提案することを目的とする。
The present invention aims to propose a continuous vacuum vapor deposition apparatus equipped with a seal device that minimizes the leak gap area and suppresses the flow of gas into this gap as much as possible, so that the above-mentioned fluttering of the traveling substrate does not occur. To do.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

本発明は、(1)走行基板を連続的に大気中から真空室
に導き、該真空室で該走行基板に真空蒸着を施した後、
大気中へ搬出する連続真空蒸着装置において、大気から
前記真空室までの間をシールロールで複数の圧力室に区
画し、各シールロールを3本1組のピンチロールで構成
して2つのピンチロールの間を前記真空室に導入する基
板と大気中に搬出する基板を通し、かつ、前記圧力室内
にガイドロールを配置して前記走行基板が前記ピンチロ
ールに対して巻付角10度以上で巻付くようにしたことを
特徴とする連続真空蒸着装置、及び、(2)走行基板を
連続的に大気中から真空室に導き、該真空室で該走行基
板に真空蒸着を施した後、大気中へ搬出する連続真空蒸
着装置において、大気から前記真空室までの間をシール
装置で複数の圧力室に区画し、各シール装置を1本のシ
ールロールと該シールロールの両側に設けたシールバー
で構成し、かつ、前記圧力室内にガイドロールを配置し
て前記真空室に導入される基板及び大気中に搬出される
基板が前記シールロールに対して巻付角10度以上で巻付
くようにしたことを特徴とする連続真空蒸着装置であ
る。
The present invention includes (1) continuously introducing a traveling substrate from the atmosphere into a vacuum chamber, performing vacuum deposition on the traveling substrate in the vacuum chamber,
In a continuous vacuum vapor deposition apparatus that is carried out into the atmosphere, the space from the atmosphere to the vacuum chamber is divided into a plurality of pressure chambers by seal rolls, and each seal roll is composed of one set of three pinch rolls to form two pinch rolls. Between the substrate to be introduced into the vacuum chamber and the substrate to be carried out into the atmosphere through, and the guide substrate is arranged in the pressure chamber, and the traveling substrate is wound at a wrap angle of 10 degrees or more with respect to the pinch roll. A continuous vacuum vapor deposition apparatus characterized by being attached, and (2) the traveling substrate is continuously led from the atmosphere to a vacuum chamber, and the traveling substrate is vacuum-deposited in the vacuum chamber, and then in the atmosphere. In the continuous vacuum vapor deposition apparatus carried out to, the space from the atmosphere to the vacuum chamber is divided into a plurality of pressure chambers by a sealing device, and each sealing device is provided with one sealing roll and sealing bars provided on both sides of the sealing roll. Configure and It is characterized in that a guide roll is arranged in the pressure chamber so that the substrate introduced into the vacuum chamber and the substrate discharged into the atmosphere are wound around the seal roll at a wrap angle of 10 degrees or more. It is a continuous vacuum deposition apparatus.

〔作用〕[Action]

本発明は、上流側シールロールと下流側シールロールを
一体化し、シールロールの本数を減らしたことによつ
て、合計のシール隙間の箇所が減るので、構造的にシー
ル隙間面積が減少する。従つて、シール性能が向上し、
真空ポンプ容量が低減する。
According to the present invention, since the upstream seal roll and the downstream seal roll are integrated and the number of seal rolls is reduced, the total number of seal gaps is reduced, so that the seal gap area is structurally reduced. Therefore, the sealing performance is improved,
Vacuum pump capacity is reduced.

また本発明は、シールロールに走行基板を巻付けるた
め、リークガス流れの影響の大きいシールロール付近で
の走行基板のばたつきが発生しない。
Further, in the present invention, since the traveling substrate is wound around the seal roll, the traveling substrate does not flutter near the seal roll, which is greatly affected by the leak gas flow.

〔実施例〕〔Example〕

第1図及び第2図(A),(B)は本発明装置の一例を
示す図である。
1 and 2 (A) and (B) are views showing an example of the device of the present invention.

第1図は全体説明図、第2図(A)は第1図の一部詳細
図、第2図(B)は第2図(A)のI−I線断面矢視図
である。
1 is an overall explanatory view, FIG. 2 (A) is a partially detailed view of FIG. 1, and FIG. 2 (B) is a sectional view taken along the line I-I of FIG. 2 (A).

第1図において、第6,7図と同一符号は第6,7図と同一部
を示し、2′a,2′b,2′c…は3本一組のピンチロール
で構成されるシールロールであり、入側シールロール及
び出側シールロールを兼ねている。
In FIG. 1, the same reference numerals as those in FIGS. 6 and 7 indicate the same parts as those in FIGS. 6 and 7, and 2'a, 2'b, 2'c ... are seals composed of a set of three pinch rolls. It is a roll and serves both as an inlet side seal roll and an outlet side seal roll.

これらのシールロールは、第2図(A),(B)に示す
ように、3本一組のピンチロール11′,12′,13′で構成
され、ピンチロール11′と13′が図示しない駆動装置で
回転駆動される。このように3本一組のピンチロールか
らなるシールロールによれば、合計のリーク隙間19a〜1
9cの箇所が従来の構造に比べて減少するため、構造的に
リーク隙間面積の合計値を低減することができ、シール
性能が向上する。
As shown in FIGS. 2A and 2B, these seal rolls are composed of a set of three pinch rolls 11 ', 12', 13 ', and the pinch rolls 11' and 13 'are not shown. It is rotationally driven by a drive device. As described above, according to the seal roll including the set of three pinch rolls, the total leak gaps 19a to 19a
Since the number of 9c is reduced compared to the conventional structure, the total value of the leak gap area can be structurally reduced, and the sealing performance is improved.

また、第1図に示すように、各シールロール間(すなわ
ち各圧力室6a,6b,6c…内)に設けられたガイドロール20
a,20b,20c…により走行基板1のシールロールへの巻付
角が一定以上を確保しており、万一リークガスが発生し
てもリークガスによる走行基板1のばたつきは極く少
い。
Further, as shown in FIG. 1, the guide rolls 20 provided between the seal rolls (that is, in the pressure chambers 6a, 6b, 6c ...)
The wrap angle of the traveling substrate 1 with respect to the seal roll is secured by a, 20b, 20c, ... Even if a leak gas is generated, the fluttering of the traveling substrate 1 due to the leak gas is extremely small.

本発明者らの実験によれば、この巻付角は、第3図
(A)に示すように、10度以上が適当であり、10度以上
で巻付けば走行基板のばたつきは問題なくなる。
According to the experiments conducted by the present inventors, as shown in FIG. 3 (A), it is appropriate that the winding angle is 10 degrees or more, and if the winding angle is 10 degrees or more, the fluttering of the traveling substrate is not a problem.

なお、第3図(A)は、第3図(B)に示す要領で実験
した結果、得られたものである。すなわち、第3図
(B)において、直径80mmのシールロール101と直径90m
mのシールロール102の間に幅400mmで厚さが12μmと20
μmの2枚のフイルム(走行基板)1を各々走行させ
る。そして、真空室105内のガイドロール103と大気中の
ガイドロール104とを矢印α間を移動させてフイルム1
のシールロール101への巻付角を変更し、点線βの部分
のフイルム1のばたつき状態(振幅)を目視評価した。
このとき、シールロール101,102前後の圧力が、該シー
ルロール101,102間を通過するガス流量が最大で、フイ
ルムのばたつきに対し最も厳しい条件である大気圧と36
0トールとなるように、真空室105内を矢印γ方向へルー
ツ型真空ポンプで排気し、該真空室105の圧力を360トー
ルに調整した。
Note that FIG. 3 (A) is obtained as a result of an experiment conducted in the manner shown in FIG. 3 (B). That is, in FIG. 3 (B), a seal roll 101 having a diameter of 80 mm and a diameter of 90 m
Width of 400 mm and thickness of 12 μm and 20 between the m seal rolls 102
Two μm-sized films (running substrates) 1 are run respectively. Then, the guide roll 103 in the vacuum chamber 105 and the guide roll 104 in the atmosphere are moved between the arrows α to move the film 1
The angle of wrapping of the film with respect to the seal roll 101 was changed, and the flapping state (amplitude) of the film 1 at the portion indicated by the dotted line β was visually evaluated.
At this time, the pressure before and after the seal rolls 101 and 102 is the maximum gas flow rate passing between the seal rolls 101 and 102, and the atmospheric pressure and 36
The inside of the vacuum chamber 105 was evacuated by a roots-type vacuum pump in the direction of the arrow γ so that the pressure was 0 Torr, and the pressure in the vacuum chamber 105 was adjusted to 360 Torr.

第4図及び第5図(A),(B)は、本発明装置の他の
例を示す図である。
4 and 5 (A) and (B) are views showing another example of the device of the present invention.

第4図は全体説明図、第5図(A)は第4図の一部詳細
図、第5図(B)は第5図(A)のII−II線断面矢視図
である。
4 is an overall explanatory view, FIG. 5 (A) is a partially detailed view of FIG. 4, and FIG. 5 (B) is a sectional view taken along the line II-II of FIG. 5 (A).

第4図において、第6,7図と同一符号は第6,7図と同一部
を示し、2″a,2″b,2″c…は1本のシールロールで構
成されるシールロールであり、入側シールロール及び出
側シールロールを兼ねている。これらのシールロール2a
〜2cは、図示しない駆動装置で各々回転駆動されてい
る。
In FIG. 4, the same reference numerals as those in FIGS. 6 and 7 indicate the same parts as those in FIGS. 6 and 7, and 2 ″ a, 2 ″ b, 2 ″ c ... are seal rolls formed by one seal roll. Yes, it also serves as an inlet-side seal roll and an outlet-side seal roll.
2c are each rotationally driven by a driving device (not shown).

これらのシールロールは、第5図(A),(B)に示す
ように、1本のシールロール2″の両側に配置されたシ
ールバー14,14と共にシール装置を構成する。このシー
ル装置によれば、合計のリーク隙間19a,19bの箇所が従
来の構造に比べて減少するため、構造的にリーク隙間面
積の合計値を低減することができ、シール性能が向上す
る。
As shown in FIGS. 5 (A) and 5 (B), these seal rolls constitute a seal device together with seal bars 14 and 14 arranged on both sides of one seal roll 2 ″. According to this, since the total leakage gaps 19a and 19b are reduced as compared to the conventional structure, the total value of the leakage gap areas can be structurally reduced, and the sealing performance is improved.

また、第4図に示すように、各シールロール間(すなわ
ち各圧力室6a,6b,6c…内)に設けられたガイドロール20
a,20b,20c…により走行基板1のシールロールへの巻付
角が一定以上を解保しており、万一リークガスが発生し
てもリークガスによる走行基板のばたつきは極く少い。
従つて、走行基板1が、シールバー14,14に接触して切
断される虞れはない。
Further, as shown in FIG. 4, the guide rolls 20 provided between the seal rolls (that is, in the pressure chambers 6a, 6b, 6c ...)
The wrapping angle of the traveling substrate 1 around the seal roll is maintained at a certain level by a, 20b, 20c ... Even if a leak gas should occur, the fluttering of the traveling substrate due to the leak gas is extremely small.
Therefore, there is no risk that the traveling board 1 will be cut by coming into contact with the seal bars 14, 14.

本発明者らの実験によれば、この巻付角は、前記の第3
図(B)に示す通り、10度以上が適当であり、10度以上
で巻付けば走行基板のばたつきの問題はなくなる。
According to the experiments conducted by the present inventors, this wrap angle is the same as the above-mentioned third wrap angle.
As shown in FIG. 6B, 10 degrees or more is suitable, and if the winding is performed at 10 degrees or more, the problem of fluttering of the traveling substrate is eliminated.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明装置によれば、シールロール部でのリーク隙間が
小さくなるため、シール性能が向上する。
According to the device of the present invention, since the leak gap in the seal roll portion is reduced, the sealing performance is improved.

また、本発明装置によれば、走行基板が10度以上の巻付
角度でシールロールへ巻付いているため、少々のリーク
ガスがあつても走行基板のばたつきがなくなり、走行基
板のしわの発生、切断の虞れがない。
Further, according to the device of the present invention, since the traveling substrate is wound around the seal roll at a wrapping angle of 10 degrees or more, fluttering of the traveling substrate is eliminated even if a small amount of leak gas is generated, and wrinkling of the traveling substrate occurs, There is no fear of cutting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図及び第2図(A),(B)は本発明装置の一例を
示す図で、第1図は全体説明図、第2図(A)は第1図
の一部詳細図、第2図(B)は第2図(A)のI−I線
断面矢視図、第3図(A)は本発明の効果を示すグラ
フ、第3図(B)は第3図(A)を導くための条件を示
す図、第4図及び第5図(A),(B)は本発明装置の
他の例を示す図で、第4図は全体説明図、第5図(A)
は第4図の一部詳細図、第5図(B)は第5図(A)の
II−II線断面矢視図、第6図及び第7図(A),(B)
は従来の装置の構成図である。 1……走行基板 2′a,2′b,2′c,2″a,2″b,2″c,2″……シールロール 2a,2b,2c……入側シールロール 3a,3b,3c……出側シールロール 4a,4b,4c……真空ポンプ 5……蒸着装置 6a,6b,6c……圧力室 7……蒸着室 8……デフレクタロール 9……巻付ロール 11′,12′,13′,11,12……ピンチロール 14……シールバー 16……ケーシング 17……上流側圧力室 18……下流側圧力室 19a,19b,19c……リーク隙間 20a,20b,20c……ガイドロール
1 and 2 (A) and (B) are views showing an example of the device of the present invention, FIG. 1 is an overall explanatory view, and FIG. 2 (A) is a partial detailed view of FIG. 2 (B) is a sectional view taken along the line I-I of FIG. 2 (A), FIG. 3 (A) is a graph showing the effect of the present invention, and FIG. 3 (B) is FIG. 3 (A). 4 and 5 (A) and (B) are views showing other examples of the device of the present invention, and FIG. 4 is an overall explanatory view and FIG. 5 (A).
Is a partial detailed view of FIG. 4, and FIG. 5 (B) is of FIG. 5 (A).
II-II line sectional arrow view, FIG.6 and FIG.7 (A), (B)
FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional device. 1 …… Running substrate 2′a, 2′b, 2′c, 2 ″ a, 2 ″ b, 2 ″ c, 2 ″ …… Seal roll 2a, 2b, 2c …… Inlet seal roll 3a, 3b, 3c …… Outside seal roll 4a, 4b, 4c …… Vacuum pump 5 …… Evaporation equipment 6a, 6b, 6c …… Pressure chamber 7 …… Deposition chamber 8 …… Deflector roll 9 …… Coil roll 11 ′, 12 ′, 13 ′, 11,12 …… Pinch roll 14 …… Seal bar 16 …… Casing 17 …… Upstream pressure chamber 18 …… Downstream pressure chamber 19a, 19b, 19c …… Leak gap 20a, 20b, 20c… … Guide roll

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古川 平三郎 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 (72)発明者 神川 進 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Heisaburo Furukawa 4-6-22 Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima City, Hiroshima Prefecture Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Hiroshima Plant (72) Susumu Kamikawa 4-chome, Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima Prefecture 6-22 No. 22 Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Hiroshima Works

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】走行基板を連続的に大気中から真空室に導
き、該真空室で該走行基板に真空蒸着を施した後、大気
中へ搬出する連続真空蒸着装置において、大気から前記
真空室までの間をシールロールで複数の圧力室に区画
し、各シールロールを3本1組のピンチロールで構成し
て2つのピンチロールの間を前記真空室に導入する基板
と大気中に搬出する基板を通し、かつ、前記圧力室内に
ガイドロールを配置して前記走行基板が前記ピンチロー
ルに対して巻付角10度以上で巻付くようにしたことを特
徴とする連続真空蒸着装置。
1. A continuous vacuum vapor deposition apparatus in which a traveling substrate is continuously introduced from the atmosphere into a vacuum chamber, the traveling substrate is vacuum-deposited in the vacuum chamber, and then the substrate is carried out into the atmosphere. Is divided into a plurality of pressure chambers by a seal roll, each seal roll is composed of one set of three pinch rolls, and the space between the two pinch rolls is carried into the atmosphere and the substrate introduced into the vacuum chamber. A continuous vacuum vapor deposition apparatus in which a substrate is passed through and a guide roll is arranged in the pressure chamber so that the traveling substrate is wound around the pinch roll at a wrap angle of 10 degrees or more.
【請求項2】走行基板を連続的に大気中から真空室に導
き、該真空室で該走行基板に真空蒸着を施した後、大気
中へ搬出する連続真空蒸着装置において、大気から前記
真空室までの間をシール装置で複数の圧力室に区画し、
各シール装置を1本のシールロールと該シールロールの
両側に設けたシールバーで構成し、かつ、前記圧力室内
にガイドロールを配置して前記真空室に導入される基板
及び大気中に搬出される基板が前記シールロールに対し
て巻付角10度以上で巻付くようにしたことを特徴とする
連続真空蒸着装置。
2. A continuous vacuum vapor deposition apparatus in which a traveling substrate is continuously introduced from the atmosphere into a vacuum chamber, the traveling substrate is vacuum-deposited in the vacuum chamber, and then the substrate is carried out into the atmosphere. It is divided into a plurality of pressure chambers by a seal device between
Each sealing device is composed of one sealing roll and sealing bars provided on both sides of the sealing roll, and guide rolls are arranged in the pressure chamber, and the sealing device is carried into the substrate and the atmosphere introduced into the vacuum chamber. The continuous vacuum vapor deposition apparatus is characterized in that the substrate is wound around the seal roll at a wrap angle of 10 degrees or more.
JP63113469A 1988-04-11 1988-05-12 Continuous vacuum deposition equipment Expired - Fee Related JPH0768621B2 (en)

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