JPH0765766A - 静電偏向器 - Google Patents
静電偏向器Info
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- JPH0765766A JPH0765766A JP5209216A JP20921693A JPH0765766A JP H0765766 A JPH0765766 A JP H0765766A JP 5209216 A JP5209216 A JP 5209216A JP 20921693 A JP20921693 A JP 20921693A JP H0765766 A JPH0765766 A JP H0765766A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 平行電極の間隔に対する幅の比が小さくても
従来と同程度の範囲で高精度の偏向が可能で、省スペー
スを実現できる静電偏向器を提供する。 【構成】 一対の平行電極１０，１１の両端部の間隙
に、当該両端部での等電位線を一対の平行電極１０，１
１と平行な方向に向けて補正する補正電極１２を配置す
る。補正電極１２は、一対の平行電極１０，１１の一方
から他方へ向けて複数の電極部１２０，１２１，１２２
に分割して設け、分割された各電極部１２０，１２１，
１２２に互いに異なる電圧を印加可能とすることで構成
する。分割された電極部１２０，１２１，１２２は、一
対の平行電極１０，１１の間隙の中心位置Ｏと同軸の円
筒電極の一部を構成するように設ける。
従来と同程度の範囲で高精度の偏向が可能で、省スペー
スを実現できる静電偏向器を提供する。 【構成】 一対の平行電極１０，１１の両端部の間隙
に、当該両端部での等電位線を一対の平行電極１０，１
１と平行な方向に向けて補正する補正電極１２を配置す
る。補正電極１２は、一対の平行電極１０，１１の一方
から他方へ向けて複数の電極部１２０，１２１，１２２
に分割して設け、分割された各電極部１２０，１２１，
１２２に互いに異なる電圧を印加可能とすることで構成
する。分割された電極部１２０，１２１，１２２は、一
対の平行電極１０，１１の間隙の中心位置Ｏと同軸の円
筒電極の一部を構成するように設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、荷電粒子線を偏向させ
る静電偏向器に関する。
る静電偏向器に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム露光装置等に用いられる静電
偏向器としては、平行に配置した一対の平板電極間に電
位差を生じさせて平板電極の並び方向へ荷電粒子線を偏
向させるいわゆる平行電極型のものと、円筒状に配置さ
れた８つの電極にそれぞれ異なる電圧を印加してその電
位差により所望の方向へ荷電粒子線を偏向させるいわゆ
る８極子型のものとが知られている。
偏向器としては、平行に配置した一対の平板電極間に電
位差を生じさせて平板電極の並び方向へ荷電粒子線を偏
向させるいわゆる平行電極型のものと、円筒状に配置さ
れた８つの電極にそれぞれ異なる電圧を印加してその電
位差により所望の方向へ荷電粒子線を偏向させるいわゆ
る８極子型のものとが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、８極子型の静
電偏向器は対向する電極間の距離が大きいため、所定の
電位差を生じさせるには大きい偏向電圧が必要となる。
また、偏向器の中心位置から電極間の内径の４７％の円
内でしか高精度の偏向ができず、その外側に無駄スペー
スが生じる問題がある。一方、平行電極型のものは、平
行電極間の距離が８極子型のものより小さいのでより小
さい偏向電圧で所定の電位差を生じさせることができる
ものの、図３に示すように電極１，２の間隔ｄに対する
電極１，２の幅Ｗの比Ｗ／ｄが小さいと電極１，２の両
端部で等電位線Ｅが広がり、電極１，２の中心側でしか
高精度の偏向ができなくなる。このため、電極１，２の
幅Ｗを十分に大きくする必要が生じ、偏向器をレンズの
内部に配置する場合等に問題がある。
電偏向器は対向する電極間の距離が大きいため、所定の
電位差を生じさせるには大きい偏向電圧が必要となる。
また、偏向器の中心位置から電極間の内径の４７％の円
内でしか高精度の偏向ができず、その外側に無駄スペー
スが生じる問題がある。一方、平行電極型のものは、平
行電極間の距離が８極子型のものより小さいのでより小
さい偏向電圧で所定の電位差を生じさせることができる
ものの、図３に示すように電極１，２の間隔ｄに対する
電極１，２の幅Ｗの比Ｗ／ｄが小さいと電極１，２の両
端部で等電位線Ｅが広がり、電極１，２の中心側でしか
高精度の偏向ができなくなる。このため、電極１，２の
幅Ｗを十分に大きくする必要が生じ、偏向器をレンズの
内部に配置する場合等に問題がある。
【０００４】本発明の目的は、平行電極の間隔に対する
幅の比が小さくても従来と同程度の範囲で高精度の偏向
が可能で、比較的小さい口径のレンズ内部にも設けるこ
とができる静電偏向器を提供することにある。
幅の比が小さくても従来と同程度の範囲で高精度の偏向
が可能で、比較的小さい口径のレンズ内部にも設けるこ
とができる静電偏向器を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１に対
応付けて説明すると、本発明は、一対の平行電極１０，
１１間に電位差を生じさせて荷電粒子線を偏向する静電
偏向器に適用される。そして、一対の平行電極１０，１
１の両端部の間隙に、当該両端部での等電位線を一対の
平行電極１０，１１と平行な方向に向けて補正する補正
電極１２を配置することにより上述した目的を達成す
る。補正電極１２は、例えば一対の平行電極１０，１１
の一方から他方へ向けて複数の電極部１２０，１２１，
１２２に分割して設け、分割された各電極部１２０，１
２１，１２２に互いに異なる電圧を印加可能とすること
で構成できる。この場合、分割された電極部１２０，１
２１，１２２は、一対の平行電極１０，１１の間隙の中
心位置Ｏと同軸の円筒電極の一部を構成するように設け
るとよい。
応付けて説明すると、本発明は、一対の平行電極１０，
１１間に電位差を生じさせて荷電粒子線を偏向する静電
偏向器に適用される。そして、一対の平行電極１０，１
１の両端部の間隙に、当該両端部での等電位線を一対の
平行電極１０，１１と平行な方向に向けて補正する補正
電極１２を配置することにより上述した目的を達成す
る。補正電極１２は、例えば一対の平行電極１０，１１
の一方から他方へ向けて複数の電極部１２０，１２１，
１２２に分割して設け、分割された各電極部１２０，１
２１，１２２に互いに異なる電圧を印加可能とすること
で構成できる。この場合、分割された電極部１２０，１
２１，１２２は、一対の平行電極１０，１１の間隙の中
心位置Ｏと同軸の円筒電極の一部を構成するように設け
るとよい。
【０００６】
【作用】一対の平行電極１０，１１の中央部では平行電
極１０，１１と平行に等電位線が延び、平行電極１０，
１１間の電位差に応じた偏向が行なわれる。平行電極１
０，１１の両端部では、補正電極１２により等電位線が
平行電極１０，１１と平行な方向に向けて補正され、平
行電極１０，１１の中央部の比較的広い領域で正確な偏
向が可能となる。
極１０，１１と平行に等電位線が延び、平行電極１０，
１１間の電位差に応じた偏向が行なわれる。平行電極１
０，１１の両端部では、補正電極１２により等電位線が
平行電極１０，１１と平行な方向に向けて補正され、平
行電極１０，１１の中央部の比較的広い領域で正確な偏
向が可能となる。
【０００７】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。
【０００８】
【実施例】以下、図１を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１に示すように、本実施例では一対の平行電
極１０，１１の両端部の間隙に、３つの電極部１２０，
１２１，１２２で構成される補正電極１２が配置されて
いる。電極部１２０〜１２２は平行電極１０，１１の間
隙の中心位置Ｏと同軸の円筒電極の一部を構成するよう
に配設され、電極部１２０〜１２２への印加電圧は互い
に独立して調整可能とされている。中心位置Ｏは例えば
電子ビーム露光装置の電子銃の光軸と一致せしめられ
る。以下では便宜的に中心位置Ｏを光軸Ｏと呼ぶ。な
お、図において１３は平行電極１０，１１および補正電
極１２を支持する絶縁体、１３Ａは電極１０，１１，１
２を支持する金属製の円筒である。
明する。図１に示すように、本実施例では一対の平行電
極１０，１１の両端部の間隙に、３つの電極部１２０，
１２１，１２２で構成される補正電極１２が配置されて
いる。電極部１２０〜１２２は平行電極１０，１１の間
隙の中心位置Ｏと同軸の円筒電極の一部を構成するよう
に配設され、電極部１２０〜１２２への印加電圧は互い
に独立して調整可能とされている。中心位置Ｏは例えば
電子ビーム露光装置の電子銃の光軸と一致せしめられ
る。以下では便宜的に中心位置Ｏを光軸Ｏと呼ぶ。な
お、図において１３は平行電極１０，１１および補正電
極１２を支持する絶縁体、１３Ａは電極１０，１１，１
２を支持する金属製の円筒である。
【０００９】以上の静電偏向器により荷電粒子線をｘ軸
方向へ偏向するには、平行電極１０に＋ａＶ（ボル
ト）、平行電極１１に−ａＶ、電極部１２１に０Ｖ、電
極部１２０には（ａ・Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθＶ、電極部１
２２には−（ａ・Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθＶの電圧をそれぞ
れ印加する。ここでθは電極部１２０，１２２の内周面
の中心Ｐ１と光軸Ｏとを結ぶ線Ｌ１が平行電極１０，１
１と平行な方向に対してなす角度、ｄは平行電極１０，
１１の間隔、Ｄは電極部１２０〜１２２の内径である。
方向へ偏向するには、平行電極１０に＋ａＶ（ボル
ト）、平行電極１１に−ａＶ、電極部１２１に０Ｖ、電
極部１２０には（ａ・Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθＶ、電極部１
２２には−（ａ・Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθＶの電圧をそれぞ
れ印加する。ここでθは電極部１２０，１２２の内周面
の中心Ｐ１と光軸Ｏとを結ぶ線Ｌ１が平行電極１０，１
１と平行な方向に対してなす角度、ｄは平行電極１０，
１１の間隔、Ｄは電極部１２０〜１２２の内径である。
【００１０】図１において光軸Ｏを原点とし、平行電極
１０，１１と平行な方向にｙ軸、これと直交する方向に
ｘ軸をおいたとき、電極部１２０の内周面の中心Ｐ１か
らｙ方向に伸した線Ｌ２とｘ軸との交点Ｐ０のｘ座標
は、（Ｄ／２）・ｓｉｎθである。一方、平行電極１
０，１１の電位勾配が一定のとき、点Ｐ０の電位は平行
電極１０，１１間の電位勾配（２ａ／ｄ）×Ｐ０のｘ座
標であるから、
１０，１１と平行な方向にｙ軸、これと直交する方向に
ｘ軸をおいたとき、電極部１２０の内周面の中心Ｐ１か
らｙ方向に伸した線Ｌ２とｘ軸との交点Ｐ０のｘ座標
は、（Ｄ／２）・ｓｉｎθである。一方、平行電極１
０，１１の電位勾配が一定のとき、点Ｐ０の電位は平行
電極１０，１１間の電位勾配（２ａ／ｄ）×Ｐ０のｘ座
標であるから、
【数１】（２ａ／ｄ）×（Ｄ／２）・ｓｉｎθ＝（ａ・
Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθ である。
Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθ である。
【００１１】平行電極１０，１１の両端部での等電位線
を平行電極１０，１１の中央部と等しくするには、点Ｐ
０の電位と点Ｐ１での電位とが等しくなればよいから、
電極部１２０に（ａ・Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθＶを印加すれ
ばよいことになる。これにより、電極部１２２の近傍で
の等電位線が平行電極１０，１１と平行な方向に補正さ
れ、平行電極１０，１１の中央部と同様に高精度の偏向
が可能となる。電極部１２２側については電圧の正負が
変化する以外はすべて同じである。
を平行電極１０，１１の中央部と等しくするには、点Ｐ
０の電位と点Ｐ１での電位とが等しくなればよいから、
電極部１２０に（ａ・Ｄ／ｄ）・ｓｉｎθＶを印加すれ
ばよいことになる。これにより、電極部１２２の近傍で
の等電位線が平行電極１０，１１と平行な方向に補正さ
れ、平行電極１０，１１の中央部と同様に高精度の偏向
が可能となる。電極部１２２側については電圧の正負が
変化する以外はすべて同じである。
【００１２】本実施例では、平行電極１０，１１の間隔
ｄが、電極部１２０〜１２２と同一の内径Ｄにて８極子
型の偏向器を構成した場合の電極間の距離（内径Ｄに等
しい）と比べてほぼ半分程度まで小さくなるので、偏向
感度を２倍程度に向上させることができる。
ｄが、電極部１２０〜１２２と同一の内径Ｄにて８極子
型の偏向器を構成した場合の電極間の距離（内径Ｄに等
しい）と比べてほぼ半分程度まで小さくなるので、偏向
感度を２倍程度に向上させることができる。
【００１３】なお、実施例では補正電極１２を３つの電
極部１２０〜１２２に分割したが、補正電極１２の分割
数が多いほど平行電極１０，１１の両端部での電位を細
かく補正できる。ただし、分割数が多いほど電圧制御が
煩雑になるので、実用上は３分割で十分と考えられる。
なお、２分割でも電位の補正は可能である。
極部１２０〜１２２に分割したが、補正電極１２の分割
数が多いほど平行電極１０，１１の両端部での電位を細
かく補正できる。ただし、分割数が多いほど電圧制御が
煩雑になるので、実用上は３分割で十分と考えられる。
なお、２分割でも電位の補正は可能である。
【００１４】実施例では電極部１２０〜１２２を円筒電
極状に構成したので、電極部１２０〜１２２同士の間隙
が小さくなり、補正電極１２による電位の補正効果が及
ばない領域を最小限に圧縮できる。ただし、本発明は円
筒電極状の例に限らず、例えば図２に示すように平板状
の電極部１４０〜１４２を平行電極１０，１１の並ぶ方
向へ連設した補正電極１４に代えてもよい。図２の例で
も実施例と同様に電極部１４１へ０Ｖ、電極部１４０，
１４２にはその中心位置Ｐ１での電位が平行電極１０，
１１の中央部での点Ｐ０の電位と等しくなるような電圧
を印加する。
極状に構成したので、電極部１２０〜１２２同士の間隙
が小さくなり、補正電極１２による電位の補正効果が及
ばない領域を最小限に圧縮できる。ただし、本発明は円
筒電極状の例に限らず、例えば図２に示すように平板状
の電極部１４０〜１４２を平行電極１０，１１の並ぶ方
向へ連設した補正電極１４に代えてもよい。図２の例で
も実施例と同様に電極部１４１へ０Ｖ、電極部１４０，
１４２にはその中心位置Ｐ１での電位が平行電極１０，
１１の中央部での点Ｐ０の電位と等しくなるような電圧
を印加する。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、補正
電極により一対の平行電極の両端部での等電位線が平行
電極と平行な方向に向けて補正され、平行電極の両端部
でも正確な偏向が可能となるため、平行電極の間隔に対
する幅の比が小さくても従来と同程度の範囲で高精度の
偏向が可能で、内径の小さいレンズ内部への配置を実現
できる。
電極により一対の平行電極の両端部での等電位線が平行
電極と平行な方向に向けて補正され、平行電極の両端部
でも正確な偏向が可能となるため、平行電極の間隔に対
する幅の比が小さくても従来と同程度の範囲で高精度の
偏向が可能で、内径の小さいレンズ内部への配置を実現
できる。
【図１】本発明の一実施例の電極の配置を示す平面図。
【図２】図１の変形例を示す図。
【図３】平行電極型の静電偏向器の問題点を説明するた
めの図。
めの図。
１０，１１ 平行電極 １２，１４ 補正電極 １２０，１２１，１２２，１４０，１４１，１４２ 電
極部
極部
Claims (3)
- 【請求項１】 一対の平行電極間に電位差を生じさせて
荷電粒子線を偏向する静電偏向器において、 前記一対の平行電極の両端部の間隙に、当該両端部での
等電位線を前記一対の平行電極と平行な方向に向けて補
正する補正電極を配置したことを特徴とする静電偏向
器。 - 【請求項２】 前記補正電極は前記一対の平行電極の一
方から他方へ向けて複数の電極部に分割され、分割され
た各電極部には互いに異なる電圧が印加可能とされてい
ることを特徴とする請求項１記載の静電偏向器。 - 【請求項３】 前記電極部は、前記一対の平行電極の間
隙の中心位置と同軸の円筒電極の一部を構成するように
設けられていることを特徴とする請求項２記載の静電偏
向器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5209216A JPH0765766A (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 静電偏向器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5209216A JPH0765766A (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 静電偏向器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0765766A true JPH0765766A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16569279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5209216A Pending JPH0765766A (ja) | 1993-08-24 | 1993-08-24 | 静電偏向器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0765766A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5770863A (en) * | 1995-10-24 | 1998-06-23 | Nikon Corporation | Charged particle beam projection apparatus |
| US7109484B2 (en) | 2000-07-27 | 2006-09-19 | Ebara Corporation | Sheet beam-type inspection apparatus |
| US7135676B2 (en) | 2000-06-27 | 2006-11-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7241993B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| JP2014232671A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 株式会社Ｓｅｎ | 高エネルギーイオン注入装置 |
-
1993
- 1993-08-24 JP JP5209216A patent/JPH0765766A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5770863A (en) * | 1995-10-24 | 1998-06-23 | Nikon Corporation | Charged particle beam projection apparatus |
| US8053726B2 (en) | 2000-06-27 | 2011-11-08 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7135676B2 (en) | 2000-06-27 | 2006-11-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7241993B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7297949B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-11-20 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7411191B2 (en) | 2000-06-27 | 2008-08-12 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7601972B2 (en) | 2000-06-27 | 2009-10-13 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US8368031B2 (en) | 2000-06-27 | 2013-02-05 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US8803103B2 (en) | 2000-06-27 | 2014-08-12 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US9368314B2 (en) | 2000-06-27 | 2016-06-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US7417236B2 (en) | 2000-07-27 | 2008-08-26 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
| US7829871B2 (en) | 2000-07-27 | 2010-11-09 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
| US7109484B2 (en) | 2000-07-27 | 2006-09-19 | Ebara Corporation | Sheet beam-type inspection apparatus |
| JP2014232671A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 株式会社Ｓｅｎ | 高エネルギーイオン注入装置 |
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