JPH0765757A - 連続放電抑制コイルを備えたx線発生装置 - Google Patents

連続放電抑制コイルを備えたx線発生装置

Info

Publication number
JPH0765757A
JPH0765757A JP23731293A JP23731293A JPH0765757A JP H0765757 A JPH0765757 A JP H0765757A JP 23731293 A JP23731293 A JP 23731293A JP 23731293 A JP23731293 A JP 23731293A JP H0765757 A JPH0765757 A JP H0765757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
filament
target
vacuum atmosphere
ray generator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23731293A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Tsukamoto
勝美 塚本
Toshikatsu Nakajima
敏勝 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rigaku Denki Co Ltd, Rigaku Corp filed Critical Rigaku Denki Co Ltd
Priority to JP23731293A priority Critical patent/JPH0765757A/ja
Publication of JPH0765757A publication Critical patent/JPH0765757A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 フィラメントを主体とする電子銃に関する組
み立て作業や、保守作業等が非常に簡単であり、しかも
全体形状が非常に小型であるX線発生装置を提供する。 【構成】 ケーシング8で囲まれる真空雰囲気内におい
てフィラメント1から放出される電子をウエネルト2に
よって形成される電場を通すことによって方向制御しな
がらターゲット3に衝突させ、そのターゲット3からX
線を放射するX線発生装置である。フィラメント3の給
電路に連続放電抑制コイル16が配置される。コイル1
6を、高電圧用電流導入碍子14の外部であって真空雰
囲気内に配置することにより、碍子14を小型にする。
コイル16の絶縁はケーシング8内の真空雰囲気によっ
て達成する。絶縁オイルは不要である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空雰囲気内において
フィラメントから放出される電子をターゲットに衝突さ
せ、そのターゲットからX線を放射するX線発生装置に
関する。特に、フィラメントの給電路に連続放電抑制コ
イルを配置したX線発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、上記のようなX線発生装置とし
て、例えば、図4に示すものが知られている。このX線
発生装置では、フィラメント1から放出された電子、す
なわち熱電子をウエネルト2に生じる電場によって方向
制御しながらターゲット3の外周面に衝突させて、そこ
からX線Rを放射する。X線を放射する間、フィラメン
ト1、ウエネルト2及びターゲット3のまわりは真空雰
囲気に維持される。
【0003】このX線発生装置において、特にフィラメ
ント1及びウエネルト2に付随する構成を組み立てる際
には、図5に示すように、連続放電抑制コイル6を内蔵
させた状態でケーブルポスト5を樹脂で一体成形し、そ
のケーブルポスト5を高電圧用電流導入碍子4の内部に
組み付け、そしてこのように組み付けられたケーブルポ
スト5の内部に高電圧ケーブルプラグ7を差し込む。図
4は、上記の各部材が組み付けられた状態を示してお
り、この組み上がり状態において、ケーブルポスト5と
電流導入碍子4との間には絶縁オイルが注入され、ま
た、プラグ7とケーブルポスト5との間には絶縁グリス
が注入される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来のX線発生
装置においては、電流導入碍子4の内部にコイル6、ケ
ーブルポスト5等といった、複雑な形状の部品を入れる
ので絶縁オイルによる保護が必要になる。しかしながら
この場合には、絶縁オイルに対する脱泡処理が必要とな
り、そのための多くの作業を要した。
【0005】また、電流導入碍子4の内部にコイル6、
ケーブルポスト5等多くの部品を挿入するので電流導入
碍子4の形状が非常に大きくなり、従って、X線発生装
置自体の形状も大型にならざるを得なかった。
【0006】特に、コイル6を電流導入碍子4の内部に
配置する場合には、コイル6とフィラメント1との間の
距離が大きく離れることになり、このためコイル6のイ
ンダクタンスを大きくとる必要があった。従って通常は
コイル6として、図5に示すように、磁性材料から成る
リング状コア9に銅線10を巻くことによって形成され
た大型のコイルが用いられていた。このような大型のコ
イルを用いたことにより、電流導入碍子4の形状がより
一層大型になっていた。
【0007】さらに、コイル6の絶縁のために絶縁オイ
ルを用いた場合には、そのオイルが酸化、あるいはその
他の性能劣化をおこすため、一定期間ごとに交換、洗浄
等の保守作業が必要となって、非常に面倒であった。
【0008】本発明は、上記の問題点を解消するために
なされたものであって、フィラメントを主体とする電子
銃に関する組み立て作業や、保守作業等が非常に簡単で
あり、しかも全体形状が非常に小型であるX線発生装置
を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明に係るX線発生装置は、連続放電抑制コイル
を、電流導入碍子の内部ではなくて、フィラメント、ウ
エネルト及びターゲットを取り囲む真空雰囲気中に配置
したことを特徴としている。
【0010】
【作用】コイルを真空雰囲気中に配置することにより、
コイルはフィラメントの近傍に配置されることになる。
従って、コイルのインダクタンスを小さく設定した場合
でも、真空雰囲気内で発生する異常放電に起因するパル
ス電流をそのコイルによって十分に吸収できる。インダ
クタンスの小さいコイルは、大型の磁芯コイルを用いる
までもなく、小型の空芯コイルによって構成でき、従っ
てX線発生装置の形状を小型にできる。
【0011】またコイルを、電流導入碍子の内部ではな
くて、真空雰囲気中に配置したことにより、電流導入碍
子の形状を小型にでき、従ってこのことからもX線発生
装置の形状を小型にできる。
【0012】コイルの電気的な絶縁は、真空雰囲気によ
って達成されるので、従来用いていたような絶縁オイル
が必要なくなる。従って、従来絶縁オイルに対して行わ
れていた交換その他の保守作業が不要となり、保守作業
が著しく簡単になる。
【0013】
【実施例】図1は、本発明に係るX線発生装置の一実施
例を示している。このX線発生装置は、内部を密閉状態
に保持するケーシング8と、そのケーシング8の中に配
設されたフィラメント1と、ウエネルト2と、ターゲッ
ト3とを有している。ターゲット3は、図2にも示すよ
うに、円筒状に形成されていて、ダイレクトドライブ装
置11によって駆動されて中心軸線Lを中心として高速
回転できるようになっている。また、ターゲット3の内
部には、冷却水循環路が設けられている。この循環路を
流れる冷却水及び上記の高速回転により、ターゲット3
が冷却される。
【0014】図2に示すように、ケーシング8の下部に
はターボ分子ポンプ12が設置されている。このターボ
分子ポンプ12及び少し離れた適宜の場所に設置された
ロータリーポンプ(図示せず)の働きにより、ケーシン
グ8の内部、従ってフィラメント1、ウエネルト2及び
ターゲット3のまわりが真空雰囲気に設定される。
【0015】図1において、ケーシング8の一側面に高
電圧用電流導入碍子14が固定されてケーシング8の内
部へ突出している。その電流導入碍子14の先端にコイ
ルケーシング13が固定して設置され、そのコイルケー
シング13内に連続放電抑制コイル16が収容されてい
る。フィラメント1及びウエネルト2から成る電子銃ヘ
ッド部は、コイルケーシング13の先端に固着されてい
る。電流導入用碍子14の内部にはプラグ装着用凹部1
5が形成されており、その凹部15内にプラグ7がはめ
込まれる。
【0016】図3は、上記X線発生装置に用いられる電
源回路の一例を示している。この図において図1と同じ
符号は同一の部材を示している。この電源回路では、管
電圧電源回路17の働きによってフィラメント1とター
ゲット3との間に所定の高電圧、例えば−60kVが印
加される。また、管電流電源回路18の働きによってフ
ィラメント1へ電流が流される。さらに、ウエネルト・
バイアス電源19の働きによってウエネルト2とフィラ
メント1との間に所定のバイアス電圧が印加される。
【0017】コイル16は、フィラメント1及びウエネ
ルト2へ通じる3本の給電線のそれぞれに挿入されてい
る。これらのコイル16は機械的には、図1において円
筒状の絶縁碍子や、セラミックスの空芯コアの外周上に
導電性金属をコイル状に蒸着、あるいはその他の方法に
より貼り付け、さらにエッチング処理を施してコイル状
にパターン化して形成したものである。
【0018】図3において、通電によりフィラメント1
が発熱してそこから電子が放出される。放出された電子
は、ウエネルト2のまわりに形成される電場の働きによ
って方向制御され、さらにフィラメント1とターゲット
3との間に印加される管電圧によって加速されてターゲ
ット3の外周表面に衝突する。この衝突により、ターゲ
ット3の表面からX線Rが放射され、そのX線が図1に
おいてX線取り出し用窓20から外部へ取り出される。
ケーシング8内は、セラミックス製の碍子14やダイレ
クトドライブ装置11内に格納される磁性流体シール等
といったガス発生源を内蔵しており、真空雰囲気を常に
安定な状態に保つことは不可能である。従って、ガス突
出に伴う異常放電が発生することは避けられない。連続
放電抑制コイルは初期放電によって生じたパルス電流を
減衰させて連続放電に至らないようにしている。
【0019】本実施例では、図1に示すように、コイル
16が電流導入碍子14の外部であって、ケーシング8
の内部に配置される。ケーシング8の内部はターボ分子
ポンプ12(図2)によって真空に維持されるので、コ
イル16は確実に絶縁状態に保持される。従来であれ
ば、コイル16の絶縁性を維持するために、コイルのま
わりを絶縁オイルで覆っていたが、本実施例によればそ
のような絶縁オイルが不要である。
【0020】また、コイル16はフィラメント1及びウ
エネルト2の直近位置に配置されるので、そのインダク
タンスを小さく設定した場合でも十分なパルス電流吸収
作用を得ることができる。従って、磁性材料を芯材とし
た大型の磁芯コアを用いることなく小型の空芯コアを用
いることができる。一方、電流導入碍子14の内部には
コアその他の部品を内蔵させる必要がないので、電流導
入碍子14それ自体を小型に形成できる。コイル16の
小型化及び電流導入碍子14の小型化により、X線発生
装置全体の形状を著しく小型にすることができる。
【0021】以上、1つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものでなく、
請求の範囲に記載した技術的範囲内において種々に改変
可能である。
【0022】例えば、ターゲット、フィラメント、ウエ
ネルトの形状、配置形態等は図示のもの以外に任意に設
定できる。上記の実施例では、コイルケーシング13の
内部にコイル16を配置するものとしたが、その他の任
意の配置形態でケーシング8内の任意の場所にコイルを
配置することもできる。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、コイルをフィラメント
の近傍に配置したので、コイルのインダクタンスを小さ
く設定した場合でも、真空雰囲気内で発生する異常放電
に起因するパルス電流をそのコイルによって十分に吸収
できる。従って、コイルとして小型の空芯コイルを採用
でき、よってX線発生装置の形状を小型にできる。ま
た、コイルを、電流導入碍子の内部ではなくて、真空雰
囲気中に配置したことにより、電流導入碍子の形状を小
型にでき、従ってこのことからもX線発生装置の形状を
小型にできる。
【0024】コイルの電気的な絶縁は、真空雰囲気によ
って達成されるので、従来用いていたような絶縁オイル
が必要なくなる。従って、従来絶縁オイルに対して行わ
れていた保守作業が不要となり、保守作業が著しく簡単
になった。
【0025】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るX線発生装置の一実施例を示す平
面断面図である。
【図2】図1におけるII−II線に従った側面断面図
である。
【図3】同X線発生装置に用いられる電源回路の一例を
示す回路図である。
【図4】従来のX線発生装置の一例を示す平面断面図で
ある。
【図5】その従来のX線発生装置の、特に電子銃部分を
分解して示す分解斜視図である。
【符号の説明】
1 フィラメント 2 ウエネルト 3 ターゲット 7 高電圧ケーブル用プラグ 8 ケーシング 13 コイルケーシング 14 高電圧用電流導入碍子 15 プラグ装着用凹部 16 連続放電抑制コイル

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空雰囲気内においてフィラメントから
    放出される電子をターゲットに衝突させ、そのターゲッ
    トからX線を放射するX線発生装置であって、フィラメ
    ントの給電路に連続放電抑制コイルを配置したX線発生
    装置において、 上記コイルを上記の真空雰囲気内に配置したことを特徴
    とする連続放電抑制コイルを備えたX線発生装置。
  2. 【請求項2】 上記コイルはその内部に磁性体を有しな
    い空芯コイルであることを特徴とする請求項1記載の連
    続放電抑制コイルを備えたX線発生装置。
  3. 【請求項3】 上記コイルは、セラミックスの空芯コア
    の周上に導電性金属をコイル状に巻き付けることによっ
    て形成されることを特徴とする請求項1記載の連続放電
    抑制コイルを備えたX線発生装置。
  4. 【請求項4】 真空雰囲気内に配置される次の3つの要
    素、すなわちフィラメントと、ターゲットと、そしてバ
    イアス電圧が印加されるウエネルトとを有しており、フ
    ィラメントから放出される電子をウエネルトによって方
    向制御しながらターゲットに衝突させ、そのターゲット
    からX線を放射するX線発生装置であって、フィラメン
    トの給電路及びウエネルトの給電路に連続放電抑制コイ
    ルを配置したX線発生装置において、 上記コイルを上記の真空雰囲気内に配置し、さらに上記
    コイルはセラミックスの空芯コアの周上に導電性金属を
    コイル状に巻き付けることによって形成されることを特
    徴とする連続放電抑制コイルを備えたX線発生装置。
JP23731293A 1993-08-30 1993-08-30 連続放電抑制コイルを備えたx線発生装置 Pending JPH0765757A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23731293A JPH0765757A (ja) 1993-08-30 1993-08-30 連続放電抑制コイルを備えたx線発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23731293A JPH0765757A (ja) 1993-08-30 1993-08-30 連続放電抑制コイルを備えたx線発生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0765757A true JPH0765757A (ja) 1995-03-10

Family

ID=17013505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23731293A Pending JPH0765757A (ja) 1993-08-30 1993-08-30 連続放電抑制コイルを備えたx線発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0765757A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012142115A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Rigaku Corp X線発生装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012142115A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Rigaku Corp X線発生装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5268955A (en) Ring tube x-ray source
JP2539193B2 (ja) 高強度x線源
TWI391975B (zh) 間接加熱的陰極離子源
EP2187426B1 (en) X-ray tube apparatus
TW401592B (en) Cathode mounting for ion source with indirectly heated cathode
WO2000058991A1 (en) Method and apparatus for prolonging the life of an x-ray target
US9530609B2 (en) X-ray apparatus
JPH103872A (ja) X線管用の電子を集束させるカソード、電子ビームを集束させるカソード・アセンブリ、及び電子ビームの焦点の寸法を変化させる方法
JPH10134744A (ja) X線管
JPH05503809A (ja) イオンビーム生成装置および生成方法
US5159697A (en) X-ray tube transient noise suppression system
US6111934A (en) X-ray tube with electromagnetic electron beam deflector formed by laminating in planes oriented perpendicularly to the electron beam
US5291538A (en) X-ray tube with ferrite core filament transformer
US6570960B1 (en) High voltage isolated rotor drive for rotating anode x-ray tube
JPH11504750A (ja) X線源
JPH0765757A (ja) 連続放電抑制コイルを備えたx線発生装置
EP1204507B1 (en) Arc-free electron gun
US6570959B1 (en) X-ray tube metal frame gettering device
US6977991B1 (en) Cooling arrangement for an X-ray tube having an external electron beam deflector
JP2726252B2 (ja) X線管
JP3164606B2 (ja) ビーム直進形マイクロ波管装置
US6993116B1 (en) Metallic vacuum housing for an X-ray tube
JP2021132025A (ja) 電子ビーム発生装置及びアタッチメント部材
KR100308542B1 (ko) 대전력 나선 아크 스위치
JPH08111198A (ja) イオン源