JPH0758526A - Integrated circuit - Google Patents

Integrated circuit

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JPH0758526A
JPH0758526A JP5198354A JP19835493A JPH0758526A JP H0758526 A JPH0758526 A JP H0758526A JP 5198354 A JP5198354 A JP 5198354A JP 19835493 A JP19835493 A JP 19835493A JP H0758526 A JPH0758526 A JP H0758526A
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integrated circuit
layer
circuit
ground conductor
wiring
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JP5198354A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukimichi Shibata
随道 柴田
Taiichi Otsuji
泰一 尾辻
Yuuki Imai
祐記 今井
Satoshi Yamaguchi
山口  聡
Shunji Kimura
俊二 木村
Koichi Murata
浩一 村田
Yukio Akazawa
幸雄 赤沢
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PURPOSE:To improve the performance and the design feature of a high frequency broad band circuit. CONSTITUTION:A metallic layer of an uppermost face is used for ground conductor layer 3 in an inverted microstrip line structure, and a strip conductor 2 is arranged to the ground conductor 3 via an insulating film layer known as an inverted microstrip base layer 4 and an insulation film buffer layer 5 is provided between the ground conductor 3 and the lower wiring layer and components 6 such as transistors (TRs) and resistors are arranged to the lower layer. Then a lower wiring layer below the buffer layer 5 is used for wiring of a short distance such as an inter-component wiring in the inside of a cell as e.g. a small function unit in the circuit and a lower wiring layer below the inverted microstrip base layer 4 is used for interconnection of a long distance such as inter-cell wiring. On the other hand, an auxiliary ground conductor 3 is especially added under the buffer layer 5 in the tri-plate strip line structure.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は集積回路に係り、特に高
周波・広帯域集積回路の配線構造に工夫を施した集積回
路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit, and more particularly to an integrated circuit in which a wiring structure of a high frequency / broadband integrated circuit is devised.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、大多数の集積回路配線構造の電気
的性能指数は配線容量のみが問題とされ設計が行われて
きた。この電気的性能指数は回路の動作する周波数に依
るものである。そして、この配線の持つリアクタンス成
分には容量成分と共にインダクタンス成分があるが、直
流から数百MHz程度までの周波数領域では集積回路チ
ップ内配線の持つインダクタンス成分は配線抵抗、回路
の負荷抵抗に比べて無視できる大きさであるため、信号
遅延やクロストークなどの回路性能は配線容量と負荷抵
抗で概ね設計できる。
2. Description of the Related Art Conventionally, the electrical performance index of the majority of integrated circuit wiring structures has been designed by considering only the wiring capacitance. This electrical figure of merit depends on the operating frequency of the circuit. The reactance component of this wiring has an inductance component as well as a capacitance component, but in the frequency range from DC to several hundred MHz, the inductance component of the wiring in the integrated circuit chip is more than the wiring resistance and the load resistance of the circuit. Since the size is negligible, the circuit performance such as signal delay and crosstalk can be generally designed by the wiring capacitance and the load resistance.

【0003】この例外としては、数〜数十GHzの周波
数で動作する回路規模の小さなマイクロ波モノリシック
集積回路があり、当該回路の設計は従来から配線を伝送
線路として取扱っている。ところがトランジスタ等の集
積デバイスの高速化が進み、マイクロ波、ミリ波帯に至
る広範な周波数領域で動作する複雑なデジタル、アナロ
グ回路の集積回路化が可能となるに至り、回路配線とし
て小規模なマイクロ波モノリシック集積回路のみに用い
てきた伝送線路を、これらの回路規模のより大きな集積
回路にも用いる必要性が顕在化してきた。
An exception to this is a microwave monolithic integrated circuit with a small circuit scale that operates at a frequency of several to several tens GHz, and the circuit design has conventionally treated wiring as a transmission line. However, the speed of integrated devices such as transistors has increased, and it has become possible to integrate complex digital and analog circuits that operate in a wide range of frequency bands such as microwaves and millimeter waves. It has become apparent that the transmission line that has been used only for microwave monolithic integrated circuits is also used for these integrated circuits having a larger circuit scale.

【0004】ここで、伝送線路と従来配線との異なる点
は、伝送線路が配線の容量成分のみでなくインダクタン
ス成分も考慮し、両者のバランスで決まる特性インピー
ダンスや実効誘電率を指標として設計する点にあり、そ
の必要性は取り扱う信号の最も周波数の高い成分の電気
波長が配線長の十倍以下に短くなると顕著になる。
Here, the difference between the transmission line and the conventional wiring is that the transmission line is designed taking into consideration not only the capacitance component of the wiring but also the inductance component and the characteristic impedance and the effective permittivity determined by the balance between the two. The necessity becomes remarkable when the electrical wavelength of the highest frequency component of the signal to be handled becomes shorter than ten times the wiring length.

【0005】以下、図7を参照してマイクロ波モノリシ
ック集積回路で従来より用いられてきた2種類の伝送線
路構造について説明する。
Two types of transmission line structures conventionally used in microwave monolithic integrated circuits will be described below with reference to FIG.

【0006】図7(a)は集積回路基板1の裏面をグラ
ンド導体3とし、該集積回路基板1を挟んで表面にスト
リップ導体2を形成したマイクロストリップ線路構造の
断面図である。このマイクロストリップ線路構造自体
は、テフロンやアルミナ基板に簡易に形成できることか
らハイブリッド集積回路の技術として広く用いられてき
た実績があり、これまでに膨大な設計データが蓄積され
ている。よって、この構造をモノリシック集積回路に流
用する利点は、これらの設計データに基づく緻密な設計
が可能な点にある。
FIG. 7A is a sectional view of a microstrip line structure in which the back surface of the integrated circuit board 1 is used as a ground conductor 3 and the strip conductor 2 is formed on the front surface of the integrated circuit board 1 with the ground conductor 3 interposed therebetween. The microstrip line structure itself has been widely used as a technology of a hybrid integrated circuit because it can be easily formed on a Teflon or alumina substrate, and a huge amount of design data has been accumulated so far. Therefore, the advantage of using this structure for a monolithic integrated circuit is that a precise design based on these design data is possible.

【0007】その反面、この構造は線路特性が基板厚に
依存し、且つ集積回路基板1の薄厚化が困難なために線
路の微細、高集積化が困難であり、中庸から低側の特性
インピーダンスの線路が作りずらく、線路周辺の界分布
が広がり、強引に集積化を進めた場合、隣接配線、デバ
イスの近接効果が大で設計性が悪く、集積回路基板1の
裏面への接地をとるために、該集積回路基板1を貫通す
るバイアホールが必要でデバイスとの接続が困難である
等の欠点を有している。
On the other hand, in this structure, since the line characteristics depend on the substrate thickness and it is difficult to make the integrated circuit substrate 1 thin, it is difficult to make the line fine and highly integrated, and the characteristic impedance from the moderate to the low side. Is difficult to make, the field distribution around the line spreads, and if the integration is forcibly promoted, the proximity effect of the adjacent wiring and the device is large and the designability is poor, and the back surface of the integrated circuit board 1 is grounded. Therefore, there is a defect that a via hole penetrating the integrated circuit board 1 is required and connection with a device is difficult.

【0008】そして、かかる欠点に鑑み、最近では図7
(a)に示した構造に代わり図7(b)に示す構造が主
流となっている。
In view of such drawbacks, recently, as shown in FIG.
Instead of the structure shown in FIG. 7A, the structure shown in FIG.

【0009】図7(b)は集積回路基板1の表面にスト
リップ導体2と並行してグランド導体3を配置したコプ
レーナ線路構造の断面図である。この線路構造を採用し
た回路の構造的特徴はデバイスやストリップ導体2、グ
ランド導体3の全てが同一面上に配置される点にある。
そして、このコプレーナ線路構造の特性インピーダンス
は前記マイクロストリップ線路構造のそれと異なり、基
板厚には依存せずストリップ導体2の幅やグランド導体
3との間隔等の導体パタン寸法比のみで設計することが
できるため、ストリップ導体2の導体損が問題にならな
い範囲で微細化が可能である。
FIG. 7B is a sectional view of a coplanar line structure in which a ground conductor 3 is arranged in parallel with a strip conductor 2 on the surface of an integrated circuit substrate 1. The structural feature of the circuit adopting this line structure is that all of the device, the strip conductor 2, and the ground conductor 3 are arranged on the same plane.
The characteristic impedance of this coplanar line structure is different from that of the microstrip line structure, and can be designed only by the conductor pattern size ratio such as the width of the strip conductor 2 and the distance from the ground conductor 3 without depending on the substrate thickness. Therefore, miniaturization is possible within a range in which the conductor loss of the strip conductor 2 does not pose a problem.

【0010】ここで、典型的な寸法を挙げて前述した両
者を比較すると、集積回路基板1の厚さが200〜60
0μmとして、特性インピーダンス50Ωの線路を図7
(a)のマイクロストリップ線路構造で設計すると、ス
トリップ導体2の幅は集積回路基板1の厚みと同程度必
要となり200μm以上となる。尚、集積回路基板1を
200μmまで薄厚化するには製造の最終工程で裏面研
磨を要する。
[0012] Here, comparing the above-mentioned two typical sizes, the thickness of the integrated circuit board 1 is 200 to 60.
A line with a characteristic impedance of 50Ω is set to 0 μm and is shown in FIG.
When the microstrip line structure of (a) is designed, the width of the strip conductor 2 is required to be about the same as the thickness of the integrated circuit board 1, and is 200 μm or more. Incidentally, in order to reduce the thickness of the integrated circuit board 1 to 200 μm, the back surface polishing is required in the final manufacturing process.

【0011】これに対して、図7(b)のコプレーナ線
路構造で設計すると、ストリップ導体2の幅が10〜3
0μm程度、グランド導体3までの空隙を含めても25
〜75μm程度の幅で設計される例が多い。このよう
に、図7(b)のコプレーナ線路構造で設計した場合に
は、分割された両側のグランド導体3を接続するために
エアブリッジ等の工程が必要にはなるものの、図7
(a)のマイクロストリップ線路構造と比較すると線路
微細化、チップ面積の低減、及びそれに伴う回路性能向
上が図られる。
On the other hand, when the strip conductor 2 is designed with the coplanar line structure of FIG.
0 μm, 25 including the gap to the ground conductor 3
In many cases, the width is designed to be about 75 μm. As described above, in the case of designing with the coplanar line structure of FIG. 7B, steps such as an air bridge are required to connect the divided ground conductors 3 on both sides, but FIG.
Compared with the microstrip line structure of (a), line miniaturization, chip area reduction, and accompanying improvement in circuit performance can be achieved.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】前述したように、最近
では回路規模の大きなデジタル、アナログ集積回路にも
前記伝送線路構造を導入する必要が生じてきている。そ
して、従来のマイクロ波モノリシック集積回路はトラン
ジスタ5〜10素子程度の回路規模のものが多かったの
に対して、ここで考えられているデジタル・アナログ集
積回路は50〜100素子以上の規模のものが一般的で
ある。よって、このような規模の回路を先に図7(a)
に示した従来のマイクロストリップ線路構造を適用して
妥当なチップ面積で設計することは既に述べた欠点の故
に不可能である。
As described above, recently, it has become necessary to introduce the transmission line structure into digital and analog integrated circuits having a large circuit scale. The conventional microwave monolithic integrated circuit has a circuit scale of about 5 to 10 transistors, whereas the digital / analog integrated circuit considered here has a scale of 50 to 100 elements or more. Is common. Therefore, a circuit of such a scale is first shown in FIG.
It is impossible to apply the conventional microstrip line structure shown in FIG. 1 to design with a reasonable chip area because of the drawbacks already described.

【0013】これに鑑みて、先に図7(b)に示したコ
プレーナ線路構造を用いての設計が試みられているが、
その場合は以下のような問題が生じている。
In consideration of this, the design using the coplanar line structure shown in FIG. 7B has been attempted.
In that case, the following problems occur.

【0014】即ち、本来、図7(b)に示したコプレー
ナ線路構造はグランド導体3をストリップ導体2の近傍
に配置するためにストリップ導体2と同一面上に持って
きたものであるため、デバイスやストリップ導体2、グ
ランド導体3が配置される面上の大部分をグランド導体
3が占めることになっている。そして、この回路上のグ
ランド導体3は接地インピーダンスを低減し回路を安定
に動作させるために一体化することが望まれている。従
って集積回路上ではグランド導体3の面積を大きく取
り、極力細いパタンを避けるように設計されている。か
かる設計はトランジスタ5〜10素子程度の規模の回路
では可能であったが、回路規模が増大すると、どうして
も素子領域によってグランド導体3が細分化され、これ
が回路の接地インピーダンスを増大させ回路の動作を不
安定にし設計性を劣化させるという問題を引き起こして
いる。
That is, since the coplanar line structure shown in FIG. 7 (b) is originally brought on the same plane as the strip conductor 2 in order to arrange the ground conductor 3 in the vicinity of the strip conductor 2, the device The ground conductor 3 occupies most of the surface on which the strip conductor 2 and the ground conductor 3 are arranged. It is desired that the ground conductor 3 on this circuit be integrated in order to reduce the ground impedance and operate the circuit stably. Therefore, on the integrated circuit, the ground conductor 3 is designed to have a large area to avoid a thin pattern as much as possible. Such a design was possible in a circuit with a scale of about 5 to 10 transistors, but when the scale of the circuit increases, the ground conductor 3 is inevitably subdivided by the element region, which increases the ground impedance of the circuit and the operation of the circuit. It causes instability and deteriorates designability.

【0015】本発明は前記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、高集積化が可能で回路の
接地インピーダンスを低減し易い伝送線路構造を実現す
ることにより、高周波、広帯域回路の性能向上、及び設
計性の向上に寄与し得る集積回路を提供することにあ
る。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to realize a high-frequency, wide-band circuit by realizing a transmission line structure that can be highly integrated and can easily reduce the ground impedance of the circuit. It is an object of the present invention to provide an integrated circuit that can contribute to the improvement of the performance and the designability.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の第1の態様による集積回路では、モノリシ
ック集積回路において、電源供給、信号引き出し部分以
外の回路表面の少なくとも一部を交流的にグランドとな
るメタルで覆ったことを特徴とする。
In order to achieve the above object, in the integrated circuit according to the first aspect of the present invention, in the monolithic integrated circuit, at least a part of the circuit surface other than the power supply and the signal lead-out part is AC. It is characterized by being covered with a metal that serves as a ground.

【0017】そして、第2の態様による集積回路は、回
路配線を伝送線路として取扱うモノリシック集積回路に
おいて、前記伝送線路を少なくともストリップ導体とグ
ランド導体とで構成し、前記ストリップ導体を前記グラ
ンド導体に比して集積回路基板側近傍に形成することを
特徴とする。以下、この伝送線路を反転マイクロストリ
ップ線路と呼ぶ。
The integrated circuit according to the second aspect is a monolithic integrated circuit in which circuit wiring is handled as a transmission line, wherein the transmission line is composed of at least a strip conductor and a ground conductor, and the strip conductor is compared to the ground conductor. And is formed in the vicinity of the integrated circuit substrate side. Hereinafter, this transmission line is referred to as an inverted microstrip line.

【0018】さらに、第3の態様による集積回路は、回
路配線を伝送線路として取扱うモノリシック集積回路に
おいて、前記伝送線路を少なくともストリップ導体と2
つのグランド導体とで構成し、前記ストリップ導体を前
記2つのグランド導体によって集積回路基板に対して垂
直方向に挟まれるように形成することを特徴とする。以
下、この伝送線路をハイブリッド回路で用いられてきた
用語に従ってトリプルストリップ線路と呼ぶ。
Further, the integrated circuit according to the third aspect is a monolithic integrated circuit in which circuit wiring is treated as a transmission line, wherein the transmission line is at least a strip conductor.
And two strip conductors, and the strip conductor is formed so as to be sandwiched by the two ground conductors in a direction perpendicular to the integrated circuit board. Hereinafter, this transmission line will be referred to as a triple strip line according to the terms used in the hybrid circuit.

【0019】また、第4の態様による集積回路は、第1
乃至第3の態様による集積回路において、その回路表面
にバンプ接続用端子を更に有することを特徴とする。
The integrated circuit according to the fourth aspect is the first circuit.
The integrated circuit according to the third aspect is further characterized in that the circuit surface further has terminals for bump connection.

【0020】[0020]

【作用】即ち、本発明の第1の態様による集積回路で
は、電源供給、信号引き出し部分以外の回路表面の少な
くとも一部が交流的にグランドとなるメタルで覆われて
おり、第2の態様による集積回路では、伝送線路が少な
くともストリップ導体とグランド導体とで構成され、前
記ストリップ導体が前記グランド導体に比して集積回路
基板側近傍に形成されている。そして、第3の態様によ
る集積回路では、伝送線路が少なくともストリップ導体
と2つのグランド導体とで構成され、前記ストリップ導
体が前記2つのグランド導体により集積回路基板に対し
て垂直方向に挟まれるように形成されており、第4の態
様による集積回路では、回路表面にバンプ接続用端子が
更に設けられている。
That is, in the integrated circuit according to the first aspect of the present invention, at least a part of the circuit surface other than the power supply and signal extraction portions is covered with the metal serving as an AC ground, and the second aspect In the integrated circuit, the transmission line is composed of at least a strip conductor and a ground conductor, and the strip conductor is formed closer to the integrated circuit board side than the ground conductor. In the integrated circuit according to the third aspect, the transmission line includes at least a strip conductor and two ground conductors, and the strip conductor is sandwiched by the two ground conductors in a direction perpendicular to the integrated circuit board. In the integrated circuit according to the fourth aspect, bump connection terminals are further provided on the circuit surface.

【0021】[0021]

【実施例】先ず本発明の実施例について説明するに先立
ち本発明の概要を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, an outline of the present invention will be described before describing the embodiments of the present invention.

【0022】本発明の集積回路は多層化された配線用の
メタル層を用いて伝送線路を形成しており、上層のメタ
ル層をグランド導体3として用い、これに対して下層に
あるメタル層でストリップ導体2即ち信号線路を形成し
たことを特徴としている。
In the integrated circuit of the present invention, a transmission line is formed by using a multi-layered metal layer for wiring. The upper metal layer is used as the ground conductor 3, while the metal layer in the lower layer is used. The strip conductor 2 or the signal line is formed.

【0023】前述したように、図7(a)に示したマイ
クロストリップ線路構造から図7(b)に示したコプレ
ーナ線路構造への変遷は、線路構造を微細化するために
グランド導体3をストリップ導体2の近傍に配置するよ
うに工夫したもので、その手段はグランド導体3をスト
リップ導体2や素子と同一面上に配置することであっ
た。そして、この弊害として回路規模が大きくなったと
きにグランド導体3が細分化されていた。これに対し
て、本発明の集積回路の構造は、グランド導体3をスト
リップ導体2の近傍に配置しつつ前記の弊害を解決する
ためにグランド導体3を素子層より上層に配置し、層毎
に一定の役割を分担させたものである。
As described above, in the transition from the microstrip line structure shown in FIG. 7A to the coplanar line structure shown in FIG. 7B, the ground conductor 3 is stripped in order to miniaturize the line structure. It was devised so as to be arranged in the vicinity of the conductor 2, and its means was to arrange the ground conductor 3 on the same plane as the strip conductor 2 and the element. The ground conductor 3 was subdivided when the circuit scale became large as this adverse effect. On the other hand, in the structure of the integrated circuit of the present invention, the ground conductor 3 is arranged in the vicinity of the strip conductor 2 and the ground conductor 3 is arranged above the element layer in order to solve the above-mentioned adverse effect. It is a division of certain roles.

【0024】その結果、従来の集積回路ではグランド導
体3が集積回路基板1の裏面、又はトランジスタや抵抗
等の素子6、ストリップ導体2と同一面上に配置されて
いたのに対し、本発明の集積回路ではグランド導体3が
トランジスタや抵抗等の素子6、ストリップ導体2より
上層に配置されるという大きな構造的差異が生じる。こ
こで、図1(a)は請求項2に記載の反転マイクロスト
リップ線路構造の一例を示す図である。この構造では、
最上面のメタル層をグランド導体3として使用してお
り、このグランド導体3に対して下層に反転マイクロス
トリップ基板層4と称される絶縁膜層を介してストリッ
プ導体2を配置し、従来のマイクロストリップ線路を上
下反転した構造の伝送線路を形成している。さらに、同
図では下層の配線層との間に絶縁膜のバッファ層5を設
けており、これらの更に下層にトランジスタ等や抵抗等
の素子6を配置する。但し、バッファ層5より下層の配
線層とトランジスタや抵抗等の素子6は同図では記載を
省略している。
As a result, in the conventional integrated circuit, the ground conductor 3 is arranged on the back surface of the integrated circuit substrate 1 or on the same surface as the element 6 such as a transistor or a resistor and the strip conductor 2, whereas the ground conductor 3 of the present invention is arranged. In the integrated circuit, there is a large structural difference that the ground conductor 3 is arranged in a layer above the element 6 such as a transistor or a resistor and the strip conductor 2. Here, FIG. 1A is a diagram showing an example of the inverted microstrip line structure according to the second aspect. In this structure,
The uppermost metal layer is used as the ground conductor 3, and the strip conductor 2 is arranged below the ground conductor 3 with an insulating film layer called an inverted microstrip substrate layer 4 interposed therebetween. The transmission line is formed by vertically inverting the strip line. Further, in the figure, a buffer layer 5 of an insulating film is provided between the lower wiring layer and the lower wiring layer, and elements 6 such as transistors and resistors are arranged further below these layers. However, the wiring layers below the buffer layer 5 and the elements 6 such as transistors and resistors are omitted in the figure.

【0025】尚、反転マイクロストリップ基板層4及び
バッファ層5は、後に線路定数の設計に関連して説明す
るように、膜厚5〜10μm程度が適当で、材質として
は酸化シリコンやポリイミドが考えられる。本来、配線
を伝送線路として設計する必要性が回路の動作周波数
(波長)と回路寸法(物理長)の大小関係に起因してい
ることを考えれば、短い距離の配線は従来通り伝送線路
としてではなく単なる配線として設計するのが得策であ
る。さらに、この例ではバッファ層5以下の下層配線層
は例えば回路中の小さな機能単位としてのセル内部の素
子間結線などの短い距離の配線に用い、反転マイクロス
トリップ基板層4以下の下層配線層でセル間配線などの
長い距離の結線を行うといった使い分けができる。
The inverted microstrip substrate layer 4 and the buffer layer 5 have a suitable film thickness of about 5 to 10 μm, as will be described later in connection with the design of the line constant, and silicon oxide or polyimide is considered as the material. To be Originally, considering that the necessity of designing the wiring as a transmission line is due to the size relationship between the operating frequency (wavelength) of the circuit and the circuit size (physical length), wiring with a short distance is not as a conventional transmission line. Instead, it is a good idea to design it as simple wiring. Further, in this example, the lower wiring layer below the buffer layer 5 is used for wiring for a short distance such as inter-element connection in a cell as a small functional unit in a circuit, and the lower wiring layer below the inverted microstrip substrate layer 4 is used. It can be used properly, for example, by connecting a long distance such as wiring between cells.

【0026】一方、図1(b)は請求項3に記載のトリ
プレートストリップ線路構造の一例を示す図である。先
に図7(a)に示した従来の構造と異なる点は、バッフ
ァ層5の下に補助的なグランド導体3を付加したことに
あり、後に述べるように、これにより隣接線路間の大幅
なクロストーク低減を図ることができる。尚、図1
(a)の構造と同様に、補助的なグランド導体3の下に
更に下層配線層とトランジスタや抵抗等の素子6を配置
することもできるが同図では省略している。
On the other hand, FIG. 1B is a diagram showing an example of the triplate strip line structure according to the third aspect. What is different from the conventional structure shown in FIG. 7A is that an auxiliary ground conductor 3 is added under the buffer layer 5, and as will be described later, this significantly reduces the gap between adjacent lines. Crosstalk can be reduced. Incidentally, FIG.
Similar to the structure of (a), a lower wiring layer and an element 6 such as a transistor or a resistor can be further arranged under the auxiliary ground conductor 3, but they are omitted in the figure.

【0027】以下、図2を参照して本発明の第1の実施
例について詳細に説明する。
The first embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIG.

【0028】図2(a)は請求項2に記載の反転マイク
ロストリップ線路構造を採用してレイアウトを行ったア
ナログ増幅回路のパタン図である。このレイアウトで
は、最上層メタルをグランド導体3とし、各層の役割を
見易くするために、多層メタル層の最上層であるグラン
ド導体層、ストリップ導体層、下層配線層及び素子層を
それぞれ少しずらして示している。
FIG. 2A is a pattern diagram of an analog amplifier circuit which is laid out by using the inverted microstrip line structure according to the second aspect. In this layout, the uppermost metal is the ground conductor 3, and the uppermost ground conductor layer, the strip conductor layer, the lower wiring layer, and the element layer of the multi-layer metal layer are shown with a slight shift for easy understanding of the role of each layer. ing.

【0029】そして、図2(b)は効果の比較のために
同一の回路をコプレーナ線路構造を採用してレイアウト
した従来のパタン図である。このレイアウトでは、グラ
ンド導体3が伝送線路のストリップ導体2やトランジス
タや抵抗等の素子6によって細分化されてしまう。各々
のグランド導体3はエアリッジ等の細い線で接続される
ため回路の接地インピーダンス低減が困難で不安定な動
作を引き起こす原因となっている。この図2(b)に示
したレイアウトに対して、図2(a)に示したレイアウ
トでは、最上層のグランド導体3が全面を覆い回路の接
地は全てこの一枚のグランド導体3に直結できる構造に
なっている。従って、図2(c)に示すように、従来の
レイアウトで生じる寄生的な接地インピーダンスを排除
し、設計通りの回路動作を期待することができる。
FIG. 2B is a conventional pattern diagram in which the same circuit is laid out by adopting a coplanar line structure for comparison of effects. In this layout, the ground conductor 3 is subdivided by the strip conductor 2 of the transmission line and the elements 6 such as transistors and resistors. Since the ground conductors 3 are connected by thin wires such as air ridges, it is difficult to reduce the ground impedance of the circuit, which causes unstable operation. In contrast to the layout shown in FIG. 2B, in the layout shown in FIG. 2A, the ground conductor 3 of the uppermost layer covers the entire surface, and all the grounds of the circuit can be directly connected to this one ground conductor 3. It is structured. Therefore, as shown in FIG. 2C, the parasitic ground impedance generated in the conventional layout can be eliminated, and the circuit operation as designed can be expected.

【0030】続いて、図3を参照して本発明の第2の実
施例について詳細に説明する。
Next, the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

【0031】図3(a)は請求項2に記載の反転マイク
ロストリップ線路構造を採用してレイアウトを行ったデ
ジタル回路セルのパタン図である。実際には全面を最上
層のグランド導体が覆うが見易くするために同図ではそ
の記載を省略している。
FIG. 3A is a pattern diagram of a digital circuit cell which is laid out by using the inverted microstrip line structure according to the second aspect. Actually, the entire surface is covered with the uppermost ground conductor, but the illustration thereof is omitted in the drawing for the sake of clarity.

【0032】そして、図3(b)は同一の機能をコプレ
ーナ線路構造を採用してレイアウトした従来のパタン図
である。この実施例では第1の実施例で示した接地イン
ピーダンス低減効果の他に伝送線路構造の集積度向上の
効果が現れている。
FIG. 3B is a conventional pattern diagram in which the same function is laid out by adopting a coplanar line structure. In this embodiment, in addition to the ground impedance reducing effect shown in the first embodiment, the effect of improving the degree of integration of the transmission line structure appears.

【0033】この図3(a)と図3(b)の回路レイア
ウトは同じ倍率で示しているが、その大きさから明らか
なように面積で約1/4の集積化が得られており、その
主な理由は従来レイアウトのグランド導体3の部分が全
て最上層に移されたことで不要になったためである。そ
して、この回路レイアウトの集積度の向上は、単に集積
回路チップを小さくできるという形状効果ばかりでな
く、不要な線路の引き回しを減らし、接続距離を短くす
ることによる回路性能の向上、生産歩留まりの向上、一
枚のウエハから取れるチップ数が増えることによるコス
ト低減等の様々な波及効果を奏するものである。
The circuit layouts of FIGS. 3A and 3B are shown at the same magnification, but as is obvious from the size, integration of about 1/4 in area is obtained, The main reason for this is that the ground conductor 3 in the conventional layout is entirely moved to the uppermost layer and is no longer necessary. And the improvement of the degree of integration of this circuit layout is not only the shape effect that the integrated circuit chip can be made smaller, but also the improvement of the circuit performance and the production yield by reducing the unnecessary wiring of the lines and shortening the connection distance. The present invention has various ripple effects such as cost reduction due to the increase in the number of chips that can be obtained from one wafer.

【0034】次に図4を参照して本発明の第3の実施例
について詳細に説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

【0035】図4(a)乃至(c)は、隣接する2本の
伝送線路間のクロストークを推定する実験の実施例であ
り、ポート11からポート12へ貫ける第1の伝送線路
とポート13からポート14へ貫ける第2の伝送線路が
300μmの距離を並走したレイアウトにおいて第1の
伝送線路から第2の伝送線路へのクロストークなどの程
度の量になるかを請求項2に記載の反転マイクロストリ
ップ線路(IMSL)構造、請求項3に記載のトリプレ
ートストリップ線路(TPSL)構造(図4(a)参
照)、従来のコプレーナ線路(CPW)構造(図4
(b)参照)の三者について評価したデータを示してい
る。
FIGS. 4A to 4C are examples of experiments for estimating crosstalk between two adjacent transmission lines. The first transmission line extending from the port 11 to the port 12 and the port 13 are shown. The second transmission line penetrating from the port to the port 14 has an amount such as crosstalk from the first transmission line to the second transmission line in a layout in which the second transmission line runs in parallel over a distance of 300 μm. An inverted microstrip line (IMSL) structure, a triplate strip line (TPSL) structure according to claim 3 (see FIG. 4A), and a conventional coplanar line (CPW) structure (FIG. 4).
The data evaluated for the three parties (see (b)) are shown.

【0036】そして、図4(c)に示すデータによれ
ば、クロストークについては請求項2に記載の反転マイ
クロストリップ線路構造は従来のコプレーナ線路構造の
場合と遜色ない性能を有していることが判る。さらに、
請求項3に記載のトリプレートストリップ線路構造を採
用した場合には従来のコプレーナ線路構造に比べて並走
する2本の伝送線路間の距離を半分にしても40dB程
度の大幅なクロストーク低減が得られることが判る。即
ち、これは請求項3に記載のトリプレートストリップ線
路構造を採用すればクロストークの観点からも大幅な集
積度向上効果が得られることを裏付けている。
Further, according to the data shown in FIG. 4C, the cross microtalk has the performance comparable to that of the conventional coplanar line structure in the inverted microstrip line structure according to the second aspect. I understand. further,
When the triplate strip line structure according to claim 3 is adopted, a significant crosstalk reduction of about 40 dB can be achieved even if the distance between two parallel transmission lines is reduced to half compared to the conventional coplanar line structure. It turns out that it can be obtained. That is, this proves that if the triplate strip line structure according to the third aspect is adopted, a great integration degree improving effect can be obtained from the viewpoint of crosstalk.

【0037】続いて、図5を参照して本発明の第4の実
施例について詳細に説明する。
Next, the fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

【0038】図5は請求項2に記載の反転マイクロスト
リップ線路構造、及び請求項3に記載のトリプレートス
トリップ線路構造伝送線路のストリップ導体幅に対する
線路定数の依存性を示す図である。このようなデータを
採用すればストリップ導体幅をパラメータとして必要な
線路定数を設計することができる。さらに、反転マイク
ロストリップ基板層4、バッファ層5の厚みは製造上の
容易度からも5〜10μm程度に抑えることが望ましい
が、図に示す各々10μmとしての計算結果によれば、
この範囲でストリップ導体幅を5μmから50μm程度
といった導体損を無視できる現実的な寸法範囲で選択す
ることにより特性インピーダンスが20Ωから80Ωに
渡る広範な範囲で設計できることが判る。
FIG. 5 is a diagram showing the dependence of the line constant on the strip conductor width of the inverted microstrip line structure according to the second aspect and the transmission line of the triplate strip line structure according to the third aspect. If such data is adopted, the required line constant can be designed using the strip conductor width as a parameter. Furthermore, it is desirable to suppress the thickness of the inverted microstrip substrate layer 4 and the buffer layer 5 to about 5 to 10 μm from the viewpoint of ease of manufacturing.
It is understood that by selecting the strip conductor width in this range within a realistic dimensional range such as 5 μm to 50 μm in which conductor loss can be ignored, the characteristic impedance can be designed in a wide range from 20Ω to 80Ω.

【0039】最後に、図6を参照して本発明の効果を説
明する第5の実施例として集積回路チップの実装形態に
ついて説明する。
Finally, a mounting form of an integrated circuit chip will be described as a fifth embodiment for explaining the effect of the present invention with reference to FIG.

【0040】従来、集積回路の実装は回路表面を上に向
けてダイボンディングを行いチップ周辺に配置したパッ
ドから接地、信号、及び電源をボンディングワイヤで引
き出す方法が一般的である。しかし、この構造はボンデ
ィングワイヤに寄生するインダクタンス成分が回路の高
周波動作に影響を与え、ここで考えている高周波、広帯
域集積回路の実装形態としては適さない。
Conventionally, the integrated circuit is generally mounted by die bonding with the surface of the circuit facing upward, and the ground, signal, and power are drawn from the pads arranged around the chip by bonding wires. However, in this structure, the inductance component parasitic on the bonding wire affects the high frequency operation of the circuit, and is not suitable as a mounting form of the high frequency and wide band integrated circuit considered here.

【0041】これに対して、最近では、より微細なチッ
プ接続が可能であるバンプ技術が実用化され、高周波、
広帯域集積回路の実装形態として効果が得られている。
そして、かかるバンプ接続を行う場合、集積回路チップ
を実装基板に対して裏返しに配置するフェイスダウン実
装が一般的であるが、集積回路の伝送線路を従来のコプ
レーナ線路構造で設計すると、実装基板の回路表面への
近接効果によって、線路定数が設計値からずれるという
問題を生じる。
On the other hand, recently, a bump technique which enables finer chip connection has been put into practical use, and high frequency,
The effect is obtained as a mounting form of a wideband integrated circuit.
When performing such bump connection, face down mounting is generally used in which the integrated circuit chip is placed upside down with respect to the mounting board. However, if the transmission line of the integrated circuit is designed by the conventional coplanar line structure, Due to the proximity effect to the circuit surface, the line constant deviates from the designed value.

【0042】ここで、図6は前記実装基板の近接による
線路定数の設計値からのずれを評価した結果であり、径
20μmのバンプを用いると典型的な線路で特性インピ
ーダンス、及び実効誘電率が10%程度ずれることを示
している。そして、このような効果は回路実装の設計性
を大きく劣化させる原因となる。
Here, FIG. 6 is a result of evaluating the deviation of the line constant from the design value due to the proximity of the mounting board. When a bump having a diameter of 20 μm is used, the characteristic impedance and the effective dielectric constant of a typical line are increased. It shows that there is a shift of about 10%. And such an effect becomes a cause which deteriorates the designability of circuit mounting greatly.

【0043】これに対して、請求項4に記載の集積回路
構造によれば、集積回路の伝送線路が最上層のグランド
導体3によって完全に実装基板からシールドされており
前記の如き近接効果による悪影響が解消されることは明
白である。つまり信号及び電源は従来通り最上層にパッ
ドを配置し引き出すことができ、更に残りのチップ面の
大部分は既に述べてきたようにグランド導体3で覆われ
ているため、回路のグランド導体3をバンプをアレイ状
に配置することにより画的に実装基板を取り出すことが
でき、実装設計のレベルでも余分な接地インピーダンス
を排除したバンプ実装に整合する実装形態を実現できる
ことが明らかである。
On the other hand, according to the integrated circuit structure of the fourth aspect, the transmission line of the integrated circuit is completely shielded from the mounting board by the uppermost ground conductor 3, and the adverse effect due to the proximity effect as described above is exerted. It is clear that In other words, signals and power supplies can be extracted by arranging pads on the uppermost layer as usual, and most of the remaining chip surface is covered with the ground conductor 3 as described above. By arranging the bumps in an array, it is apparent that the mounting board can be taken out conceptually, and it is possible to realize a mounting form that matches the bump mounting in which excess ground impedance is eliminated even at the mounting design level.

【0044】以上説明したように、本発明の伝送線路構
造を採用した集積回路は、回路のグランド導体3を分割
せず一体化したレイアウトを採ることが可能である為、
余計な接地インピーダンスを排除することができ回路の
安定動作が実現できる。また、グランド導体3をストリ
ップ導体2やトランジスタや抵抗等の素子6を配置する
層から上層に移したことで大幅な集積度の向上が図ら
れ、この集積度の向上は回路性能向上、歩留り向上、コ
スト低減といった波及効果をも奏する。さらに、本発明
のトリプレート線路構造によればクロストーク低減効果
も期待することができる。また、本発明の集積回路はフ
ェイスダウンバンプ実装と整合し、設計性の良い実装形
態が実現できる。
As described above, the integrated circuit adopting the transmission line structure of the present invention can have an integrated layout without dividing the ground conductor 3 of the circuit.
Excessive ground impedance can be eliminated and stable operation of the circuit can be realized. In addition, the ground conductor 3 is moved from the layer in which the strip conductor 2 and the element 6 such as a transistor and a resistor are arranged to the upper layer, and thus the degree of integration is significantly improved. It also has ripple effects such as cost reduction. Further, according to the triplate line structure of the present invention, a crosstalk reducing effect can be expected. Further, the integrated circuit of the present invention is compatible with face-down bump mounting, and a mounting form with good design can be realized.

【0045】このように、本発明によれば、高周波、広
帯域集積回路の従来技術が抱えていた多くの課題を解決
することができ、従来のマイクロ波モノリシック集積回
路の更に飛躍的な性能向上、低コスト化はもとより、設
計が困難であった規模の大きなデジタル、アナログ回路
の高速、広帯域化を可能とし、延ては電気通信の大容量
化、情報処理の高速度化等、様々な産業分野に与える効
果は大きい。
As described above, according to the present invention, it is possible to solve many problems which the conventional techniques of high frequency and wide band integrated circuits have, and to further improve the performance of the conventional microwave monolithic integrated circuit. In addition to cost reduction, it is possible to increase the speed and bandwidth of large-scale digital and analog circuits, which were difficult to design, and, in turn, increase the capacity of telecommunications and the speed of information processing in various industrial fields. Has a great effect on.

【0046】尚、本発明は前記した実施例に限定される
ことなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種
々の改良・変更が可能であることは勿論である。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and it goes without saying that various improvements and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明によれば、高集積化が可能で回路
の接地インピーダンスを低減し易い伝送線路構造を実現
することで、高周波、広帯域回路の性能向上及び設計性
の向上に寄与し得る集積回路を提供することができる。
According to the present invention, by realizing a transmission line structure which can be highly integrated and easily reduce the ground impedance of the circuit, it is possible to contribute to the improvement of the performance and the designability of the high frequency and wide band circuit. An integrated circuit can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の集積回路の伝送線構造を示す断面図で
あり、(a)は請求項2に記載の反転マイクロストリッ
プ線路構造を示す図、(b)は請求項3に記載のトリプ
レートストリップ線路構造を示す図である。
1A and 1B are cross-sectional views showing a transmission line structure of an integrated circuit of the present invention, FIG. 1A is a diagram showing an inverted microstrip line structure according to claim 2, and FIG. It is a figure which shows a plate strip line structure.

【図2】本発明の第1の実施例であって、(a)は請求
項2に記載の反転マイクロストリップ線路構造を採用し
てレイアウトを行ったアナログ増幅回路のパタン図、
(b)は効果の比較のために同一の回路をコプレーナ線
路構造を採用してレイアウトした従来のパタン図、
(c)は本発明の実施効果を示す増幅器の周波数特性図
である。
FIG. 2A is a first embodiment of the present invention, in which (a) is a pattern diagram of an analog amplifier circuit which is laid out by employing the inverted microstrip line structure according to claim 2;
(B) is a conventional pattern diagram in which the same circuit is laid out by adopting a coplanar line structure for comparison of effects,
(C) is a frequency characteristic diagram of an amplifier showing an effect of implementing the present invention.

【図3】本発明の第2の実施例であって、(a)は請求
項2に記載の反転マイクロストリップ線路構造を採用し
てレイアウトを行ったデジタル回路セルのパタン図、
(b)は効果の比較のために同一の機能をコプレーナ線
路構造を採用してレイアウトした従来のパタン図であ
る。
FIG. 3 is a second embodiment of the present invention, in which (a) is a pattern diagram of a digital circuit cell which is laid out by employing the inverted microstrip line structure according to claim 2;
FIG. 6B is a conventional pattern diagram in which the same function is laid out by adopting a coplanar line structure for comparison of effects.

【図4】本発明の第3の実施例であって、隣接する2本
の伝送線路間のクロストークがどの程度の量になるかを
請求項2に記載の反転マイクロストリップ線路構造、請
求項3に記載のトリプレートストリップ線路構造、従来
のコプレーナ線路構造の3者について評価したデータを
示す図である。
FIG. 4 is an inverted microstrip line structure according to claim 2, wherein the crosstalk between two adjacent transmission lines is a third embodiment of the present invention. It is a figure which shows the data evaluated about 3 persons of the triplate strip line structure of 3 and the conventional coplanar line structure.

【図5】本発明の第4の実施例であって、請求項2に記
載の反転マイクロストリップ線路構造、及び請求項3に
記載のトリプレートストリップ線路構造伝送線路のスト
リップ導体幅に対する線路定数の依存性を示す図であ
る。
FIG. 5 is a fourth embodiment of the present invention, wherein the line constants of the inverted microstrip line structure according to claim 2 and the strip conductor width of the triplate strip line structure transmission line according to claim 3 are varied. It is a figure which shows a dependency.

【図6】本発明の第5の実施例であって、請求項4に記
載の発明の効果を説明するフェイスダウン実装時の実装
基板の近接による線路定数の設計値からのずれを評価し
た図である。
FIG. 6 is a fifth embodiment of the present invention, which is a diagram for evaluating the deviation of the line constant from the design value due to the proximity of the mounting substrate during face-down mounting, for explaining the effect of the invention according to claim 4; Is.

【図7】従来よりマイクロ波モノリシック集積回路に用
いられてきた伝送線路構造を示す断面図であり、(a)
は集積回路基板の裏面をグランド導体としたマイクロス
トリップ線路構造を示す図、(b)はグランド導体をス
トリップ導体と同一面上に配置したコプレーナ線路構造
を示す図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a transmission line structure conventionally used in a microwave monolithic integrated circuit,
FIG. 3A is a diagram showing a microstrip line structure in which the back surface of the integrated circuit substrate is a ground conductor, and FIG. 6B is a diagram showing a coplanar line structure in which the ground conductor is arranged on the same surface as the strip conductor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…集積回路基板、2…ストリップ導体、3…グランド
導体、4…反転マイクロストリップ基板層、5…バッフ
ァ層、6…トランジスタや抵抗等の素子。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Integrated circuit board, 2 ... Strip conductor, 3 ... Ground conductor, 4 ... Inversion microstrip board layer, 5 ... Buffer layer, 6 ... Elements, such as a transistor and a resistor.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 聡 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 木村 俊二 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 村田 浩一 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 赤沢 幸雄 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Satoshi Yamaguchi 1-6, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nihon Telegraph and Telephone Corporation (72) Shunji Kimura 1-6-1, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Koichi Murata 1-6, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nihon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Yukio Akazawa 1-6, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 モノリシック集積回路において、電源供
給、信号引き出し部分以外の回路表面の少なくとも一部
を交流的にグランドとなるメタルで覆ったことを特徴と
する集積回路。
1. An integrated circuit in a monolithic integrated circuit, wherein at least a part of the circuit surface other than the power supply and signal extraction portion is covered with a metal that serves as an AC ground.
【請求項2】 回路配線を伝送線路として取扱うモノリ
シック集積回路において、前記伝送線路を少なくともス
トリップ導体とグランド導体とで構成し、前記ストリッ
プ導体を前記グランド導体に比して集積回路基板側近傍
に形成することを特徴とする集積回路。
2. A monolithic integrated circuit in which circuit wiring is treated as a transmission line, wherein the transmission line is composed of at least a strip conductor and a ground conductor, and the strip conductor is formed near the integrated circuit board side as compared with the ground conductor. An integrated circuit characterized by:
【請求項3】 回路配線を伝送線路として取扱うモノリ
シック集積回路において、前記伝送線路を少なくともス
トリップ導体と2つのグランド導体とで構成し、前記ス
トリップ導体を前記2つのグランド導体によって集積回
路基板に対して垂直方向に挟まれるように形成すること
を特徴とする集積回路。
3. A monolithic integrated circuit in which circuit wiring is treated as a transmission line, wherein the transmission line is composed of at least a strip conductor and two ground conductors, and the strip conductor is connected to the integrated circuit board by the two ground conductors. An integrated circuit, which is formed so as to be sandwiched in a vertical direction.
【請求項4】 請求項1乃至3に記載の集積回路におい
て、その回路表面にバンプ接続用端子を更に有すること
を特徴とする集積回路。
4. The integrated circuit according to claim 1, further comprising a bump connecting terminal on the circuit surface.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0917959A (en) * 1995-04-27 1997-01-17 H Weston & Sons Ltd Monolithic microwave integrated circuit and method
US6433408B1 (en) 1999-01-08 2002-08-13 Nec Corporation Highly integrated circuit including transmission lines which have excellent characteristics
JP2011170251A (en) * 2010-02-22 2011-09-01 Sumitomo Bakelite Co Ltd Optical element-mounting substrate, opto-electric hybrid substrate, and electronic equipment

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