JPH0758428A - Flexible printed board and its manufacture - Google Patents

Flexible printed board and its manufacture

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Publication number
JPH0758428A
JPH0758428A JP21817593A JP21817593A JPH0758428A JP H0758428 A JPH0758428 A JP H0758428A JP 21817593 A JP21817593 A JP 21817593A JP 21817593 A JP21817593 A JP 21817593A JP H0758428 A JPH0758428 A JP H0758428A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flexible printed
thermoplastic polyimide
circuit board
printed circuit
general formula
Prior art date
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Pending
Application number
JP21817593A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiji Okamoto
圭史 岡本
Hiroyuki Furuya
浩行 古谷
Kazuhisa Danno
和久 檀野
Jiyunya Ida
純哉 井田
Kosaku Nagano
広作 永野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Priority to CN94190568A priority patent/CN1088074C/en
Priority to PCT/JP1994/001286 priority patent/WO1995004100A1/en
Priority to DE1994623726 priority patent/DE69423726T2/en
Priority to KR1019950700673A priority patent/KR100326655B1/en
Priority to EP19940923069 priority patent/EP0663417B1/en
Priority to US08/381,890 priority patent/US5621068A/en
Priority to TW83107420A priority patent/TW272993B/zh
Publication of JPH0758428A publication Critical patent/JPH0758428A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide excellent heatproof and adhesive properties by a method wherein a precursor solution of a specific thermoplastic polyimide polymer is applied to a base film layer to be made imidic, thereafter a conductive layer is superimposed thereon to be heated and pressed. CONSTITUTION:A pre cursor solution of a thermoplastic polyimide polymer represented by the formula is applied to a base film layer composed of polyimide resin in a flexible printed board. Namely, in the formula, Ar1, Ar2, Ar4, and Ar6 denote a divalent organic base and Ar3 and Ar5 denote a quadrivalent organic base. Also, l, m, and n denote a positive integer of 0 or 1 or more and also the sum of l and m is 1 or more and t denotes an integer of 1 or more. The polymer is dried and made imidic, thereafter a conductive layer is superimposed on the obtained thermoplastic polyimide layer, which is heated and pressed and adhered to each other. Thus, an adhesive layer composed of the thermoplastic polyimide polymer is excellent in a heatproof property and also in an adhesive force, and it is possible to bond to each other with enough strength by pressing for a short time.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はフレキシブルプリント基
板とその製造方法に関し、さらに詳しくは、熱可塑性ポ
リイミド重合体からなる中間層を使用したフレキシブル
プリント基板及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible printed circuit board and a manufacturing method thereof, and more particularly to a flexible printed circuit board using an intermediate layer made of a thermoplastic polyimide polymer and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の高機能化、小型化が非
常な速度で進んでおり、それらに伴って用いられている
電子部品に対する小型化、軽量化が求められている。ま
た、電子部品を実装する配線板も通常の硬質プリント配
線板に対し、可撓性のあるフレキシブルプリント配線板
(FPC)が注目され、急激に需要を増している。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have been highly functionalized and miniaturized at an extremely high speed, and electronic components used therewith have been required to be miniaturized and lightened. Further, as a wiring board on which electronic parts are mounted, a flexible printed wiring board (FPC) having flexibility is attracting attention as compared with an ordinary hard printed wiring board, and demand is rapidly increasing.

【0003】このFPC用の銅張積層板(FCCL)の
ベースフィルムとしては主にポリイミドフィルムが用い
られているが、現在使用されているFCCLの構造はポ
リイミドフィルムと銅箔をアクリル系、エポキシ系の接
着剤等で張り付けた3層構造のFCCLが一般的であ
る。
A polyimide film is mainly used as a base film of the copper clad laminate (FCCL) for the FPC, but the structure of the FCCL currently used is a polyimide film and a copper foil made of an acrylic type or an epoxy type. An FCCL having a three-layer structure attached with an adhesive or the like is generally used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの接着
剤は耐熱性に劣り、吸水率が高いものであった。このた
め、得られたフレキシブルプリント基板の耐熱性や寸法
安定性等の特性が接着剤の特性に左右されることとな
り、ポリイミドベースフィルムの特性を充分に発揮でき
ないことが多いという問題点を抱えていた。
However, these adhesives have poor heat resistance and high water absorption. For this reason, the properties such as heat resistance and dimensional stability of the obtained flexible printed circuit board are influenced by the properties of the adhesive, and there are many problems that the properties of the polyimide base film cannot be sufficiently exhibited. It was

【0005】そこで、本発明者らは上記従来の問題点を
解決し、耐熱性に優れ、さらに加工性及び接着性に優れ
たフレキシブルプリント基板とその製造方法を提供する
ことを目的に鋭意研究を重ねた結果、本発明に到ったの
である。
Therefore, the present inventors have conducted diligent research with the objective of solving the above-mentioned conventional problems and providing a flexible printed circuit board excellent in heat resistance, workability and adhesiveness, and a manufacturing method thereof. As a result of the repetition, the present invention has been achieved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】まず、本発明に係るフレ
キシブルプリント基板の要旨とするところは、ポリイミ
ド樹脂からなるベースフィルム層と、一般式(1)化8
First, the gist of a flexible printed circuit board according to the present invention is that a base film layer made of a polyimide resin and a compound represented by the general formula (1)

【化8】 (式中、Ar1 ,Ar2 ,Ar4 ,Ar6 は2価の有機基、A
r3 ,Ar5 は4価の有機基を示す。また、l,m,nは
0または1以上の正の整数であり、かつl,mの和が1
以上であり、tは1以上の正の整数を表す。)で表され
る熱可塑性ポリイミド重合体からなる中間層と、電気的
良導体からなる導体層とから構成されることにある。
[Chemical 8] (In the formula, Ar 1 , Ar 2 , Ar 4 and Ar 6 are divalent organic groups, A
r 3 and Ar 5 represent a tetravalent organic group. Further, l, m, and n are 0 or a positive integer of 1 or more, and the sum of l and m is 1.
It is above, and t represents a positive integer of 1 or more. ) Is composed of an intermediate layer made of a thermoplastic polyimide polymer and a conductor layer made of a good electrical conductor.

【0007】かかるフレキシブルプリント基板におい
て、前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一般式(1)
中のAr1 が化9
In such a flexible printed circuit board, the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is given.
Ar 1 inside becomes chemical 9

【化9】 に示す2価の有機基の群から選択される少なくとも1種
であることにある。
[Chemical 9] Is at least one selected from the group of divalent organic groups shown in.

【0008】また、かかるフレキシブルプリント基板に
おいて、前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一般式
(1)中のAr2 が化10
Further, in such a flexible printed circuit board, Ar 2 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is

【化10】 に示す2価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることにある。
[Chemical 10] At least 1 selected from the group of divalent aromatic groups shown in
It is to be a seed.

【0009】更に、かかるフレキシブルプリント基板に
おいて、前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一般式
(1)中のAr3 が化11
Further, in such a flexible printed circuit board, Ar 3 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is

【化11】 に示す4価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることにある。
[Chemical 11] At least 1 selected from the group of tetravalent aromatic groups shown in
It is to be a seed.

【0010】また、かかるフレキシブルプリント基板に
おいて、前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一般式
(1)中のAr4 が化12
Further, in such a flexible printed circuit board, Ar 4 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is

【化12】 に示す2価の有機基の群から選択される少なくとも1種
であることにある。
[Chemical 12] Is at least one selected from the group of divalent organic groups shown in.

【0011】更に、かかるフレキシブルプリント基板に
おいて、前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一般式
(1)中のAr5 が化13
Further, in such a flexible printed circuit board, Ar 5 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is

【化13】 に示す4価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることにある。
[Chemical 13] At least 1 selected from the group of tetravalent aromatic groups shown in
It is to be a seed.

【0012】また、かかるフレキシブルプリント基板に
おいて、前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一般式
(1)中のAr6 が化14
Further, in such a flexible printed circuit board, Ar 6 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is

【化14】 に示す2価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることにある。次に、本発明に係るフレキシブル
プリント基板の製造方法の要旨とするところは、ポリイ
ミド樹脂からなるベースフィルム層に、前記記載の一般
式(1)で表される熱可塑性ポリイミド重合体の前駆体
溶液を塗布し、乾燥、イミド化させた後、得られた熱可
塑性ポリイミド層に導体層を重ね、加熱加圧して被着積
層することにある。
[Chemical 14] At least 1 selected from the group of divalent aromatic groups shown in
It is to be a seed. Next, the gist of the method for producing a flexible printed circuit board according to the present invention is that a precursor film of a thermoplastic polyimide polymer represented by the above general formula (1) is added to a base film layer made of a polyimide resin. Is applied, dried and imidized, and then a conductor layer is superposed on the obtained thermoplastic polyimide layer, and heated and pressed to adhere and laminate.

【0013】また、本発明に係るフレキシブルプリント
基板の製造方法の他の要旨とするところは、ポリイミド
樹脂からなるベースフィルム層と、前記記載の一般式
(1)で表される熱可塑性ポリイミド重合体からなるフ
ィルムと、導体層とを順に重ねた後、加熱加圧して被着
積層することにある。
Another aspect of the method for manufacturing a flexible printed circuit board according to the present invention is that a base film layer made of a polyimide resin and a thermoplastic polyimide polymer represented by the general formula (1) described above. The film consisting of and the conductor layer are sequentially stacked, and then heated and pressed to be adhered and laminated.

【0014】[0014]

【実施例】次に、本発明のフレキシブルプリント基板と
その製造方法の実施例について説明する。
EXAMPLES Next, examples of the flexible printed circuit board and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described.

【0015】本発明に用いられる熱可塑性ポリイミドの
前駆体であるポリアミド酸溶液の製造方法は、まず、ア
ルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気中において、一般式
(2) H2 N−Ar7 −NH2 (2) (式中、Ar7 は2価の有機基を示す。)で表されるジア
ミンを有機溶媒中に溶解、もしくは拡散させる。この溶
液に一般式(3)化15
The method for manufacturing a polyamic acid solution which is a precursor of thermoplastic polyimide used in the present invention, first, argon, in an inert gas atmosphere such as nitrogen, the general formula (2) H 2 N-Ar 7 - A diamine represented by NH 2 (2) (wherein Ar 7 represents a divalent organic group) is dissolved or diffused in an organic solvent. In this solution, the compound of the general formula (3) 15

【化15】 (式中、Ar8 は2価の有機基を示す。)で表されるエス
テル酸二無水物のみ、もしくはこのエステル酸二無水物
と一般式(4)化16
[Chemical 15] (In the formula, Ar 8 represents a divalent organic group), or only the ester dianhydride represented by the formula (4)

【化16】 (式中、Ar9 は4価の有機基を示す。)で表される少な
くとも1種の有機テトラカルボン酸二無水物との混合物
を固体もしくは有機溶媒に溶解させた溶液の形で添加
し、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸溶
液を得ることができる。
[Chemical 16] (In the formula, Ar 9 represents a tetravalent organic group.) A mixture with at least one kind of organic tetracarboxylic dianhydride represented by the following is added in the form of a solid or a solution prepared by dissolving it in an organic solvent, A polyamic acid solution that is a precursor of the thermoplastic polyimide can be obtained.

【0016】また、本発明に用いられる他の熱可塑性ポ
リイミドの前駆体であるポリアミド酸溶液の製造方法
は、まず、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気中にお
いて、一般式(5)化17
Further, in the method for producing a polyamic acid solution which is a precursor of another thermoplastic polyimide used in the present invention, first, the compound represented by the general formula (5) is prepared in an atmosphere of an inert gas such as argon or nitrogen.

【化17】 (式中、Ar10は2価の有機基を示す。)で表されるエス
テルジアミンのみ、もしくはこのエステルジアミンと前
記一般式(2)で表される少なくとも1種のジアミンと
の混合物を有機溶媒中に溶解、もしくは拡散させる。こ
の溶液に前記一般式(3)で表されるエステル酸二無水
物のみ、もくしくは前記一般式(4)で表される少なく
とも1種の有機テトラカルボン酸二無水物、もしくはこ
れらエステル酸二無水物と有機テトラカルボン酸二無水
物との混合物を固体もしくは有機溶媒による溶液の形で
添加し、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド
酸溶液を得ることができる。
[Chemical 17] (In the formula, Ar 10 represents a divalent organic group.) Only an ester diamine represented by the formula, or a mixture of the ester diamine and at least one diamine represented by the general formula (2) is used as an organic solvent. Dissolve or diffuse in. In this solution, only the ester acid dianhydride represented by the general formula (3), or at least one organic tetracarboxylic acid dianhydride represented by the general formula (4), or these ester acids is used. A mixture of a dianhydride and an organic tetracarboxylic dianhydride can be added in the form of a solution with a solid or an organic solvent to obtain a polyamic acid solution which is a precursor of a thermoplastic polyimide.

【0017】この反応において、上記とは逆にまず前記
一般式(3)で表されるエステル酸二無水物又は前記一
般式(4)で表される少なくとも1種の有機テトラカル
ボン酸二無水物のみ、もしくはこれらエステル酸二無水
物と有機テトラカルボン酸二無水物との混合物の溶液を
作製し、この溶液中に前記一般式(5)で表されるエス
テルジアミン又は前記一般式(2)で表される少なくと
も1種のジアミンのみ、もしくはこのエステルジアミン
と前記一般式(2)で表される少なくとも1種のジアミ
ンとの混合物の固体もしくは有機溶媒による溶液もしく
はスラリーを添加してもよい。
In this reaction, contrary to the above, first, the ester dianhydride represented by the general formula (3) or at least one organic tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (4) is used. Or a solution of a mixture of these ester acid dianhydrides and organic tetracarboxylic acid dianhydrides is prepared, and the solution of the ester diamine represented by the general formula (5) or the general formula (2) is prepared in the solution. A solution or slurry of at least one diamine represented by itself or a mixture of the ester diamine and at least one diamine represented by the general formula (2) in a solid or organic solvent may be added.

【0018】この時の反応温度は−10〜50℃、更に
好ましくは−5℃〜20℃である。また、反応時間は3
0分〜3時間である。かかる反応により、一般式(1)
化18
The reaction temperature at this time is -10 to 50 ° C, more preferably -5 to 20 ° C. The reaction time is 3
It is 0 minutes to 3 hours. By the reaction, the general formula (1)
18

【化18】 で表される熱可塑性ポリイミド重合体の前駆体であるポ
リアミド酸重合体が生成されるのである。
[Chemical 18] Thus, a polyamic acid polymer which is a precursor of the thermoplastic polyimide polymer represented by is produced.

【0019】次に、この前駆体であるポリアミド酸重合
体溶液からポリイミド重合体を得るためには熱的及び/
又は化学的に脱水閉環する方法を用いればよい。
Next, in order to obtain a polyimide polymer from the polyamic acid polymer solution which is the precursor, it is necessary to use a thermal and / or
Alternatively, a method of chemically performing dehydration ring closure may be used.

【0020】例をあげて説明すると、熱的に脱水閉環
(イミド化)する方法では、上記ポリアミド酸重合体の
溶液を支持板、PET等の有機フィルム、ドラムあるい
はエンドレスベルト等の支持体上に流延または塗布して
膜状となし、乾燥させた後、自己支持性を有する膜を得
る。乾燥は150℃以下の温度で約5〜90分間行うの
が好ましい。次いで、これを更に加熱して乾燥させつつ
イミド化し、熱可塑性ポリイミド重合体よりなるポリイ
ミド膜を得る。加熱の際の温度は150〜350℃の範
囲の温度が好ましく、特には250〜300℃が好まし
い。加熱の際の昇温速度には制限はないが、徐々に加熱
し、最高温度が上記温度になるようにするのが好まし
い。加熱時間はフィルム厚みや最高温度によって異なる
が、一般には最高温度に達してから10秒〜10分の範
囲が好ましい。自己支持性を有する膜を加熱する際は、
支持体から引き剥がし、その状態で端部を固定して加熱
すると線膨張係数が小さい重合体が得られるので好まし
い。
Explaining by way of example, in the method of thermal dehydration ring closure (imidization), the solution of the polyamic acid polymer is applied onto a support plate, an organic film such as PET, or a support such as a drum or an endless belt. After casting or coating to form a film and drying, a film having self-supporting property is obtained. Drying is preferably performed at a temperature of 150 ° C. or lower for about 5 to 90 minutes. Next, this is further heated and dried to be imidized to obtain a polyimide film made of a thermoplastic polyimide polymer. The temperature during heating is preferably in the range of 150 to 350 ° C, particularly preferably 250 to 300 ° C. There is no limitation on the rate of temperature increase during heating, but it is preferable that the maximum temperature reaches the above temperature by gradually heating. Although the heating time varies depending on the film thickness and the maximum temperature, it is generally preferably in the range of 10 seconds to 10 minutes after the maximum temperature is reached. When heating a self-supporting film,
Peeling off from the support, fixing the ends in this state and heating is preferred because a polymer having a small linear expansion coefficient can be obtained.

【0021】化学的に脱水閉環(イミド化)する方法で
は、上記ポリアミド酸重合体の溶液に化学量論以上の脱
水剤と触媒量の第3級アミンを加え、熱的に脱水する場
合と同様の方法で処理すると所望のポリイミド重合体が
得られる。
The method of chemically dehydrating ring closure (imidization) is the same as the method of thermally dehydrating by adding a stoichiometric or more stoichiometric dehydrating agent and a catalytic amount of a tertiary amine to the solution of the polyamic acid polymer. The desired polyimide polymer can be obtained by treating with the above method.

【0022】熱的にイミド化する方法と、化学的にイミ
ド化する方法とを比較すると化学的方法の方がポリイミ
ドの機械的強度が大きく、且つ線膨張係数が小さくな
る。なお、一般には化学的方法と熱的方法とを併用する
ことが多い。
Comparing the method of thermal imidization and the method of chemical imidation, the chemical method has a higher mechanical strength of polyimide and a smaller coefficient of linear expansion. In general, a chemical method and a thermal method are often used together.

【0023】このような熱的及び/又は化学的方法によ
り上記ポリアミド酸重合体をイミド化することによっ
て、上記一般式(1)で表されるポリイミド重合体が製
造されるのである。
The polyimide polymer represented by the general formula (1) is produced by imidizing the polyamic acid polymer by such a thermal and / or chemical method.

【0024】ここで、本発明に用いられる上記一般式
(3)で表されるエステル酸二無水物としては、あらゆ
る構造のエステル酸二無水物が使用可能であるが、一般
式(3)中のAr8 基は2価の有機基であることが好まし
い。このAr8 基を具体的に例示すると、化19
Here, as the ester dianhydride represented by the above general formula (3) used in the present invention, ester dianhydrides having any structure can be used. The Ar 8 group of is preferably a divalent organic group. A concrete example of this Ar 8 group is:

【化19】 を挙げることが出来る。より具体的には、諸特性のバラ
ンス面から、化20
[Chemical 19] Can be mentioned. More specifically, in terms of the balance of various characteristics,

【化20】 を主成分とすることが好適である。[Chemical 20] It is preferable to have as a main component.

【0025】また、本発明に用いられる上記一般式
(5)で表されるエステルジアミンとしては、あらゆる
構造のエステルジアミンが使用可能であるが、一般式
(5)中のAr10基は2価の有機基であることが好まし
い。このAr10を具体的に例示すると、化21
As the ester diamine represented by the above general formula (5) used in the present invention, ester diamines having any structure can be used, but the Ar 10 group in the general formula (5) is divalent. It is preferable that the organic group is A concrete example of this Ar 10 is:

【化21】 を挙げることができる。より具体的には、諸特性のバラ
ンス面から化22
[Chemical 21] Can be mentioned. More specifically, from the viewpoint of the balance of various characteristics,

【化22】 を主成分とすることが好適である。[Chemical formula 22] It is preferable to have as a main component.

【0026】また、有機テトラカルボン酸二無水物とし
ては、あらゆる構造の有機テトラカルボン酸二無水物が
使用可能であるが、上記一般式(4)中のAr9 基は4価
の有機基であり、特に芳香族基であることが好ましい。
このAr9 基を具体的に例示すると、化23、化24
As the organic tetracarboxylic dianhydride, organic tetracarboxylic dianhydrides having any structure can be used, but the Ar 9 group in the above general formula (4) is a tetravalent organic group. Yes, and particularly preferably an aromatic group.
Specific examples of the Ar 9 group include chemical formulas 23 and 24

【化23】 [Chemical formula 23]

【化24】 を挙げることができる。これらの有機テトラカルボン酸
二無水物を単独で、または2種以上組み合わせて用いて
もよい。より具体的には、諸特性のバランス面から、化
25
[Chemical formula 24] Can be mentioned. These organic tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more. More specifically, in terms of the balance of various characteristics,

【化25】 の少なくとも1種類以上を主成分とすることが好適であ
る。
[Chemical 25] It is preferable that at least one of the above is a main component.

【0027】さらに、前記一般式(2)で表されるジア
ミン化合物中のAr7 は本質的には2価の有機基ならあら
ゆるものが使用可能であるが、特に芳香族基が望まし
く、具体的には、化26、化27
Further, Ar 7 in the diamine compound represented by the general formula (2) may be essentially any divalent organic group, but an aromatic group is particularly desirable and There are 26 and 27

【化26】 [Chemical formula 26]

【化27】 等を挙げることができるが、より具体的には、化28[Chemical 27] Etc., but more specifically,

【化28】 の少なくとも1種類以上を主成分とすることが好適であ
る。
[Chemical 28] It is preferable that at least one of the above is a main component.

【0028】次に、前記一般式(1)で表される熱可塑
性ポリイミド重合体におけるブロック単位の繰り返し数
l、m、nは0又は1以上の正の整数であり、かつlと
mとの和は1以上であれば良いが、特に繰り返し数l、
m、nはいずれも15以下が好ましい。何故ならば、繰
り返し数l、mの和に対して、繰り返し数nがその15
倍を越えると共重合比が偏り、重合することの効果が小
さくなるからであり、具体的には低温接着性が認めにく
くなるからである。また、重合体1分子中にl、m、n
の値が異なる単位が存在しても良いが、特には、l、
m、nの値が一定であることが好ましい。
Next, the number of repeating block units l, m, n in the thermoplastic polyimide polymer represented by the general formula (1) is 0 or a positive integer of 1 or more, and l and m are The sum may be 1 or more, but especially the repetition number l,
Both m and n are preferably 15 or less. Because, for the sum of the number of repetitions l and m, the number of repetitions n is 15
This is because if it exceeds twice, the copolymerization ratio is biased and the effect of polymerization is reduced, and specifically, low temperature adhesiveness is difficult to be recognized. Further, in one molecule of the polymer, l, m, n
There may be units with different values of, but especially l,
It is preferable that the values of m and n are constant.

【0029】また、ブロックの繰り返し数tは1以上の
正の整数であれば良く、このポリイミド重合体の分子量
は特に規制されるものではないが、生成されるポリイミ
ド重合体の強度を維持するためには、数平均分子量が1
万以上が好ましい。
The number of block repetitions t may be a positive integer of 1 or more, and the molecular weight of this polyimide polymer is not particularly limited, but in order to maintain the strength of the produced polyimide polymer. Has a number average molecular weight of 1
10,000 or more is preferable.

【0030】ポリイミド重合体の分子量は直接測定が困
難な場合が多い。このようなときには間接的な方法によ
って推測による測定がなされる。例えばポリイミド重合
体がポリアミド酸から合成される場合には、ポリアミド
酸の分子量に相当する値をポリイミドの分子量とする。
It is often difficult to directly measure the molecular weight of a polyimide polymer. In such a case, an indirect method is used to make a speculative measurement. For example, when a polyimide polymer is synthesized from polyamic acid, the value corresponding to the molecular weight of polyamic acid is the molecular weight of polyimide.

【0031】ポリアミド酸溶液の生成反応に使用される
有機溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジ
エチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド
等のホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系
溶媒等を挙げることができる。これらを単独または2種
あるいは3種以上の混合溶媒として用いることもでき
る。さらに、これらの極性溶媒とともに、アセトン、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、ベンゼンメ
チルセロソルブ等のポリアミド酸の非溶媒との混合溶媒
として用いることもできる。
Examples of the organic solvent used in the reaction for producing the polyamic acid solution include sulfoxide-based solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, and N, N-.
Examples thereof include formamide solvents such as dimethylformamide and N, N-diethylformamide, acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide. These may be used alone or as a mixed solvent of two or three or more. Further, it can be used as a mixed solvent with a non-solvent of polyamic acid such as acetone, methanol, ethanol, isopropanol, and benzenemethylcellosolve together with these polar solvents.

【0032】このようにして得られたフィルム状の熱可
塑性ポリイミド重合体を、アピカル(登録商標:鐘淵化
学工業(株)製)のようなポリイミドフィルム、及び銅
箔のような導体層との間に挿入し3重に重ね、熱圧着す
ることにより、目的とするフレキシブルプリント基板が
得られる。また、他のフレキシブルプリント基板の製造
方法は、熱可塑性ポリイミド重合体の前駆体であるポリ
アミド酸溶液をポリイミドフィルム上に流延塗布した
後、イミド化させ、その後、導体層と熱圧着することに
よっても得ることができる。更に、他のフレキシブルプ
リント基板の製造方法は、ポリイミドフィルム、上記の
方法で得られたフィルム状の熱可塑性ポリイミド重合
体、剥離紙を重ねて熱圧着した後、剥離紙を剥し、その
後、導体層と熱圧着することによっても得ることができ
る。
The film-like thermoplastic polyimide polymer thus obtained is used in combination with a polyimide film such as Apical (registered trademark: manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a conductor layer such as a copper foil. The desired flexible printed circuit board is obtained by inserting it in between, stacking it in three layers, and thermocompression bonding. In addition, another method for manufacturing a flexible printed circuit board is, in which a polyamic acid solution, which is a precursor of a thermoplastic polyimide polymer, is cast and applied on a polyimide film, then imidized, and then thermocompression bonded with a conductor layer. You can also get Furthermore, another method for producing a flexible printed circuit board is a polyimide film, a film-shaped thermoplastic polyimide polymer obtained by the method described above, and a release paper is overlaid and thermocompression-bonded, then the release paper is peeled off, and then a conductor layer is formed. It can also be obtained by thermocompression bonding.

【0033】なお、ここで用いられる導体層としては、
アルミニウム、鉄、ニッケル等の導体であれば良いが、
特に銅箔が好ましい。また、この熱可塑性ポリイミド重
合体はフレキシブルプリント基板の中間層として最適で
あるが、その他用途は特に限定されない。
The conductor layer used here is
Any conductor such as aluminum, iron, nickel may be used,
Copper foil is particularly preferable. Further, this thermoplastic polyimide polymer is most suitable as an intermediate layer of a flexible printed circuit board, but other uses are not particularly limited.

【0034】以上のようにして得られた本発明のフレキ
シブルプリント基板は、優れた耐熱性、加工性、低吸水
率を併せ持っているものである。特に、本発明のフレキ
シブルプリント基板の中間層として使用する熱可塑性ポ
リイミド重合体は、その組成により150℃から350
℃の間で明確なガラス転移点を持ち、ガラス転移点に近
い温度でラミネートすることによりポリイミド樹脂から
成るベースフィルムと銅箔などの導体層とを容易に接着
することができる。したがって、比較的容易に銅張積層
板を作製することができる。また、本発明のフレキシブ
ルプリント基板の中間層として使用する熱可塑性ポリイ
ミド重合体は20℃の純水に24時間浸した時の吸水率
が1%程度という低吸水率を示すことから、加工性に優
れたフレキシブルプリント基板を提供することができ
る。
The flexible printed circuit board of the present invention obtained as described above has excellent heat resistance, processability and low water absorption. In particular, the thermoplastic polyimide polymer used as the intermediate layer of the flexible printed circuit board of the present invention has a composition of 150 ° C to 350 ° C.
By having a clear glass transition point between 0 ° C. and laminating at a temperature close to the glass transition point, the base film made of a polyimide resin and a conductor layer such as a copper foil can be easily bonded. Therefore, the copper clad laminate can be manufactured relatively easily. Further, the thermoplastic polyimide polymer used as the intermediate layer of the flexible printed circuit board of the present invention has a low water absorption rate of about 1% when immersed in pure water at 20 ° C. for 24 hours. An excellent flexible printed circuit board can be provided.

【0035】以上、本発明に係るフレキシブルプリント
基板およびその製造方法の実施例を説明したが、本発明
はこれらの実施例のみに限定されるものではなく、本発
明はその趣旨を逸脱しない範囲内で当業者の知識に基づ
き、種々なる改良、変更、修正を加えた態様で実施し得
るものである。
Although the embodiments of the flexible printed circuit board and the method of manufacturing the same according to the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and the present invention is within the scope of the present invention. Therefore, it can be implemented in various modified, changed, and modified modes based on the knowledge of those skilled in the art.

【0036】以下、実施例により本発明を更に説明する
が、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものでは
ない。
The present invention will be further described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0037】実施例 1 50mlメスフラスコ(1)に2,2−ビス〔4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(以下、BAP
Pという。)16.9g及びジメチルホルムアミド(以
下、DMFという。)25.4gを採り、スターラーを
用いて攪拌し、充分溶かした。さらに、他の50mlメス
フラスコ(2)にBAPP1.0g、DMF10.0g
を採り、同様にして充分溶かした。他方、攪拌機を備え
た500ml三口フラスコに2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンジベンゾエート−2,2’,3,
3’−テトラカルボキシリックアシッドジアンヒドライ
ド(以下、ESDAという。)化29
Example 1 In a 50 ml volumetric flask (1), 2,2-bis [4- (4-
Aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter, BAP
It is called P. ) 16.9 g and dimethylformamide (hereinafter, referred to as DMF) 25.4 g were taken, stirred with a stirrer and sufficiently dissolved. In another 50 ml volumetric flask (2), 1.0 g of BAPP and 10.0 g of DMF.
Was taken, and similarly melted sufficiently. On the other hand, in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-2,2 ′, 3
3'-Tetracarboxylic acid dianhydride (hereinafter referred to as ESDA) 29

【化29】 11.9gとピロメリット酸二無水物(PMDA)4.
5g、及びDMF25.0gを入れ、氷水で冷やしつ
つ、かつフラスコ中の雰囲気を窒素置換しながら攪拌し
充分溶かした。
[Chemical 29] 11.9 g and pyromellitic dianhydride (PMDA) 4.
5 g of DMF and 25.0 g of DMF were added, and the mixture was sufficiently dissolved by cooling with ice water and stirring while replacing the atmosphere in the flask with nitrogen.

【0038】そして、まず事前に得られた50mlメスフ
ラスコ(1)中のBAPP溶液を攪拌しながら500ml
三口フラスコ中に速やかに投入した。約30分間攪拌し
ながら放置した後、50mlメスフラスコ(2)中のBA
PP溶液を三口フラスコ中の溶液の粘度に注目しながら
三口フラスコ中に徐々に投入した。最大粘度に達した
後、50mlメスフラスコ(2)中のBAPP溶液の投入
を終了し、1時間攪拌しながら放置した。その後、DM
Fを78.2gを加え、攪拌し、ポリアミド酸溶液を得
た。
Then, 500 ml of the BAPP solution in the 50 ml volumetric flask (1) obtained in advance was stirred while stirring.
Immediately charged into a three-necked flask. After standing for about 30 minutes with stirring, BA in a 50 ml volumetric flask (2)
The PP solution was gradually charged into the three-necked flask while paying attention to the viscosity of the solution in the three-necked flask. After reaching the maximum viscosity, the addition of the BAPP solution in the 50 ml volumetric flask (2) was completed, and the mixture was left for 1 hour with stirring. Then DM
78.2 g of F was added and stirred to obtain a polyamic acid solution.

【0039】このポリアミド酸溶液をポリイミドフィル
ム(鐘淵化学工業(株)製)上に塗布し、80℃で25
分間加熱した後、150℃、200℃、250℃、30
0℃の順にそれぞれ各5分間加熱してイミド化させ、熱
可塑性ポリイミド重合体層が形成されたポリイミドフィ
ルムを得た。更に、得られたポリイミドフィルムの熱可
塑性ポリイミド重合体層の面と銅箔(35μm厚)とを
重ね、300℃、2.2cm/min の速度でラミネート
し、フレキシブルプリント基板を得た。
This polyamic acid solution was applied onto a polyimide film (Kanefuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and the temperature was adjusted to 25 at 80 ° C.
After heating for 150 minutes, 150 ℃, 200 ℃, 250 ℃, 30
Each was heated in the order of 0 ° C. for 5 minutes for imidization to obtain a polyimide film having a thermoplastic polyimide polymer layer formed thereon. Further, the surface of the thermoplastic polyimide polymer layer of the obtained polyimide film was overlaid with a copper foil (thickness of 35 μm) and laminated at 300 ° C. at a speed of 2.2 cm / min to obtain a flexible printed board.

【0040】得られたフレキシブルプリント基板の特性
を調べるため、その中間層である熱可塑性ポリイミド重
合体のガラス転移点(℃)と吸水率(%)、及びフレキ
シブルプリント基板のピール強度(kg/cm) について調べ
た。ガラス転移点についてはTMAにより、ピール強度
についてはJIS K6481により、吸水率について
はASTM D−570により調べた。その結果を表1
に示す。
In order to investigate the properties of the obtained flexible printed circuit board, the glass transition point (° C.) and water absorption rate (%) of the thermoplastic polyimide polymer, which is the intermediate layer, and the peel strength (kg / cm) of the flexible printed circuit board. ). The glass transition point was examined by TMA, the peel strength was examined by JIS K6481, and the water absorption rate was examined by ASTM D-570. The results are shown in Table 1.
Shown in.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】実施例 2 50mlメスフラスコにESDA1.0g及びDMF1
0.0gを採り、スターラーを用いて攪拌し充分溶かし
た。他方、攪拌機を備えた500ml三口フラスコに化3
Example 2 1.0 g ESDA and DMF1 in a 50 ml volumetric flask.
0.0 g was taken and sufficiently dissolved by stirring using a stirrer. On the other hand, a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer was used. 3
0

【化30】 で示される2,2−ビス(4−アミノベンジルオキシフ
ェニル)プロパン(以下、BABPPという。)を1
2.9g及びDMF38.7gを入れ、500ml三口フ
ラスコ中の雰囲気を窒素置換しながら攪拌し、充分溶か
した。次に、100mlナスフラスコにESDA14.9
gを採取し、BABPP溶液中に固体状で添加した。さ
らに、この100mlナスフラスコ中の壁面に残存付着す
るESDAを37.7gのDMFにより三口フラスコ中
へ流し入れた。約1時間攪拌しながら放置した後、50
mlメスフラスコ中のESDA溶液を三口フラスコ中の
溶液の粘度に注目しながら三口フラスコ中に徐々に投入
した。最大粘度に達した後、ESDA溶液の投入を終了
し、1時間攪拌しながら放置し、ポリアミド酸溶液を得
た。
[Chemical 30] 1,2-bis (4-aminobenzyloxyphenyl) propane (hereinafter referred to as BABPP) represented by
2.9 g and DMF 38.7 g were put, and the atmosphere in the 500 ml three-necked flask was agitated while substituting the atmosphere with nitrogen and sufficiently dissolved. Next, add ESDA14.9 to a 100 ml eggplant flask.
g was taken and added as a solid in the BABPP solution. Further, the ESDA remaining on the wall surface of the 100 ml eggplant-shaped flask was poured into a three-necked flask with 37.7 g of DMF. After leaving it for about 1 hour with stirring, 50
The ESDA solution in the ml volumetric flask was gradually charged into the three-necked flask while paying attention to the viscosity of the solution in the three-necked flask. After reaching the maximum viscosity, the addition of the ESDA solution was terminated, and the mixture was allowed to stand with stirring for 1 hour to obtain a polyamic acid solution.

【0043】このポリアミド酸溶液をPETフィルム上
に塗布した後、80℃で25分間加熱し、自己支持性を
有する程度に乾燥させた。その後、ポリアミド酸のフィ
ルムをPETフィルムから剥し、金属支持体に固定した
後、150℃、200℃、250℃、300℃の順にそ
れぞれ各5分間加熱してイミド化させ、熱可塑性ポリイ
ミド重合体のフィルムを得た。さらに、ポリイミドフィ
ルム(鐘淵化学工業(株)製、アピカル(登録商
標))、上記で得られた熱可塑ポリイミド重合体のフィ
ルム、さらに銅箔(35μm厚)を重ね、300℃、
2.2cm/min の速度でラミネートさせ、フレキシブル
プリント基板を得た。
This polyamic acid solution was coated on a PET film, then heated at 80 ° C. for 25 minutes and dried to the extent that it had a self-supporting property. Thereafter, the polyamic acid film was peeled off from the PET film, fixed on a metal support, and then heated at 150 ° C., 200 ° C., 250 ° C., and 300 ° C. for 5 minutes in order to imidize the thermoplastic polyimide polymer. I got a film. Furthermore, a polyimide film (Kanefuchi Chemical Industry Co., Ltd., Apical (registered trademark)), a film of the thermoplastic polyimide polymer obtained above, and a copper foil (35 μm thick) are overlaid, and the temperature is 300 ° C.
A flexible printed circuit board was obtained by laminating at a speed of 2.2 cm / min.

【0044】得られたフレキシブルプリント基板につい
て特性を調べるために、実施例1と同様にして、熱可塑
性ポリイミド重合体のガラス転移点(℃)と吸水率
(%)、及びフレキシブルプリント基板のピール強度(k
g/cm) について調べた。その結果を表1に示した。
To examine the characteristics of the obtained flexible printed circuit board, the glass transition point (° C.) and water absorption rate (%) of the thermoplastic polyimide polymer and the peel strength of the flexible printed circuit board were measured in the same manner as in Example 1. (k
g / cm). The results are shown in Table 1.

【0045】比較例 1 (BTDA及びBAPPを用いた熱可塑性ポリイミドか
らなる中間層)まず、50mlメスフラスコに3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジア
ンヒドライド(BTDA)1.94g、DMF30.0
gを採り、充分溶かした。また攪拌機を備えた500ml
三口フラスコにBAPP51.8g及びDMF310.
0gを採り、氷水で冷やしつつ、かつ三口フラスコ中の
雰囲気を窒素置換しながら攪拌し充分溶かした。次に、
100mlナスフラスコにBTDA38.8gを採取し、
BAPP溶液中に固体状で添加した。さらに、この10
0mlナスフラスコ中の壁面に残存付着するBTDAを1
0.0gのDMFにより三口フラスコ中へ、流し入れ
た。約30分間攪拌しながら放置した後、50mlメス
フラスコ中のBTDA溶液を三口フラスコ中の溶液の粘
度に注目しながら三口フラスコ中に徐々に投入した。最
大粘度に達した後、BTDA溶液の投入を終了し、1時
間攪拌しながら放置した。その後、試料量が500gと
なるようにDMFを加え、攪拌し、ポリアミド酸溶液を
得た。
Comparative Example 1 (Intermediate Layer Made of Thermoplastic Polyimide Using BTDA and BAPP) First, in a 50 ml volumetric flask, 3, 3 ',
4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 1.94 g, DMF 30.0
g was taken and melted sufficiently. 500ml with a stirrer
In a three-necked flask, 51.8 g of BAPP and 310.
0 g was taken and stirred while cooling with ice water and while replacing the atmosphere in the three-neck flask with nitrogen. next,
Collect 38.8g of BTDA in a 100ml eggplant flask,
It was added as a solid in the BAPP solution. Furthermore, this 10
1 BTDA remaining on the wall in a 0 ml eggplant flask
Pour into a three necked flask with 0.0 g DMF. After allowing to stand for about 30 minutes with stirring, the BTDA solution in a 50 ml volumetric flask was gradually charged into the three-necked flask while paying attention to the viscosity of the solution in the three-necked flask. After reaching the maximum viscosity, the addition of the BTDA solution was completed, and the mixture was left for 1 hour with stirring. Then, DMF was added so that the sample amount would be 500 g, and the mixture was stirred to obtain a polyamic acid solution.

【0046】このポリアミド酸溶液をポリイミドフィル
ム(鐘淵化学工業(株)製)上に塗布し、80℃で25
分間加熱した後、150℃、200℃、250℃、30
0℃の順にそれぞれ各5分間加熱してイミド化させ、熱
可塑性ポリイミド層が形成されたポリイミドフィルムを
得た。更に、得られたポリイミドフィルムの熱可塑性ポ
リイミド層の面と銅箔(35μm厚)とを重ね、実施例
1及び実施例2と同様の条件である300℃、2.2cm
/min の速度でラミネートさせ、フレキシブルプリント
基板を得た。
This polyamic acid solution was applied onto a polyimide film (Kanefuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and the temperature was adjusted to 25 at 80 ° C.
After heating for 150 minutes, 150 ℃, 200 ℃, 250 ℃, 30
Each was heated in the order of 0 ° C. for 5 minutes for imidization to obtain a polyimide film having a thermoplastic polyimide layer formed thereon. Further, the surface of the thermoplastic polyimide layer of the obtained polyimide film and a copper foil (thickness of 35 μm) were overlaid, and the conditions were the same as those in Example 1 and Example 2 at 300 ° C. and 2.2 cm.
A flexible printed circuit board was obtained by laminating at a speed of / min.

【0047】得られたフレキシブルプリント基板につい
て、実施例1と同様にして、熱可塑性ポリイミド重合体
のガラス転移点(℃)と吸水率(%)、及びフレキシブ
ルプリント基板のピール強度(kg/cm) について調べた。
その結果を表1に示した。表1に示すように、銅箔は接
着していなかった。
Regarding the obtained flexible printed circuit board, the glass transition point (° C.) and water absorption rate (%) of the thermoplastic polyimide polymer and the peel strength (kg / cm) of the flexible printed circuit board were obtained in the same manner as in Example 1. I checked about.
The results are shown in Table 1. As shown in Table 1, the copper foil was not adhered.

【0048】比較例 2 比較例1で得られた熱可塑性ポリイミド重合体からなる
中間層が形成されたポリイミドフィルムを再度用いて、
異なる条件で銅箔とラミネートさせた。すなわち、ラミ
ネートの条件として、同じ加熱温度である300℃で、
0.3cm/minの速度でラミネートしたところ、銅箔は
熱可塑性ポリイミド層に接着した。
Comparative Example 2 The polyimide film having the intermediate layer made of the thermoplastic polyimide polymer obtained in Comparative Example 1 was used again,
Laminated with copper foil under different conditions. That is, as a laminating condition, at the same heating temperature of 300 ° C.,
When laminated at a speed of 0.3 cm / min, the copper foil adhered to the thermoplastic polyimide layer.

【0049】得られたフレキシブルプリント基板につい
て、実施例1と同様にして、ピール強度(kg/cm) を調べ
た。その結果を表1に示した。表1に示すように、ピー
ル強度は0.3kg/cm であり、充分な強度が得られなか
った。
The peel strength (kg / cm) of the obtained flexible printed circuit board was examined in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. As shown in Table 1, the peel strength was 0.3 kg / cm 2, and sufficient strength could not be obtained.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上のように本発明は、一般式(1)で
表される熱可塑性ポリイミド重合体を使用したフレキシ
ブルプリント基板を用いることにより、優れた耐熱性、
接着性を実現できるものである。すなわち、エポキシ系
接着剤は耐熱性に劣るため、ベースフィルムであるポリ
イミドフィルムの優れた耐熱性を生かすことができなか
った。一方、従来の熱可塑性ポリイミド重合体からなる
接着剤は接着させるためにはプレスなどを用いて長時
間、加熱・加圧する必要があり、生産性が非常に悪く、
しかも接着力は低く、充分な接着強度が得られなかっ
た。これに対して、本発明のフレキシブルプリント基板
における、一般式(1)で表される熱可塑性ポリイミド
重合体から成る接着剤層は耐熱性に優れるだけでなく、
接着力も優れ、しかも短時間の加圧で充分な強度をもっ
て接着することができるため、生産性良くフレキシブル
プリント基板を製造することができる。また、ポリイミ
ド樹脂からなるベースフィルム層や一般式(1)で表さ
れる熱可塑性ポリイミド重合体からなる中間層につい
て、耐放射線性が優れていることが認められ、従って得
られたフレキシブルプリント基板は放射線に曝される可
能性のある機器などにも使用し得るものである。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, according to the present invention, by using the flexible printed circuit board using the thermoplastic polyimide polymer represented by the general formula (1), excellent heat resistance,
Adhesiveness can be realized. That is, since the epoxy adhesive is inferior in heat resistance, the excellent heat resistance of the polyimide film as the base film cannot be utilized. On the other hand, the conventional adhesive made of a thermoplastic polyimide polymer needs to be heated / pressurized for a long time using a press or the like in order to be bonded, and the productivity is very poor,
Moreover, the adhesive strength was low, and sufficient adhesive strength could not be obtained. On the other hand, in the flexible printed circuit board of the present invention, the adhesive layer made of the thermoplastic polyimide polymer represented by the general formula (1) not only has excellent heat resistance,
The adhesive strength is excellent, and since it is possible to bond with sufficient strength by applying pressure for a short time, it is possible to manufacture a flexible printed circuit board with high productivity. Further, it was confirmed that the base film layer made of a polyimide resin and the intermediate layer made of the thermoplastic polyimide polymer represented by the general formula (1) have excellent radiation resistance, and thus the obtained flexible printed circuit board is It can also be used for equipment that may be exposed to radiation.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリイミド樹脂からなるベースフィルム
層と、一般式(1)化1 【化1】 (式中、Ar1 ,Ar2 ,Ar4 ,Ar6 は2価の有機基、A
r3 ,Ar5 は4価の有機基を示す。また、l,m,nは
0または1以上の正の整数であり、かつl,mの和が1
以上であり、tは1以上の正の整数を表す。)で表され
る熱可塑性ポリイミド重合体からなる中間層と、電気的
良導体からなる導体層とから構成されることを特徴とす
るフレキシブルプリント基板。
1. A base film layer made of a polyimide resin, and a compound represented by the general formula (1): (In the formula, Ar 1 , Ar 2 , Ar 4 and Ar 6 are divalent organic groups, A
r 3 and Ar 5 represent a tetravalent organic group. Further, l, m, and n are 0 or a positive integer of 1 or more, and the sum of l and m is 1.
It is above, and t represents a positive integer of 1 or more. ) A flexible printed circuit board comprising an intermediate layer made of a thermoplastic polyimide polymer represented by the formula (4) and a conductor layer made of a good electrical conductor.
【請求項2】 前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一
般式(1)中のAr1が化2 【化2】 に示す2価の有機基の群から選択される少なくとも1種
であることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブル
プリント基板。
2. Ar 1 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is represented by the following formula: The flexible printed board according to claim 1, wherein the flexible printed board is at least one selected from the group of divalent organic groups shown in.
【請求項3】 前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一
般式(1)中のAr2が化3 【化3】 に示す2価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載
のフレキシブルプリント基板。
3. Ar 2 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is represented by the following formula: At least 1 selected from the group of divalent aromatic groups shown in
The flexible printed circuit board according to claim 1 or 2, wherein the flexible printed circuit board is a type.
【請求項4】 前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一
般式(1)中のAr3が化4 【化4】 に示す4価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいず
れかに記載のフレキシブルプリント基板。
4. Ar 3 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is represented by the following formula: At least 1 selected from the group of tetravalent aromatic groups shown in
The flexible printed circuit board according to any one of claims 1 to 3, which is a kind.
【請求項5】 前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一
般式(1)中のAr4が化5 【化5】 に示す2価の有機基の群から選択される少なくとも1種
であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれ
かに記載のフレキシブルプリント基板。
5. Ar 4 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is represented by the following formula: It is at least 1 sort (s) selected from the group of the bivalent organic group shown in Claim 4, The flexible printed circuit board in any one of Claim 1 thru | or 4.
【請求項6】 前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一
般式(1)中のAr5が化6 【化6】 に示す4価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいず
れかに記載のフレキシブルプリント基板。
6. Ar 5 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is represented by the following formula: At least 1 selected from the group of tetravalent aromatic groups shown in
The flexible printed circuit board according to any one of claims 1 to 5, which is a kind.
【請求項7】 前記熱可塑性ポリイミド重合体を表す一
般式(1)中のAr6が化7 【化7】 に示す2価の芳香族基の群から選択される少なくとも1
種であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいず
れかに記載のフレキシブルプリント基板。
7. Ar 6 in the general formula (1) representing the thermoplastic polyimide polymer is represented by the following formula: At least 1 selected from the group of divalent aromatic groups shown in
The flexible printed circuit board according to any one of claims 1 to 6, which is a kind.
【請求項8】 ポリイミド樹脂からなるベースフィルム
層に、前記請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の一
般式(1)で表される熱可塑性ポリイミド重合体の前駆
体溶液を塗布し、乾燥、イミド化させた後、得られた熱
可塑性ポリイミド層に導体層を重ね、加熱加圧して被着
積層することを特徴とするフレキシブルプリント基板の
製造方法。
8. A base film layer made of a polyimide resin is coated with a precursor solution of a thermoplastic polyimide polymer represented by the general formula (1) according to any one of claims 1 to 7, A method for manufacturing a flexible printed circuit board, which comprises drying and imidizing, and then superposing a conductor layer on the obtained thermoplastic polyimide layer, heating and pressurizing and laminating.
【請求項9】 ポリイミド樹脂からなるベースフィルム
層と、前記請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の一
般式(1)で表される熱可塑性ポリイミド重合体からな
るフィルムと、導体層とを順に重ねた後、加熱加圧して
被着積層することを特徴とするフレキシブルプリント基
板の製造方法。
9. A base film layer made of a polyimide resin, a film made of the thermoplastic polyimide polymer represented by the general formula (1) according to any one of claims 1 to 7, and a conductor layer. A method for manufacturing a flexible printed circuit board, which comprises stacking the layers in order and then applying heat and pressure to laminate the layers.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1996021693A1 (en) * 1995-01-11 1996-07-18 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Novel heat-fusible copolymer, and powder, film, laminated heat insulator, electronic module, and capacitor produced from said copolymer, and process for producing the same
JP2002047472A (en) * 2000-08-03 2002-02-12 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Polyimide-based adhesive solution, and filmy adhesive member and filmy laminating member prepared therefrom

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