JPH0757310B2 - ガス吹込装置及び気液接触装置 - Google Patents
ガス吹込装置及び気液接触装置Info
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- JPH0757310B2 JPH0757310B2 JP1171859A JP17185989A JPH0757310B2 JP H0757310 B2 JPH0757310 B2 JP H0757310B2 JP 1171859 A JP1171859 A JP 1171859A JP 17185989 A JP17185989 A JP 17185989A JP H0757310 B2 JPH0757310 B2 JP H0757310B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガス吸収効率が良好で、スケールの生成を低
下でき、ガス分散函内に液が滞留することがなく、しか
も液の揺動が小さい、軽質炭酸カルシウムの製造、石油
化学における気液接触反応、脱硫装置用吸収装置、活性
汚泥装置用瀑気装置あるいは微生物の液体培地中での好
気培養等に用いて好適なガス吹込装置及びそれを用いた
気液接触装置に関するものである。
下でき、ガス分散函内に液が滞留することがなく、しか
も液の揺動が小さい、軽質炭酸カルシウムの製造、石油
化学における気液接触反応、脱硫装置用吸収装置、活性
汚泥装置用瀑気装置あるいは微生物の液体培地中での好
気培養等に用いて好適なガス吹込装置及びそれを用いた
気液接触装置に関するものである。
従来の技術 従来、気液接触は、最も単純にはガス吹込管を液に浸
し、該管のノズルからガスを液中にバブル状に生じるよ
うに吹き出すことにより行われている。しかしながら、
この気液接触手段は、ガス吹込管が少なくともバブリン
グ中は常に液中にあることから、該管の表面はスケール
沈積、ノズルあるいは開孔の目詰まりを生じるのを避け
られず、そのためバブリング状態が時間経過につれて徐
々に変動し、反応生成物や懸濁物等の沈積などによる液
の無用な滞留、ガスのバブリングにより引き起こされる
液の過大な揺動すなわち液面の昇降を招来するという欠
点がある。
し、該管のノズルからガスを液中にバブル状に生じるよ
うに吹き出すことにより行われている。しかしながら、
この気液接触手段は、ガス吹込管が少なくともバブリン
グ中は常に液中にあることから、該管の表面はスケール
沈積、ノズルあるいは開孔の目詰まりを生じるのを避け
られず、そのためバブリング状態が時間経過につれて徐
々に変動し、反応生成物や懸濁物等の沈積などによる液
の無用な滞留、ガスのバブリングにより引き起こされる
液の過大な揺動すなわち液面の昇降を招来するという欠
点がある。
発明が解決しようとする課題 本発明は、このような従来の気液接触手段のもつ欠点を
克服し、ガス吸収効率が良好で、スケールの生成を低下
でき、バブリング状態の時間経過につれての変動が小さ
く、反応生成物や懸濁物等の沈積などによる液の滞留が
なく、しかも液の揺動が小さいガス吹込装置及びそれを
用いた気液接触装置を提供することを目的としてなされ
たものである。
克服し、ガス吸収効率が良好で、スケールの生成を低下
でき、バブリング状態の時間経過につれての変動が小さ
く、反応生成物や懸濁物等の沈積などによる液の滞留が
なく、しかも液の揺動が小さいガス吹込装置及びそれを
用いた気液接触装置を提供することを目的としてなされ
たものである。
課題を解決するための手段 本発明者らは、前記の好ましい特徴を有するガス吹込装
置及び気液接触装置を開発するために種々研究を重ねた
結果、ガス導入管に接続されたガス分散函に、その上部
開口部を覆う多孔板を設けるとともに、下部に液封管を
付設することにより、その目的を達成しうることを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
置及び気液接触装置を開発するために種々研究を重ねた
結果、ガス導入管に接続されたガス分散函に、その上部
開口部を覆う多孔板を設けるとともに、下部に液封管を
付設することにより、その目的を達成しうることを見出
し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、上部に多孔板1で覆われた開口部
を有し、下部に液封管2を付設したガス分散函3をガス
導入管4に直接又は間接に接続して成るガス吹込装置、
及び該ガス吹込装置と液槽とを備え、ガス分散函3を液
槽7内に配置したことを特徴とする気液接触装置を提供
するものである。
を有し、下部に液封管2を付設したガス分散函3をガス
導入管4に直接又は間接に接続して成るガス吹込装置、
及び該ガス吹込装置と液槽とを備え、ガス分散函3を液
槽7内に配置したことを特徴とする気液接触装置を提供
するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のガス吹込装置において、ガス導入管は通常ガス
分岐チャンバー(マニホールド)に必要なら適当なガス
ケット又はパッキンを用いて気密に接続されている。ガ
ス分岐チャンバーとしては二分岐型、例えば2個の水平
に対向する矩形開口を有するものなどの他、二方向より
多くの多岐マニホールド開口を有する多分岐型のものも
用いられる。
分岐チャンバー(マニホールド)に必要なら適当なガス
ケット又はパッキンを用いて気密に接続されている。ガ
ス分岐チャンバーとしては二分岐型、例えば2個の水平
に対向する矩形開口を有するものなどの他、二方向より
多くの多岐マニホールド開口を有する多分岐型のものも
用いられる。
また、ガス分散函はガス導入管に直接あるいは前記ガス
分岐チャンバー(マニホールド)を介して間接に必要な
ら適当なガスケット又はパッキンを用いて気密に接続さ
れる。ガス分散函は特に制限されないが、通常円筒状で
あり、側面開口、例えば側面矩形開口などを有し、該開
口で前記ガス分岐チャンバーに接続され、また、ガス分
散函の上面は開放され、通常上端にフランジが付設され
ている。そして、ガス分散函の開放上端は多孔板で覆わ
れている。多孔板は通常ホルダーリング又はフェルール
(口輪)6及び数セットのボルト及びナットにより該函
3のフランジ付設上端に気密に固着される。多孔板は、
材質としては、通常金属や、たわみ性材料が用いられる
が、特に、消石灰乳の炭酸化による炭酸カルシウムの製
造のような方法の生成物として大量の固体物質を生じ、
該固体物質で多孔板の孔部の目詰まりを生じるような場
合には、たわみ性材料が好ましい。たわみ性材料よりな
る多孔板は、ガス分散函が導入されたガスで加圧される
と、ガス圧で自然に上方へ膨張し、一方ガス圧が解放さ
れると下方へ収縮し、このような膨張と収縮の繰り返し
のために、孔部に沈積した固体物質は多孔質板から容易
に脱落しガスの円滑なバブリングが再び始まる。前記た
わみ性材料は、伸縮性、弾性あるいはたわみ性を有する
ものであればいかなるものでもよく、このようなものと
しては、例えばゴム、エラストマーなどを挙げることが
できる。
分岐チャンバー(マニホールド)を介して間接に必要な
ら適当なガスケット又はパッキンを用いて気密に接続さ
れる。ガス分散函は特に制限されないが、通常円筒状で
あり、側面開口、例えば側面矩形開口などを有し、該開
口で前記ガス分岐チャンバーに接続され、また、ガス分
散函の上面は開放され、通常上端にフランジが付設され
ている。そして、ガス分散函の開放上端は多孔板で覆わ
れている。多孔板は通常ホルダーリング又はフェルール
(口輪)6及び数セットのボルト及びナットにより該函
3のフランジ付設上端に気密に固着される。多孔板は、
材質としては、通常金属や、たわみ性材料が用いられる
が、特に、消石灰乳の炭酸化による炭酸カルシウムの製
造のような方法の生成物として大量の固体物質を生じ、
該固体物質で多孔板の孔部の目詰まりを生じるような場
合には、たわみ性材料が好ましい。たわみ性材料よりな
る多孔板は、ガス分散函が導入されたガスで加圧される
と、ガス圧で自然に上方へ膨張し、一方ガス圧が解放さ
れると下方へ収縮し、このような膨張と収縮の繰り返し
のために、孔部に沈積した固体物質は多孔質板から容易
に脱落しガスの円滑なバブリングが再び始まる。前記た
わみ性材料は、伸縮性、弾性あるいはたわみ性を有する
ものであればいかなるものでもよく、このようなものと
しては、例えばゴム、エラストマーなどを挙げることが
できる。
この多孔板には多数の孔隙あるいは穿孔が設けられ、こ
の孔径は通常微細である程ガスを液体中へ多数の均一な
微細気泡として均一に分散させられ、気液接触面積が増
大して気液接触効率、ガス吸収効率を向上することがで
きる。ただ、過度に小さい径の孔部は液槽内の液中の固
体物質による目づまりのおそれがあることに留意すべき
である。
の孔径は通常微細である程ガスを液体中へ多数の均一な
微細気泡として均一に分散させられ、気液接触面積が増
大して気液接触効率、ガス吸収効率を向上することがで
きる。ただ、過度に小さい径の孔部は液槽内の液中の固
体物質による目づまりのおそれがあることに留意すべき
である。
液封管は、ガス分散函の下部あるいは底部から下方に延
設され、ガス分散函内のガス圧を調節及び調整するのに
役立つ。液封管の断面形状は特に制限されず、例えば矩
形状の他、円形状などが挙げられ、また、その断面の大
きさは特に制限されないが、大きい方が好ましい。この
断面が過度に小さいと、処理時の液中の固体物質による
目づまりのおそれがあるので望ましくない。液封管の長
さは、多孔板からの気泡発生が円滑に行われるようにガ
ス分散函内の圧力を維持しうる液頭高さを維持するのに
十分大きく、換言すれば、ガスを液封管の開放下端から
逃散させないように十分大きくする。液封管はまた下方
に沈降することでガス分散函へもたらされた固体物質の
排出口として役立ち、固体物質は液封管の開放下端から
液槽の底部へ排出される。
設され、ガス分散函内のガス圧を調節及び調整するのに
役立つ。液封管の断面形状は特に制限されず、例えば矩
形状の他、円形状などが挙げられ、また、その断面の大
きさは特に制限されないが、大きい方が好ましい。この
断面が過度に小さいと、処理時の液中の固体物質による
目づまりのおそれがあるので望ましくない。液封管の長
さは、多孔板からの気泡発生が円滑に行われるようにガ
ス分散函内の圧力を維持しうる液頭高さを維持するのに
十分大きく、換言すれば、ガスを液封管の開放下端から
逃散させないように十分大きくする。液封管はまた下方
に沈降することでガス分散函へもたらされた固体物質の
排出口として役立ち、固体物質は液封管の開放下端から
液槽の底部へ排出される。
本発明の装置を消石灰乳の炭酸化による沈降炭酸カルシ
ウムの製造に用いる場合には、例えば多孔板の孔径は通
常1〜50mm、好ましくは3〜10mmであり、液封管の管長
や開口部の大きさなどの形態は、ガス分散函の大きさ、
仕込み液量(液頭)、ガス圧、多孔板の孔径の大きさ等
の種々のパラメーターを考慮して適宜選択される。
ウムの製造に用いる場合には、例えば多孔板の孔径は通
常1〜50mm、好ましくは3〜10mmであり、液封管の管長
や開口部の大きさなどの形態は、ガス分散函の大きさ、
仕込み液量(液頭)、ガス圧、多孔板の孔径の大きさ等
の種々のパラメーターを考慮して適宜選択される。
次に、本発明の気液接触装置は、前記のガス吹込装置と
液を収容する液槽からなり、ガス分散函が液槽内に配置
されるように配設して成るものである。ガス吹込装置は
ガス分散函より下のデッドスペースの容積を最少化する
ようにできるだけ低い高さに位置させる。もっとも、液
封管の性能を妨げないように液封管の下端と液槽の底部
との間の間隙を確保しておく。
液を収容する液槽からなり、ガス分散函が液槽内に配置
されるように配設して成るものである。ガス吹込装置は
ガス分散函より下のデッドスペースの容積を最少化する
ようにできるだけ低い高さに位置させる。もっとも、液
封管の性能を妨げないように液封管の下端と液槽の底部
との間の間隙を確保しておく。
次に、図面により本発明の装置の具体例を説明すると、
第1図は本発明のガス吹込装置の1例の要部分解斜視図
であって、ガス導入管4はガス分岐チャンバー5(第1
図の場合反対方向に二つに分岐)に連接され、各分岐口
にガス分散函3が連接されている。各ガス分散函は上面
が開放され上端にフランジが設けられ、この開放上端は
多数の孔隙あるいは穿孔を有するゴム板のような弾性板
からなる多孔板1で覆われ、この多孔板は押えフランジ
6を用いて固着されている。さらに、ガス分散函3の下
部には液封管2が設置されている。
第1図は本発明のガス吹込装置の1例の要部分解斜視図
であって、ガス導入管4はガス分岐チャンバー5(第1
図の場合反対方向に二つに分岐)に連接され、各分岐口
にガス分散函3が連接されている。各ガス分散函は上面
が開放され上端にフランジが設けられ、この開放上端は
多数の孔隙あるいは穿孔を有するゴム板のような弾性板
からなる多孔板1で覆われ、この多孔板は押えフランジ
6を用いて固着されている。さらに、ガス分散函3の下
部には液封管2が設置されている。
また、第2図は本発明の気液接触装置の1例の平面図で
あって、ガス分岐チャンバーを二つに分岐し、それぞれ
にガス分散函を連接したものである。そして、第3図は
第2図A−A′線に沿う断面図である。これらに図示さ
れるように、ガス分散函3は液槽7内の底部付近に配置
されている。
あって、ガス分岐チャンバーを二つに分岐し、それぞれ
にガス分散函を連接したものである。そして、第3図は
第2図A−A′線に沿う断面図である。これらに図示さ
れるように、ガス分散函3は液槽7内の底部付近に配置
されている。
また、第4図及び第5図は本発明のガス吹込装置のさら
に別の例の各平面図である。すなわち、第4図はガス分
岐チャンバーを六つに分岐し、それぞれにガス分散函を
放射状に配設して接続したものであり、第5図はガス分
岐チャンバーを八つに分岐し、それぞれに、各個の独立
したガス分散函とは異なり、環状に一体化された単一の
ガス分散函に接続したものである。
に別の例の各平面図である。すなわち、第4図はガス分
岐チャンバーを六つに分岐し、それぞれにガス分散函を
放射状に配設して接続したものであり、第5図はガス分
岐チャンバーを八つに分岐し、それぞれに、各個の独立
したガス分散函とは異なり、環状に一体化された単一の
ガス分散函に接続したものである。
発明の効果 本発明のガス吹込装置は、スケールの生成を低下でき、
清浄作業を低減でき、固体物質による孔部の目詰まり等
によるバブリング状態の時間経過につれての変動を小さ
くし、ガス分散函内での反応生成物や懸濁物等の沈積な
どによる滞留液の容積を減少させ、孔部へのスケール生
成の減少によりガスのバブリング用の孔部の孔径を極め
て小さくできるために、液へバブリングされるガス容積
の低減に寄与して気液接触効率、ガス吸収効率を高め、
しかも液の揺動を小さくし、気液接触装置の単位時間当
りの処理能力を高め、装置の生産性を向上させるという
顕著な効果を奏する。
清浄作業を低減でき、固体物質による孔部の目詰まり等
によるバブリング状態の時間経過につれての変動を小さ
くし、ガス分散函内での反応生成物や懸濁物等の沈積な
どによる滞留液の容積を減少させ、孔部へのスケール生
成の減少によりガスのバブリング用の孔部の孔径を極め
て小さくできるために、液へバブリングされるガス容積
の低減に寄与して気液接触効率、ガス吸収効率を高め、
しかも液の揺動を小さくし、気液接触装置の単位時間当
りの処理能力を高め、装置の生産性を向上させるという
顕著な効果を奏する。
したがって、本発明のガス吹込装置及びそれを用いた気
液接触装置は軽質炭酸カルシウムの製造、石油化学にお
ける気液接触反応、脱硫装置用吸収装置、活性汚泥装置
用瀑気装置あるいは微生物の液体培地中での好気培養等
に用いて好適である。
液接触装置は軽質炭酸カルシウムの製造、石油化学にお
ける気液接触反応、脱硫装置用吸収装置、活性汚泥装置
用瀑気装置あるいは微生物の液体培地中での好気培養等
に用いて好適である。
実施例 次に、実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
実施例及び比較例は第7図に示すガス吹込装置を設置し
た気液接触型反応槽で行った。
実施例及び比較例は第7図に示すガス吹込装置を設置し
た気液接触型反応槽で行った。
実施例1〜5 第1図に示した構造のガス吹込装置を内径1m、深さ5mの
有効容積3.5m3の円筒状液槽中に設置した。このガス吹
込装置は、総容積50の2個の分散函を有し、各ガス分
散函の上面は、5mm径の50個の孔をもつ3mm厚、30cm径の
多孔ガム板でカバーされている。多孔質ゴム板の上面
は、液槽の底から100cm上の高さにある。各ガス分散函
はその底に10×5cm角、35cm長の液封管が接続されてい
る。液封管の開放下端は液槽の底から30cm上にある。
有効容積3.5m3の円筒状液槽中に設置した。このガス吹
込装置は、総容積50の2個の分散函を有し、各ガス分
散函の上面は、5mm径の50個の孔をもつ3mm厚、30cm径の
多孔ガム板でカバーされている。多孔質ゴム板の上面
は、液槽の底から100cm上の高さにある。各ガス分散函
はその底に10×5cm角、35cm長の液封管が接続されてい
る。液封管の開放下端は液槽の底から30cm上にある。
濃度70g/の消石灰乳を液槽中へ多孔ゴム板の上面が液
面より200cm下になるように2m3の容積で導入した。
面より200cm下になるように2m3の容積で導入した。
炭酸ガス30容量%と窒素70容量%のガス混合物を多孔ゴ
ム板から消石灰乳へ、消石灰乳を58〜60℃の温度に保持
し、最終的に64〜67℃に達するように徐々に昇温しなが
ら、25m3/hr、50m3/hr、75m3/hr、100m3/hr及び125m3/h
rの速度で連続的に吹き込んだ。
ム板から消石灰乳へ、消石灰乳を58〜60℃の温度に保持
し、最終的に64〜67℃に達するように徐々に昇温しなが
ら、25m3/hr、50m3/hr、75m3/hr、100m3/hr及び125m3/h
rの速度で連続的に吹き込んだ。
このようにして4〜5時間連続運転後、消石灰の炭酸化
は、実施例1〜5においてそれぞれ90%、85%、80%、
75%及び68%の炭酸ガス吸収高率でほとんど完全であっ
た。
は、実施例1〜5においてそれぞれ90%、85%、80%、
75%及び68%の炭酸ガス吸収高率でほとんど完全であっ
た。
液の揺動率は、昇降する液面の最高高さと最低高さと間
の高さの差の比率として定義され、それは実施例1〜5
においてそれぞれ3%、5%、5%、5%及び8%にす
ぎなかった。これらの実施例において、ガス分散函には
滞留液は見出されなかった。
の高さの差の比率として定義され、それは実施例1〜5
においてそれぞれ3%、5%、5%、5%及び8%にす
ぎなかった。これらの実施例において、ガス分散函には
滞留液は見出されなかった。
実施例3においては、上記炭酸化方法は新鮮な消石灰乳
の投入ごとに数回繰り返された。全運転時間が50日、炭
酸化液の排出及び新鮮な消石灰乳の投入のための介在時
間を含めると60日に達したとき、多孔ゴム板はスケール
の沈積で覆われた。
の投入ごとに数回繰り返された。全運転時間が50日、炭
酸化液の排出及び新鮮な消石灰乳の投入のための介在時
間を含めると60日に達したとき、多孔ゴム板はスケール
の沈積で覆われた。
比較例a−1、a−2、a−3、a−4、a−5 実施例において、ガス吹込装置を第6図(a)に示した
構造の内径5cmのガス吹込管に代えたこと以外は、上記
実施例と同様な方法を行った。ガス吹込管の開放下端は
液槽の底から100cm上であり、かつ液面より200cm下であ
った。ガス吹込速度は比較例a−1〜a−5においてそ
れぞれ25m3/hr、50m3/hr、75m3/hr、100m3/hr及び125m3
/hrであった。炭酸ガス吸収効率及び液の揺動率は次表
に示すとおりであった。これらの試験において、ガス吹
込管には滞留液は見出されなかった。
構造の内径5cmのガス吹込管に代えたこと以外は、上記
実施例と同様な方法を行った。ガス吹込管の開放下端は
液槽の底から100cm上であり、かつ液面より200cm下であ
った。ガス吹込速度は比較例a−1〜a−5においてそ
れぞれ25m3/hr、50m3/hr、75m3/hr、100m3/hr及び125m3
/hrであった。炭酸ガス吸収効率及び液の揺動率は次表
に示すとおりであった。これらの試験において、ガス吹
込管には滞留液は見出されなかった。
比較例a−3においては、スケールの沈析は、全運転時
間が炭酸化、炭酸化液の排出及び新鮮な消石灰乳の導入
の繰り返しサイクルで48時間に達したとき、ガス吹込管
のノズル上に見出された。
間が炭酸化、炭酸化液の排出及び新鮮な消石灰乳の導入
の繰り返しサイクルで48時間に達したとき、ガス吹込管
のノズル上に見出された。
比較例b−3、c−3、d−3、e−3 実施例において、ガス吹込速度を常に75m3/hrとし、ガ
ス吹込装置を第6図(b)、(c)、(d)、(e)の
概略図に示した構造の装置に代えたこと以外は、上記実
施例と同様な方法を行った。これらの実験においては、
ガスを吹き出す表面の高さ〔第6図(b)及び(c)〕
又は平均高さ〔第6図(d)及び(e)〕は液面より20
0cm下の高さに調節した。比較例b−3及びd−3にお
いては滞留液は見出されなかったが、c−3及びe−3
においては滞留液が見出された。さらに、スケール沈析
が比較例b−3、c−3、d−3及びe−3にはそれぞ
れ3日、1日、3日及び1日の運転後に見出された。
ス吹込装置を第6図(b)、(c)、(d)、(e)の
概略図に示した構造の装置に代えたこと以外は、上記実
施例と同様な方法を行った。これらの実験においては、
ガスを吹き出す表面の高さ〔第6図(b)及び(c)〕
又は平均高さ〔第6図(d)及び(e)〕は液面より20
0cm下の高さに調節した。比較例b−3及びd−3にお
いては滞留液は見出されなかったが、c−3及びe−3
においては滞留液が見出された。さらに、スケール沈析
が比較例b−3、c−3、d−3及びe−3にはそれぞ
れ3日、1日、3日及び1日の運転後に見出された。
以上の各反応の結果及びそれの評価を次表に示す。
評価は前記反応結果を総合判断して以下のとおり行っ
た。
た。
◎:良 好 ○:普 通 ×:不 良 これから、比較例に示すような従来の装置においては、
スケールの生成が早期に認められ、気液接触効率やガス
吸収効率が低く、液の揺動率が高いものが多く、気液接
触装置内に液滞留を起こすものもあるのに対し、本発明
の装置によれば、スケール生成が長期間にわたって認め
られず、気液接触効率やガス吸収効率が高く、液の揺動
率が低く、気液接触装置内に液滞留を起こしにくいなど
多くの利点があることが分る。
スケールの生成が早期に認められ、気液接触効率やガス
吸収効率が低く、液の揺動率が高いものが多く、気液接
触装置内に液滞留を起こすものもあるのに対し、本発明
の装置によれば、スケール生成が長期間にわたって認め
られず、気液接触効率やガス吸収効率が高く、液の揺動
率が低く、気液接触装置内に液滞留を起こしにくいなど
多くの利点があることが分る。
第1図は本発明のガス吹込装置の1例の要部分解斜視
図、第2図は本発明の気液接触装置で多孔板を除外した
ものの1例の平面図、第3図は第2図A−A′線に沿う
縦断面図、第4図及び第5図は本発明のガス吹込装置の
別の例の各平面図、第6図(a)、(b)、(c)、
(d)及び(e)は従来の各種ガス吹込装置の略図、第
7図は本発明及び第6図のガス吹込装置を設置した気液
接触装置の略図である。 1……多孔板、2……液封管、3……ガス分散函、4…
…ガス導入管、5……ガス分岐チャンバー、7……液槽
図、第2図は本発明の気液接触装置で多孔板を除外した
ものの1例の平面図、第3図は第2図A−A′線に沿う
縦断面図、第4図及び第5図は本発明のガス吹込装置の
別の例の各平面図、第6図(a)、(b)、(c)、
(d)及び(e)は従来の各種ガス吹込装置の略図、第
7図は本発明及び第6図のガス吹込装置を設置した気液
接触装置の略図である。 1……多孔板、2……液封管、3……ガス分散函、4…
…ガス導入管、5……ガス分岐チャンバー、7……液槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C01F 11/18 9040−4G C02F 3/20 Z
Claims (4)
- 【請求項1】上部に多孔板(1)で覆われた開口部を有
し、下部に液封管(2)を付設したガス分散函(3)を
ガス導入管(4)に直接又は間接に接続して成るガス吹
込装置。 - 【請求項2】多孔板がたわみ性材料で形成されている請
求項1記載のガス吹込装置。 - 【請求項3】請求項1又は2記載のガス吹込装置と液槽
とを備え、ガス分散函(3)を液槽(7)内に配置した
ことを特徴とする気液接触装置。 - 【請求項4】多孔板がたわみ性材料で形成されている請
求項3記載の気液接触装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1171859A JPH0757310B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | ガス吹込装置及び気液接触装置 |
KR1019900010101A KR930000263B1 (ko) | 1989-07-05 | 1990-07-04 | 기체액체 접촉장치 |
DK90307336.9T DK0407180T3 (da) | 1989-07-05 | 1990-07-05 | Gas/væske-kontakteringsapparat |
ES90307336T ES2071023T3 (es) | 1989-07-05 | 1990-07-05 | Aparato de poner en contacto gas-liquido. |
EP90307336A EP0407180B1 (en) | 1989-07-05 | 1990-07-05 | Gas-liquid contacting apparatus |
DE69016286T DE69016286T2 (de) | 1989-07-05 | 1990-07-05 | Kontaktvorrichtung für Gas und Flüssigkeit. |
AT90307336T ATE117590T1 (de) | 1989-07-05 | 1990-07-05 | Kontaktvorrichtung für gas und flüssigkeit. |
GR950401032T GR3015911T3 (en) | 1989-07-05 | 1995-04-20 | Gas-liquid contacting apparatus. |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1171859A JPH0757310B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | ガス吹込装置及び気液接触装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH0338232A JPH0338232A (ja) | 1991-02-19 |
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ID=15931109
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JP (1) | JPH0757310B2 (ja) |
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JP4876601B2 (ja) * | 2006-02-01 | 2012-02-15 | 三菱化学株式会社 | スラリーの取り扱い方法 |
DE102009012104A1 (de) * | 2009-03-06 | 2010-09-09 | Herbert Sieger | Vorrichtung und Verfahren zur Reduktion von Kohlendioxid |
JP2013022533A (ja) * | 2011-07-22 | 2013-02-04 | Daicen Membrane Systems Ltd | 散気装置用ホルダー |
JP5692258B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2015-04-01 | 三菱電機株式会社 | 微細気泡発生装置および風呂給湯装置 |
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EP3124436A1 (en) | 2015-07-31 | 2017-02-01 | Omya International AG | Precipitated calcium carbonate with improved resistance to structural breakdown |
CN106552557A (zh) * | 2015-09-25 | 2017-04-05 | 石家庄波特无机膜分离设备有限公司 | 一种全焊接气体分布器 |
CN112705128B (zh) * | 2020-12-08 | 2022-07-29 | 永丰县广丰化工有限公司 | 一种纳米级碳酸钙加工装置 |
KR20240056089A (ko) * | 2022-10-21 | 2024-04-30 | 주식회사 아모그린텍 | 바이오리액터 |
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US3911064A (en) * | 1971-04-08 | 1975-10-07 | Union Carbide Corp | System for gas sparging into liquid |
JPS59186699A (ja) * | 1983-04-08 | 1984-10-23 | Hitachi Metals Ltd | 気体散気装置 |
JPS6161021U (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-24 | ||
US4639314A (en) * | 1985-01-18 | 1987-01-27 | Tyer Robert R | Fine bubble diffuser and diffuser system having filtered blow-down tube |
DE3710739A1 (de) * | 1987-03-31 | 1988-10-20 | Herbert Nemetz | Flaechenbeluefter |
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- 1989-07-05 JP JP1171859A patent/JPH0757310B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 1990-07-04 KR KR1019900010101A patent/KR930000263B1/ko not_active IP Right Cessation
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- 1990-07-05 AT AT90307336T patent/ATE117590T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-07-05 ES ES90307336T patent/ES2071023T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-05 EP EP90307336A patent/EP0407180B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 1995-04-20 GR GR950401032T patent/GR3015911T3/el unknown
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EP0407180A3 (en) | 1992-05-20 |
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DE69016286D1 (de) | 1995-03-09 |
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KR910002487A (ko) | 1991-02-25 |
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