JPH0756357A - Cleaning liquid for alkali developing device and cleaning method therefor - Google Patents
Cleaning liquid for alkali developing device and cleaning method thereforInfo
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- JPH0756357A JPH0756357A JP22665593A JP22665593A JPH0756357A JP H0756357 A JPH0756357 A JP H0756357A JP 22665593 A JP22665593 A JP 22665593A JP 22665593 A JP22665593 A JP 22665593A JP H0756357 A JPH0756357 A JP H0756357A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ可溶型感光膜
の現像に使用されるアルカリ現像装置、例えば、ドライ
フィルム現像装置、液状レジスト現像装置等の洗浄に使
用する洗浄液並びにその洗浄方法に関する。さらに詳し
くは、本発明は、このようなアルカリ現像装置、特にそ
れに使用されるスプレーその他の付属装置に付着する粘
着性ポリマーを溶解除去するための洗浄液並びに洗浄方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning liquid used for cleaning an alkali developing device used for developing an alkali-soluble photosensitive film such as a dry film developing device and a liquid resist developing device, and a cleaning method therefor. . More specifically, the present invention relates to a cleaning liquid and a cleaning method for dissolving and removing the sticky polymer adhering to such an alkali developing device, particularly a spray and other auxiliary devices used therein.
【０００２】[0002]
【従来技術とその問題点】プリント配線等の各種基材上
のアルカリ可溶型感光膜を露光し、アルカリ現像して画
像を形成し、次いでエッチングあるいはめっきレジスト
を利用し回路形成を行う方法において、そのアルカリ現
像工程は、一般に、炭酸アルカリ液等の現像液をスプレ
ー装置により感光膜面に吹付けることによって行われて
いる。しかし、このようにして現像液で溶解された感光
膜は、粘着性に変質し易く、したがって現像液を循環し
て使用するスプレー装置内には粘着性ポリマーが容易に
堆積し、スプレー配管内の堆積によって現像液の吐出量
の低下あるいはスプレーノズルの詰りが発生する。スプ
レー式アルカリ現像では、適正な吐出量が得られない場
合には、現像不足が生じ、更には粘着性ポリマーが生成
するとプリント配線等の基材上への再付着も生じて、次
工程での回路形成時に回路の欠線あるいは短絡という問
題を引き起こす。また、粘着性ポリマーは現像液の温度
センサー、加熱ヒーター、冷却チラー上にも堆積するた
め、液温コントロールに誤差が生じ、しばしば現像不足
を併発させるという問題もかかえている。以上の理由か
ら、アルカリ現像装置は定期的な洗浄が必要となるの
で、従来では２０〜６０ｇ／ｌの水酸化ナトリウム液で
前洗浄した後、５〜４０ｇ／ｌの硫酸液で後洗浄すると
いう手法と、３００〜６００ｇ／ｌの酢酸液で洗浄する
という手法が採られている。しかし、前者は洗浄能力が
低く、粘着性ポリマーの大半が除去できないという問題
点があり、また後者は約１０時間以上の洗浄で、ある程
度の洗浄力を有するが、臭気面で作業環境が著しく悪
く、洗浄に多大な時間を費してしまうという問題点を解
決しないでいる。本発明者が上記のようなアルカリ可溶
型感光膜及びそのアルカリ現像により生じる粘着性ポリ
マーを調査した所、感光膜はアルカリ液に易溶で、酸液
により直ちに凝集硬化するが、炭酸アルカリ液等の現像
液により溶解されて生成した粘着性ポリマーはアルカリ
液ではほとんど溶解しないことが判明した。これらの結
果を踏まえた上で種々の研究を重ねた結果、本発明に至
った。2. Description of the Related Art In a method in which an alkali-soluble photosensitive film on various substrates such as printed wiring is exposed and alkali-developed to form an image, and then etching or plating resist is used to form a circuit. The alkali developing step is generally performed by spraying a developing solution such as an alkali carbonate solution onto the photosensitive film surface with a spray device. However, the photosensitive film thus dissolved in the developing solution is apt to be changed into an adhesive property, and therefore the adhesive polymer is easily deposited in the spray device which circulates and uses the developing solution, and Due to the accumulation, the discharge amount of the developer is reduced or the spray nozzle is clogged. In spray-type alkaline development, when an appropriate discharge amount cannot be obtained, insufficient development occurs, and further, when an adhesive polymer is produced, redeposition on the substrate such as printed wiring also occurs, and in the next step, This causes a problem of open circuit or short circuit of the circuit when it is formed. Further, since the adhesive polymer is deposited on the temperature sensor of the developing solution, the heater and the cooling chiller, there is a problem in that an error may occur in controlling the solution temperature, and often insufficient development occurs together. For the above reasons, since the alkaline developing device needs to be regularly washed, it is conventionally said that the alkaline developing device is pre-washed with 20 to 60 g / l of sodium hydroxide solution and then washed with 5 to 40 g / l of sulfuric acid solution. The method and the method of washing with an acetic acid solution of 300 to 600 g / l are adopted. However, the former has a problem that the cleaning ability is low and most of the adhesive polymer cannot be removed, and the latter has a certain cleaning power after cleaning for about 10 hours or more, but the working environment is bad in terms of odor. However, it does not solve the problem of spending a great deal of time on cleaning. When the present inventor investigated the above alkali-soluble type photosensitive film and the adhesive polymer produced by the alkali development thereof, the photosensitive film was readily soluble in an alkaline solution and was immediately coagulated and cured by an acid solution. It was found that the tacky polymer formed by being dissolved in a developing solution such as the above is hardly dissolved in an alkaline solution. As a result of various researches based on these results, the present invention has been achieved.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、ア
ルカリ可溶型感光膜の現像に使用されるアルカリ現像装
置において、その装置のスプレーその他の部分に付着す
る粘着性ポリマーを効率的に溶解除去するための洗浄液
及び洗浄方法を提供することを目的とする。Therefore, the present invention efficiently dissolves a tacky polymer adhering to a spray or other parts of an alkali developing apparatus used for developing an alkali-soluble photosensitive film. It is an object to provide a cleaning liquid and a cleaning method for removing.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】しかして、本発明によれ
ば、多価アルコール又はその誘導体、有機カルボン酸又
はその塩類及び水酸化アルカリ又はアルカリ土類金属を
含有する第一段階洗浄液と、無機酸を単独で或いは有機
カルボン酸又はその塩類と共に含有する第二段階洗浄液
とよりなるアルカリ現像装置の洗浄液が提供される。さ
らに、本発明は、アルカリ現像装置を多価アルコール又
はその誘導体、有機カルボン酸又はその塩類及び水酸化
アルカリ又はアルカリ土類金属を含有する第一段階洗浄
液と、無機酸を単独で或いは有機カルボン酸又はその塩
類と共に含有する第二段階洗浄液とによって一回以上繰
返して洗浄することを特徴とするアルカリ現像装置の洗
浄方法を提供する。According to the present invention, however, a polyhydric alcohol or a derivative thereof, an organic carboxylic acid or a salt thereof and a first-stage cleaning liquid containing an alkali hydroxide or an alkaline earth metal, and an inorganic There is provided a cleaning solution for an alkali developing device, which comprises a second-stage cleaning solution containing an acid alone or together with an organic carboxylic acid or a salt thereof. Further, the present invention provides an alkaline developing apparatus, which comprises a polyhydric alcohol or its derivative, an organic carboxylic acid or a salt thereof and a first-stage cleaning liquid containing an alkali hydroxide or an alkaline earth metal, and an inorganic acid alone or an organic carboxylic acid. Alternatively, the present invention provides a cleaning method for an alkali developing apparatus, which comprises repeating the cleaning once or more times with a second-stage cleaning liquid containing the salt thereof.
【０００５】[0005]
【発明の具体的な説明】本発明に従う洗浄液は、第一段
階洗浄液と第二段階洗浄液とからなる。第一段階洗浄液
は、感光膜から溶解されて生成した粘着性ポリマーを溶
解除去するためのものであって、その主な作用は多価ア
ルコールによる粘着性ポリマーの膨潤と、有機カルボン
酸による粘着性ポリマーの剥離と、水酸化アルカリによ
る膨潤した粘着性ポリマーの溶解とスプレー循環による
物理的洗浄である。この第一段階洗浄処理によって粘着
性ポリマーの一部は溶解され、膨潤した固溶体は細かく
分断される。細かく分断された固溶体は、若干粘性を有
しているため、この状態では分離が難しい。そのため、
第二段階洗浄液が使用される。第二段階洗浄液の主な作
用は、無機酸による分断された固溶体表面の凝集硬化に
よる固溶体の剥離と、有機カルボン酸による固溶体同士
の剥離促進と、スプレー循環による物理的洗浄である。
これによって固溶体は更に細かく分断され、粘性のない
固形物に変わるため、その分離除去が一層容易に行え
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The cleaning liquid according to the present invention comprises a first-stage cleaning liquid and a second-stage cleaning liquid. The first-stage cleaning solution is for dissolving and removing the tacky polymer produced by dissolution from the photosensitive film, and its main functions are swelling of the tacky polymer with polyhydric alcohol and tackiness with organic carboxylic acid. Polymer peeling, dissolution of the swollen sticky polymer by alkali hydroxide, and physical cleaning by spray circulation. By this first-stage washing treatment, a part of the adhesive polymer is dissolved and the swollen solid solution is finely divided. The finely divided solid solution has a slight viscosity, and thus it is difficult to separate in this state. for that reason,
A second stage wash is used. The main action of the second-stage cleaning liquid is to exfoliate the solid solution by the coagulation and hardening of the surface of the solid solution divided by the inorganic acid, promote the exfoliation of the solid solutions by the organic carboxylic acid, and perform the physical cleaning by spray circulation.
As a result, the solid solution is further finely divided into a non-viscous solid substance, which can be separated and removed more easily.
【０００６】本発明の第一洗浄液に使用される多価アル
コールとしては、膨潤作用があるものはいずれも使用で
きる。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ブチレングリコール、３，４−ヘキシレングリコ
ール、オクチレングリコールのようなアルキレングリコ
ール；例えば、ジエチレングリコール、ジプロピレング
リコールのようなジアルキレングリコール；例えば、ト
リエチレングリコールのようなトリアルキレングリコー
ルが挙げられる。さらには、グリセリンのような３価ア
ルコール、ペンチット、ヘキシットのような多価アルコ
ールも使用することができる。また、これらの多価アル
コールの誘導体、例えば、モノ又はジアルキルエーテ
ル、モノ又はジエステル、エーテルエステル類も好んで
使用される。好ましい誘導体としては、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、エチレングリコールイソアミルエーテル、エチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、メトキシメトキシエタノー
ル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリ
コールジアセテート、エチレンクロルヒドリン、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノアセテ
ート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチル
エーテル、１ブトキシエトキシプロパノール、プロピレ
ングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテルが挙げられる。グリセリルモノアセテート、
グリセリルジアセテート、グリセリルトリアセテートの
ようなグリセリンのエステル誘導体、グリセリンのエー
テル誘導体、その他の多価アルコールのエーテル及びエ
ステル誘導体も使用することができる。これらの多価ア
ルコール及びその誘導体は単独で又は２種以上を組み合
わせて使用することができ、その配合量は３〜１５０ｇ
／ｌ、好ましくは５〜１２０ｇ／ｌである。As the polyhydric alcohol used in the first cleaning liquid of the present invention, any polyhydric alcohol having a swelling action can be used. For example, alkylene glycol such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, 3,4-hexylene glycol, octylene glycol; dialkylene glycol such as diethylene glycol and dipropylene glycol; for example triethylene glycol. Examples include trialkylene glycol. Furthermore, trihydric alcohols such as glycerin, and polyhydric alcohols such as pentit and hexite can also be used. Derivatives of these polyhydric alcohols such as mono- or dialkyl ethers, mono- or diesters, ether esters are also preferably used. Preferred derivatives include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene. Glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol isoamyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, methoxymethoxyethanol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol diacetate, ethylene chlorohydrin, diethylene glycol monomethyl ether , Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol monoacetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol Monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 1-butoxyethoxy propanol, propylene glycol monoacetate, dipropylene glycol Monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether. Glyceryl monoacetate,
Ester derivatives of glycerin such as glyceryl diacetate and glyceryl triacetate, ether derivatives of glycerin, and ether and ester derivatives of other polyhydric alcohols can also be used. These polyhydric alcohols and their derivatives can be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount thereof is 3 to 150 g.
/ L, preferably 5-120 g / l.
【０００７】また、第一段階洗浄液は、感光膜のアルカ
リ現像により溶解され生成して現像装置に付着した粘着
性ポリマーを剥離させるために有機カルボン酸又はその
塩類を使用する。有機カルボン酸は、好ましくは、炭素
数１〜６の脂肪族モノ又はポリカルボン酸、例えば、蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、蓚
酸、マロン酸、こはく酸など並びにそれらの酸無水物で
ある。また、これらのカルボン酸の置換誘導体、例え
ば、ハロゲン置換誘導体、例えば、モノクロル酢酸、ジ
クロル酢酸、トリクロル酢酸、モノブロム酢酸、トリブ
ロム酢酸等、さらにはヒドロキシ置換誘導体、いわゆる
オキシ酸、例えば、グリコール酸、乳酸、ヒドロアクリ
ル酸、α−オキシ酪酸、グリセリン酸、りんご酸、酒石
酸、くえん酸、グルコン酸なども好んで使用される。さ
らに、上記のような有機カルボン酸及び置換誘導体の塩
類、好ましくはアルカリ金属塩（例えば、ナトリウム、
カリウム塩）及びアルカリ土類金属塩（例えば、カルシ
ウム塩）も好んで使用される。これらの有機カルボン酸
及び塩類は、単独で又は２種以上を組合せて使用するこ
とができる。その配合量は３〜１００ｇ／ｌ、好ましく
は５〜８０ｇ／ｌである。Further, the first-stage cleaning liquid uses an organic carboxylic acid or a salt thereof in order to peel off the adhesive polymer which is dissolved and generated by the alkaline development of the photosensitive film and adhered to the developing device. The organic carboxylic acid is preferably an aliphatic mono- or polycarboxylic acid having 1 to 6 carbon atoms such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid and the like. It is an acid anhydride. Further, substituted derivatives of these carboxylic acids, for example, halogen-substituted derivatives, for example, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, monobromoacetic acid, tribromoacetic acid, etc., and further hydroxy substituted derivatives, so-called oxy acids, for example, glycolic acid, lactic acid. , Hydroacrylic acid, α-oxybutyric acid, glyceric acid, malic acid, tartaric acid, citric acid and gluconic acid are also preferably used. Furthermore, salts of organic carboxylic acids and substituted derivatives as described above, preferably alkali metal salts (eg sodium,
Potassium salts) and alkaline earth metal salts (eg calcium salts) are also preferably used. These organic carboxylic acids and salts can be used alone or in combination of two or more. The blending amount is 3 to 100 g / l, preferably 5 to 80 g / l.
【０００８】本発明の第一洗浄液は、さらに膨潤した粘
着性ポリマーを溶解させる作用を有する水酸化アルカリ
又はアルカリ土類金属を含有する。これらの水酸化アル
カリ又はアルカリ土類金属としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどが使用され
る。水酸化アルカリ又はアルカリ土類金属は単独で又は
２種以上を組合せて使用することができる。その配合量
は３〜１００ｇ／ｌ、好ましくは５〜８０ｇ／ｌであ
る。The first cleaning liquid of the present invention further contains an alkali hydroxide or an alkaline earth metal having a function of dissolving the swollen adhesive polymer. As the alkali hydroxide or alkaline earth metal, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide or the like is used. The alkali hydroxide or alkaline earth metal can be used alone or in combination of two or more kinds. The blending amount is 3 to 100 g / l, preferably 5 to 80 g / l.
【０００９】上記の第一段階洗浄処理によって粘着性ポ
リマーの一部は溶解され、膨潤した固溶体は細かく分断
される。細かく分断された固溶体は、若干粘性を有して
いるため、この状態では分離が難しい。そこで、第二段
階洗浄液が使用される。第二段階洗浄液は、無機酸単独
で或いは無機酸と有機カルボン酸又はその塩類とから構
成される。無機酸は第一段階洗浄液により分断された固
溶体の表面を凝集硬化し剥離させる作用を有するもので
あればいずれも使用することができる。例えば、塩酸、
硫酸、硝酸、燐酸、クロルスルホン酸、スルファミン酸
などが使用される。無機酸は単独で又は２種以上を組合
せて使用することができる。その配合量は３〜１００ｇ
／ｌ、好ましくは５〜８０ｇ／ｌである。さらに、第二
段階洗浄液は、分断された固溶体同士の剥離を促進させ
るために有機カルボン酸又はその塩類を含有することが
できる。使用できる有機カルボン酸又はその塩類は、第
一段階洗浄液において使用した脂肪族カルボン酸及びそ
れらの置換誘導体並びにそれらの塩類と同一のものであ
ってよい。有機カルボン酸又はその塩類は単独で又は２
種以上を組合せて使用することができる。その配合量は
３〜１００ｇ／ｌ、好ましくは５〜８０ｇ／ｌである。
この第二段階洗浄により、粘着性の固溶体は更に細かく
分断され、粘性のない固形物に変わるため、その分離除
去が一層容易に行える。A part of the adhesive polymer is dissolved by the above-mentioned first-stage washing treatment, and the swollen solid solution is finely divided. The finely divided solid solution has a slight viscosity, and thus it is difficult to separate in this state. Therefore, the second-stage cleaning liquid is used. The second-stage cleaning liquid is composed of an inorganic acid alone or an inorganic acid and an organic carboxylic acid or a salt thereof. Any inorganic acid can be used as long as it has an action of coagulating and hardening the surface of the solid solution divided by the first-stage cleaning liquid to cause separation. For example, hydrochloric acid,
Sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, chlorosulfonic acid, sulfamic acid, etc. are used. The inorganic acids may be used alone or in combination of two or more. Its amount is 3-100g
/ L, preferably 5 to 80 g / l. Furthermore, the second-stage cleaning liquid can contain an organic carboxylic acid or a salt thereof in order to promote separation of the separated solid solutions. The organic carboxylic acids or salts thereof that can be used may be the same as the aliphatic carboxylic acids and substituted derivatives thereof and salts thereof used in the first-stage washing liquid. Organic carboxylic acids or salts thereof may be used alone or
A combination of two or more species can be used. The blending amount is 3 to 100 g / l, preferably 5 to 80 g / l.
By this second-stage washing, the viscous solid solution is further finely divided into a non-viscous solid substance, which can be separated and removed more easily.
【００１０】本発明に従う洗浄液は、それぞれの成分を
単に水に溶解するだけで調製することができる。調製さ
れた各洗浄液には、浸透性の向上のために各種のアミン
化合物、界面活性剤等を添加することができる。例え
ば、グリシン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、ヘキサメチレンテトラミ
ン、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム、ジエチレン
トリアミン五酢酸五ナトリウムなどのようなアミン化合
物、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリ
オキシスチレン化フェノールのようなノニオン系界面活
性剤を使用することができる。これらは、好ましくは、
０．５〜１ｇ／ｌの量で使用できる。また、スプレー時
に発泡が生じる場合があるので、ポリアルキレングリコ
ールのような消泡剤を少量添加することができる。The cleaning liquid according to the invention can be prepared by simply dissolving the respective components in water. Various amine compounds, surfactants and the like can be added to each of the prepared cleaning liquids in order to improve the permeability. For example, amine compounds such as glycine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, hexamethylenetetramine, tetrasodium ethylenediaminetetraacetate, pentasodium diethylenetriaminepentaacetate, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxystyrenated phenol, etc. Any nonionic surfactant can be used. These are preferably
It can be used in an amount of 0.5 to 1 g / l. Further, since foaming may occur during spraying, a small amount of antifoaming agent such as polyalkylene glycol can be added.
【００１１】本発明によれば、このように調製された第
一段階洗浄液及び第二段階洗浄液を使用して、アルカリ
可溶型感光膜のアルカリ現像装置の洗浄が少なくとも１
回以上繰返して行われる。洗浄は、種々の方法、例え
ば、スプレーによる吹付、浸漬などにより行うことがで
きる。第一段階の洗浄は、一般に室温から５０℃で０．
５〜３時間行われ、また第二段階の洗浄は一般に室温か
ら５０℃で０．５〜２時間行われる。また、第一段階洗
浄処理と第二段階洗浄処理の間に水洗処理を導入し、洗
浄効率を向上することもできる。本発明によれば、固形
物が容易に且つほとんど完全に除去できるので、各洗浄
液は循環させて使用することができる。According to the present invention, the first-stage cleaning liquid and the second-stage cleaning liquid thus prepared are used to clean the alkali-developable photosensitive film of the alkali developing device with at least one cleaning step.
It is repeated more than once. The washing can be performed by various methods, for example, spraying, dipping, and the like. The first stage washing is generally from room temperature to 50 ° C.
It is carried out for 5 to 3 hours, and the second-stage washing is generally carried out at room temperature to 50 ° C for 0.5 to 2 hours. Further, it is possible to improve the washing efficiency by introducing a water washing treatment between the first-stage washing treatment and the second-stage washing treatment. According to the present invention, solids can be easily and almost completely removed, so that each cleaning liquid can be circulated and used.
【００１２】[0012]
【実施例】以下に、本発明を例示するために実施例を示
すが、本発明はこれらによってなんら制限されない。EXAMPLES Examples will be shown below to illustrate the present invention, but the present invention is not limited thereto.
【００１３】実施例１ 以下に示す第一段階洗浄液及び第二段階洗浄液を調製
し、液状レジストのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 エチレングリコールモノメチルエーテル １５ ｇ／ｌ プロピレングリコールモノアセテート ５ ｇ／ｌ イソ酪酸 １０ ｇ／ｌ 水酸化ナトリウム ５０ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 くえん酸 １０ ｇ／ｌ 塩酸 ６０ ｇ／ｌ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル １ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３５℃、スプレー圧
１．８ｋｇ／ｃｍ2 条件下で２時間洗浄した。一度水洗
を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度３５℃、スプ
レー圧１．８ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１時間洗浄した。粘
着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い固形物に
変化しているため、その後の水洗で容易に固形物は除去
できた。 Example 1 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared and the alkali developing device for liquid resist was cleaned. First-stage cleaning liquid Ethylene glycol monomethyl ether 15 g / l Propylene glycol monoacetate 5 g / l Isobutyric acid 10 g / l Sodium hydroxide 50 g / l Second-stage cleaning liquid Citric acid 10 g / l Hydrochloric acid 60 g / l Polyoxy Ethylene nonyl phenyl ether 1 g / l First, the first stage cleaning liquid was used for cleaning for 2 hours under the conditions of a liquid temperature of 35 ° C. and a spray pressure of 1.8 kg / cm 2 . It was washed once with water, and then washed with the second-stage washing liquid under the conditions of a liquid temperature of 35 ° C. and a spray pressure of 1.8 kg / cm 2 for 1 hour. Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００１４】実施例２ 以下に示す第一段階洗浄液及び第二段階洗浄液を調製
し、ドライフィルムのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 ジエチレングリコールモノアセテート １０ ｇ／ｌ ジプロピレングリコールモノエチルエーテル １０ ｇ／ｌ 酢酸ナトリウム ３０ ｇ／ｌ マロン酸 ５ ｇ／ｌ 水酸化カリウム ４０ ｇ／ｌ トリエタノールアミン １ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 グリコール酸 １０ ｇ／ｌ 硫酸 ２０ ｇ／ｌ モノエタノールアミン １ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３５℃、スプレー圧
１．５ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１．５時間洗浄した。一度
水洗を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度４０℃、
スプレー圧１．５ｋｇ／ｃｍ2 条件下で０．５時間洗浄
した。粘着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い
固形物に変化しているため、その後の水洗で容易に固形
物は除去できた。 Example 2 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared and the dry film alkaline developing device was cleaned. First-stage cleaning solution Diethylene glycol monoacetate 10 g / l Dipropylene glycol monoethyl ether 10 g / l Sodium acetate 30 g / l Malonic acid 5 g / l Potassium hydroxide 40 g / l Triethanolamine 1 g / l Second stage Cleaning liquid Glycolic acid 10 g / l Sulfuric acid 20 g / l Monoethanolamine 1 g / l First, the first-stage cleaning liquid was washed for 1.5 hours under the conditions of a liquid temperature of 35 ° C. and a spray pressure of 1.5 kg / cm 2 . Rinse once with water, then with the second-stage cleaning liquid at a liquid temperature of 40 ° C.
It was washed for 0.5 hours under a spray pressure of 1.5 kg / cm 2 . Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００１５】比較例１ 液状レジスト現像装置を４０ｇ／ｌ水酸化ナトリウム液
にて、液温度５０℃、スプレー圧１．９ｋｇ／ｃｍ2 条
件下で３時間洗浄した後、次いで３０ｇ／ｌ硫酸液に
て、液温度４０℃、スプレー圧１．９ｋｇ／ｃｍ2 条件
下で２時間洗浄した。槽内の粘着性ポリマーは表面硬化
しているが、ほとんど除去できず、その後水洗を行って
も槽内の固形物は全く除去できなかった。 Comparative Example 1 A liquid resist developing apparatus was washed with a 40 g / l sodium hydroxide solution under the conditions of a liquid temperature of 50 ° C. and a spray pressure of 1.9 kg / cm 2 for 3 hours, and then washed with a 30 g / l sulfuric acid solution. Then, it was washed for 2 hours under the conditions of a liquid temperature of 40 ° C. and a spray pressure of 1.9 kg / cm 2 . Although the tacky polymer in the tank was hardened on the surface, it could hardly be removed, and even if it was washed with water thereafter, the solid matter in the tank could not be removed at all.
【００１６】比較例２ ドライフィルム現像装置を４５０ｇ／ｌ酢酸液にて液温
度３５℃、スプレー圧１．７ｋｇ／ｃｍ2 条件化で５時
間洗浄したが、粘着性ポリマーは表面硬化しているがほ
とんど除去できず、更に洗浄を継続し合計１２時間洗浄
した時点で、槽内の固形物の８割程度がようやく除去で
きるにすぎなかった。 Comparative Example 2 A dry film developing apparatus was washed with a 450 g / l acetic acid solution for 5 hours under the conditions of a liquid temperature of 35 ° C. and a spray pressure of 1.7 kg / cm 2 , but the adhesive polymer was surface hardened. Almost no solids could be removed, and at the time when the washing was continued for a total of 12 hours, about 80% of the solid matter in the tank could only be finally removed.
【００１７】実施例３ 以下に示す第一段階洗浄液及び第二段階洗浄液を調整
し、液状レジストのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 エチレングリコールモノアセテート ３５ ｇ／ｌ ジエチレングリコール ２０ ｇ／ｌ トリエチレングリコール ２０ ｇ／ｌ ジプロピレングリコールモノメチルエーテル ３０ ｇ／ｌ 酒石酸ナトリウムカリウム １０ ｇ／ｌ 水酸化ナトリウム １０ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 塩 酸 ４５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３５℃、スプレー圧
１．８ｋｇ／ｃｍ2 条件下で２時間洗浄した。一度水洗
を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度３８℃、スプ
レー圧１．８ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１時間洗浄した。粘
着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、やや大きい固
形物に変化し、その後の水洗で固形物は除去できた。 Example 3 The following first stage cleaning liquid and second stage cleaning liquid were prepared and the alkali developing device for liquid resist was cleaned. First-stage cleaning solution Ethylene glycol monoacetate 35 g / l Diethylene glycol 20 g / l Triethylene glycol 20 g / l Dipropylene glycol monomethyl ether 30 g / l Sodium potassium tartrate 10 g / l Sodium hydroxide 10 g / l Second stage Cleaning solution: Hydrochloric acid 45 g / l First, the first-stage cleaning solution was washed for 2 hours under the conditions of a liquid temperature of 35 ° C. and a spray pressure of 1.8 kg / cm 2 . It was washed once with water, and then washed with the second-stage washing liquid under the conditions of a liquid temperature of 38 ° C. and a spray pressure of 1.8 kg / cm 2 for 1 hour. The sticky polymer was completely peeled off from the inside of the tank and turned into a slightly large solid, and the solid could be removed by subsequent washing with water.
【００１８】実施例４ 以下に示す第一段階洗浄液及び第二段階洗浄液を調整
し、液状レジストのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 エチレングリコールモノブチルエーテル １０ ｇ／ｌ ジエチレングリコールメチルエチルエーテル １５ ｇ／ｌ プロピレングリコール ２０ ｇ／ｌ 酢酸ナトリウム ２０ ｇ／ｌ リンゴ酸ナトリウム １５ ｇ／ｌ 水酸化カリウム １０ ｇ／ｌ エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム ０．５ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 モノクロル酢酸 ５０ ｇ／ｌ 蓚 酸 ５ ｇ／ｌ 硫 酸 ５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度２８℃、スプレー圧
１．５ｋｇ／ｃｍ2 条件下で２．５時間洗浄した。一度
水洗を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度２８℃、
スプレー圧１．５ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１．５時間洗浄
した。粘着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い
固形物に変化しているため、その後の水洗で固形物は容
易に除去できた。 Example 4 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared and the alkali developing device for liquid resist was cleaned. First-stage cleaning solution Ethylene glycol monobutyl ether 10 g / l Diethylene glycol methyl ethyl ether 15 g / l Propylene glycol 20 g / l Sodium acetate 20 g / l Sodium malate 15 g / l Potassium hydroxide 10 g / l Ethylenediaminetetraacetic acid tetra Sodium 0.5 g / l Second stage cleaning liquid Monochloroacetic acid 50 g / l Oxalic acid 5 g / l Sulfuric acid 5 g / l First, in the first stage cleaning liquid, liquid temperature 28 ° C., spray pressure 1.5 kg / cm 2 It was washed under the conditions for 2.5 hours. Rinse once with water, then with the second-stage cleaning liquid at a liquid temperature of 28 ° C,
It was washed under a spray pressure of 1.5 kg / cm 2 for 1.5 hours. Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００１９】実施例５ 以下に示す第一段階洗浄液及び第二段階洗浄液を調整
し、液状レジストのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 トリエチレングリコールモノメチルエーテル ５ ｇ／ｌ オクチレングリコール ５ ｇ／ｌ 乳酸ナトリウム ３５ ｇ／ｌ グルコン酸ナトリウム ４０ ｇ／ｌ 水酸化カリウム １０ ｇ／ｌ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル ０．５ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 酪 酸 ５ ｇ／ｌ 燐 酸 ６０ ｇ／ｌ スルファミン酸 ５ ｇ／ｌ トリエタノールアミン ０．５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３８℃、スプレー圧
１．４ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１．５時間洗浄した。一度
水洗を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度３５℃、
スプレー圧１．４ｋｇ／ｃｍ2 条件下で０．５時間洗浄
した。粘着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い
固形物に変化しているため、その後の水洗で固形物は容
易に除去できた。 Example 5 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared and the alkali developing device for liquid resist was cleaned. First-stage cleaning solution Triethylene glycol monomethyl ether 5 g / l Octylene glycol 5 g / l Sodium lactate 35 g / l Sodium gluconate 40 g / l Potassium hydroxide 10 g / l Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.5 g / L Second-stage cleaning liquid Butyric acid 5 g / l Phosphoric acid 60 g / l Sulfamic acid 5 g / l Triethanolamine 0.5 g / l First, in the first-stage cleaning liquid, the liquid temperature was 38 ° C and the spray pressure was 1. It was washed for 1.5 hours under the condition of 4 kg / cm 2 . Rinse once with water, then with the second-stage cleaning liquid at a liquid temperature of 35 ° C.
It was washed for 0.5 hours under a spray pressure of 1.4 kg / cm 2 . Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００２０】実施例６ 以下に示す第一段階洗浄液及び第二段階洗浄液を調整
し、液状レジストのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 エチレングリコールジブチルエーテル ５ ｇ／ｌ ３，４−ヘキシレングリコール ５ ｇ／ｌ 蟻酸ナトリウム １０ ｇ／ｌ 水酸化ナトリウム ６５ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 グリコール酸 ３０ ｇ／ｌ プロピオン酸 ２０ ｇ／ｌ 硝 酸 ５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３０℃、スプレー圧
１．６ｋｇ／ｃｍ2 条件下で２時間洗浄した。一度水洗
を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度３３℃、スプ
レー圧１．６ｋｇ／ｃｍ2 条件下で０．５時間洗浄し
た。粘着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い固
形物に変化しているため、その後の水洗で固形物は容易
に除去できた。 Example 6 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared and the alkali developing device for liquid resist was cleaned. First-stage cleaning liquid ethylene glycol dibutyl ether 5 g / l 3,4-hexylene glycol 5 g / l sodium formate 10 g / l sodium hydroxide 65 g / l second-stage cleaning liquid glycolic acid 30 g / l propionic acid 20 g / L nitric acid 5 g / l First, the first-stage cleaning liquid was washed for 2 hours under the conditions of a liquid temperature of 30 ° C. and a spray pressure of 1.6 kg / cm 2 . It was washed once with water, and then washed with the second-stage washing liquid under the conditions of a liquid temperature of 33 ° C. and a spray pressure of 1.6 kg / cm 2 for 0.5 hours. Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００２１】実施例７ 以下に示す第一段階洗浄液と、第二段階洗浄液を調整
し、ドライフィルムのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 エチレングリコール ２０ ｇ／ｌ ジエチレングリコールモノブチルエーテル ３５ ｇ／ｌ プロピレングリコールモノエチルエーテル ３５ ｇ／ｌ グリセリルジアセテート ２０ ｇ／ｌ くえん酸 ５ ｇ／ｌ 水酸化ナトリウム ４０ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 トリクロル酢酸 ５ ｇ／ｌ 硫 酸 １０ ｇ／ｌ グリシン ０．５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度２８℃、スプレー圧
２．１ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１．５時間洗浄した。一度
水洗を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度３３℃、
スプレー圧２．１ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１時間洗浄し
た。粘着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い固
形物に変化しているため、その後の水洗で固形物は容易
に除去できた。 Example 7 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared, and the dry film alkaline developing device was cleaned. First-stage cleaning liquid Ethylene glycol 20 g / l Diethylene glycol monobutyl ether 35 g / l Propylene glycol monoethyl ether 35 g / l Glyceryl diacetate 20 g / l Citric acid 5 g / l Sodium hydroxide 40 g / l Second-stage cleaning liquid Trichloroacetic acid 5 g / l Sulfuric acid 10 g / l Glycine 0.5 g / l First, the first stage cleaning liquid was washed for 1.5 hours under the conditions of a liquid temperature of 28 ° C. and a spray pressure of 2.1 kg / cm 2 . Rinse once with water, and then use the second-stage cleaning solution at a liquid temperature of 33 ° C.
It was washed under a spray pressure of 2.1 kg / cm 2 for 1 hour. Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００２２】実施例８ 以下に示す第一段階洗浄液と、第二段階洗浄液を調整
し、ドライフィルムのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 ジエチレングリコールジメチルエーテル ５ ｇ／ｌ ジプロピレングリコール １０ ｇ／ｌ プロピオン酸カリウム １０ ｇ／ｌ 水酸化ナトリウム １５ ｇ／ｌ ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウム ０．５ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 乳 酸 ６０ ｇ／ｌ グリセリン酸 ５ ｇ／ｌ 塩 酸 １０ ｇ／ｌ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル ０．５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３８℃、スプレー圧
１．３ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１時間洗浄した。一度水洗
を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度２８℃、スプ
レー圧１．３ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１時間洗浄した。粘
着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い固形物に
変化しているため、その後の水洗で固形物は容易に除去
できた。 Example 8 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared, and the dry film alkali developing device was cleaned. First-stage cleaning solution Diethylene glycol dimethyl ether 5 g / l Dipropylene glycol 10 g / l Potassium propionate 10 g / l Sodium hydroxide 15 g / l Diethylenetriamine pentaacetic acid pentasodium 0.5 g / l Second-stage cleaning solution Lactic acid 60 g / L Glyceric acid 5 g / l Salt acid 10 g / l Polyoxyethylene nonyl phenyl ether 0.5 g / l First, in the first-stage cleaning liquid at a liquid temperature of 38 ° C. and a spray pressure of 1.3 kg / cm 2 It was washed for 1 hour. It was washed once with water and then washed with the second-stage washing liquid under the conditions of a liquid temperature of 28 ° C. and a spray pressure of 1.3 kg / cm 2 for 1 hour. Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００２３】実施例９ 以下に示す第一段階洗浄液と、第二段階洗浄液を調整
し、ドライフィルムのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 エチレングリコールジアセテート ４０ ｇ／ｌ ジエチレングリコールモノエチルエーテル ５０ ｇ／ｌ グリセリン ２０ ｇ／ｌ 酒石酸ナトリウム １５ ｇ／ｌ グルコン酸ナトリウム １５ ｇ／ｌ 水酸化カリウム １０ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 ジクロル酢酸 １０ ｇ／ｌ 燐 酸 １０ ｇ／ｌ ジエタノールアミン ０．５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３８℃、スプレー圧
１．５ｋｇ／ｃｍ2 条件下で０．５時間洗浄した。一度
水洗を行い、次いで第二段階洗浄液にて液温度２８℃、
スプレー圧１．５ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１時間洗浄し
た。粘着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、細い固
形物に変化しているため、その後の水洗で固形物は容易
に除去できた。 Example 9 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared, and the dry film alkaline developing device was cleaned. First-stage cleaning liquid 40 g / l Diethylene glycol monoethyl ether 50 g / l Glycerin 20 g / l Sodium tartrate 15 g / l Sodium gluconate 15 g / l Potassium hydroxide 10 g / l Second-stage cleaning liquid dichlor Acetic acid 10 g / l Phosphoric acid 10 g / l Diethanolamine 0.5 g / l First, the first-stage cleaning liquid was washed for 0.5 hours under the conditions of a liquid temperature of 38 ° C. and a spray pressure of 1.5 kg / cm 2 . Rinse once with water, then with the second-stage cleaning liquid at a liquid temperature of 28 ° C,
It was washed under a spray pressure of 1.5 kg / cm 2 for 1 hour. Since the adhesive polymer was completely peeled from the tank and changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００２４】実施例１０ 以下に示す第一段階洗浄液と、第二段階洗浄液を調整
し、ドライフィルムのアルカリ現像装置を洗浄した。 第一段階洗浄液 ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート ３０ ｇ／ｌ ブチレングリコール １０ ｇ／ｌ 酪酸ナトリウム ３５ ｇ／ｌ 水酸化カルシウム ５ ｇ／ｌ 水酸化ナトリウム ７０ ｇ／ｌ 第二段階洗浄液 りんご酸 １０ ｇ／ｌ 硫 酸 ２５ ｇ／ｌ ヘキサメチレンテトラミン ０．５ ｇ／ｌ 先ず、第一段階洗浄液にて液温度３３℃、スプレー圧
１．７ｋｇ／ｃｍ2 条件下で２．５時間洗浄した。次い
で、一度水洗し、次いで第二段階洗浄液にて液温度３８
℃、スプレー圧１．７ｋｇ／ｃｍ2 条件下で１．５時間
洗浄した。粘着性ポリマーは槽内から完全に剥離され、
細い固形物に変化しているため、その後の水洗で固形物
は容易に除去できた。 Example 10 The following first-stage cleaning liquid and second-stage cleaning liquid were prepared, and the dry film alkali developing device was cleaned. First-stage cleaning liquid Diethylene glycol monoethyl ether acetate 30 g / l Butylene glycol 10 g / l Sodium butyrate 35 g / l Calcium hydroxide 5 g / l Sodium hydroxide 70 g / l Second-stage cleaning liquid Malic acid 10 g / l Sulfuric acid Acid 25 g / l Hexamethylenetetramine 0.5 g / l First, the first-stage cleaning liquid was washed for 2.5 hours under the conditions of a liquid temperature of 33 ° C. and a spray pressure of 1.7 kg / cm 2 . Then, wash once with water, and then with the second-stage washing solution at a temperature of 38
It was washed for 1.5 hours under conditions of a temperature of ℃ and a spray pressure of 1.7 kg / cm 2 . The adhesive polymer is completely peeled from the tank,
Since it changed into a fine solid, the solid could be easily removed by subsequent washing with water.
【００２５】[0025]
【効果】本発明は、アルカリ現像装置の既存洗浄技術に
比し、経済的であり、かつ短時間処理で充分な洗浄性を
有しているため、定期洗浄サイクルの延長が可能で、回
路形成時に粘着性ポリマーによって生じる回路欠線ある
いは短絡を防止することができる。[Effect] The present invention is economical as compared with the existing cleaning technology of the alkali developing device and has sufficient cleaning property in a short time processing, so that the regular cleaning cycle can be extended and the circuit can be formed. It is possible to prevent circuit breaks or short circuits sometimes caused by adhesive polymers.
Claims (3)
ルボン酸又はその塩類及び水酸化アルカリ又はアルカリ
土類金属を含有する第一段階洗浄液と、無機酸を単独で
或いは有機カルボン酸又はその塩類と共に含有する第二
段階洗浄液とよりなるアルカリ現像装置の洗浄液。1. A first-stage cleaning liquid containing a polyhydric alcohol or a derivative thereof, an organic carboxylic acid or a salt thereof and an alkali hydroxide or an alkaline earth metal, and an inorganic acid alone or together with an organic carboxylic acid or a salt thereof. A cleaning liquid for an alkali developing device, which comprises a second-stage cleaning liquid.
機カルボン酸又はその塩類が炭素数１〜６のモノ若しく
はポリカルボン酸、それらの酸無水物、それらのハロゲ
ン置換誘導体若しくはヒドロキシ置換誘導体又はそれら
の塩類である請求項１記載の洗浄液。2. An organic carboxylic acid or a salt thereof used in the first and second cleaning solutions is a mono- or polycarboxylic acid having 1 to 6 carbon atoms, an acid anhydride thereof, a halogen-substituted derivative or a hydroxy-substituted derivative thereof. Alternatively, the cleaning liquid according to claim 1, which is a salt thereof.
その誘導体、有機カルボン酸又はその塩類及び水酸化ア
ルカリ又はアルカリ土類金属を含有する第一段階洗浄液
と、無機酸を単独で或いは有機カルボン酸又はその塩類
と共に含有する第二段階洗浄液とによって一回以上繰返
して洗浄することを特徴とするアルカリ現像装置の洗浄
方法。3. A first-stage cleaning liquid containing an alkali developing device containing a polyhydric alcohol or a derivative thereof, an organic carboxylic acid or a salt thereof and an alkali hydroxide or an alkaline earth metal, and an inorganic acid alone or an organic carboxylic acid or A method for cleaning an alkali developing apparatus, which comprises repeatedly cleaning one or more times with a second-stage cleaning liquid contained together with the salts.
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|---|---|---|---|
| JP22665593A JP3051611B2 (en) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | Cleaning solution and cleaning method for alkaline developing device |
Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1296470C (en) * | 2003-04-11 | 2007-01-24 | 株式会社Adeka | Detergent composition for alkali development apparatus |
| JP2009249474A (en) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Adeka Corp | Acidic detergent composition |
| JP2015040290A (en) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | 東栄化成株式会社 | Detergent composition for alkali development device and method for washing alkali development device |
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-
1993
- 1993-08-20 JP JP22665593A patent/JP3051611B2/en not_active Expired - Lifetime
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| JP2009249474A (en) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Adeka Corp | Acidic detergent composition |
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