JP4189158B2 - Cleaning agent composition for alkali developing device - Google Patents
Cleaning agent composition for alkali developing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP4189158B2 JP4189158B2 JP2002058973A JP2002058973A JP4189158B2 JP 4189158 B2 JP4189158 B2 JP 4189158B2 JP 2002058973 A JP2002058973 A JP 2002058973A JP 2002058973 A JP2002058973 A JP 2002058973A JP 4189158 B2 JP4189158 B2 JP 4189158B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing device
- cleaning composition
- alkali developing
- alkali
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アルカリ現像装置用洗浄剤組成物、即ち、アルカリ可溶型感光膜の現像に使用されるアルカリ現像装置、例えば、ドライフィルム現像装置、レジスト現像装置等の洗浄に使用する洗浄剤組成物に関する。さらに詳しくは、本発明は、このようなアルカリ現像装置に付着するスカムを溶解除去するための洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プリント配線等の各種基材上のアルカリ可溶型感光膜を露光し、アルカリ現像して画像を形成し、次いでエッチングあるいはめっきレジストを利用し回路形成を行う方法があるが、そのアルカリ現像工程は、従来、炭酸アルカリ等の現像液をスプレー装置により感光膜面に吹き付けることによって行われている。
しかし、このようにしてアルカリ現像液で溶解された感光膜は、しだいに粘着性のある物質（粘着性ポリマー）に変化していく。
したがって、現像液を循環して使用するスプレー装置内には粘着性ポリマーが容易に堆積し、時としてスプレー配管内の堆積により現像液の吐出量の低下あるいはスプレーノズルの詰まりが発生する。
このようにスプレー式アルカリ現像では、適正な吐出量が得られない場合には、現像不足が生じ、更には粘着性ポリマーが生成するとプリント配線等の基材上への再付着も生じて、次工程での回路形成時に回路の欠線あるいは短絡という問題を引き起こす。
また、粘着性ポリマーは、現像液の温度センサー、加熱ヒーター、冷却チラー上にも堆積するため、液温コントロールに誤差が生じ、しばしば現像不足を併発させるという問題もかかえている。
【０００３】
以上の理由から、アルカリ現像装置は定期的な洗浄が必要となるので、従来では２０〜６０ｇ／Ｌの水酸化ナトリウム液で前洗浄した後、５〜４０ｇ／Ｌの硫酸で後洗浄する手法や、３００〜６００ｇ／Ｌの酢酸で洗浄する手法が採られていた。
しかし、前者は洗浄能力が低く、粘着性ポリマーの大半が除去できないという問題点があり、また後者はある程度の洗浄能力を有するが臭気面で作業環境が著しく悪く、洗浄に多大な時間を費やすという問題点があった。
【０００４】
このようなことから、特開平７−５６３５７号公報、特開２００１−１６４２９２号公報に記載されたアルカリ現像装置の洗浄剤の発明がなされている。
特開平７−５６３５７号公報は、多価アルコールまたはその誘導体、有機カルボン酸またはその塩類および水酸化アルカリまたはアルカリ土類金属を含有する第一段階洗浄液と、無機酸を単独であるいは有機カルボン酸またはその塩類とともに含有する第二段階洗浄液とよりなるものである。
特開２００１−１６４２９２号公報は、有機カルボン酸またはその塩類および有機酸エステルを含有するものである。
しかしながら、近年のアルカリ現像型フォトレジストに配合される光重合開始剤や熱重合禁止剤などの影響により、上記のような粘着性ポリマーはスカムと呼ばれる難溶性の付着物となることが多く、これらの発明による洗浄剤でも十分に洗浄することはできなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
したがって本発明の目的は、スカムと呼ばれる難溶性の付着物をも効果的に除去することのできるアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記に鑑み鋭意研究の結果本発明に到達した。
即ち、本発明は、一般式 Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素原子数２〜６の直鎖または分岐のアルキル基またはフェニル基であり、Ａは同一でも異なっていてもよい炭素原子数２〜４のアルキレン基であり、ｎは０≦ｎ≦２０の数である）で表される１種または２種以上のモノヒドロキシ化合物を必須成分として含む、ｐＨが１以下である酸性水溶液からなることを特徴とする、アルカリ可溶型感光膜の現像装置に付着するスカムを溶解除去するための、アルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【０００７】
また、本発明は、モノヒドロキシ化合物が、ブタノールである前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【０００８】
また、本発明は、モノヒドロキシ化合物が、
一般式 Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ （２）
（式中、Ｒは炭素原子数２〜６の直鎖または分岐のアルキル基またはフェニル基であり、Ａは同一でも異なっていてもよい炭素原子数２〜４のアルキレン基であり、ｎは０＜ｎ≦２０の数である）で表される１種または２種以上のモノヒドロキシ化合物である前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【０００９】
また、本発明は、モノヒドロキシ化合物が、ブタノールおよび上記一般式（２）で表される１種または２種以上のモノヒドロキシ化合物を含むものである前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【００１０】
また、本発明は、ブタノール含量が、組成物の５重量％未満である前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【００１１】
また、本発明は、モノヒドロキシ化合物が、組成物の２〜７０重量％の割合で含有される前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【００１２】
また、本発明は、上記一般式（２）中のＡＯ鎖中のオキシエチレン含量が１０重量％以上である前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【００１３】
また、本発明は、有機酸および／またはその塩を含有する前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【００１４】
また、本発明は、有機酸が、ヒドロキシ基を有する有機酸を含有するものである前記のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を提供するものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物に用いる一般式（１）で表されるモノヒドロキシ化合物は、スカム中の疎水性有機物質を溶解させることに効果的であると考えられ、一般式（１）で表されるものであれば特に限定されないが、モノヒドロキシ化合物の具体例としては、たとえば、エタノール，１−プロパノール，２−プロパノール，１−ブタノール，２−ブタノール，２−メチル−１−プロパノール，１−ペンタノール，２−ペンタノール，３−メチル−１−ブタノール，１−ヘキサノール，２−ヘキサノール，４−メチル−１−ペンタノール等のモノアルコール類；
エチレングリコールモノエチルエーテル，エチレングリコールモノプロピルエーテル，エチレングリコールモノブチルエーテル，エチレングリコールモノペンチルエーテル，エチレングリコールモノヘキシルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールモノエチルエーテル，ジエチレングリコールモノプロピルエーテル，ジエチレングリコールモノブチルエーテル，ジエチレングリコールモノペンチルエーテル，ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
トリエチレングリコールモノエチルエーテル，トリエチレングリコールモノプロピルエーテル，トリエチレングリコールモノブチルエーテル，トリエチレングリコールモノペンチルエーテル，トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル等のトリエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノエチルエーテル，プロピレングリコールモノプロピルエーテル，プロピレングリコールモノブチルエーテル，プロピレングリコールモノペンチルエーテル，プロピレングリコールモノヘキシルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジプロピレングリコールモノエチルエーテル，ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル，ジプロピレングリコールモノブチルエーテル，ジプロピレングリコールモノペンチルエーテル，ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
トリプロピレングリコールモノエチルエーテル，トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル，トリプロピレングリコールモノブチルエーテル，トリプロピレングリコールモノペンチルエーテル，トリプロピレングリコールモノヘキシルエーテル等のトリプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
オキシエチレンおよびオキシプロピレンからなるポリオキシアルキレンのモノエチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンからなるポリオキシアルキレンのモノプロピルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンからなるポリオキシアルキレンのモノブチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンからなるポリオキシアルキレンのモノペンチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンからなるポリオキシアルキレンのモノヘキシルエーテル；オキシエチレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノエチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノプロピルエーテル，オキシエチレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノブチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノペンチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノヘキシルエーテル；オキシエチレンおよびオキシプロピレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノエチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノプロピルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノブチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノペンチルエーテル，オキシエチレンおよびオキシプロピレンおよびオキシブチレンからなるポリオキシアルキレンのモノヘキシルエーテル等のポリオキシアルキレンのモノアルキルエーテル類；およびフェノールを挙げることができる。
本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物に使用する上記モノヒドロキシ化合物は、１種でも２種以上の混合物であってもよい。
上記のうちでも式中Ｒが炭素原子数３〜６のアルキル基であるものが好ましい。
【００１７】
本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物に使用する上記モノヒドロキシ化合物は、スカム除去をより確実に行う観点から、好ましくは、本発明の組成物中に２〜７０重量％、より好ましくは５〜６０重量％、最も好ましくは１０〜５０重量％の割合で配合されていることがよい。
【００１８】
また、本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物に使用する上記モノヒドロキシ化合物のうちで最もスカム除去性の高いのはブタノールである。したがって、上記モノヒドロキシ化合物としてブタノールを含むアルカリ現像装置用洗浄剤組成物が、スカム除去性に適しているということができる。
【００１９】
ただし、モノヒドロキシ化合物としてブタノールのみを使用した場合、作業環境を適切に維持するためにコストがかかるため、この点を考慮する必要のある場合には、モノヒドロキシ化合物としてブタノールおよびブタノール以外の上記モノヒドロキシ化合物を併用することが好ましく、特に、ブタノールと、上記一般式（２）で表される１種または２種以上のモノヒドロキシ化合物とを併用することが好ましい。
特に、ブタノール含量を、組成物の５重量％未満とすると、作業環境を適切に維持するための措置等を採用する必要がないため好ましい。
【００２０】
また、本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物に用いる上記モノヒドロキシ化合物として上記一般式（２）で表されるモノヒドロキシ化合物を用いる場合、スカム除去をより確実に行う観点から、好ましくはＡＯ鎖中のオキシエチレン含量が１０重量％以上、より好ましくは１０〜８０重量％、最も好ましくは１５〜６５重量％であることがよい。
【００２１】
本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物は、上記モノヒドロキシ化合物を必須成分として含む酸性水溶液からなるものであり、酸性とする方法は特に限定されず、有機および／または無機の酸を用いて酸性（スカム除去性から好ましくは、ｐＨ１以下）とすればよいが、スカム除去をより確実に行う観点から好ましくは、有機酸および／またはその塩を含有（好ましくは２〜６０重量％）するものであることがよい。有機酸塩のみを使用する場合には適宜無機酸を併用する。
【００２２】
これら有機酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、グリコール酸、乳酸、２−ヒドロキシ酪酸、２−ヒドロキシイソ酪酸、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸、メタンスルホン酸、２−ヒドロキシエタンスルホン酸（イセチオン酸）、２−ヒドロキシプロパンスルホン酸、フェノールスルホン酸等を挙げることができ、これらのうち特に好ましいのはヒドロキシ基を有する有機酸であり、有機酸のうちヒドロキシ基を有する有機酸が１０重量％以上であれば好ましく用いることができる。
【００２３】
有機酸塩を構成するカチオンとしては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム等を用いることができ、好ましくはアルカリ金属、アンモニウムがよく、工業化適性の点でナトリウムおよび／またはカリウムが最も適している。
また、無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等を例示することが出来る。
【００２４】
本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物は、上記モノヒドロキシ化合物を必須成分として含有する酸性水溶液であり、残部は水とすることができるが、疎水性のスカムの溶解性の観点から、好ましくは水分の含有量は２０〜７０重量％、より好ましくは３０〜６０重量％であることがよい。なお、水分含量の調整には、任意の親水性有機溶媒を用いることができ、親水性有機溶媒の例としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンランダム重合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック重合物等のポリアルキレングリコール等を挙げることができる。
【００２５】
【実施例】
以下に本発明の実施例を挙げ、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２６】
〔実施例１〜９〕
旭化成株式会社製ドライフィルムフォトレジスト（商品名：サンフォート）を１重量％炭酸ナトリウム水溶液の現像液で現像し、現像装置内に生成したスカムを採取し、スカムの水分含量を０．５重量％以下に乾燥させた粉末スカム５ｇを、下記表１に示した組成のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物１００ｇ中に加え、２５℃で３０分攪拌してスカムの溶解率（％）を調べた。結果を表１に示す。表１から判る通り、本発明のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物はスカム溶解性に非常に優れている。
なお、表中の組成は重量％を表す。また、スカム溶解率（％）は、
スカム溶解率（％）＝
［５ｇ−｛溶解しなかったスカム（ｇ）｝］／５ｇ×１００（％）
により求めた。また、溶解しなかったスカム量は、溶け残ったスカムを濾過して採取し、乾燥させた後秤量して求めた。
【００２７】
【表１】
表１中の記号は以下の通りである。
〔モノヒドロキシ化合物〕
Ｈ−１：１−ブタノール
Ｈ−２：２−メチル−１−プロパノール
Ｈ−３：エチレングリコールモノエチルエーテル
Ｈ−４：ジエチレングリコールモノブチルエーテル
Ｈ−５：オキシエチレン：オキシプロピレン＝１：１（重量比）のポリオキシアルキレングリコールモノブチルエーテル（ランダム付加型、平均分子量５５０）
Ｈ−６：ｎ−Ｃ４Ｈ８−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−（Ｃ３Ｈ６−Ｏ）２−Ｈ
〔親水性有機溶媒〕
Ｌ−１：ポリエチレングリコール（平均分子量２００）
【００２９】
〔比較例１〜３〕
下記表２に示した組成のアルカリ現像装置用洗浄剤組成物を用いた他は実施例１〜９と同様にして行った。結果を表２に示す。表２から明らかな通り、本発明によらない場合は十分にスカムを溶解することができないものであった。
【００３０】
【表２】
【発明の効果】
本発明によれば、スカムと呼ばれる難溶性の付着物をも効果的に除去することのできるアルカリ現像装置用洗浄剤組成物が提供される。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a cleaning composition for an alkali developing device, that is, a cleaning composition used for cleaning an alkali developing device used for developing an alkali-soluble photosensitive film, for example, a dry film developing device, a resist developing device, etc. Related to things. More specifically, the present invention relates to a cleaning composition for dissolving and removing scum adhering to such an alkali developing device.
[0002]
[Prior art]
There is a method of exposing an alkali-soluble photosensitive film on various substrates such as printed wiring, forming an image by alkali development, and then forming a circuit using etching or a plating resist. Conventionally, a developer such as alkali carbonate is sprayed on the photosensitive film surface by a spray device.
However, the photosensitive film dissolved in the alkaline developer in this manner gradually changes to a sticky substance (adhesive polymer).
Accordingly, the adhesive polymer is easily deposited in the spray device that circulates the developer, and sometimes the developer discharge amount is reduced or the spray nozzle is clogged due to the deposit in the spray pipe.
As described above, in the spray type alkali development, when an appropriate discharge amount cannot be obtained, insufficient development occurs, and further, when an adhesive polymer is generated, re-adhesion on a substrate such as a printed wiring also occurs. When forming a circuit in the process, it causes a problem of circuit breakage or short circuit.
Further, since the adhesive polymer is deposited also on the developer temperature sensor, the heater, and the cooling chiller, there is an error in the solution temperature control, and there is also a problem that often the development is insufficient.
[0003]
For the above reasons, since the alkali developing device needs to be periodically cleaned, conventionally, after pre-washing with 20 to 60 g / L sodium hydroxide solution, post-washing with 5 to 40 g / L sulfuric acid or The method of washing with 300 to 600 g / L of acetic acid has been adopted.
However, the former has a problem that the cleaning ability is low and most of the adhesive polymer cannot be removed, and the latter has a certain degree of cleaning ability, but the working environment is extremely bad in terms of odor, and it takes a lot of time for cleaning. There was a problem.
[0004]
For this reason, the invention of a cleaning agent for an alkali developing apparatus described in JP-A-7-56357 and JP-A-2001-164292 has been made.
JP-A-7-56357 discloses a first-stage cleaning solution containing a polyhydric alcohol or a derivative thereof, an organic carboxylic acid or a salt thereof, and an alkali hydroxide or an alkaline earth metal, and an inorganic acid alone or an organic carboxylic acid or And a second-stage cleaning solution contained together with the salts.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-164292 contains an organic carboxylic acid or a salt thereof and an organic acid ester.
However, due to the effects of photopolymerization initiators and thermal polymerization inhibitors blended in recent alkali development type photoresists, the above-mentioned adhesive polymers often form poorly soluble deposits called scum. Even the cleaning agent according to the present invention could not be sufficiently cleaned.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a cleaning composition for an alkaline developing apparatus that can effectively remove even a poorly soluble deposit called scum.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have reached the present invention as a result of intensive studies in view of the above.
That is, the present invention provides a compound represented by the general formula R—O— (AO) n —H (1)
Wherein R is a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms or a phenyl group, A is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms which may be the same or different, and n is 0 ≦ containing n 1 type represented by ≦ 20 is the number of) two or more monohydroxy compounds as essential components, pH is characterized by comprising the acidic aqueous solution is 1 or less, alkali-soluble photosensitive The present invention provides a cleaning composition for an alkaline developing device for dissolving and removing scum adhering to a film developing device .
[0007]
The present invention also provides the above-described cleaning composition for an alkaline developing apparatus, wherein the monohydroxy compound is butanol.
[0008]
In the present invention, the monohydroxy compound is
General formula R—O— (AO) n —H (2)
Wherein R is a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms or a phenyl group, A is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms which may be the same or different, and n is 0 The above-mentioned cleaning composition for an alkali developing apparatus is provided that is one or more monohydroxy compounds represented by <n ≦ 20.
[0009]
The present invention also provides the above-described cleaning composition for an alkali developing device, wherein the monohydroxy compound contains butanol and one or more monohydroxy compounds represented by the general formula (2). It is.
[0010]
The present invention also provides the above-described cleaning composition for an alkali developing apparatus, wherein the butanol content is less than 5% by weight of the composition.
[0011]
The present invention also provides the above-described cleaning composition for an alkali developing device, wherein the monohydroxy compound is contained in a proportion of 2 to 70% by weight of the composition.
[0012]
The present invention also provides the above-mentioned cleaning composition for an alkaline developing apparatus, wherein the oxyethylene content in the AO chain in the general formula (2) is 10% by weight or more.
[0013]
The present invention also provides the above-described cleaning composition for an alkali developing device, which contains an organic acid and / or a salt thereof.
[0014]
The present invention also provides the above-described cleaning composition for an alkali developing device, wherein the organic acid contains an organic acid having a hydroxy group.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The monohydroxy compound represented by the general formula (1) used in the alkaline developer cleaning composition of the present invention is considered to be effective in dissolving the hydrophobic organic substance in the scum. Although it will not specifically limit if it is represented by 1), For example, as a specific example of a monohydroxy compound, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1- Monoalcohols such as propanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 3-methyl-1-butanol, 1-hexanol, 2-hexanol, 4-methyl-1-pentanol;
Ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monopentyl ether, ethylene glycol monohexyl ether;
Diethylene glycol monoalkyl ethers such as diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monopentyl ether, diethylene glycol monohexyl ether;
Triethylene glycol monoalkyl ethers such as triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monopentyl ether, triethylene glycol monohexyl ether;
Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monopentyl ether, propylene glycol monohexyl ether;
Dipropylene glycol monoalkyl ethers such as dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monopentyl ether, dipropylene glycol monohexyl ether;
Tripropylene glycol monoalkyl ethers such as tripropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monopropyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monopentyl ether, tripropylene glycol monohexyl ether;
Polyoxyalkylene monoethyl ether composed of oxyethylene and oxypropylene, polyoxyalkylene monopropyl ether composed of oxyethylene and oxypropylene, polyoxyalkylene monobutyl ether composed of oxyethylene and oxypropylene, oxyethylene and oxypropylene Polyoxyalkylene monopentyl ether, oxyethylene and oxypropylene polyoxyalkylene monohexyl ether; oxyethylene and oxybutylene polyoxyalkylene monoethyl ether, oxyethylene and oxybutylene polyoxyalkylene Polyoxyalkylene composed of monopropyl ether, oxyethylene and oxybutylene Monobutyl ether, polyoxyalkylene monopentyl ether composed of oxyethylene and oxybutylene, polyoxyalkylene monohexyl ether composed of oxyethylene and oxybutylene; polyoxyalkylene monoethyl composed of oxyethylene and oxypropylene and oxybutylene Polyoxyalkylene monopropyl ether composed of ether, oxyethylene and oxypropylene and oxybutylene, polyoxyalkylene monobutyl ether composed of oxyethylene and oxypropylene and oxybutylene, polyoxyalkylene composed of oxyethylene and oxypropylene and oxybutylene Monopentyl ether, oxyethylene and oxypropylene and Monoalkyl ethers of polyoxyalkylene such as monohexyl ether of a polyoxyalkylene consisting Kishibuchiren; and phenols can be mentioned.
The monohydroxy compound used in the cleaning composition for an alkali developing device of the present invention may be one type or a mixture of two or more types.
Among the above, those in which R is an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms are preferred.
[0017]
From the viewpoint of more reliably removing scum, the monohydroxy compound used in the alkaline developer cleaning composition of the present invention is preferably 2 to 70% by weight, more preferably 5%, in the composition of the present invention. It is good to mix | blend in the ratio of -60 weight%, Most preferably 10-50 weight%.
[0018]
Of the monohydroxy compounds used in the alkaline developer cleaning composition of the present invention, butanol has the highest scum removability. Therefore, it can be said that the detergent composition for an alkali developing device containing butanol as the monohydroxy compound is suitable for scum removability.
[0019]
However, when only butanol is used as the monohydroxy compound, there is a cost to appropriately maintain the working environment. Therefore, when it is necessary to consider this point, the above mono- compounds other than butanol and butanol are used as the monohydroxy compound. It is preferable to use a hydroxy compound in combination, and it is particularly preferable to use butanol in combination with one or more monohydroxy compounds represented by the general formula (2).
In particular, it is preferable that the butanol content is less than 5% by weight of the composition, because it is not necessary to adopt measures for appropriately maintaining the working environment.
[0020]
Moreover, when using the monohydroxy compound represented by the said General formula (2) as said monohydroxy compound used for the detergent composition for alkaline developing apparatuses of this invention, from a viewpoint of performing scum removal more reliably, Preferably it is AO. The oxyethylene content in the chain should be 10% by weight or more, more preferably 10 to 80% by weight, and most preferably 15 to 65% by weight.
[0021]
The cleaning composition for an alkali developing device of the present invention comprises an acidic aqueous solution containing the monohydroxy compound as an essential component, and the method for making it acidic is not particularly limited, and an organic and / or inorganic acid is used. It should be acidic (preferably from pH 1 or less from the viewpoint of scum removal), but preferably contains an organic acid and / or a salt thereof (preferably 2 to 60% by weight) from the viewpoint of more reliably removing scum. It is good that it is. When using only an organic acid salt, an inorganic acid is used in combination as appropriate.
[0022]
Examples of these organic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, glycolic acid, lactic acid, 2-hydroxybutyric acid, 2-hydroxyisobutyric acid, glyceric acid, malic acid, tartaric acid, methanesulfonic acid, 2 -Hydroxyethanesulfonic acid (isethionic acid), 2-hydroxypropanesulfonic acid, phenolsulfonic acid and the like can be mentioned, and among these, an organic acid having a hydroxy group is particularly preferable. If the organic acid is 10% by weight or more, it can be preferably used.
[0023]
As the cation constituting the organic acid salt, alkali metal, alkaline earth metal, ammonium and the like can be used, preferably alkali metal and ammonium are preferable, and sodium and / or potassium are most suitable in terms of industrial suitability. .
Further, examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and the like.
[0024]
The alkaline developer cleaning composition of the present invention is an acidic aqueous solution containing the above monohydroxy compound as an essential component, and the balance can be water, but is preferable from the viewpoint of the solubility of hydrophobic scum. The water content is preferably 20 to 70% by weight, more preferably 30 to 60% by weight. In addition, any hydrophilic organic solvent can be used for adjusting the water content. Examples of the hydrophilic organic solvent include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxyethylene polyoxypropylene random polymer, polyoxyethylene, and the like. Examples include polyalkylene glycols such as ethylene polyoxypropylene block polymers.
[0025]
【Example】
EXAMPLES Examples of the present invention will be given below to describe the present invention more specifically, but the present invention is not limited to these examples.
[0026]
[Examples 1 to 9]
Asahi Kasei Co., Ltd. dry film photoresist (trade name: Sunfort) was developed with a 1% by weight sodium carbonate aqueous developer, and the scum produced in the developing device was collected. The scum water content was 0.5% by weight. Next, 5 g of dried powder scum was added to 100 g of a cleaning composition for an alkali developing device having the composition shown in Table 1 below, and stirred at 25 ° C. for 30 minutes to examine the dissolution rate (%) of scum. The results are shown in Table 1. As can be seen from Table 1, the detergent composition for an alkali developing device of the present invention is very excellent in scum solubility.
In addition, the composition in a table | surface represents weight%. The scum dissolution rate (%) is
Scum dissolution rate (%) =
[5 g- {not dissolved scum (g)}] / 5 g × 100 (%)
Determined by The amount of scum that did not dissolve was determined by filtering the undissolved scum, collecting it, and weighing it.
[0027]
[Table 1]
The symbols in Table 1 are as follows.
[Monohydroxy compound]
H-1: 1-butanol H-2: 2-methyl-1-propanol H-3: ethylene glycol monoethyl ether H-4: diethylene glycol monobutyl ether H-5: oxyethylene: oxypropylene = 1: 1 (weight ratio) ) Polyoxyalkylene glycol monobutyl ether (random addition type, average molecular weight 550)
H-6: n-C 4 H 8 -O-C 2 H 4 -O- (C 3 H 6 -O) 2 -H
[Hydrophilic organic solvent]
L-1: Polyethylene glycol (average molecular weight 200)
[0029]
[Comparative Examples 1-3]
The same procedure as in Examples 1 to 9 was performed except that the detergent composition for an alkali developing device having the composition shown in Table 2 below was used. The results are shown in Table 2. As is apparent from Table 2, the scum could not be sufficiently dissolved when not according to the present invention.
[0030]
[Table 2]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the cleaning composition for alkaline developing apparatuses which can remove effectively the hardly soluble deposit called scum is provided.
Claims (9)
（式中、Ｒは炭素原子数２〜６の直鎖または分岐のアルキル基またはフェニル基であり、Ａは同一でも異なっていてもよい炭素原子数２〜４のアルキレン基であり、ｎは０≦ｎ≦２０の数である）で表される１種または２種以上のモノヒドロキシ化合物を必須成分として含む、ｐＨが１以下である酸性水溶液からなることを特徴とする、アルカリ可溶型感光膜の現像装置に付着するスカムを溶解除去するための、アルカリ現像装置用洗浄剤組成物。General formula R—O— (AO) n —H (1)
Wherein R is a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms or a phenyl group, A is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms which may be the same or different, and n is 0 ≦ containing n 1 type represented by ≦ 20 is the number of) two or more monohydroxy compounds as essential components, pH is characterized by comprising the acidic aqueous solution is 1 or less, alkali-soluble photosensitive A cleaning composition for an alkaline developing device for dissolving and removing scum adhering to a developing device for a film .
一般式 Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）ｎ−Ｈ （２）
（式中、Ｒは炭素原子数２〜６の直鎖または分岐のアルキル基またはフェニル基であり、Ａは同一でも異なっていてもよい炭素原子数２〜４のアルキレン基であり、ｎは０＜ｎ≦２０の数である）で表される１種または２種以上のモノヒドロキシ化合物である）で表される１種または２種以上のモノヒドロキシ化合物である請求項１に記載のアルカリ現像装置型用洗浄剤組成物。The monohydroxy compound has the general formula R—O— (AO) n —H (2)
Wherein R is a linear or branched alkyl group having 2 to 6 carbon atoms or a phenyl group, A is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms which may be the same or different, and n is 0 The alkali development according to claim 1, which is one or two or more monohydroxy compounds represented by: <a number of n ≦ 20). Device type cleaning composition.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002058973A JP4189158B2 (en) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | Cleaning agent composition for alkali developing device |
| TW92108469A TW200421050A (en) | 2002-03-05 | 2003-04-10 | Detergent composition for alkali development device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002058973A JP4189158B2 (en) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | Cleaning agent composition for alkali developing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003253296A JP2003253296A (en) | 2003-09-10 |
| JP4189158B2 true JP4189158B2 (en) | 2008-12-03 |
Family
ID=28668801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002058973A Expired - Lifetime JP4189158B2 (en) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | Cleaning agent composition for alkali developing device |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4189158B2 (en) |
| TW (1) | TW200421050A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5248173B2 (en) * | 2008-04-04 | 2013-07-31 | 株式会社Ａｄｅｋａ | Acid cleaning composition |
-
2002
- 2002-03-05 JP JP2002058973A patent/JP4189158B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-04-10 TW TW92108469A patent/TW200421050A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW200421050A (en) | 2004-10-16 |
| TWI294458B (en) | 2008-03-11 |
| JP2003253296A (en) | 2003-09-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5888308A (en) | Process for removing residue from screening masks with alkaline solution | |
| JP3953476B2 (en) | Photoresist stripping liquid composition and photoresist stripping method using the same | |
| EP1813667B1 (en) | Cleaning formulations | |
| KR100964801B1 (en) | Photoresist stripper composition, and exfoliation method of a photoresist using it | |
| US7485612B2 (en) | Electronic parts cleaning solution | |
| TWI425323B (en) | Compositions for the removal of post-etch and ashed photoresist residues and bulk photoresist | |
| JP3233279B2 (en) | Cleaning composition and cleaning method | |
| JP4189158B2 (en) | Cleaning agent composition for alkali developing device | |
| KR100898027B1 (en) | Detergent composition for alkali development apparatus | |
| KR101341701B1 (en) | Resist stripper composition and a method of stripping resist using the same | |
| JP2005101479A (en) | Cleaning liquid for semiconductor substrate | |
| WO2004092320A1 (en) | Detergent composition for alkali development apparatus | |
| JP2004035874A (en) | Washing composition and washing method | |
| JP5015553B2 (en) | Aqueous alkaline photoresist cleaning composition and method of using the composition | |
| KR101366904B1 (en) | Stripper composition for removing dry etching residue and stripping method | |
| JP5248173B2 (en) | Acid cleaning composition | |
| JP7165878B2 (en) | Cleaning solution and cleaning method for developing device | |
| JP3051611B2 (en) | Cleaning solution and cleaning method for alkaline developing device | |
| JP5058405B2 (en) | Electronic component cleaning solution | |
| KR101341746B1 (en) | Resist stripper composition and a method of stripping resist using the same | |
| JP5253869B2 (en) | Alkaline detergent composition | |
| JPH08325764A (en) | Removing agent of tin oxide | |
| JP2009062408A (en) | Aqueous detergent composition | |
| JP2005195838A (en) | Positive-type photoresist peeling liquid composition | |
| JP2015040290A (en) | Detergent composition for alkali development device and method for washing alkali development device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050117 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061206 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061219 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070219 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080902 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080912 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4189158 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130919 Year of fee payment: 5 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |