JPH075489A - Image processing device and image processing method - Google Patents
Image processing device and image processing methodInfo
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- JPH075489A JPH075489A JP5146001A JP14600193A JPH075489A JP H075489 A JPH075489 A JP H075489A JP 5146001 A JP5146001 A JP 5146001A JP 14600193 A JP14600193 A JP 14600193A JP H075489 A JPH075489 A JP H075489A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、文字、2次元パターン
などの画像を処理して認識する画像処理装置及び画像処
理方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image processing apparatus and an image processing method for processing and recognizing images such as characters and two-dimensional patterns.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ニューラルネットワークを用いた
画像処理が検討されており、特に2次元の画像情報を高
速に処理する有効な手段として、光ニューラルネットワ
ークの実現が期待されている(石川正俊、光学、第19
巻、第11号、755−761(1990年))。これ
は情報の媒体として光信号を用いるものであり、光の有
する空間並列性及び高速性に注目したものである。中で
も、空間光変調素子を用いた画像処理装置は、光ニュー
ラルネットワークを構成する際のキーデバイスとして重
要である。2. Description of the Related Art In recent years, image processing using a neural network has been studied, and in particular, an optical neural network is expected to be realized as an effective means for processing two-dimensional image information at high speed (Masatoshi Ishikawa, Optics, No. 19
Vol. 11, No. 755-761 (1990)). This uses an optical signal as an information medium, and pays attention to the spatial parallelism and high speed of light. Above all, an image processing device using a spatial light modulator is important as a key device when configuring an optical neural network.
【0003】図15に、従来の画像処理装置に用いられ
ている空間光変調素子の断面図を示す。この空間光変調
素子1501は、対向する2枚の基板1502、150
9間に透明導電性電極1503、1508、光導電層1
504、誘電体反射層1506及び光変調層1507を
挟んだ構造となっている。そして、入力光1510が入
射した部分は光導電層1504の電気抵抗が低下し、光
変調層1507に印加される電圧が増加するので、読み
出し光1511を変調することができる。FIG. 15 shows a sectional view of a spatial light modulator used in a conventional image processing apparatus. The spatial light modulator 1501 includes two substrates 1502 and 150 facing each other.
9, transparent conductive electrodes 1503 and 1508, photoconductive layer 1
504, the dielectric reflection layer 1506, and the light modulation layer 1507 are sandwiched between them. Then, since the electric resistance of the photoconductive layer 1504 is lowered and the voltage applied to the light modulation layer 1507 is increased in the portion where the input light 1510 enters, the read light 1511 can be modulated.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、光ニューラ
ルネットワークの認識能力を向上させるためには、画像
に固有の特徴量を高速かつ正確に抽出することが重要で
ある。By the way, in order to improve the recognition ability of the optical neural network, it is important to quickly and accurately extract the characteristic amount peculiar to the image.
【0005】しかし、従来の空間光変調素子は、単なる
入力装置としての機能を有するものであったり、簡単な
論理演算を実行するものにすぎず、画像に固有の特徴量
を抽出することは不可能であった。However, the conventional spatial light modulator has only a function as an input device or executes a simple logical operation, and it is not possible to extract a characteristic amount peculiar to an image. It was possible.
【0006】また、入力画像の特徴量を抽出するために
は、入力像を光電変換し、画像メモリーに蓄積した後で
計算機によって特徴量を抽出せねばならず、処理に莫大
な時間を必要とし、構成も複雑になるという課題があっ
た。Further, in order to extract the feature amount of the input image, the feature amount must be extracted by a computer after photoelectrically converting the input image and accumulating it in the image memory, which requires a huge amount of time for processing. However, there was a problem that the configuration became complicated.
【0007】本発明は、前記従来技術の課題を解決する
ため、簡単な構成で、入力画像の固有の特徴量を高速か
つ正確に抽出することのできる画像処理装置及び画像処
理方法を提供することを目的とする。In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present invention provides an image processing apparatus and an image processing method which have a simple structure and can extract the characteristic amount of the input image at high speed and accurately. With the goal.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る画像処理装置は、空間光変調素子と、
一軸性の平行平板光学結晶とを少なくとも備えた画像処
理装置であって、前記空間光変調素子が、対向する2枚
の透明導電性電極の間に整流性を有する光導電層と光変
調層とを少なくとも備え、前記光学結晶が、前記空間光
変調素子の光導電層側に設けられ、前記光学結晶の光学
軸が結晶表面の法線となす角度ξが前記(数1)で表記
されることを特徴とする。In order to achieve the above object, an image processing apparatus according to the present invention comprises a spatial light modulator and
An image processing apparatus comprising at least a uniaxial parallel plate optical crystal, wherein the spatial light modulation element has a rectifying photoconductive layer and a light modulation layer between two opposing transparent conductive electrodes. At least, the optical crystal is provided on the photoconductive layer side of the spatial light modulation element, and the angle ξ formed by the optical axis of the optical crystal and a normal line to the crystal surface is represented by the (Equation 1). Is characterized by.
【0009】また、前記構成においては、光学結晶が複
数の領域に分割され、光学軸を結晶表面に投影した方向
が前記複数の領域ごとに異なるのが好ましい。この場合
には、さらに、光学結晶の分割される領域が少なくとも
4つであり、かつ、投影方向が交差する角度が略45
度、略90度及び略135度から選ばれる1つであるの
が好ましい。Further, in the above structure, it is preferable that the optical crystal is divided into a plurality of regions, and the direction in which the optical axis is projected on the crystal surface is different for each of the plurality of regions. In this case, the optical crystal is divided into at least four regions, and the angle at which the projection directions intersect is approximately 45.
It is preferably one selected from degrees, approximately 90 degrees and approximately 135 degrees.
【0010】また、前記構成においては、空間光変調素
子の光導電層と光変調層とが、微小形状に分離された金
属反射膜を介して電気的に接続されているのが好まし
い。また、前記構成においては、光変調層が強誘電性液
晶からなるのが好ましい。Further, in the above structure, it is preferable that the photoconductive layer and the light modulation layer of the spatial light modulation element are electrically connected to each other through the metal reflection film separated into minute shapes. Further, in the above structure, the light modulation layer is preferably made of a ferroelectric liquid crystal.
【0011】また、前記構成においては、空間光変調素
子が入射光量に対して閾値を有し、前記閾値以下の入射
光量に対する光出力は略ゼロであり、前記閾値を超える
入射光量に対する光出力は入射光量に依存することなく
略一定であるのが好ましい。In the above structure, the spatial light modulator has a threshold value for the incident light quantity, the light output for the incident light quantity below the threshold value is substantially zero, and the light output for the incident light quantity exceeding the threshold value is It is preferably substantially constant without depending on the amount of incident light.
【0012】また、本発明に係る画像処理方法は、空間
光変調素子と、一軸性の平行平板光学結晶とを少なくと
も備えた画像処理装置であって、前記空間光変調素子
が、対向する2枚の透明導電性電極の間に整流性を有す
る光導電層と光変調層とを少なくとも備え、前記光学結
晶が、前記空間光変調素子の光導電層側に設けられ、前
記光学結晶の光学軸が結晶表面の法線となす角度ξが前
記(数1)で表記される画像処理装置に、2次元マトリ
ックスによって構成される画像を単色平面波として垂直
入射させ、第1のマトリックスから発生した異常光線と
第2のマトリックスから発生した常光線とを、前記光学
結晶の光線出射側で重なり合わせることを特徴とする。The image processing method according to the present invention is an image processing apparatus comprising at least a spatial light modulation element and a uniaxial parallel plate optical crystal, wherein the spatial light modulation elements are two facing each other. At least a photoconductive layer having a rectifying property and a light modulation layer between the transparent conductive electrodes of, the optical crystal is provided on the photoconductive layer side of the spatial light modulation element, the optical axis of the optical crystal An image composed of a two-dimensional matrix is vertically incident as a monochromatic plane wave on the image processing apparatus whose angle ξ formed by the normal to the crystal surface is expressed by the above (Formula 1), and an extraordinary ray generated from the first matrix is detected. It is characterized in that the ordinary ray generated from the second matrix is superposed on the ray emitting side of the optical crystal.
【0013】また、前記本発明方法の構成においては、
第1のマトリックスと第2のマトリックスとが互いに隣
接するのが好ましい。また、前記本発明方法の構成にお
いては、常光線の光量と異常光線の光量とが略等しく、
閾値が、前記常光線及び異常光線の光量よりも大きく、
かつ、前記常光線及び異常光線の光量の和よりも小さい
のが好ましい。Further, in the constitution of the method of the present invention,
The first matrix and the second matrix are preferably adjacent to each other. In the configuration of the method of the present invention, the amount of ordinary rays and the amount of extraordinary rays are substantially equal,
The threshold value is larger than the light amount of the ordinary ray and the extraordinary ray,
Further, it is preferably smaller than the sum of the light amounts of the ordinary ray and the extraordinary ray.
【0014】また、前記本発明方法の構成においては、
単色平面波が直線偏光であり、偏光方向が前記投影方向
と略45度で交差するのが好ましい。また、前記本発明
方法の構成においては、画像処理装置からの出力をニュ
ーラルネットワークによって処理し、画像を認識するの
が好ましい。Further, in the constitution of the method of the present invention,
It is preferable that the monochromatic plane wave is linearly polarized light, and the polarization direction intersects the projection direction at about 45 degrees. In the configuration of the method of the present invention, it is preferable that the output from the image processing device is processed by a neural network to recognize the image.
【0015】[0015]
【作用】本発明の画像処理装置を構成する空間光変調素
子は、入射光量に対して閾値を有し、閾値以下の入射光
量に対する光出力は略ゼロである。また、閾値を超える
入射光量に対する光出力は、入射光量に依存せず略一定
である。そして、この空間光変調素子の光入射側に一軸
性の平行平板光学結晶が設けてあり、光学結晶の光学軸
が結晶表面の法線となす角度ξは前記(数1)を満たし
ている。The spatial light modulation element constituting the image processing apparatus of the present invention has a threshold value for the incident light quantity, and the optical output for the incident light quantity below the threshold value is substantially zero. Further, the light output with respect to the incident light amount exceeding the threshold value is substantially constant without depending on the incident light amount. A uniaxial parallel plate optical crystal is provided on the light incident side of this spatial light modulator, and the angle ξ formed by the optical axis of the optical crystal and the normal line to the crystal surface satisfies the above (Equation 1).
【0016】この画像処理装置に、2次元マトリックス
によって構成された画像を表わす単色平面波が垂直に入
射した場合を考える。入射した平面波は、光学結晶内で
常光線と異常光線とに分離し、異なる方向に伝播する。
常光線は結晶表面の法線方向に伝播し、異常光線は光学
軸が結晶表面の法線となす角度ξによって決定される特
定の方向に伝播する。このとき、第1のマトリックスか
ら発生した異常光線と、第2のマトリックスから発生し
た常光線とが光学結晶の光線出射側で重なり合うよう
に、光学結晶の厚さ及び画像のマトリックスの大きさを
決定することが可能である。また、光学軸を結晶表面に
投影した方向(以下、投影方向という)と、異常光線の
光線方向の投影方向とが一致することを利用して、第1
のマトリックスに対する第2のマトリックスの方向を任
意に決定することも可能である。さらに、入射平面波を
無偏光にするか、あるいは入射平面波を直線偏光として
偏光方向を光学軸の投影方向と45度で交差させること
により、常光線と異常光線の光量Io 、Ie を略等しく
し、空間光変調素子の閾値αに対して下記(数2)を満
たすように設定することができる。Consider a case where a monochromatic plane wave representing an image formed by a two-dimensional matrix is vertically incident on the image processing apparatus. The incident plane wave is separated into an ordinary ray and an extraordinary ray in the optical crystal and propagates in different directions.
The ordinary ray propagates in the direction normal to the crystal surface, and the extraordinary ray propagates in a specific direction determined by the angle ξ that the optical axis makes with the normal to the crystal surface. At this time, the thickness of the optical crystal and the size of the matrix of the image are determined so that the extraordinary ray generated from the first matrix and the ordinary ray generated from the second matrix overlap each other on the light emitting side of the optical crystal. It is possible to In addition, by utilizing the fact that the direction in which the optical axis is projected on the crystal surface (hereinafter referred to as the projection direction) and the projection direction of the ray direction of the extraordinary ray coincide, the first
It is also possible to arbitrarily determine the direction of the second matrix with respect to the matrix. Further, by making the incident plane wave unpolarized, or by making the incident plane wave linearly polarized and intersecting the polarization direction with the projection direction of the optical axis at 45 degrees, the light quantities I o and I e of the ordinary ray and the extraordinary ray are substantially equal. However, the threshold value α of the spatial light modulator can be set to satisfy the following (Equation 2).
【0017】[0017]
【数2】 [Equation 2]
【0018】以下、本発明の画像処理装置による線分抽
出の原理を説明する。縦方向に隣接するマトリックスの
常光線と異常光線とが光学結晶の光線出射側で重なり合
うように設定することにより、本発明の画像処理装置
は、画像に含まれる縦線分を抽出することができる。い
ま、2次元マトリックス(マトリックスサイズはn×
n)から構成される画像のi行j列に位置するマトリッ
クスをx(i,j)とし、そのマトリックスの値をxij
(1又は0)とする。また、画像を表わす入射平面波の
光量Iijは下記(数3)を満たすものとする。The principle of line segment extraction by the image processing apparatus of the present invention will be described below. By setting the ordinary ray and the extraordinary ray of the vertically adjacent matrix to overlap each other on the light emitting side of the optical crystal, the image processing apparatus of the present invention can extract the vertical line segment included in the image. . Two-dimensional matrix (matrix size is n ×
The matrix is located in row i and column j of the constructed image from n) and x (i, j), the value of the matrix x ij
(1 or 0). In addition, the light quantity I ij of the incident plane wave representing the image satisfies the following ( Equation 3).
【0019】[0019]
【数3】 [Equation 3]
【0020】(数3)において、Ioij 、Ieij は、そ
れぞれ常光線、異常光線の光量であり、(数2)を満た
す。x(i,j)からの異常光線が光学結晶の出射側に
おいてx(i+1,j)の常光線と重なるようにすれ
ば、光学結晶を出射した画像はマトリックスサイズn×
(n+1)の2次元光パターンであり、i行j列に位置
するマトリックスの光量をyijとすれば、yijは下記
(数4)で表記することができる。[0020] In equation (3), I oij, I eij is the amount of each ordinary ray, the extraordinary ray, satisfies the equation (2). If the extraordinary ray from x (i, j) overlaps with the ordinary ray of x (i + 1, j) on the exit side of the optical crystal, the image emitted from the optical crystal has a matrix size n ×
If it is a two-dimensional (n + 1) -dimensional light pattern and the light quantity of the matrix located in the i-th row and the j-th column is y ij , y ij can be expressed by the following ( Equation 4).
【0021】[0021]
【数4】 [Equation 4]
【0022】すなわち、(数4)で表記される2次元光
パターンが空間光変調素子に入力されることになる。従
って、空間光変調素子の出力は、マトリックスサイズn
×(n+1)の2次元パターンとなり、その出力をzij
とすれば、zijは下記(数5)で表記することができ
る。That is, the two-dimensional light pattern represented by (Equation 4) is input to the spatial light modulator. Therefore, the output of the spatial light modulator is the matrix size n
X (n + 1) two-dimensional pattern, whose output is z ij
Then, z ij can be expressed by the following ( Equation 5).
【0023】[0023]
【数5】 [Equation 5]
【0024】前記(数2)、(数3)、(数4)から、
zij=1となるのは下記(数6)が成立する場合であ
る。From the above (Equation 2), (Equation 3), (Equation 4),
z ij = 1 when the following (Equation 6) is satisfied.
【0025】[0025]
【数6】 [Equation 6]
【0026】すなわち、入力画像中に縦線分が存在する
場合(縦方向に隣接するマトリックスが同時に1である
場合)に限り、この空間光変調素子は出力することにな
る。同様に、光学軸の投影方向及び光学結晶の厚さを調
整すれば、横線分、左斜め線分(”/”)、右斜め線分
(”\”)を抽出することができる。このとき、例えば
横線分を抽出するためには、下記(数7)を満たすよう
に設定すればよい。That is, this spatial light modulator outputs only when there is a vertical line segment in the input image (when the vertically adjacent matrixes are 1 at the same time). Similarly, by adjusting the projection direction of the optical axis and the thickness of the optical crystal, the horizontal line segment, the left diagonal line segment ("/"), and the right diagonal line segment ("\") can be extracted. At this time, for example, in order to extract a horizontal line segment, it may be set so as to satisfy the following (Equation 7).
【0027】[0027]
【数7】 [Equation 7]
【0028】同様に、左斜め線分、右斜め線分を抽出す
るためには、それぞれ下記(数8)、(数9)を満たす
ように設定すればよい。Similarly, in order to extract the left diagonal line segment and the right diagonal line segment, the following equations (8) and (9) may be set, respectively.
【0029】[0029]
【数8】 [Equation 8]
【0030】[0030]
【数9】 [Equation 9]
【0031】以上のように、本発明の画像処理装置によ
れば、入力画像から特定の線分を選択的に抽出すること
ができる。次に、本発明の画像処理装置の出力をニュー
ラルネットワークによって処理し、画像を認識する方法
について説明する。As described above, according to the image processing apparatus of the present invention, it is possible to selectively extract a specific line segment from the input image. Next, a method of recognizing an image by processing the output of the image processing apparatus of the present invention with a neural network will be described.
【0032】生体の大脳神経系の入出力動作を模倣して
構成されるニューラルネットワークは、画像などのパタ
ーン認識に優れた能力を発揮できることが知られてい
る。その認識能力を向上させるためには、パターンの変
形に影響されにくい特徴量を抽出することが不可欠であ
る。本発明の画像処理装置は、入力画像から特定の線分
という、パターンの変形に影響されにくい特徴量を抽出
することができる。従って、本発明の画像処理装置の出
力をニューラルネットワークの入力信号として用いれ
ば、高い認識機能を実現することができる。It is known that a neural network constructed by imitating the input / output operation of the cerebral nervous system of a living body can exhibit excellent ability for pattern recognition of images and the like. In order to improve the recognition ability, it is indispensable to extract the feature amount that is not easily affected by the pattern deformation. The image processing apparatus of the present invention can extract a feature amount, which is a specific line segment, that is not easily affected by pattern deformation, from an input image. Therefore, if the output of the image processing apparatus of the present invention is used as the input signal of the neural network, a high recognition function can be realized.
【0033】[0033]
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的
に説明する。 (実施例1)図1は本発明に係る画像処理装置の一実施
例を示す断面図である。この画像処理装置101は、空
間光変調素子103と、一軸性の平行平板光学結晶(以
下、光学結晶という)102とにより構成されている。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. (Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an image processing apparatus according to the present invention. The image processing apparatus 101 includes a spatial light modulator 103 and a uniaxial parallel plate optical crystal (hereinafter referred to as an optical crystal) 102.
【0034】空間光変調素子103は、以下のような構
成となっている。すなわち、透明絶縁性基板104(例
えば、ガラス)上には、透明導電性電極105(例え
ば、ITO(インジウム−スズ酸化物)、ZnO、Sn
O2 など)と、整流性を有する光導電層106(例え
ば、ダイオード構造を有する非晶質シリコン層;p層1
07、i層108、n層109)とが順次積層されてい
る。また、n層109の上には、画素に相当する分離し
た微小形状の金属反射膜110(例えば、Al、Ti、
Cr、Agなどの金属、あるいは2種以上の金属を積層
したもの)と、強誘電性液晶を配向する配向膜111
(例えば、ポリイミド等の高分子薄膜)とが順に配置さ
れている。また、他方の透明絶縁性基板115(例え
ば、ガラス)上にも透明導電性電極114(例えば、I
TO(インジウム−スズ酸化物)、ZnO、SnO2 な
ど)が形成され、その上から配向膜113(例えば、ポ
リイミド等の高分子薄膜)が塗布されている。そして、
両基板間には液晶層112が形成されている。The spatial light modulator 103 has the following structure. That is, on the transparent insulating substrate 104 (eg, glass), the transparent conductive electrode 105 (eg, ITO (indium-tin oxide), ZnO, Sn) is formed.
And O 2, etc.), a photoconductive layer 106 having a rectifying property (e.g., an amorphous silicon layer having a diode structure; p layer 1
07, i layer 108, and n layer 109) are sequentially stacked. Further, on the n-layer 109, a separated minute metal reflection film 110 (for example, Al, Ti,
A metal such as Cr or Ag, or a laminate of two or more kinds of metals) and an alignment film 111 for aligning a ferroelectric liquid crystal
(For example, a polymer thin film such as polyimide) is sequentially arranged. In addition, the transparent conductive electrode 114 (eg, I) is also formed on the other transparent insulating substrate 115 (eg, glass).
TO (indium-tin oxide), ZnO, SnO 2, etc. is formed, and an alignment film 113 (for example, a polymer thin film such as polyimide) is applied thereon. And
A liquid crystal layer 112 is formed between both substrates.
【0035】光導電層106に使用する材料としては、
例えば、CdS、CdTe、CdSe、ZnS、ZnS
e、GaAs、GaN、GaP、GaAlAs、InP
等の化合物半導体、Se、SeTe、AsSe等の非晶
質半導体、Si、Ge、Si 1-x Cx 、Si1-x G
ex 、Ge1-x Cx (0<x<1)等の多結晶又は非晶
質半導体、また、(1)フタロシアニン顔料(Pcと略
す)、例えば、無金属Pc、XPc(X=Cu、Ni、
Co、TiO、Mg、Si(OH)2 など)、AlCl
PcCl、TiOClPcCl、InClPcCl、I
nClPc、InBrPcBrなど、(2)モノアゾ色
素、ジスアゾ色素などのアゾ系色素、(3)ペニレン酸
無水化物及びペニレン酸イミドなどのペニレン系顔料、
(4)インジゴイド染料、(5)キナクリドン顔料、
(6)アントラキノン類、ピレンキノン類などの多環キ
ノン類、(7)シアニン色素、(8)キサンテン染料、
(9)PVK/TNFなどの電荷移動錯体、(10)ビ
リリウム塩染料とポリカーボネイト樹脂から形成される
共晶錯体、(11)アズレニウム塩化合物など有機半導
体がある。The material used for the photoconductive layer 106 is
For example, CdS, CdTe, CdSe, ZnS, ZnS
e, GaAs, GaN, GaP, GaAlAs, InP
Such as compound semiconductor, amorphous such as Se, SeTe, AsSe
Quality semiconductors, Si, Ge, Si 1-xCx, Si1-xG
ex, Ge1-xCxPolycrystalline or amorphous such as (0 <x <1)
Quality semiconductor, and (1) Phthalocyanine pigment (abbreviated as Pc)
), For example, metal-free Pc, XPc (X = Cu, Ni,
Co, TiO, Mg, Si (OH)2Etc.), AlCl
PcCl, TiOClPcCl, InClPcCl, I
(2) Monoazo color such as nClPc, InBrPcBr
Azo dyes such as elementary and disazo dyes, (3) penenylene acid
Penylene-based pigments such as anhydrides and penenylene imides,
(4) indigoid dye, (5) quinacridone pigment,
(6) Polycyclic quinones such as anthraquinones and pyrenequinones
Non-type, (7) Cyanine dye, (8) Xanthene dye,
(9) Charge transfer complex such as PVK / TNF, (10) Bi
Formed from Lilium Salt Dye and Polycarbonate Resin
Eutectic complexes, (11) azurenium salt compounds and other organic semiconductors
I have a body.
【0036】また、非晶質のSi、Ge、Si
1-x Cx 、Si1-x Gex 、Ge1-x Cx (以下、a−
Si、a−Ge、a−Si1-x Cx 、a−Si1-x Ge
x 、a−Ge1-x Cx のように略す)を光導電層106
として使用する場合には、水素又はハロゲン元素を含め
てもよく、誘電率を小さくしたり抵抗率を増加させるた
めに酸素又は窒素を含めてもよい。抵抗率の制御にはp
型不純物であるB、Al、Gaなどの元素、又はn型不
純物であるP、As、Sbなどの元素を添加してもよ
い。このように不純物を添加した非晶質材料を積層して
p/n、p/i、i/n、p/i/nなどの接合を形成
し、光導電層106内に空乏層を形成して誘電率及び暗
抵抗又は動作電圧極性を制御することもできる。また、
このような非晶質材料だけでなく、上記の材料を2種類
以上積層してヘテロ接合を形成し、光導電層106内に
空乏層を形成してもよい。尚、光導電層106の膜厚は
0.1〜10μmの範囲にあるのが好ましい。Amorphous Si, Ge, Si
1-x Cx , Si 1-x Ge x , Ge 1-x C x (hereinafter a-
Si, a-Ge, a-Si 1-x C x , a-Si 1-x Ge
x , a-Ge 1-x C x is abbreviated) as the photoconductive layer 106.
When used as, hydrogen or a halogen element may be included, and oxygen or nitrogen may be included in order to reduce the dielectric constant or increase the resistivity. P for controlling the resistivity
An element such as B, Al, or Ga that is a type impurity, or an element such as P, As, or Sb that is an n-type impurity may be added. In this way, the impurity-added amorphous materials are stacked to form junctions such as p / n, p / i, i / n, and p / i / n, and a depletion layer is formed in the photoconductive layer 106. It is also possible to control the dielectric constant and dark resistance or operating voltage polarity. Also,
In addition to such an amorphous material, two or more kinds of the above materials may be stacked to form a heterojunction and a depletion layer may be formed in the photoconductive layer 106. The thickness of the photoconductive layer 106 is preferably in the range of 0.1 to 10 μm.
【0037】本空間光変調素子103の駆動は、両透明
導電性電極105、114間にパルス電圧を印加するこ
とによってなされる。このパルス電圧の一周期は、整流
性を有する光導電層106に対して順方向バイアスとな
る消去パルスと、光導電層106に対して逆方向バイア
スとなる書き込みパルスとにより構成されている。そし
て、書き込みパルスが印加されている期間に光導電層1
06に書き込み光が入力されない場合には、液晶層11
2はスイッチングせず初期状態のままである。これは、
光導電層106の暗電流が非常に小さいことによる。一
方、書き込みパルスが印加されている期間に光導電層1
06に書き込み光が入力されると、光導電層106内に
入射光強度に概ね比例した光電流が発生し、金属反射膜
110に集められる。液晶層112は閾値機能を有して
いるので、集められた光電流の総和がある一定の閾値を
超えると、液晶層112がスイッチングして読み出し光
117を変調する。すなわち、空間光変調素子103は
入力光量に対して2値化機能を有することになる。尚、
液晶層112の初期化は、消去パルスを印加する際に強
制的に実行される。The spatial light modulator 103 is driven by applying a pulse voltage between the transparent conductive electrodes 105 and 114. One cycle of this pulse voltage is composed of an erase pulse that is forward biased to the rectifying photoconductive layer 106 and a write pulse that is reverse biased to the photoconductive layer 106. Then, while the write pulse is being applied, the photoconductive layer 1
When the writing light is not input to 06, the liquid crystal layer 11
No. 2 does not switch and remains in the initial state. this is,
This is because the dark current of the photoconductive layer 106 is very small. On the other hand, while the write pulse is being applied, the photoconductive layer 1
When the writing light is input to 06, a photocurrent that is approximately proportional to the incident light intensity is generated in the photoconductive layer 106 and is collected in the metal reflection film 110. Since the liquid crystal layer 112 has a threshold function, when the sum of the collected photocurrents exceeds a certain threshold value, the liquid crystal layer 112 switches to modulate the read light 117. That is, the spatial light modulator 103 has a binarizing function for the amount of input light. still,
The liquid crystal layer 112 is forcibly initialized when the erase pulse is applied.
【0038】次に、上記構成を有する空間光変調素子の
製造方法を図1を参照しながら説明する。まず、40m
m×40mm×0.3mmのガラス基板104上に、ス
パッタ蒸着法によってITOを1000オングストロー
ムの膜厚で成膜し、透明導電性電極105を形成する。
次いで、プラズマCVD法によってp/i/nダイオー
ド構造の水素化アモルファスシリコン(a−Si:H)
膜を2μmの膜厚で積層し、光導電層106を形成す
る。ここで、p層107には不純物としてB(ホウ素)
が400ppmだけドーピングされており、n層109
にはP(燐)が40ppmだけドーピングされている。
また、p層107の膜厚は1000オングストローム、
i層108の膜厚は17000オングストローム、n層
109の膜厚は2000オングストロームである。次い
で、光導電層106の上に、真空蒸着法によってCr
(クロム)を2000オングストロームの膜厚で成膜
し、フォトリソグラフィーによって金属反射膜110を
パターン形成する。すなわち、各画素の大きさを20μ
m×20μm、ピッチを5μmとして、1000×10
00画素の互いに分離された金属反射膜110を形成す
る。そして、この上からスピンコート法によってポリア
ミック酸を塗布し、熱硬化を施してポリイミド配向膜1
11を形成する。このときのポリイミド配向膜111の
膜厚は100オングストロームである。配向処理(ラビ
ング処理)はナイロン布で表面を一定方向に擦ることに
よって行う。Next, a method of manufacturing the spatial light modulator having the above structure will be described with reference to FIG. First, 40m
On a glass substrate 104 of m × 40 mm × 0.3 mm, ITO is formed into a film having a film thickness of 1000 angstrom by a sputter vapor deposition method to form a transparent conductive electrode 105.
Then, hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) having a p / i / n diode structure is formed by a plasma CVD method.
The films are stacked with a thickness of 2 μm to form the photoconductive layer 106. Here, B (boron) is used as an impurity in the p layer 107.
Is doped at 400 ppm, and the n-layer 109
Is doped with P (phosphorus) by 40 ppm.
Further, the p-layer 107 has a film thickness of 1000 angstroms,
The thickness of the i layer 108 is 17,000 angstroms, and the thickness of the n layer 109 is 2000 angstroms. Then, Cr is deposited on the photoconductive layer 106 by a vacuum deposition method.
(Chromium) is formed to a film thickness of 2000 angstrom, and the metal reflection film 110 is patterned by photolithography. That is, the size of each pixel is 20μ
m × 20 μm, pitch 5 μm, 1000 × 10
A metal reflection film 110 of 00 pixels, which is separated from each other, is formed. Then, a polyamic acid is applied thereon by a spin coating method, and thermosetting is applied to the polyimide alignment film 1.
11 is formed. At this time, the film thickness of the polyimide alignment film 111 is 100 angstrom. The orientation treatment (rubbing treatment) is performed by rubbing the surface in a certain direction with a nylon cloth.
【0039】他方のガラス基板115の上にも、同様に
してITOからなる透明導電性電極114と、ポリイミ
ド配向膜113とを順に形成し、配向処理を施す。次い
で、このガラス基板115の上に直径1μmのビーズを
分布させ、ガラス基板104を張り合わせて両基板間に
1μmの間隙を形成する。そして、この間隙部分に強誘
電性液晶を注入して熱処理を施すことにより、両基板間
に1μm厚の液晶層112を形成する。以上により、図
1に示す空間光変調素子103が得られる。Similarly, a transparent conductive electrode 114 made of ITO and a polyimide alignment film 113 are sequentially formed on the other glass substrate 115 and subjected to alignment treatment. Then, beads having a diameter of 1 μm are distributed on the glass substrate 115, and the glass substrate 104 is bonded to form a gap of 1 μm between the two substrates. Then, the liquid crystal layer 112 having a thickness of 1 μm is formed between both substrates by injecting a ferroelectric liquid crystal into the gap and performing a heat treatment. From the above, the spatial light modulator 103 shown in FIG. 1 is obtained.
【0040】本発明の画像処理装置101においては、
空間光変調素子103の光導電層106側に光学結晶1
02が設けられている。光学結晶102としては、正の
一軸性結晶でも負の一軸性結晶でもよい。正の一軸性結
晶としては、例えば、水晶(SiO2 )、ルチル(Ti
O2 )、フッ化マグネシウム(MgF2 )などを用いる
ことができる。また、負の一軸性結晶としては、例え
ば、方解石(CaCO 3 )、硝酸ナトリウム(NaNo
3 )、酸化アルミニウム(Al2 O3 )などを用いるこ
とができる。In the image processing apparatus 101 of the present invention,
The optical crystal 1 is provided on the photoconductive layer 106 side of the spatial light modulator 103.
02 is provided. As the optical crystal 102,
It may be a uniaxial crystal or a negative uniaxial crystal. Positive uniaxial bond
As the crystal, for example, quartz (SiO2), Rutile (Ti
O2), Magnesium fluoride (MgF2) Etc.
be able to. Also, as a negative uniaxial crystal, for example,
For example, calcite (CaCO 3), Sodium nitrate (NaNo
3), Aluminum oxide (Al2O3) Etc.
You can
【0041】次に、この光学結晶102の動作について
説明する。一般に、異方性光学結晶に入射した平面波
は、常光線と異常光線とに分離して結晶内を伝播する。
従って、結晶の光線出射側においては、2本の光線が観
測されることになる。このような異方性光学結晶内の光
波の伝播は、波面法線楕円体を用いて説明することがで
きる。図2に、正の一軸性光学結晶に入射した単色平面
波の伝播方向を決定するための波面法線楕円体を示す。
z軸を光学軸の方向に採れば、x軸、y軸は任意に採る
ことができるが、簡単のため、異常光線の偏光面をzx
面とする。いま、異常光線の波面法線方向をs、電界ベ
クトルをE、電気変位ベクトルをDとすれば、下記(数
10)が成立する。Next, the operation of the optical crystal 102 will be described. Generally, a plane wave incident on an anisotropic optical crystal is separated into an ordinary ray and an extraordinary ray and propagates in the crystal.
Therefore, two light rays are observed on the light emitting side of the crystal. The propagation of light waves in such an anisotropic optical crystal can be explained using a wavefront normal ellipsoid. FIG. 2 shows a wavefront normal ellipsoid for determining the propagation direction of a monochromatic plane wave incident on a positive uniaxial optical crystal.
If the z axis is taken in the direction of the optical axis, the x axis and the y axis can be taken arbitrarily, but for simplicity, the plane of polarization of the extraordinary ray is zx.
Face. Assuming that the wavefront normal direction of the extraordinary ray is s, the electric field vector is E, and the electric displacement vector is D, the following (Equation 10) is established.
【0042】[0042]
【数10】 [Equation 10]
【0043】(数10)において、ψ、θは、それぞれ
D、Eがz軸となす角度である。(数10)より、ψの
正接は下記(数11)で表記することができる。In (Equation 10), ψ and θ are angles formed by D and E with the z-axis, respectively. From (Equation 10), the tangent of ψ can be expressed by the following (Equation 11).
【0044】[0044]
【数11】 [Equation 11]
【0045】(数11)において、no 、ne は、それ
ぞれ常光線、異常光線に対する屈折率である。異常光線
の光線方向をt、波面法線方向sとなす角をδとすれ
ば、δの正接は下記(数12)で表記することができ
る。In (Equation 11), n o and n e are refractive indices for ordinary rays and extraordinary rays, respectively. When the ray direction of the extraordinary ray is t and the angle formed with the wavefront normal direction s is δ, the tangent of δ can be expressed by the following (Equation 12).
【0046】[0046]
【数12】 [Equation 12]
【0047】常光線の光線方向tは波面法線方向sと一
致しているため、δは常光線と異常光線の光線方向の差
に等しい。(数12)より、|tanδ|の最大値は、
tanψ=no /ne のときに下記(数13)によって
与えられる。Since the ray direction t of the ordinary ray coincides with the wavefront normal direction s, δ is equal to the difference between the ray directions of the ordinary ray and the extraordinary ray. From (Equation 12), the maximum value of | tanδ |
It is given by the following equation (13) when the tanψ = n o / n e.
【0048】[0048]
【数13】 [Equation 13]
【0049】同様の解析は、負の一軸性光学結晶の場合
にも成立する。図3に負の一軸性光学結晶の場合の波面
法線楕円体を示す。ここでは、光学軸をx軸に、異常光
線の偏光面をzx面に採っている。そして、この場合に
も、前記(数12)、(数13)がそのまま成立し、常
光線と異常光線とが分離して結晶内を伝播する。A similar analysis holds for a negative uniaxial optical crystal. FIG. 3 shows a wavefront normal ellipsoid in the case of a negative uniaxial optical crystal. Here, the optical axis is taken as the x-axis and the plane of polarization of extraordinary rays is taken as the zx plane. Then, also in this case, the above (Equation 12) and (Equation 13) are satisfied as they are, and the ordinary ray and the extraordinary ray are separated and propagate in the crystal.
【0050】以上のことを踏まえ、本実施例1の画像処
理装置101に用いた平行平板の正の一軸性光学結晶1
02に対して、単色平面波が垂直に入射した場合の光波
の伝播について説明する。Based on the above, the parallel plate positive uniaxial optical crystal 1 used in the image processing apparatus 101 of the first embodiment.
02, the propagation of a light wave when a monochromatic plane wave is vertically incident will be described.
【0051】図4に波面法線楕円体を示す。異常光線の
波面法線方向sは結晶表面Σの法線方向と一致している
が、光線方向tは波面法線方向sと角度δだけずれてい
る。δの正接は前記(数12)で表記され、光学軸と結
晶表面の法線とのなす角ξ(0<ξ=90−ψ<90)
によって下記(数14)のように表記することができ
る。FIG. 4 shows a wavefront normal ellipsoid. The wavefront normal direction s of the extraordinary ray coincides with the normal direction of the crystal surface Σ, but the ray direction t is deviated from the wavefront normal direction s by an angle δ. The tangent of δ is expressed by the above (Equation 12), and the angle ξ (0 <ξ = 90−ψ <90) formed by the optical axis and the normal to the crystal surface is formed.
Can be expressed by the following (Equation 14).
【0052】[0052]
【数14】 [Equation 14]
【0053】一方、結晶内の常光線の光線方向tは、結
晶表面Σの法線方向と一致する。従って、結晶の厚さを
dとすれば、結晶の光線出射側においては、常光線と異
常光線とがずれることになり、ずれ幅Δは下記(数1
5)で表記することができる。On the other hand, the ray direction t of the ordinary ray in the crystal coincides with the normal direction of the crystal surface Σ. Therefore, assuming that the thickness of the crystal is d, the ordinary ray and the extraordinary ray are deviated on the light emitting side of the crystal, and the deviation width Δ is as follows.
It can be described in 5).
【0054】[0054]
【数15】 [Equation 15]
【0055】ここで、光学結晶102の働きをまとめる
と、以下のようになる。 (1)垂直に入射した平面波が、光学結晶102中を常
光線と異常光線とに分離して伝播する。 (2)光学軸と結晶表面の法線とのなす角ξと、結晶の
厚さdとにより、結晶の裏面における常光線と異常光線
とのずれ幅Δを調節することができる。 (3)異常光線の光線方向を結晶表面に投影した方向と
光学軸の投影方向とが一致することを利用すれば、異常
光線のずれ方向を任意に設定することができる。Here, the functions of the optical crystal 102 are summarized as follows. (1) A vertically incident plane wave propagates in the optical crystal 102 while being separated into an ordinary ray and an extraordinary ray. (2) The deviation width Δ between the ordinary ray and the extraordinary ray on the back surface of the crystal can be adjusted by the angle ξ formed by the optical axis and the normal to the crystal surface and the thickness d of the crystal. (3) The deviation direction of the extraordinary ray can be arbitrarily set by utilizing the fact that the direction of the extraordinary ray projected on the crystal surface and the projection direction of the optical axis coincide with each other.
【0056】次に、本発明の画像処理装置101を用
い、画像から縦線分を抽出する画像処理方法について説
明する。図5は縦線分を抽出する画像処理装置に用いる
光学結晶を光線の入射側から眺めた平面図である。画像
を表わす単色平面波は、この光学結晶501に垂直に入
射する。従って、入射平面波の波面法線方向は紙面に垂
直である。このとき、入射平面波を直線偏光とし、その
偏光方向503を光軸の結晶表面への投影方向502と
45度で交差するように設定する。これにより、結晶内
で発生する常光線の光量Io と異常光線の光量Ie を略
等しくすることができる。Next, an image processing method for extracting vertical line segments from an image using the image processing apparatus 101 of the present invention will be described. FIG. 5 is a plan view of an optical crystal used in an image processing apparatus for extracting a vertical line segment, as viewed from the light incident side. A monochromatic plane wave representing an image is vertically incident on the optical crystal 501. Therefore, the wavefront normal direction of the incident plane wave is perpendicular to the paper surface. At this time, the incident plane wave is linearly polarized, and its polarization direction 503 is set to intersect the projection direction 502 of the optical axis on the crystal surface at 45 degrees. As a result, the light quantity I o of the ordinary ray and the light quantity I e of the extraordinary ray generated in the crystal can be made substantially equal.
【0057】いま、入射平面波は、図6(a)に示した
入力画像を表わすものと仮定する。このときの座標系
を、前記(作用)で記述したように定義する。すなわ
ち、2次元マトリックス(マトリックスサイズは8×
8)から構成される画像のi行j列に位置するマトリッ
クスをx(i,j)とし、そのマトリックスの値をxij
(1又は0)とする。また、画像を表わす入射平面波の
光量Iijは、前記(数2)、(数3)を満たすものとす
る。また、前記(数15)で表記される常光線と異常光
線のずれ幅Δを、1つのマトリックスの大きさと略一致
させることにより、光学結晶501を出射した画像はマ
トリックスサイズ8×9の2次元光パターンである、ま
た、i行j列に位置するマトリックスの光量をyijとす
れば、yijは前記(数4)で表記することができる。Now assume that the incident plane wave represents the input image shown in FIG. 6 (a). The coordinate system at this time is defined as described in the above (action). That is, a two-dimensional matrix (the matrix size is 8 ×
The matrix located at the i-th row and the j-th column of the image composed of 8) is x (i, j), and the value of the matrix is x ij
(1 or 0). Further, the light quantity I ij of the incident plane wave representing the image satisfies the above-mentioned ( Equation 2) and (Equation 3). In addition, by making the deviation width Δ between the ordinary ray and the extraordinary ray expressed by the above (Equation 15) substantially equal to the size of one matrix, the image emitted from the optical crystal 501 is a two-dimensional matrix of size 8 × 9. If y ij is the light quantity of the matrix located at the i-th row and the j-th column, y ij can be expressed by the above ( Equation 4).
【0058】従って、光学結晶501からの出射光(す
なわち、空間光変調素子103への入射パターン)は図
6(b)に示すようになる。ここで、マトリックス60
1は異常光線、マトリックス602は常光線、マトリッ
クス603は常光線と異常光線とが重なり合った部分を
示す。常光線及び異常光線の光量は前記(数2)を満た
すことから、空間光変調素子103の出力Zは、前記
(数4)、(数5)から図6(c)のようになる。図6
(c)を入力画像である図6(a)と比較すれば明らか
なように、本発明の画像処理装置101の出力は、入力
画像から縦線分だけを選択的に抽出した結果となる。Therefore, the light emitted from the optical crystal 501 (that is, the incident pattern on the spatial light modulator 103) is as shown in FIG. 6B. Where matrix 60
Reference numeral 1 indicates an extraordinary ray, matrix 602 indicates an ordinary ray, and matrix 603 indicates a portion where the ordinary ray and the extraordinary ray overlap. Since the light quantities of the ordinary ray and the extraordinary ray satisfy the above (Equation 2), the output Z of the spatial light modulator 103 is as shown in FIG. 6C from the above (Equation 4) and (Equation 5). Figure 6
As is apparent by comparing (c) with FIG. 6A which is the input image, the output of the image processing apparatus 101 of the present invention is the result of selectively extracting only the vertical line segment from the input image.
【0059】(実施例2)図7は4方向の線分を選択的
に抽出できる画像処理装置に用いる光学結晶を示す平面
図である。この光学結晶701は4つの領域(702〜
705)に分割されており、各領域における光学軸の結
晶表面への投影方向は領域ごとに異なっている。すなわ
ち、各々の投影方向が互いになす角は、45度、90
度、135度のいずれかである。また、領域702と領
域703のずれ幅Δは、入力画像を構成する一つのマト
リックスの大きさと略一致しており、領域704及び領
域705のずれ幅Δ’と下記(数16)の関係を満たす
ように設定されている。(Embodiment 2) FIG. 7 is a plan view showing an optical crystal used in an image processing apparatus capable of selectively extracting line segments in four directions. This optical crystal 701 has four regions (702 to 702).
705), and the projection direction of the optical axis in each region onto the crystal surface is different for each region. That is, the angles formed by the respective projection directions are 45 degrees and 90 degrees.
Or 135 degrees. Further, the shift width Δ between the regions 702 and 703 is substantially equal to the size of one matrix forming the input image, and the shift width Δ ′ between the regions 704 and 705 and the following (Equation 16) are satisfied. Is set.
【0060】[0060]
【数16】 [Equation 16]
【0061】また、入射光を無偏光とすることにより、
各領域における常光線の光量と異常光線の光量とはほぼ
等しくされている。尚、本実施例2の画像処理装置に用
いた空間光変調素子の構成は、実施例1で用いた空間光
変調素子103と同様である。By making the incident light non-polarized,
The light quantity of the ordinary ray and the light quantity of the extraordinary ray in each region are made substantially equal. The structure of the spatial light modulator used in the image processing apparatus of the second embodiment is the same as that of the spatial light modulator 103 used in the first embodiment.
【0062】本画像処理装置の4つの領域に、図6
(a)に示す画像を表わす単色平面波を各領域に同時に
入力したところ、図8に示す出力が得られた。これによ
り、本実施例2の画像処理装置を用いれば、入力画像か
ら4方向の線分を選択的に抽出できることが確認でき
た。The four areas of the image processing apparatus are shown in FIG.
When a monochromatic plane wave representing the image shown in (a) was simultaneously input to each area, the output shown in FIG. 8 was obtained. From this, it was confirmed that line segments in four directions can be selectively extracted from the input image by using the image processing apparatus of the second embodiment.
【0063】(実施例3)図9は本発明に係る画像処理
装置の他の実施例を示す断面図である。本実施例3の画
像処理装置901の基本的構造及び動作は、図1の画像
処理装置101と同様であるが、金属反射膜110の代
わりに全面に誘電体の反射膜907を形成した構造の空
間光変調素子903を具備している。また、光学結晶9
02は、実施例2で用いた光学結晶701と同様の構
成、配置である。(Embodiment 3) FIG. 9 is a sectional view showing another embodiment of the image processing apparatus according to the present invention. The basic structure and operation of the image processing apparatus 901 of the third embodiment are the same as those of the image processing apparatus 101 of FIG. 1, except that a dielectric reflecting film 907 is formed on the entire surface instead of the metal reflecting film 110. The spatial light modulator 903 is provided. Also, the optical crystal 9
02 has the same configuration and arrangement as the optical crystal 701 used in the second embodiment.
【0064】この画像処理装置901の4つの領域に、
図6(a)に示す画像を表わす単色平面波を各領域に同
時に入力したところ、図8に示す出力が得られた。これ
により、本実施例3の画像処理装置901を用いれば、
入力画像から4方向の線分を選択的に抽出できることが
確認できた。In the four areas of the image processing apparatus 901,
When a monochromatic plane wave representing the image shown in FIG. 6 (a) was simultaneously input to each region, the output shown in FIG. 8 was obtained. Accordingly, if the image processing apparatus 901 of the third embodiment is used,
It was confirmed that line segments in four directions can be selectively extracted from the input image.
【0065】(実施例4)図10は本発明に係る画像処
理装置のさらに他の実施例を示す断面図である。本実施
例4における画像処理装置1001の基本的構造及び動
作は、図1の画像処理装置101と同様であるが、光学
結晶1002を空間光変調素子1003の入射側の基板
として用いている点で相違している。光学結晶1002
は、実施例2で用いた光学結晶701と同様の構成、配
置である。(Embodiment 4) FIG. 10 is a sectional view showing still another embodiment of the image processing apparatus according to the present invention. The basic structure and operation of the image processing apparatus 1001 according to the fourth embodiment are similar to those of the image processing apparatus 101 of FIG. 1, but the optical crystal 1002 is used as a substrate on the incident side of the spatial light modulator 1003. It's different. Optical crystal 1002
The configuration and arrangement are the same as those of the optical crystal 701 used in Example 2.
【0066】この画像処理装置1001の4つの領域
に、図6(a)の画像を表わす単色平面波を各領域に同
時に入力したところ、図8に示す出力が得らた。これに
より、本実施例4の画像処理装置1001を用いれば、
入力画像から4方向の線分を選択的に抽出できることが
確認できた。When a monochromatic plane wave representing the image of FIG. 6A was simultaneously input to each of the four areas of the image processing apparatus 1001, the output shown in FIG. 8 was obtained. Thus, if the image processing apparatus 1001 of the fourth embodiment is used,
It was confirmed that line segments in four directions can be selectively extracted from the input image.
【0067】(実施例5)図11は、本発明の画像処理
方法に基づき、実施例2で用いた画像処理装置を用いて
構成した画像認識装置の構成図である。本実施例5の画
像認識装置1101は、レーザー1102、タブレット
1103、ビームイクスパンダー1104、液晶テレビ
1105、画像処理装置1111、面光源1106、偏
光子1107、ビームスプリッタ1108、検光子11
09、CCDカメラ1110、コンピュータ1112に
より構成されている。この画像認識装置1101におい
ては、レーザー1102からのビームをビームイクスパ
ンダ1104によって拡大して液晶テレビ1105に入
力する。液晶テレビ1105は、タブレット1103か
ら入力された画像を4つ表示する。画像処理装置111
1は、入力された画像から4方向の線分を選択的に抽出
する。抽出した結果は、面光源1106からの読み出し
光を偏光子1107を介して画像処理装置1111の強
誘電性液晶に入力し、反射光をビームスプリッタ110
8によって取り出し、検光子1109を通過させること
によって得ることができる。画像処理装置1111の出
力はCCDカメラ1110で撮像され、コンピュータ1
112に送られる。コンピュータ1112は、ニューラ
ルネットワークによって撮像結果を処理し、画像を認識
する。(Embodiment 5) FIG. 11 is a block diagram of an image recognition apparatus constructed by using the image processing apparatus used in Embodiment 2 based on the image processing method of the present invention. The image recognition device 1101 according to the fifth embodiment includes a laser 1102, a tablet 1103, a beam expander 1104, a liquid crystal television 1105, an image processing device 1111, a surface light source 1106, a polarizer 1107, a beam splitter 1108, and an analyzer 11.
09, a CCD camera 1110, and a computer 1112. In the image recognition device 1101, the beam from the laser 1102 is expanded by the beam expander 1104 and input to the liquid crystal television 1105. The liquid crystal television 1105 displays four images input from the tablet 1103. Image processing device 111
1 selectively extracts line segments in four directions from the input image. The extracted result is that the readout light from the surface light source 1106 is input to the ferroelectric liquid crystal of the image processing apparatus 1111 via the polarizer 1107, and the reflected light is reflected by the beam splitter 110.
Can be obtained by passing through the analyzer 1109. The output of the image processing device 1111 is captured by the CCD camera 1110, and the computer 1
Sent to 112. The computer 1112 processes an image pickup result by a neural network and recognizes an image.
【0068】次に、本実施例5の画像認識装置に用いた
ニューラルネットワークモデルについて説明する。図1
2にニューラルネットワークモデルの概略図を示す。使
用したモデルは、人間の大脳の神経細胞と類似の入出力
動作を行うニューロン(神経細胞)を2次元に配置した
4層のニュ−ロン層を有する。このニューラルネットワ
ークモデルは、図6(a)に示すような2次元のビット
イメージで与えられる入力画像から、「縦」、「横」、
「左斜め」、「右斜め」の4方向の線分が画像のどの位
置にどの程度の長さで存在しているか、という線分情報
を抽出し、画像を認識するものである。従って、このニ
ューラルネットワークモデルを、例えば文字認識に応用
することにより、手書き文字の認識が可能となる。Next, the neural network model used in the image recognition apparatus of the fifth embodiment will be described. Figure 1
Figure 2 shows a schematic diagram of the neural network model. The model used has four neuron layers in which two-dimensionally arranged neurons (nerve cells) that perform input / output operations similar to those of human cerebral nerve cells are arranged. This neural network model is used to calculate "vertical", "horizontal", "vertical" from an input image given by a two-dimensional bit image as shown in FIG.
The image is recognized by extracting line segment information indicating at what position and in what length the line segment in four directions of "left diagonal" and "right diagonal" exists. Therefore, by applying this neural network model to, for example, character recognition, handwritten characters can be recognized.
【0069】次に、ニューラルネットワークの動作につ
いて説明する。入力層1201は、図6(a)に示す8
×8の64個のデータを有する2次元のビットイメージ
を入力するものであり、8×8の64個のニューロンに
よって構成されている。第2層1202のニューロンは
8×8を一つの単位とする4つの領域1203〜120
6に分割されており、合計8×8×4の256個のニュ
ーロンを有している。第2層1202の各領域1203
〜1206は、それぞれ入力層(第1層)1201と特
殊な結合をしており、各領域は2次元のビットイメージ
を構成する4方向の線分に対応している。すなわち、領
域1203の各ニューロンは入力層(第1層)1201
のニューロンの中で、対応するニューロン(2次元座標
が同じ)及びその上に隣接するニューロンと結合するこ
とにより、「縦方向」の線分を抽出することができる。
同様に、領域1204の各ニューロンは対応するニュー
ロン及びその左に隣接するニューロンと、領域1205
の各ニューロンは対応するニューロン及びその右斜め上
に隣接するニューロンと、領域1206の各ニューロン
は対応するニューロン及びその左斜め上に隣接するニュ
ーロンと結合することにより、それぞれ「横方向」、
「左斜め方向」、「右斜め方向」の線分を抽出すること
ができる。これらの結合は、それぞれ前記(数4)、
(数7)、(数8)、(数9)と対応しており、実施例
2で用いた光学結晶701によって実現することができ
る。Next, the operation of the neural network will be described. The input layer 1201 is 8 shown in FIG.
It is for inputting a two-dimensional bit image having 64 data of 8 × 8, and is constituted by 64 neurons of 8 × 8. The neurons of the second layer 1202 have four regions 1203 to 120, each of which has 8 × 8 as one unit.
It is divided into 6 and has a total of 8 × 8 × 4 256 neurons. Each area 1203 of the second layer 1202
Reference numerals 1206 to 1206 are specially coupled to the input layer (first layer) 1201, and each region corresponds to a line segment in four directions forming a two-dimensional bit image. That is, each neuron in the region 1203 has an input layer (first layer) 1201
The "vertical direction" line segment can be extracted by connecting the corresponding neuron (having the same two-dimensional coordinates) and the adjacent neuron thereamong.
Similarly, each neuron in the region 1204 has a corresponding neuron and a neuron adjacent to the left of the corresponding neuron in the region 1205.
Each of the neurons of “1” is connected to the corresponding neuron and its adjacent diagonally upper right, and each of the neurons in the region 1206 is connected to the corresponding neuron and the adjacent neuron adjacent to its left diagonal “laterally”,
It is possible to extract line segments in the “left diagonal direction” and the “right diagonal direction”. These bonds are respectively expressed by the above (Equation 4),
It corresponds to (Equation 7), (Equation 8), and (Equation 9), and can be realized by the optical crystal 701 used in the second embodiment.
【0070】第2層1202の各領域は、それぞれ9つ
の小領域に分割されている。すなわち、行、列方向にお
いて、それぞれ3つの領域に分割されている。この小領
域は、2次元のビットイメージを9つの領域に分割する
ことに相当するので、例えば領域1203内のニューロ
ンの出力は、縦方向の線分が存在していることを意味
し、領域1203のどの小領域のニューロンが出力する
かによって、縦方向の線分の存在位置を確認することが
できる。さらに、各小領域内のすべてのニューロンは、
第3層1207の対応する1つのニューロンと結合して
いる。従って、第3層1207の各ニューロンは、第2
層1202のどの小領域のニューロンと結合しているか
によって、対応する線分の方向及び存在位置が異なる。
すなわち、第3層1207の各ニューロンの出力状態
は、2次元のビットパターンを構成する線分として、ど
の方向の線分がパターンのどの部分にどの程度の長さで
存在しているか、という文字に固有の特徴を表す。Each area of the second layer 1202 is divided into nine small areas. That is, it is divided into three regions in the row and column directions. Since this small area corresponds to dividing the two-dimensional bit image into nine areas, for example, the output of the neuron in the area 1203 means that a vertical line segment exists, and the area 1203 The existence position of the vertical line segment can be confirmed depending on which of the small regions of the neuron outputs. Furthermore, all neurons in each subregion are
It is connected to one corresponding neuron in the third layer 1207. Therefore, each neuron in the third layer 1207 has a second
The direction and position of the corresponding line segment differ depending on which small region of the layer 1202 the neuron is connected to.
That is, the output state of each neuron of the third layer 1207 is a line segment that constitutes a two-dimensional bit pattern, and indicates in what direction and in what part of the line segment the line segment exists. Represents the unique features of.
【0071】第3層1207の各ニューロンは、第4層
1208のすべてのニューロンと結合しており、第4層
1208では入力信号の総和が最も大きなニューロンだ
けが出力する。アルファベット26文字を認識する場合
には、第4層1208は26個のニューロンを有し、各
ニューロンが1つのアルファベットに対応する。そし
て、出力したニューロンに対応するアルファベットが認
識結果である。尚、学習は、第3層1207と第4層1
208の結合について直交学習法を用いて行い、他のシ
ナプス荷重はすべて同じ値に固定する。Each neuron in the third layer 1207 is connected to all neurons in the fourth layer 1208, and only the neuron having the largest total sum of input signals is output in the fourth layer 1208. When recognizing 26 letters of the alphabet, the fourth layer 1208 has 26 neurons, and each neuron corresponds to one alphabet. The alphabet corresponding to the output neuron is the recognition result. In addition, learning is performed in the third layer 1207 and the fourth layer 1
The connection of 208 is performed using the orthogonal learning method, and all other synaptic weights are fixed to the same value.
【0072】次に、図11、図13を参照しながら具体
的な認識過程について説明する。図13(a)、
(a’)はタブレット1103に入力された手書き文字
である。この文字は、(b)、(b’)に示されたよう
に8×8のマトリックスパターンに変換され、液晶テレ
ビ1105に4つだけ表示される。ビームイクスパンダ
1104によって拡大されたレーザー光は、液晶テレビ
1105に入射し、画像を表わす平面波として画像処理
装置1111に垂直に入力する。画像処理装置1111
の出力は、実施例1及び実施例2で説明したように、4
方向の線分を選択的に抽出した結果であり、図13
(c)、(c’)のようになる。これが中間層の出力で
ある。この画像をCCDカメラ1110で撮像し、第2
層の小領域ごとに加算したものが第3層1207(図1
2参照)の出力である(図13(d)、(d’))。黒
丸の直径が加算された線分の長さである。第3層120
7の各ニューロンを第4層1208(図12参照)のす
べてのニューロンと結合させることによって、最終的な
認識を実行することになるが、この第3層1207と第
4層1208の動作は、コンピュータ1112によって
実現される。Next, a specific recognition process will be described with reference to FIGS. 11 and 13. FIG. 13 (a),
(A ′) is a handwritten character input to the tablet 1103. This character is converted into an 8 × 8 matrix pattern as shown in (b) and (b ′), and only four characters are displayed on the liquid crystal television 1105. The laser light expanded by the beam expander 1104 enters the liquid crystal television 1105 and is vertically input to the image processing device 1111 as a plane wave representing an image. Image processing device 1111
Output is 4 as described in the first and second embodiments.
13 is a result of selectively extracting line segments in the direction, and FIG.
It becomes like (c) and (c '). This is the output of the middle tier. This image is captured by the CCD camera 1110, and the second
The sum of each small area of the layer is the third layer 1207 (see FIG. 1).
2) (see FIGS. 13 (d) and 13 (d ')). It is the length of the line segment to which the diameter of the black circle is added. Third layer 120
The final recognition is performed by connecting each neuron of No. 7 to all the neurons of the fourth layer 1208 (see FIG. 12). The operations of the third layer 1207 and the fourth layer 1208 are as follows. It is realized by the computer 1112.
【0073】予めアルファベット26文字を学習させて
おくことにより、本実施例5の画像認識装置は、図14
に示す手書き文字でも正しく認識することができ、高い
認識能力を有することが確認された。By learning the 26 letters of the alphabet in advance, the image recognition apparatus of the fifth embodiment can be used as shown in FIG.
It was confirmed that the handwritten characters shown in can be correctly recognized and that it has high recognition ability.
【0074】以上の実施例1〜5で用いた画像処理装置
は、光変調層として高速応答可能な強誘電性液晶を用い
ているため、毎秒3000パターンの処理が可能であ
る。Since the image processing apparatus used in the above-mentioned Examples 1 to 5 uses the ferroelectric liquid crystal capable of high-speed response as the light modulation layer, processing of 3000 patterns per second is possible.
【0075】[0075]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る画像
処理装置によれば、簡単な構成で、入力画像を構成する
線分を高速かつ正確に抽出することができる。As described above, according to the image processing apparatus of the present invention, it is possible to quickly and accurately extract the line segments that make up the input image with a simple structure.
【0076】また、本発明に係る画像処理方法によれ
ば、文字パターンに含まれる各種線分を高速に抽出する
ことができるので、ニューラルネットワークと組み合わ
せることにより、認識能力の高い画像処理を行うことが
できる。Further, according to the image processing method of the present invention, various line segments included in a character pattern can be extracted at high speed. Therefore, image processing with high recognition ability can be performed by combining with a neural network. You can
【図1】本発明に係る画像処理装置の一実施例を示す断
面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an image processing apparatus according to the present invention.
【図2】正の一軸性光学結晶中の異常光線の伝播方向を
決定するための波面法線楕円体を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a wavefront normal ellipsoid for determining the propagation direction of an extraordinary ray in a positive uniaxial optical crystal.
【図3】負の一軸性光学結晶中の異常光線の伝播方向を
決定するための波面法線楕円体を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a wavefront normal ellipsoid for determining the propagation direction of an extraordinary ray in a negative uniaxial optical crystal.
【図4】正の一軸性光学結晶に垂直に入射した単色平面
波の異常光線の光線方向を決定するための波面法線楕円
体を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a wavefront normal ellipsoid for determining a ray direction of an extraordinary ray of a monochromatic plane wave vertically incident on a positive uniaxial optical crystal.
【図5】本発明に係る画像処理装置の一実施例に用いた
光学結晶を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an optical crystal used in an embodiment of the image processing apparatus according to the present invention.
【図6】(a)は本発明に係る画像処理装置への入力画
像を示す説明図、(b)は光学結晶の出力像を示す説明
図、(c)は本発明に係る画像処理装置の出力像を示す
説明図である。6A is an explanatory view showing an input image to the image processing apparatus according to the present invention, FIG. 6B is an explanatory view showing an output image of an optical crystal, and FIG. 6C is an image processing apparatus according to the present invention. It is explanatory drawing which shows an output image.
【図7】本発明に係る画像処理装置の他の実施例に用い
た光学結晶を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing an optical crystal used in another embodiment of the image processing apparatus according to the present invention.
【図8】本発明に係る画像処理装置の出力像を示す説明
図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing an output image of the image processing apparatus according to the present invention.
【図9】本発明に係る画像処理装置の他の実施例を示す
断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing another embodiment of the image processing apparatus according to the present invention.
【図10】本発明に係る画像処理装置のさらに他の実施
例を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing still another embodiment of the image processing apparatus according to the present invention.
【図11】本発明に係る画像処理方法に基づく画像認識
装置の構成図である。FIG. 11 is a configuration diagram of an image recognition device based on an image processing method according to the present invention.
【図12】ニューラルネットワークモデルの概略図であ
る。FIG. 12 is a schematic diagram of a neural network model.
【図13】画像認識装置による認識プロセスを示す説明
図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a recognition process by the image recognition device.
【図14】本発明に係る画像認識装置が正しく認識でき
た文字の例を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing an example of characters that can be correctly recognized by the image recognition device according to the present invention.
【図15】従来の空間光変調素子を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a conventional spatial light modulator.
101 画像処理装置 102 一軸性の平行平板光学結晶 103 空間光変調素子 104、115 透明絶縁性基板 105、114 透明導電性電極 106 光導電層 107 p層 108 i層 109 n層 110 金属反射膜 111、113 配向膜 112 液晶層 101 Image Processing Device 102 Uniaxial Parallel Plate Optical Crystal 103 Spatial Light Modulating Element 104, 115 Transparent Insulating Substrate 105, 114 Transparent Conductive Electrode 106 Photoconductive Layer 107 p Layer 108 i Layer 109 n Layer 110 Metal Reflective Film 111, 113 Alignment film 112 Liquid crystal layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小川 久仁 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kunihito Ogawa 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Claims (11)
学結晶とを少なくとも備えた画像処理装置であって、前
記空間光変調素子が、対向する2枚の透明導電性電極の
間に整流性を有する光導電層と光変調層とを少なくとも
備え、前記光学結晶が、前記空間光変調素子の光導電層
側に設けられ、前記光学結晶の光学軸が結晶表面の法線
となす角度ξが下記(数1)で表記されることを特徴と
する画像処理装置。 【数1】 1. An image processing device comprising at least a spatial light modulator and a uniaxial parallel plate optical crystal, wherein the spatial light modulator rectifies between two transparent conductive electrodes facing each other. At least a photoconductive layer and a light modulation layer having optical properties, the optical crystal is provided on the photoconductive layer side of the spatial light modulation element, and an angle ξ formed by the optical axis of the optical crystal and a normal line to the crystal surface. Is represented by the following (Equation 1). [Equation 1]
軸を結晶表面に投影した方向が前記複数の領域ごとに異
なる請求項1に記載の画像処理装置。2. The image processing apparatus according to claim 1, wherein the optical crystal is divided into a plurality of regions, and the direction in which the optical axis is projected on the crystal surface is different for each of the plurality of regions.
4つであり、かつ、投影方向が交差する角度が略45
度、略90度及び略135度から選ばれる1つである請
求項2に記載の画像処理装置。3. The optical crystal has at least four divided regions, and the angle at which the projection directions intersect is approximately 45.
3. The image processing apparatus according to claim 2, wherein the image processing apparatus is one selected from degrees, approximately 90 degrees, and approximately 135 degrees.
が、微小形状に分離された金属反射膜を介して電気的に
接続されている請求項1、2又は3に記載の画像処理装
置。4. The image according to claim 1, 2 or 3, wherein the photoconductive layer and the light modulation layer of the spatial light modulation element are electrically connected via a metal reflection film separated into minute shapes. Processing equipment.
1、2、3又は4に記載の画像処理装置。5. The image processing device according to claim 1, wherein the light modulation layer is made of a ferroelectric liquid crystal.
を有し、前記閾値以下の入射光量に対する光出力は略ゼ
ロであり、前記閾値を超える入射光量に対する光出力は
入射光量に依存することなく略一定である請求項1、
2、3、4又は5に記載の画像処理装置。6. The spatial light modulator has a threshold value for the incident light quantity, the light output for the incident light quantity below the threshold value is substantially zero, and the light output for the incident light quantity exceeding the threshold value depends on the incident light quantity. Claim 1 which is substantially constant without
The image processing device according to 2, 3, 4 or 5.
学結晶とを少なくとも備えた画像処理装置であって、前
記空間光変調素子が、対向する2枚の透明導電性電極の
間に整流性を有する光導電層と光変調層とを少なくとも
備え、前記光学結晶が、前記空間光変調素子の光導電層
側に設けられ、前記光学結晶の光学軸が結晶表面の法線
となす角度ξが前記(数1)で表記される画像処理装置
に、2次元マトリックスによって構成される画像を単色
平面波として垂直入射させ、第1のマトリックスから発
生した異常光線と第2のマトリックスから発生した常光
線とを、前記光学結晶の光線出射側で重なり合わせる画
像処理方法。7. An image processing apparatus comprising at least a spatial light modulator and a uniaxial parallel plate optical crystal, wherein the spatial light modulator rectifies between two transparent conductive electrodes facing each other. At least a photoconductive layer and a light modulation layer having optical properties, the optical crystal is provided on the photoconductive layer side of the spatial light modulation element, and an angle ξ formed by the optical axis of the optical crystal and a normal line to the crystal surface. Is incident on the image processing device represented by the above (Formula 1) as an image composed of a two-dimensional matrix vertically as a monochromatic plane wave, and an extraordinary ray generated from the first matrix and an ordinary ray generated from the second matrix. And an image processing method in which the above are overlapped on the light emitting side of the optical crystal.
スとが互いに隣接する請求項7に記載の画像処理方法。8. The image processing method according to claim 7, wherein the first matrix and the second matrix are adjacent to each other.
しく、閾値が、前記常光線及び異常光線の光量よりも大
きく、かつ、前記常光線及び異常光線の光量の和よりも
小さい請求項7又は8に記載の画像処理方法。9. The light amount of an ordinary ray and the light amount of an extraordinary ray are substantially equal to each other, and the threshold value is larger than the light amounts of the ordinary ray and the extraordinary ray and smaller than the sum of the light amounts of the ordinary ray and the extraordinary ray. Item 9. The image processing method according to Item 7 or 8.
向が前記投影方向と略45度で交差する請求項7、8又
は9に記載の画像処理方法。10. The image processing method according to claim 7, 8 or 9, wherein the monochromatic plane wave is linearly polarized light, and the polarization direction intersects the projection direction at about 45 degrees.
ネットワークによって処理し、画像を認識する請求項
7、8、9又は10に記載の画像処理方法。11. The image processing method according to claim 7, wherein the output from the image processing apparatus is processed by a neural network to recognize an image.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5146001A JPH075489A (en) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | Image processing device and image processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5146001A JPH075489A (en) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | Image processing device and image processing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH075489A true JPH075489A (en) | 1995-01-10 |
Family
ID=15397863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5146001A Pending JPH075489A (en) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | Image processing device and image processing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH075489A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009133592A1 (en) * | 2008-05-02 | 2009-11-05 | 国立大学法人広島大学 | Optical neural network |
-
1993
- 1993-06-17 JP JP5146001A patent/JPH075489A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009133592A1 (en) * | 2008-05-02 | 2009-11-05 | 国立大学法人広島大学 | Optical neural network |
US7847225B2 (en) | 2008-05-02 | 2010-12-07 | Hiroshima University | Optical neural network |
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