JPH0751395A - 放射線治療装置 - Google Patents
放射線治療装置Info
- Publication number
- JPH0751395A JPH0751395A JP22050193A JP22050193A JPH0751395A JP H0751395 A JPH0751395 A JP H0751395A JP 22050193 A JP22050193 A JP 22050193A JP 22050193 A JP22050193 A JP 22050193A JP H0751395 A JPH0751395 A JP H0751395A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- filter
- rays
- planation
- electron
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- Pending
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- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】放射線治療において、多種にわたるエネルギー
の放射線を平坦化することを可能にする。 【構成】本発明は、電子線発生源と、電子線の方向を変
えるベンディングマグネットと、真空を保持しながら電
子線を通過させることの可能な真空窓と、電子線を散乱
させるスキャッタリングフォイルと電子線をＸ線に変換
するターゲットを備えたフォイル・ターゲットレボルバ
と、電子線及びＸ線を絞り込むコリメ−タと、電子線及
びＸ線の線量分布を照射面で一様にするフィルタを複数
個備えたフィルタレボルバを多段構造にした平坦化フィ
ルタボックスと、電子線及びＸ線の線量を測定する透過
線量計と、より構成される。
の放射線を平坦化することを可能にする。 【構成】本発明は、電子線発生源と、電子線の方向を変
えるベンディングマグネットと、真空を保持しながら電
子線を通過させることの可能な真空窓と、電子線を散乱
させるスキャッタリングフォイルと電子線をＸ線に変換
するターゲットを備えたフォイル・ターゲットレボルバ
と、電子線及びＸ線を絞り込むコリメ−タと、電子線及
びＸ線の線量分布を照射面で一様にするフィルタを複数
個備えたフィルタレボルバを多段構造にした平坦化フィ
ルタボックスと、電子線及びＸ線の線量を測定する透過
線量計と、より構成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放射線治療装置におけ
る放射線強度の平坦化に関する。
る放射線強度の平坦化に関する。
【０００２】
【従来の技術】放射線治療に用いられる従来の放射線治
療器の照射ヘッド１内部を図６に示す。照射ヘッド１の
内部は、電子線２の方向を変えるベンディングマグネッ
ト３と、真空を保持しながら電子線を通過させることの
可能な真空窓４と、電子線２を散乱させるスキャッタリ
ングフォイル５ａと電子線２をＸ線に変換するターゲッ
ト５ｂを備えたフォイル・ターゲットレボルバ６と、電
子線及びＸ線を絞り込むコリメ−タ７と、電子線及びＸ
線の線量分布を照射面で一様にする平坦化フィルタ８を
複数個備えたフィルタレボルバ９と、電子線及びＸ線の
線量を測定する透過線量計１１により構成される。スキ
ャッタリングフォイル５ａで散乱された電子線やターゲ
ット５ｂで変換されたＸ線は、散乱により拡がりを持っ
ている。このため、電子線及びＸ線に対して垂直な平面
では線量分布は一様にならず、照射面の中心が最も高
く、周囲に向かうに従い低くなるような線量分布とな
る。このような線量分布は、平坦化フィルタ８を用いる
ことにより、一様にすることが可能である。また、平坦
化フィルタ８は、放射線のエネルギー値により形状が異
なるため、エネルギーごとに各エネルギー専用のフィル
タを使い分けている。
療器の照射ヘッド１内部を図６に示す。照射ヘッド１の
内部は、電子線２の方向を変えるベンディングマグネッ
ト３と、真空を保持しながら電子線を通過させることの
可能な真空窓４と、電子線２を散乱させるスキャッタリ
ングフォイル５ａと電子線２をＸ線に変換するターゲッ
ト５ｂを備えたフォイル・ターゲットレボルバ６と、電
子線及びＸ線を絞り込むコリメ−タ７と、電子線及びＸ
線の線量分布を照射面で一様にする平坦化フィルタ８を
複数個備えたフィルタレボルバ９と、電子線及びＸ線の
線量を測定する透過線量計１１により構成される。スキ
ャッタリングフォイル５ａで散乱された電子線やターゲ
ット５ｂで変換されたＸ線は、散乱により拡がりを持っ
ている。このため、電子線及びＸ線に対して垂直な平面
では線量分布は一様にならず、照射面の中心が最も高
く、周囲に向かうに従い低くなるような線量分布とな
る。このような線量分布は、平坦化フィルタ８を用いる
ことにより、一様にすることが可能である。また、平坦
化フィルタ８は、放射線のエネルギー値により形状が異
なるため、エネルギーごとに各エネルギー専用のフィル
タを使い分けている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】マイクロトロン加速器
は、エネルギーの異なる電子線及びＸ線を複数種類任意
に発生することが可能であり、この点が利点である。し
かし、従来技術では、フィルタレボルバに備え付けるこ
とが可能な平坦化フィルタの数が限られていた。このた
め、実際に治療に用いることが可能なエネルギーの数が
限定されており、上に述べたマイクロトロンの利点を生
かしきれていなかった。
は、エネルギーの異なる電子線及びＸ線を複数種類任意
に発生することが可能であり、この点が利点である。し
かし、従来技術では、フィルタレボルバに備え付けるこ
とが可能な平坦化フィルタの数が限られていた。このた
め、実際に治療に用いることが可能なエネルギーの数が
限定されており、上に述べたマイクロトロンの利点を生
かしきれていなかった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、平坦化フィル
タが備わっているフィルタレボルバを多段構造にし、使
用可能な平坦化フィルタの種類を多くする。
タが備わっているフィルタレボルバを多段構造にし、使
用可能な平坦化フィルタの種類を多くする。
【０００５】
【作用】本発明によれば、多種にわたるエネルギーの電
子線及びＸ線の平坦化を可能にする。
子線及びＸ線の平坦化を可能にする。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面により説明す
る。
る。
【０００７】図１に、本発明品の断面図を示す。本発明
品は、電子線発生源（図示せず）と、電子線２の方向を
変えるベンディングマグネット３と、真空を保持しなが
ら電子線を通過させることの可能な真空窓４と、電子線
２を散乱させるスキャッタリングフォイル５ａと電子線
２をＸ線に変換するターゲット５ｂを備えたフォイル・
ターゲットレボルバ６と、電子線及びＸ線を絞り込むコ
リメ−タ７と、電子線及びＸ線の線量分布を照射面で一
様にする平坦化フィルタ８を複数個備えたフィルタレボ
ルバ９を多段構造にし、これを収納した平坦化フィルタ
ボックス１０と、電子線及びＸ線の線量を測定する透過
線量計１１により構成される。電子線発生源から放出さ
れた電子線２は、ベンディングマグネット３により偏向
され真空窓４に導かれ、真空窓４を通過し、スキャッタ
リングフォイル５ａで散乱あるいはターゲット５ｂでＸ
線に変換され、コリメ−タ７により照射野を絞り込ま
れ、平坦化フィルタボックス１０により一様な線量分布
をもつ治療用線束１２となる。線量分布の一様性は透過
線量計１１により測定、確認される。なお、図１は、治
療線束としてＸ線を用いた場合を示した。
品は、電子線発生源（図示せず）と、電子線２の方向を
変えるベンディングマグネット３と、真空を保持しなが
ら電子線を通過させることの可能な真空窓４と、電子線
２を散乱させるスキャッタリングフォイル５ａと電子線
２をＸ線に変換するターゲット５ｂを備えたフォイル・
ターゲットレボルバ６と、電子線及びＸ線を絞り込むコ
リメ−タ７と、電子線及びＸ線の線量分布を照射面で一
様にする平坦化フィルタ８を複数個備えたフィルタレボ
ルバ９を多段構造にし、これを収納した平坦化フィルタ
ボックス１０と、電子線及びＸ線の線量を測定する透過
線量計１１により構成される。電子線発生源から放出さ
れた電子線２は、ベンディングマグネット３により偏向
され真空窓４に導かれ、真空窓４を通過し、スキャッタ
リングフォイル５ａで散乱あるいはターゲット５ｂでＸ
線に変換され、コリメ−タ７により照射野を絞り込ま
れ、平坦化フィルタボックス１０により一様な線量分布
をもつ治療用線束１２となる。線量分布の一様性は透過
線量計１１により測定、確認される。なお、図１は、治
療線束としてＸ線を用いた場合を示した。
【０００８】本発明による平坦化フィルタボックス１０
の構成を、図２を用いて説明する。平坦化フィルタボッ
クス１０は、平坦化フィルタ８を備えたフィルタレボル
バ９を多段構造にして構成される。各段のフィルタレボ
ルバ９は、照射ヘッド１に支持された支持軸１３を同軸
として支持され、支持軸１３を中心軸として各段独立に
駆動する。フィルタレボルバ９に設けられた数箇所のフ
ィルタ取付け部分は、一箇所のみを中空とし、残りの取
付け部にフィルタ８を取り付ける。治療線束として、電
子線を用いる場合は、電子線源から放出された電子線の
エネルギーに見合ったフィルタを選択し、照射位置に位
置させる。このとき、他の段のフィルタレボルバ９は、
平坦化フィルタ８の存在しない箇所を照射位置に位置さ
せる。この操作により、使用する電子線に見合った平坦
化フィルタ８のみ有効と成り、線量分布が一様な電子線
の治療線束を得ることが可能となる。
の構成を、図２を用いて説明する。平坦化フィルタボッ
クス１０は、平坦化フィルタ８を備えたフィルタレボル
バ９を多段構造にして構成される。各段のフィルタレボ
ルバ９は、照射ヘッド１に支持された支持軸１３を同軸
として支持され、支持軸１３を中心軸として各段独立に
駆動する。フィルタレボルバ９に設けられた数箇所のフ
ィルタ取付け部分は、一箇所のみを中空とし、残りの取
付け部にフィルタ８を取り付ける。治療線束として、電
子線を用いる場合は、電子線源から放出された電子線の
エネルギーに見合ったフィルタを選択し、照射位置に位
置させる。このとき、他の段のフィルタレボルバ９は、
平坦化フィルタ８の存在しない箇所を照射位置に位置さ
せる。この操作により、使用する電子線に見合った平坦
化フィルタ８のみ有効と成り、線量分布が一様な電子線
の治療線束を得ることが可能となる。
【０００９】またＸ線を治療線束として用いる場合は、
ターゲット５ｂにより変換されたＸ線のエネルギーに見
合った平坦化フィルタ８を選択し、電子線の場合と同様
に照射位置に位置させる。このとき、他の段のフィルタ
レボルバ９は、平坦化フィルタ８の存在しない箇所を照
射位置に位置させる。この操作により、使用するＸ線に
見合った平坦化フィルタのみ有効と成り、線量分布が一
様な電子線の治療線束を得ることが可能となる。
ターゲット５ｂにより変換されたＸ線のエネルギーに見
合った平坦化フィルタ８を選択し、電子線の場合と同様
に照射位置に位置させる。このとき、他の段のフィルタ
レボルバ９は、平坦化フィルタ８の存在しない箇所を照
射位置に位置させる。この操作により、使用するＸ線に
見合った平坦化フィルタのみ有効と成り、線量分布が一
様な電子線の治療線束を得ることが可能となる。
【００１０】なお図２に示したフィルタボックス１０
は、５個の平坦化フィルタ８を備えたフィルタレボルバ
９を３段にしたものであり、１５種類以下の放射線にし
か対応できない。１６種類以上の放射線を用いる場合に
は、フィルタレボルバ９の段数や、フィルタレボルバ９
に取り付ける平坦化フィルタ８の数を変更することによ
り、対応が可能となる。
は、５個の平坦化フィルタ８を備えたフィルタレボルバ
９を３段にしたものであり、１５種類以下の放射線にし
か対応できない。１６種類以上の放射線を用いる場合に
は、フィルタレボルバ９の段数や、フィルタレボルバ９
に取り付ける平坦化フィルタ８の数を変更することによ
り、対応が可能となる。
【００１１】フィルタレボルバ９の駆動機構について、
図３を用いて説明する。各段のフィルタレボルバ９は支
持軸１３により支持され、支持軸１３は照射ヘッド１に
固定される。各段のフィルタレボルバ９は、それぞれの
段ごとにシャフト１５とギア１６を介して照射ヘッド１
に固定したモータ１４の動力で駆動する。図３に示すよ
うなモータの配置により、各段のシャフト１５とギア１
６の接触を回避する。ここでは、フィルタレボルバ９の
駆動機構の一例を示したが、各段独立に駆動するなら
ば、上記以外の駆動機構でも、本発明の目的は達成され
る。
図３を用いて説明する。各段のフィルタレボルバ９は支
持軸１３により支持され、支持軸１３は照射ヘッド１に
固定される。各段のフィルタレボルバ９は、それぞれの
段ごとにシャフト１５とギア１６を介して照射ヘッド１
に固定したモータ１４の動力で駆動する。図３に示すよ
うなモータの配置により、各段のシャフト１５とギア１
６の接触を回避する。ここでは、フィルタレボルバ９の
駆動機構の一例を示したが、各段独立に駆動するなら
ば、上記以外の駆動機構でも、本発明の目的は達成され
る。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、治療に用いることが可
能な電子線及びＸ線のエネルギーの数を多くできるた
め、幅広い放射線治療が可能となる。。
能な電子線及びＸ線のエネルギーの数を多くできるた
め、幅広い放射線治療が可能となる。。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明品の実施例の断面図
【図２】本発明品の実施例の斜視図
【図３】本発明品の駆動機構説明図
【図４】従来の公知例
１ 照射ヘッド ２ 電子線 ３ ベンディングマグネット ４ 真空窓 ５ａ スキャッタリングフォイル ５ｂ ターゲット ６ フォイル・ターゲットレボルバ ７ コリメータ ８ 平坦化フィルタ ９ フィルタレボルバ １０ 平坦化フィルタボックス １１ 透過線量計 １２ 治療用線束 １３ 支持軸 １４ モータ １５ シャフト １６ ギア
Claims (1)
- 【請求項１】電子線発生源と、電子線の方向を変えるベ
ンディングマグネットと、真空を保持しながら電子線を
通過させることの可能な真空窓と、電子線を散乱させる
スキャッタリングフォイルと電子線をＸ線に変換するタ
ーゲットを備えたフォイル・ターゲットレボルバと、電
子線及びＸ線を絞り込むコリメ−タと、電子線及びＸ線
の線量分布を照射面で一様にするフィルタを複数個備え
たフィルタレボルバを多段構造にした平坦化フィルタボ
ックスと、電子線及びＸ線の線量を測定する透過線量計
と、より成る放射線治療装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22050193A JPH0751395A (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | 放射線治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22050193A JPH0751395A (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | 放射線治療装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0751395A true JPH0751395A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16752033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22050193A Pending JPH0751395A (ja) | 1993-08-13 | 1993-08-13 | 放射線治療装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0751395A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002070067A1 (fr) * | 2001-03-02 | 2002-09-12 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Irradiateur |
| US7449701B2 (en) | 2003-04-14 | 2008-11-11 | Hitachi, Ltd. | Particle beam irradiation equipment and particle beam irradiation method |
| US7696488B2 (en) * | 2006-07-17 | 2010-04-13 | Nuctech Company Limited | Irradiating device and method for controlling the same |
| WO2011011222A1 (en) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | Intraop Medical Corporation | Method and system for electron beam applications |
-
1993
- 1993-08-13 JP JP22050193A patent/JPH0751395A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002070067A1 (fr) * | 2001-03-02 | 2002-09-12 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Irradiateur |
| US6826254B2 (en) | 2001-03-02 | 2004-11-30 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Radiation applying apparatus |
| US7449701B2 (en) | 2003-04-14 | 2008-11-11 | Hitachi, Ltd. | Particle beam irradiation equipment and particle beam irradiation method |
| US7696488B2 (en) * | 2006-07-17 | 2010-04-13 | Nuctech Company Limited | Irradiating device and method for controlling the same |
| WO2011011222A1 (en) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | Intraop Medical Corporation | Method and system for electron beam applications |
| CN102473470A (zh) * | 2009-07-22 | 2012-05-23 | 因特奥普医药公司 | 用于电子束用途的方法和系统 |
| US8269197B2 (en) | 2009-07-22 | 2012-09-18 | Intraop Medical Corporation | Method and system for electron beam applications |
| CN102473470B (zh) * | 2009-07-22 | 2016-01-20 | 因特奥普医药公司 | 用于电子束用途的方法和系统 |
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