JPH07506757A - Apparatus and method for vacuum thermal dissociation treatment of liquid and gaseous items whose disposal would harm the environment - Google Patents

Apparatus and method for vacuum thermal dissociation treatment of liquid and gaseous items whose disposal would harm the environment

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JPH07506757A
JPH07506757A JP4510468A JP51046892A JPH07506757A JP H07506757 A JPH07506757 A JP H07506757A JP 4510468 A JP4510468 A JP 4510468A JP 51046892 A JP51046892 A JP 51046892A JP H07506757 A JPH07506757 A JP H07506757A
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ショーソンヌ,ピエール
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ソシエテ フランセーズ ドゥ テルモリス
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    • B01J2219/00049Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00186Controlling or regulating processes controlling the composition of the reactive mixture

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 廃棄処分が環境を阻害する液やガスの物品を真空熱解離処理する装置と方法 本発明は廃棄処分で環境が阻害される斯\る液物品やガス物品を真空熱解離処理 する装置と方法に関する。環境を害する物品は従来貯蔵するか、か焼(焼灰)処 分されており、貯蔵する場合には潜在的な被害が残り、包装物が腐食したときの み環境を害することになり得る。か焼処理した場合に、か焼温度は非常に高<  (1000℃を越える)、これがプラントを急速に損傷させ、従って非常に操作 費用が高価になる。更に重要なことは、か焼ガス物は如何るコントロールもなし に大気中に排気される。これでは環境汚染を抑制することを保証することが出来 ない。[Detailed description of the invention] Apparatus and method for vacuum thermal dissociation treatment of liquid and gaseous items whose disposal would harm the environment The present invention applies vacuum thermal dissociation treatment to liquid and gas articles that are harmful to the environment when disposed of. The present invention relates to an apparatus and a method for doing so. Items that harm the environment should be stored conventionally or calcified (burned ash). If stored, potential damage remains and if the packaging corrodes. may harm the environment. When calcined, the calcination temperature is very high. (above 1000°C), which can quickly damage the plant and therefore make it extremely difficult to operate. The cost becomes high. More importantly, there is no control over calcined gas products. is exhausted into the atmosphere. This cannot guarantee that environmental pollution is controlled. do not have.

本発明の目的は、環境を害する汚染元素を固定して排除するための分解反応に充 分な適度の温度(代表的には、処理する物品に依存するが、500℃−900℃ )で液やガスの物品を処理する装置によって上述の欠陥を取り除くことにある。The purpose of the present invention is to perform a decomposition reaction to fix and eliminate pollutant elements that harm the environment. at a moderate temperature (typically 500°C - 900°C, depending on the article being treated) ) The object is to eliminate the above-mentioned defects by means of an apparatus for treating liquid or gaseous articles.

このために、本発明は真空熱解離(即ち、代表的には500ミリノく−ル、例え ば300ミリバ一ル程度の準大気圧での熱解離)と排出口での分解物の連続浄化 を提案する。分解物は廃棄処分すべきか、再度処理すべきかを決めるために連続 的に監視(モニター)するの力(好ましい。To this end, the present invention utilizes vacuum thermal dissociation (i.e., typically 500 mm, e.g. thermal dissociation at subatmospheric pressure of approximately 300 mbar) and continuous purification of decomposed products at the outlet. propose. Decomposition products are continuously evaluated to determine whether they should be disposed of or reprocessed. Power to monitor (preferable)

1000℃より低い温度での操作は処理システムの顕著な損傷をもたらさず、従 って操作寿命は延長され、操業費が低下する。Operation at temperatures below 1000°C will not result in significant damage to the processing system and will This increases operating life and reduces operating costs.

更に正確に言及すれば、本発明は廃棄処分が環境を阻害する液体やガス体を処理 する装置(システム)において、単1の熱解離反応器、処理すべき液物品やガス 物品が供給される供給室、処理されるガスが通過可能な中間配置のディスク、熱 触媒分解が生起する熱解離室及び熱触媒分解によって解放された取り除かれるべ き化学元素が選択的に保留される浄化室を含んで構成されていることを特徴とす る装置を提供する。More precisely, the present invention deals with liquid and gaseous bodies whose disposal is harmful to the environment. A single thermal dissociation reactor, a single thermal dissociation reactor, a liquid article or gas to be treated A supply chamber in which the goods are supplied, an intermediately arranged disk through which the gas to be treated can pass, heat The thermal dissociation chamber where catalytic decomposition occurs and the removed waste released by the thermal catalytic decomposition. It is characterized by comprising a purification chamber in which chemical elements are selectively retained. Provide equipment for

本発明の好ましい、可能な組合せ構成によれば:本発明装置は熱解離室の中に、 或いはその上流端に配設した燃焼可能なガス媒体の供給バイブを含み; 供給室はこの室に導入された被処理物品の液状部分を蒸発させて結果の混合ガス を設定温度に加熱する加熱装置(システム)を具備しており; 中間ディスクは、供給室の温度と圧力の条件によって定まる流速と供給室の圧力 で熱解離室にガス物品を正常に移送するだけの校正サイズのオリフィスを有して おり; 熱解離室は、電源に接続した電気エレメントと熱触媒を含む熱触媒系(システム )を含み、当該熱触媒系が混合ガスの接触分解反応を可能にする温度に電気的に 加熱され、被処理物品の熱解離分解に要する追加のエネルギが空気/酸素の可燃 性混合気の触媒分解反応によって得られるようになっており; 浄化室は選択的に取り除くべきラジカルを反応性物質との反応によって取り除く ために分解ガスを流過させるための当該反応性物質のライニングを含み; 当該反応性物質は取り扱いが容易になるため並びに再生に都合の良いように取り 出し可能なカートリッジの形態で装着されており;装置は、熱解離室に容れた触 媒塊(マス)の温度を調節する手段を含んでおり; 装置は熱解離室の真空度を維持するために、反応器の出口に連結したポンプセッ トを含み、当該ポンプセットに先行して洗浄手段が配設され、この手段によりガ スを更に浄化すると共にポンプセットにとって適切な温度にガスを冷却するよう にしており;熱解離室の真空度は中間ディスクの下流側で反応器に固定された圧 力ゲージの表示値に従って、ポンプセットの流速の調節により制御され; 反応器の熱損失を低減させるように断熱され、熱解離室の熱触媒系と浄化室の活 性物質は取り出し可能に挿填されており;装置は反応器出口の下流側にガス分析 器(アナライザ)制御弁を含み、この弁により処理済みガスを廃棄路と反応器の 入口のいづれかに送るようにしている。According to a preferred possible combinatory configuration of the invention: the device according to the invention comprises: in a thermal dissociation chamber; or a combustible gas medium supply vibrator disposed at its upstream end; The supply chamber evaporates the liquid portion of the article to be treated introduced into the chamber and produces the resulting gas mixture. Equipped with a heating device (system) that heats to a set temperature; The intermediate disk has a flow velocity and pressure in the supply chamber determined by the temperature and pressure conditions in the supply chamber. has an orifice of a calibrated size that successfully transfers the gaseous article to the thermal dissociation chamber. Or; The thermal dissociation chamber contains a thermal catalytic system (system ), the thermal catalyst system is electrically heated to a temperature that enables the catalytic cracking reaction of the gas mixture. The additional energy required for pyrolytic decomposition of the article being heated reduces the flammability of air/oxygen. It is obtained by the catalytic decomposition reaction of a sexual mixture; The purification chamber selectively removes the radicals to be removed by reaction with reactive substances. a lining of said reactive material for the passage of cracked gases; The reactive substances are removed for ease of handling and for convenience in recycling. The device is installed in the form of a removable cartridge; including means for regulating the temperature of the mass; The device has a pump set connected to the outlet of the reactor to maintain the vacuum level in the thermal dissociation chamber. A cleaning means is arranged in advance of the pump set, and this means cleans the gas. to further purify the gas and cool the gas to a temperature appropriate for the pump set. The degree of vacuum in the thermal dissociation chamber is determined by the pressure fixed in the reactor downstream of the intermediate disk. controlled by adjusting the flow rate of the pump set according to the reading on the force gauge; The reactor is insulated to reduce heat loss, and the thermal catalyst system in the thermal dissociation chamber and the activation chamber in the purification chamber are The chemical substance is removably inserted; the device is installed downstream of the reactor outlet for gas analysis. includes an analyzer control valve that directs the treated gas to the waste path and to the reactor. I try to send it to one of the entrances.

本発明は、環境を阻害する液とガスを供給室に導入してそこで液を蒸発させ、こ の蒸発液と該ガスを真空に維持された熱解離室に通して、そこで該蒸発液と該ガ スが熱触媒分解するだけの温度に加熱した触媒塊軸aSS)と接触させ、次いで 該蒸発液と該ガスを分解によって解放された所定の物質を選択的に保留するエレ メントを含む浄化室に通すようにした廃棄により環境を阻害する液とガスを処理 する方法を提供する。The present invention involves introducing an environmentally disturbing liquid and gas into a supply chamber where the liquid evaporates. The evaporated liquid and the gas are passed through a thermal dissociation chamber maintained in a vacuum, where the evaporated liquid and the gas are separated. The catalyst is brought into contact with the catalyst block shaft (aSS) heated to a temperature sufficient for thermal catalytic decomposition, and then an element that selectively retains a predetermined substance released by decomposing the evaporated liquid and the gas; Dispose of environmentally hazardous liquids and gases by passing them through a purification chamber containing provide a method to do so.

本発明の更に好ましい構成によれば: 浄化室を出たガス物品は洗浄され、有害物質の存否を検査され、次いでそのま\ 廃棄するか供給室にリサイクルするかの道を採り;浄化室からその出口でガス物 品をポンプにより排出させる流速の操作で真空度を制御し; ガス物品を洗浄し冷却の後にポンプで放出する。According to a further preferred configuration of the invention: Gaseous articles leaving the purification chamber are cleaned, tested for the presence of hazardous substances, and then transported as is. Either dispose of it or recycle it to the supply room; Control the degree of vacuum by controlling the flow rate at which the product is pumped out; Gaseous articles are cleaned and pumped out after cooling.

上述の条件に従うことで本発明の装置は下記の利益をもたらす。By complying with the above conditions, the device of the invention provides the following benefits.

反応器の断面と熱解離室の長さを変更するか或いは必要数の反応器を並設で接続 することにより如何る量の液やガスの処理にも適用可能である。Change the cross section of the reactor and the length of the thermal dissociation chamber, or connect the required number of reactors in parallel. By doing so, it can be applied to the treatment of any amount of liquid or gas.

本発明の装置では、有害要素を有する排出ガスによる汚染がガスを第1に浄化室 に入れ、第2にポンプセットの上流側の洗浄器に入れることにより回避される。In the device of the invention, the contamination by the exhaust gases with harmful elements causes the gases to first enter the purification chamber. and secondly into a washer upstream of the pump set.

装置の設置費用と操業費用がか焼装置に較べ低減される。Equipment installation and operating costs are reduced compared to calcination equipment.

本発明の具体的な目的、構成、効果は添附図面を参照した非限定例による以下の 説明から明らかになる。The specific objectives, configuration, and effects of the present invention are described below by way of non-limiting example with reference to the accompanying drawings. It becomes clear from the description.

図1は液やガスの廃物を処理する本発明に係る装置のブロック説明図である。FIG. 1 is a block diagram illustrating an apparatus according to the present invention for treating liquid and gaseous waste.

図2は図1の装置の熱解離反応器の縦断面説明図である。FIG. 2 is an explanatory longitudinal cross-sectional view of the thermal dissociation reactor of the apparatus shown in FIG.

図3は図2の反応器の変形例を示す縦断面説明図である。FIG. 3 is an explanatory longitudinal cross-sectional view showing a modification of the reactor shown in FIG. 2.

図1において、被処理液(及びガス)はバレルから或いは計量ポンプ18により 供給される貯蔵タンク17から導入口Aを通って供給室lに到る。液は重力によ っても供給させることが出来る。In FIG. 1, the liquid to be treated (and gas) is supplied from the barrel or by a metering pump 18. From the storage tank 17 in which it is supplied, it passes through the inlet A and reaches the supply chamber l. The liquid is moved by gravity. It is possible to supply even

反応器は供給室の上流側に物品が系外に逃散し、空気が侵入するのを阻止する従 来式のプラントを有しており、この種の手段例を挙げれば、気圧シールレッグ( leg)は空気の侵入を阻止し、逆止弁が系外への液とガスの逃散を阻止するこ とが出来る。The reactor has a secondary chamber upstream of the feed chamber to prevent the products from escaping out of the system and to prevent air from entering. We have a conventional plant, and an example of this type of means is a pneumatic seal leg ( leg) prevents air from entering, and a check valve prevents liquid and gas from escaping outside the system. I can do that.

可燃性混合気(空気/酸素−可燃性ガス)は供給室1に貯蔵タンク19から導入 口Bを通じて供給されるが、その間に圧力ゲージ/圧力調節器20を通る。この 混合気の流速は計量ポンプ18の流速に規制される。供給室1は加熱手段、本例 では室の外囲体の外側で外壁に配置した電気加熱エレメント2を有し、これで被 処理物の液状部分を蒸発させ、結果の蒸気を加熱してから導入口Bに来る空気及 び/或いは酸素と混合させる。電流加熱エレメント2は供給室1の蒸発液−空気 −混合ガスの蒸気圧の測定に(12において)基づいて制御される(13におい て)。この制御のために、各混合気を処理するための固定セットポイントがある 。The flammable mixture (air/oxygen-flammable gas) is introduced into the supply chamber 1 from the storage tank 19 It is fed through port B, during which it passes through a pressure gauge/pressure regulator 20. this The flow rate of the air-fuel mixture is regulated by the flow rate of the metering pump 18. Supply chamber 1 is a heating means, this example has an electric heating element 2 placed on the outer wall outside the enclosure of the room, with which the The liquid part of the product to be treated is evaporated and the resulting vapor is heated before the air and air coming to inlet B are and/or mixed with oxygen. The current heating element 2 is the evaporated liquid-air in the supply chamber 1. - controlled (at 13) based on (at 12) the measurement of the vapor pressure of the gas mixture; hand). For this control, there is a fixed set point for processing each mixture. .

中間ディスク3は供給室1の出口に固定され且つシールされている。このディス クは校正されたサイズの孔3Aを有しており、この孔を通じて混合ガスとガス状 或いは液状の被処理物が熱解離室4に移送される。この部室4は熱反応器或いは 熱接触反応システムを含み、中間ディスクに固定され且つシールされている。こ の移送の流速は供給室1の温度と圧力に依存している。この流速はこれらのパラ メータと計量ポンプ18の流速を変えることにより規制される。The intermediate disk 3 is fixed and sealed at the outlet of the supply chamber 1. This dis The tank has a hole 3A of calibrated size through which the mixed gas and gaseous Alternatively, the liquid material to be processed is transferred to the thermal dissociation chamber 4. This chamber 4 is a thermal reactor or It contains a thermal catalytic reaction system and is fixed and sealed to the intermediate disk. child The flow rate of the transfer depends on the temperature and pressure in the supply chamber 1. This flow rate depends on these parameters. It is regulated by changing the flow rate of the meter and metering pump 18.

本発明の別の例によれば、可燃性混合気は熱解離室にこの室4の上流端に流入さ せるバイブBを通じてではなく、この部室4に直接に流入させるバイブB’ ( 点線で表示)を通じて供給される。According to another embodiment of the invention, the combustible mixture enters the thermal dissociation chamber at the upstream end of this chamber 4. Vibrator B' ( (shown as a dotted line).

熱解離室4は浄化室9と連通し且つシールされており、この浄化室はその下流端 において端壁11によって閉じられており、室4で生起する熱解離分解の生成物 を浄化するものである。この生成物は端壁11の出口Cを通じて流出する。The thermal dissociation chamber 4 communicates with and is sealed with a purification chamber 9, which is located at its downstream end. is closed by an end wall 11 at the chamber 4 and contains the products of thermal dissociative decomposition occurring in the chamber 4. It purifies. This product exits through outlet C of end wall 11.

これらの部室やその他の構成要素1. 4. 9.11はフランジとガスケット (或いは溶接により)によって組立られ、シールされて反応器を形成している。These rooms and other components 1. 4. 9.11 is the flange and gasket (or by welding) and sealed to form the reactor.

真空(即ち、代表的には800ミリバールより低い準大気圧)は常時熱解離室4 と浄化室9で維持され、部室4の絶対圧力は被処理物の性質により変化する。こ の圧力は、例えば300ミリバール(mbars)である。A vacuum (i.e. sub-atmospheric pressure typically below 800 mbar) is maintained at all times in the thermal dissociation chamber 4. is maintained in the purification chamber 9, and the absolute pressure in the chamber 4 changes depending on the nature of the object to be treated. child The pressure is, for example, 300 mbars.

分解生成物は洗浄コラム、即ち「スクラバJ (scrubber)23に入り 、そこで張装な噴霧水によって洗浄され、冷却される。洗浄水はポンプ24によ り揚水され、その流速は水をコラム23に噴霧するスプレィポンプ26の流速に 合されている。スプレィポンプ26の流速はコラム23に入る分解ガスの容積と 温度に依存している。コラム、23の底の出口から揚水される洗浄水は最初に沈 澱・冷却槽25に送られ、次いで中和槽27に移送される。この中和槽には中和 溶液、例えばソーダ液等が必要に応じて供給される。この溶液はタンク21から 計量ポンプ22によって取り出されるが、その流速はpHメータ等のモニター器 27Aの出力によって制御される。The decomposition products enter the cleaning column, i.e. “scrubber J (scrubber) 23”. , where it is cleaned and cooled with a vigorous water spray. Cleaning water is supplied by pump 24. The water is pumped up, and the flow rate is equal to the flow rate of the spray pump 26 that sprays water onto the column 23. are combined. The flow rate of spray pump 26 is determined by the volume of cracked gas entering column 23. Depends on temperature. The wash water pumped from the outlet at the bottom of column 23 first settles. It is sent to the lees/cooling tank 25 and then transferred to the neutralization tank 27. This neutralization tank has neutralization A solution, such as a soda solution, is supplied as required. This solution comes from tank 21. The flow rate is taken out by a metering pump 22, but the flow rate is monitored by a monitor device such as a pH meter. 27A output.

洗浄冷却されたガスはコラム23の頂部の出口からポンプセット(puIlp  5et) (例えば真空ポンプと熱交換器を具備している)によって吸い出され る。これは必要な真空度(代表的には300ミリバール、上記参照)で容積4− 9−23を維持する。ポンプセット28は作動、従って装置の真空度は、本例で はセンサ16により測定された浄化室9の圧力に従って制御される。The cleaned and cooled gas is transferred from the outlet at the top of the column 23 to the pump set (puIlp). 5et) (e.g. equipped with a vacuum pump and heat exchanger) Ru. This can be done with a volume of 4 - at the required vacuum (typically 300 mbar, see above). Maintain 9-23. The pump set 28 is activated, so the vacuum level of the device is is controlled according to the pressure in the purification chamber 9 measured by the sensor 16.

ガスはポンプセット28に入る前に、ガスアナライザ30を通過し、このアナラ イザの分析の結果により、ポンプセット28の下流側の弁31、32を作動させ ることによりガスを煙突29に向けるか、或いは供給室lの第2導入口B′に向 けてリサイクルで再処理するようにする。Before entering the pump set 28, the gas passes through a gas analyzer 30. Based on the result of the analysis, the valves 31 and 32 on the downstream side of the pump set 28 are activated. to direct the gas to the chimney 29 or to the second inlet B' of the supply chamber l. The waste should be recycled and reprocessed.

洗浄コラムは二重機能を有し、その第1は浄化処理を実行することであり、第2 はポンプセット28が許容出来る温度にガスを冷却することである。The cleaning column has a dual function, the first of which is to carry out the cleaning process, the second of which is to carry out the cleaning process. is to cool the gas to a temperature acceptable to pump set 28.

図2は部室1,4.9を組合せた熱解離反応器の工業的実施例を示す。この反応 器はこ\では水平形態で示されているが、垂直形態であっても同様に操業出来る 。この配位は現場の設置条件によって選択され得る。FIG. 2 shows an industrial embodiment of a thermal dissociation reactor combining chambers 1, 4.9. this reaction Although the vessel is shown in horizontal configuration, it can be operated in vertical configuration as well. . This configuration can be selected depending on the site installation conditions.

液は導入口Aに重力供給方式か計量ポンプ方式により到達する。The liquid reaches the inlet A by gravity feed or metering pump.

空気/酸素と可燃ガスの混合気は導入口Bに到る。ポンプセット28を通った後 の再処理、即ちリサイクルされるべきガスは導入口B′に到る。供給室lは被処 理液を蒸発させて混合ガスを加熱するために電気エレメント2によって加熱され る。加熱は圧力ゲージ12で測定した圧力に従って電力調節器13によって制御 される。The mixture of air/oxygen and combustible gas reaches inlet B. After passing through pump set 28 The gas to be reprocessed, ie recycled, reaches inlet B'. Supply room l is treated Heated by electric element 2 to evaporate the liquid and heat the mixed gas. Ru. Heating is controlled by a power regulator 13 according to the pressure measured by a pressure gauge 12 be done.

熱混合ガスが供給室lから熱解離室4に流通するための中間ディスク3の孔は環 状ライン群に沿って分布しており、その流動断面は種々のパラメータ:上流の圧 力と温度(lにおける)、下流圧力(4における)等に従って必要となる混合ガ ス流速を確保出来るように選定される。中間ディスクの設計は被処理物の物理・ 化学特性に依存する。両部室1,2の夫々のフランジ間にディスク3を取付ける と、被処理物を変更する際のディスク取替えが容易になる。熱反応器(即ち、サ ーモライザ)の要素5. 6. 7はそこで熱触媒分解反応を生起させるもので ある。これらは:混合ガスと被処理物が内部で循環する多孔触媒塊5;電熱ヒー タエレメントとして、本例では触媒塊を縦方向に貫通して分解反応温度に触媒塊 を加熱し、且つ更に触媒塊5によりガス分子を分離するに要するエネルギを供給 する輻射電熱チューブ6の形式のもの;及び反応性塊5が装着されていてこの多 孔塊5の外にガスが流出しないように栓をしである(こ\では上流側で)管7で ある。温度出力部8とサーモカップル15は電力調節器14により電気エネルギ の入力を規制することにより化学分解作用を制御するための温度を表示する。熱 反応器は熱解離包囲体4Aに取出し可能に収容され且つガスが包囲体4Aに沿っ て流れることにより触媒塊5を迂回するのを阻止するためにシールされる。The holes in the intermediate disk 3 for the flow of the hot mixed gas from the supply chamber l to the thermal dissociation chamber 4 are annular. The flow cross section is distributed along a group of shaped lines, and the flow cross section depends on various parameters: upstream pressure Mixing gas required according to power and temperature (at l), downstream pressure (at 4) etc. It is selected to ensure a sufficient flow rate. The design of the intermediate disk is based on the physical Depends on chemical properties. Install the disk 3 between the flanges of both chambers 1 and 2. This makes it easy to replace the disk when changing the object to be processed. thermal reactor (i.e. sa 5. 6. 7 causes a thermal catalytic decomposition reaction there. be. These are: a porous catalyst block 5 in which the mixed gas and material to be treated circulate; In this example, the catalyst element is used to penetrate the catalyst mass in the longitudinal direction and bring the catalyst mass to the decomposition reaction temperature. and further supply the energy necessary to separate the gas molecules by the catalyst mass 5. in the form of a radiant heating tube 6; and a reactive mass 5 is attached to Plug the pipe 7 (on the upstream side in this case) to prevent gas from flowing out of the hole mass 5. be. The temperature output section 8 and the thermocouple 15 are supplied with electrical energy by the power regulator 14. temperature to control the chemical decomposition process by regulating the input of the temperature. heat The reactor is removably housed in the thermal dissociation enclosure 4A and the gas is directed along the enclosure 4A. The catalyst mass 5 is sealed to prevent it from bypassing the catalyst mass 5 by flowing.

図2において、輻射チューブ6は同心配管であり(3本のチューブが1のチュー ブが他のチューブに入子された状態にある)、電力供給器、即ち調節器14にそ の上流端を下流端にスペーサ6Aによって接続されている。スペーサは電気接続 と機械的硬直性を与える。In Fig. 2, the radiation tube 6 is a concentric tube (three tubes form one tube). (the tube is nested in another tube), the power supply, i.e., the regulator 14, is The upstream end is connected to the downstream end by a spacer 6A. Spacers are electrical connections and mechanical rigidity.

従って、複数のチューブは一体的に触媒塊5を均等に加熱する単1加熱エレメン トを構成している。Therefore, the plurality of tubes are integrated into a single heating element that evenly heats the catalyst mass 5. It constitutes the

熱解離室の輻射チューブは多孔塊5を構成する材料で充填されて、ガス流が熱交 換を促進するために充分におそく、且つ乱流になっている。充填材の性質は被処 理物の接触分解のために被処理物の安定特性に適したものに決める。The radiant tube of the thermal dissociation chamber is filled with the material constituting the porous mass 5, so that the gas flow provides heat exchange. The flow is sufficiently slow and turbulent to promote exchange. The nature of the filler depends on the For catalytic decomposition of physical materials, choose one that is suitable for the stability characteristics of the material to be treated.

図3は熱反応器(サーモリアクタ)lの別の設計例を示す。図において、輻射チ ューブは触媒塊5に中心チューブ7の周りに螺旋状の埋め込まれたヒータエレメ ント6′によって置換されている。このチューブにより触媒塊5は分解反応を誘 動するに必要な温度に加熱される。図2の部材に類似の図3の部材は同一の参照 番号によって識別されている。本例の多孔塊5は多孔外囲体(図示省略)の中に 有利に閉じ込められる。FIG. 3 shows another design example of the thermal reactor l. In the figure, the radiation channel The tube is a heater element embedded spirally around the central tube 7 in the catalyst mass 5. 6'. This tube allows the catalyst mass 5 to induce a decomposition reaction. heated to the temperature required for movement. Components in FIG. 3 that are similar to components in FIG. 2 have identical references. Identified by number. The porous mass 5 of this example is inside a porous envelope (not shown). advantageously confined.

被処理物の熱接触分解に要するエネルギは、供給室の混合ガスの温度を上昇させ ることにより、輻射チューブと電熱エレメントの温度上昇により、そして熱触媒 系の材料中での空気/酸素と可燃ガスの混合ガスの接触分解反応により供給され る。The energy required for thermal catalytic decomposition of the material to be treated increases the temperature of the gas mixture in the supply chamber. by increasing the temperature of the radiant tube and electric heating element, and by increasing the temperature of the thermal catalyst. It is supplied by the catalytic cracking reaction of a mixture of air/oxygen and combustible gas in the material of the system. Ru.

サーモライザ中での分解反応ダイナミックスは反応器に装置したサーモカップル からのデータに基づく電気的加熱を調節することにより、そして従来の電流制御 システム、例えばサイリスタに基づくシステムを使用することにより制御される 。The decomposition reaction dynamics in the thermolyzer are controlled by a thermocouple installed in the reactor. and conventional current control by regulating electrical heating based on data from controlled by using a system, e.g. a thyristor-based system .

浄化室9の外囲体9Aは活性エレメントのカートリッジ10(本例では2個の順 次配置カートリッジ)を収容している。活性エレメントの機能は物理・化学手段 により熱解離分解から生じる取り除くべき化学ラジカル(特にハロゲン)を保留 させるものであり、被処理物に依存する。The outer envelope 9A of the purification chamber 9 contains active element cartridges 10 (in this example, two in order). Contains a cartridge (next placement cartridge). Function of active element is physical/chemical means Retains chemical radicals (especially halogens) that should be removed from thermal dissociation and decomposition. It depends on the object to be processed.

カートリッジIOは外囲体9Aの内部断面全体を占有するもので、ガスアナライ ザ30の表示によって浄化が未だ充分でないことが判明したときに取り出して交 換される。取り出されたカートリッジは再生されて、再度装着させることが出来 る。順次配列のカートリッジは夫々異なる化学ラジカルを固定させるために異な る種類のものであり得る。カートリッジ10の下流側にある圧力ゲージ16は真 空度を表示するので、この表示に基づいてポンプセット28の流速を修正するこ とにより必要な値に圧力を設定することが出来る。分解され、浄化されたガスは 端壁11の出口Cから反応器を離れる。The cartridge IO occupies the entire internal cross section of the outer enclosure 9A, and is a gas analyzer. When it becomes clear that the purification is not yet sufficient according to the display of 30, take it out and replace it. will be replaced. The removed cartridge can be recycled and reinstalled. Ru. The sequential array of cartridges each contains a different chemical radical to immobilize it. It can be of any kind. The pressure gauge 16 downstream of the cartridge 10 is Since the emptyness is displayed, the flow rate of the pump set 28 can be corrected based on this display. The pressure can be set to the required value. The decomposed and purified gas It leaves the reactor through outlet C in end wall 11.

触媒反応器はAとCの間の全長に亘って断熱されて、熱損失を最少限度に抑制さ れている。The catalytic reactor is insulated along its entire length between A and C to minimize heat loss. It is.

例えば、l kg/ sの平均流速で入力される1−1−クロロエタンを処理す るためには、ディスクは0.35cm”の断面を有する孔を有している。触媒塊 は1.2m長で、そのガス流通路の断面は400cm”である。この塊は酸化プ ラチナに基づいたものである。浄化カート1ルソジは接触分解中に解放された塩 素化合物を固定するためにドロマイトに基づいたものである。For example, if 1-1-chloroethane is input at an average flow rate of 1 kg/s, The disk has a hole with a cross section of 0.35 cm. is 1.2 m long, and the cross section of its gas flow path is 400 cm. It is based on Latina. Purification Cart 1 Rusoji contains salts released during catalytic cracking It is based on dolomite to immobilize elementary compounds.

と1線に配置された熱解離室に直接に供給される。この混合気は960g/sの 酸素と540g/Sのプロパン(C,)II)を含む。is directly supplied to a thermal dissociation chamber arranged in line with the thermal dissociation chamber. This mixture is 960g/s Contains oxygen and 540 g/S of propane (C,) II).

供給室lの目標圧力は3バールで設定温度は480にである。The target pressure in the supply chamber I is 3 bar and the set temperature is 480 °C.

熱解離室4の真空度は0.6バールであり、触媒塊5は100OKのオーダの温 度に維持される。The degree of vacuum in the thermal dissociation chamber 4 is 0.6 bar, and the catalyst mass 5 has a temperature of the order of 100 OK. maintained at the same time.

本発明は例を挙げて上述の通り説明されたが、これらの例は本発明を限定するも のではなく、本発明の範囲を逸脱することなく当業者が多くの変形例に想達する ことの出来るのはいうまでもない。Although the invention has been described above by way of example, these examples are not intended to limit the invention. However, many variations will occur to those skilled in the art without departing from the scope of the invention. Needless to say, it is possible.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.廃棄処分が環境を阻害する液やガスを処理する装置において、単1の熱解離 反応器と、被処理液物品或いはガス物品が供給される供給室(1)と、被処理ガ スの流通を許容する中間ディスク(3)と、内部で熱接触分解反応が生起する熱 解離室(4)と、熱接触分解反応により解放された取り除くべき化学元素を内部 で選択的に保留する浄化室(9)を含むことを特徴とする、廃棄処分が環境を阻 害する液やガスを処理する装置。1. Single thermal dissociation is used in equipment that processes liquids and gases whose disposal disturbs the environment. A reactor, a supply chamber (1) into which the liquid or gas article to be treated is supplied, and a gas article to be treated. The intermediate disk (3) allows the flow of gas and the heat that causes the thermal catalytic cracking reaction inside. A dissociation chamber (4) and a chamber containing the chemical elements to be removed released by the thermal catalytic decomposition reaction. The waste disposal is characterized by the inclusion of a purification chamber (9) for selective retention in the environment. Equipment that processes harmful liquids and gases. 2.熱解離室の内部に或いはその上流端に可燃性ガス媒体を供給するパイプ(B ,B′′)を含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置。2. A pipe (B , B'') according to claim 1. 3.供給室(1)がこれに導入された被処理物の液状部分を蒸発させ且つ混合気 を所定温度に加熱するための加熱装置(2)を具備していることを特徴とする、 請求項1或いは2に記載の装置。3. The supply chamber (1) evaporates the liquid part of the material to be treated introduced into it and creates a mixture characterized by comprising a heating device (2) for heating the to a predetermined temperature, The apparatus according to claim 1 or 2. 4.中間ディスク(3)が供給室(1)の温度と圧力の条件と熱解離室(4)の 圧力により定まる流速で熱解離室(4)にガス生成物を正常に移送するための校 正サイズのオリフィスを有していることを特徴とする、請求項1−3のいづれか 1項に記載の装置。4. The intermediate disk (3) adjusts the temperature and pressure conditions of the supply chamber (1) and the thermal dissociation chamber (4). Calibration for the normal transfer of gaseous products to the thermal dissociation chamber (4) at a flow rate determined by pressure. Any one of claims 1 to 3, characterized in that it has a normally sized orifice. The device according to item 1. 5.熱解離室(4)が熱触媒システム(5−6)を含み、当該システムが電力供 給器(14)に接続した電気エレメント(6,6′)と熱触媒塊(5)を含み、 該システムが混合気の接触分解を可能にする温度に電気的に加熱され、被処理物 の熱解離分解に要する追加エネルギが空気/酸素−可燃ガスの混合気の接触分解 反応により得られるようにしたことを特徴とする請求項1−4のいづれか1項に 記載の装置。5. The thermal dissociation chamber (4) contains a thermal catalytic system (5-6), which system is electrically powered. comprising an electrical element (6, 6') connected to a feeder (14) and a thermal catalyst mass (5); The system is electrically heated to a temperature that allows catalytic cracking of the mixture, and the The additional energy required for the thermal dissociative decomposition of the air/oxygen-combustible gas mixture is According to any one of claims 1 to 4, characterized in that it is obtained by reaction. The device described. 6.浄化室(9)は取り除くべきラジカルを選択的に除去するために、分解され たガスをライニング(10)上に通過させるようにした斯ゝる反応性材料のライ ニング(10)を含むことを特徴とする、請求項1−5のいづれか1項に記載の 装置。6. The purification chamber (9) is decomposed in order to selectively remove the radicals to be removed. A line of such reactive material is arranged to allow the gas to pass over the lining (10). 6. The method according to any one of claims 1 to 5, characterized in that it comprises a lining (10). Device. 7.該反応性材料が操作を容易にするためと使用後の再生のために取り出し可能 なカートリッジの形態で設置されていることを特徴とする、請求項6に記載の装 置。7. The reactive material is removable for ease of operation and for regeneration after use. The device according to claim 6, characterized in that the device is installed in the form of a cartridge. Place. 8.熱解離室に収容されている触媒塊(5)の温度を調節するための手段(14 ,15)を含むことを特徴とする、請求項1−7のいづれか1項に記載の装置。8. Means (14) for regulating the temperature of the catalyst mass (5) housed in the thermal dissociation chamber , 15). Device according to any one of claims 1 to 7, characterized in that it comprises: . 9.熱解離室(4)の真空度を維持するために、反応器の出口に先行する洗浄手 段(23)を介して接続したポンプセット(28)を含み、該洗浄手段でガスを 更に浄化すると共にポンプセットを適切な温度に冷却するようにしたことを特徴 とする、請求項1−8のいづれか1項に記載の装置。9. In order to maintain the degree of vacuum in the thermal dissociation chamber (4), a cleaning hand is installed prior to the outlet of the reactor. including a pump set (28) connected via a stage (23) for supplying gas with said cleaning means; It is characterized by further purifying and cooling the pump set to an appropriate temperature. 9. A device according to any one of claims 1-8. 10.熱解離室(4)で得られる表空の度合を中間ディスクの下流側で反応器に 固定された圧力ゲージ(16)の目盛表示に従ってポンプセット(28)の流速 の調節により制御されるようにしたことを特徴とする、請求項9に記載の装置。10. The degree of surface air obtained in the thermal dissociation chamber (4) is transferred to the reactor downstream of the intermediate disk. The flow rate of the pump set (28) according to the scale indication of the fixed pressure gauge (16) 10. The device according to claim 9, characterized in that it is controlled by adjusting the . 11.反応器は熱損失を低減するために断熱され、中間ディスク(3)と熱解離 室に入れた熱解離システム(5,6,7)と浄化室に入れた活性材(10)が取 り外し可能に設置されていることを特徴とする、請求項1−10のいづれか1項 に記載の装置。11. The reactor is insulated to reduce heat loss and thermally dissociated with an intermediate disk (3). The thermal dissociation system (5, 6, 7) placed in the chamber and the active material (10) placed in the purification chamber are removed. Any one of claims 1 to 10, characterized in that the device is installed in a removable manner. The device described in. 12.反応器の下流側にガスアナライザ制御弁を含み、これにより処理済みガス を廃棄処分路(29)と該反応器の導入口(A)のいづれかに指向させるように したことを特徴とする、請求項1−11のいづれか1項に記載の装置。12. Includes a gas analyzer control valve downstream of the reactor, which allows the treated gas to to either the waste disposal channel (29) or the inlet (A) of the reactor. 12. Device according to any one of claims 1 to 11, characterized in that: 13.被処理液とガスを供給室(1)に供給し、液を蒸発させ、当該蒸発液と該 ガスを操作中真空に維持されている熱解離室(4)に送り、そこで該蒸発液と該 ガスの接触熱解離分解を反応させる温度に加熱された触媒塊と接触させ、次いで 該蒸発液と該ガスを分解により解放された所定物質を選択的に保留させるエレメ ントを含む浄化室(9)に送り込むようにした、廃棄処分が環境を阻害する液と ガスを処分する方法。13. The liquid to be treated and the gas are supplied to the supply chamber (1), the liquid is evaporated, and the evaporated liquid and the gas are The gas is sent to a thermal dissociation chamber (4) which is maintained under vacuum during operation, where it is combined with the evaporated liquid. Catalytic thermal dissociation decomposition of the gas is brought into contact with a catalyst mass heated to a temperature to react, and then An element that selectively retains a predetermined substance released by decomposing the evaporated liquid and the gas. The disposal of liquids that are harmful to the environment is sent to a purification chamber (9) containing liquids. How to dispose of gas. 14.浄化室を出たガスを洗浄し、有害物質の存否を検査し、次いで廃棄処分す るか、或いは供給室に再度戻すことを特徴とする、請求項13に記載の方法。14. The gas leaving the purification chamber is cleaned, tested for the presence of hazardous substances, and then disposed of. 14. The method according to claim 13, characterized in that the process is carried out in the same manner as in the supply chamber. 15.浄化室からその出口でポンプにより送り出されるガスの流速により操作中 の真空度を制御することを特徴とする、請求項13或いは14に記載の方法。15. During operation due to the flow rate of the gas pumped at its outlet from the purification chamber The method according to claim 13 or 14, characterized in that the degree of vacuum is controlled. 16.ガスを洗浄と冷却の後にポンプで送り出すことを特徴とする、請求項15 に記載の方法。16. Claim 15, characterized in that the gas is pumped out after cleaning and cooling. The method described in.
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