JPH07500223A - 最適化電界を持つ限定長さの遮蔽電磁コイルおよびその製造方法 - Google Patents

最適化電界を持つ限定長さの遮蔽電磁コイルおよびその製造方法

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JPH07500223A JP5504676A JP50467693A JPH07500223A JP H07500223 A JPH07500223 A JP H07500223A JP 5504676 A JP5504676 A JP 5504676A JP 50467693 A JP50467693 A JP 50467693A JP H07500223 A JPH07500223 A JP H07500223A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 最適化電界を持つ限定長さの遮蔽電磁コイルおよびその製造方法(技術分yf) 本発明は、制限された長さのコイルに使用される話性電磁界遮蔽(scrccn )コイル、および第2の近接体f11i(proximaLc volume) にわたりゼロ電界を維持しながら、1つの近接体積にわたり+iif記コイ小コ イル生じる磁界を最適化するh゛〃;にIW+する。。
(9,明の背]、;) °・h+a−Iイル没1.lは、物理学および技術設計の多くの分野において非 常に重要である。特に、このことは現在では、種々の磁界の1確な空間的変化が 著しい核磁気共鳴(NMR)イメージ形成および分)を法(spccLrosc opy)において妥当する。、NMRにおいて使用される電磁コイルの最も ・ 般的な構成は図1に示され、これにおいては、システl、1が、システム、を動 作させる制御部2と、構造の中心における問題領域(ROI)にわたり大きな均 ・の実質的に均質な磁界を提供する通常は超伝導性のIコイル3と、Rolにわ たり線形的に変化する3つの直交する勾配磁界を11“しることを、01図され る1つの軸方向および2つのjin断方向の線形勾配磁界コイル4(例示目的の ため、1つのみが示される)とを含む、1図示された勾配コイルは、縮性遮蔽コ イル5を含んでいる。。
遮蔽勾配コイル、時には遮蔽i’、Gjl界コイルは、NMRシステ11に対す る選好される構造となってきた。、活性遮蔽コイルについては、系統的に遮蔽す る静的な、あるいは時17i1依存ノVのr″:I光電磁Wの方法を開示するM ansriclcJ等の論文rNMRイメージ形成における勾配コイルの活性ω 界遮蔽法(AcLivc MagncLie 5crccninIr or ( :r;zlicnL Co11sin NMR1m++1?in+7)l (M i+14++cl ic 菖< 0811 II +II C066,573〜 576ベーノ、I リ H(’rイ1.)に記−11見されている。、このノJ ゛法においては、磁界勾配コイル・システム・の話1′1体(111外の外因磁 界がゼロ化されるが、所要のタイプの勾配磁界はROIに生成されることが意図 される。その後の展開は、主勾配コイルと遮蔽コイルとが相互に共働して、外部 のゼロの磁界を生じる間、主コイル構造に隣接するROIに勾配磁界を生じる、 統合化されたコイル・システムをもたらす結果となった。遮蔽コイルは、特定の 種類の磁界、例えば均一な磁界、線形磁界などを主コイル構造に隣接するROI 内に提供すると同時に、遮蔽コイル構造に隣接する実質的にゼロの磁界を生じる 如きものである。
図2において、本発明の円筒状実施例、遮蔽コイル5′および1次コイル4′は 、遮蔽コイル5′に対して外部の領域におけるゼロの磁界B、=0を提供しなが ら、ROIに所与の所望の種類の磁界を生じるために意図される。第2のコイル は、近接導体構造における時間に依存する渦流を、従ってRotにおける磁界に 結果として生じる時間に依存する振動を除去するため用いられる。遮蔽コイルに ついて定義すれば、磁束がどこにも存在しないように全ての磁束がスクリーン内 に戻るため、遮蔽コイルのインダクタンスが同じ1次磁界を生じる遮蔽されない コイルのそれと同じであることが公知である。更に、遮蔽コイルの抵抗はまた、 これを構成する弧(巻線)数には依存しない。この特性は、構造のスクリーン部 分に存在する巻数が大きくなれば大きいほど、並列回路へ逃がされるはずの渦流 飛が比例的に多くなるという事実から結果として生じる。スクリーンにおける渦 流の減少は、巻数における増加に正比例し、例えば、巻数が2倍になると渦流は 半分に減少し、電圧降下、従って抵抗は一定のままである。
遮蔽はまた、主コイル構造からの漂遊外部磁界の大きさを著しく低減する手段を 提供し、この構造はさもなければ局部領域内の全ての電子デバイスに対して悪影 響を呈する。その結果、このような外部磁界を取除くかあるいは少な(とも著し く低減することが望ましい。受動性の遮蔽を用いる別の態様は、大量の強磁性体 の使用を必要とする。
電磁コイル設計の一般的問題に対する試みの見るべき従来技術の方法は、問題の コイルの表面電流の分布の計算に対する開始点の選定においてやや恣意的である 。その結果、計算は膨大で比較的遅くなる傾向を有し、結果として得るコイルは 最適の磁界を生じることがない。
電磁コイルの一般的問題は、下記のビオーサヴアール(BioL−3avar【 )の方程式を解く問題である。即ち、但し、B(太字の量は3つのn:(交する 空間成分を持つベクトル量)は、問題の領域内の全ての点r′に流れる電流密度 分布J(r’)による点rに結果として生じる磁界であり、μは媒体の透磁率で ある。
少数の非常に小さいが全ての事例における所与の電流分布に対する磁界を得るた めビオーサヴアール方程式の解は、最近まで数値積分法に依存してきた。所要の 磁界を生じるための特定の電流分布を決定する問題と逆の問題の解は、更に困難 である。特にNMRに対する電磁石の設計においては、しばしば、磁界は円筒状 の母体上に巻付けられたコイルにより生成される。最近まで、このようなコイル に対する解は、球面高調波(spherical harmonics)に関し て磁界を展開して、原点における最初の少数の非ゼロ項を最適化することにより 得られた。この方法は、l III:紀にわたって用いられて、それぞれ均一か つ線形の軸方向勾配コイル設計のための標準的なヘルムホルツ・コイルおよびマ クスウェル・コイルをもたらす結果となった。このシステムは、特定の空間的場 所における実質的に一連の線電流要素である設計をもたらす。
アンペールの法則(Ampcrc’ s law)によれば、理論的に得られる 磁界が、1つの領域を囲む表面上の電流分布によってこの領域に生じることがで きる。円筒状コイルの場合は、このことは無限長かあるいは閉じられる表面を含 む。実施上の理由により、コイル内への接近が必須であるNMRにおいては、円 筒は比較的短く開放端部を持たねばならない。その結果、実際に得られる磁界は 、球面高調波の展開により得られるものよりは良好であるが完全ではなく、所望 の磁界パラメータからの歪みを呈するものである。従って、一般に仮定および妥 協に基くある形態の最適化が必要となり、その結果依然として、結果として生じ る遮蔽1次コイルが生じる磁界の望ましくない歪みを生じ、あるいは外部磁界の ゼロ値を生じ、即ち、ゼロ領域に著しい漂遊磁界を生じることになる。
ビオーサヴ7−ル方程式、即ちその畳み込みされた性質を考慮に入れる方程式1 が、NMRシステムにおける勾配コイルに対して外部の構造における渦流の形成 の問題を解決するために最初に得られた。これらの解決法は、後に1986年に Turnerの論文「最適コイル設計に対する目標磁界の試み(A Targc t Field Approacb to Optimal Co11 Des ign)J (J−Phys、D+App+、Phy8.19; (1986年 )L147〜L151)およびMansricld等のrNMRにおけるコイル 構造の多重シールド活性磁気遮蔽法(MulLshicld Active M agnctic Screening or Co115tructuresi n NMR)J (J、Mag、Rcsonancc 72.211〜223ペ ージ(1987年))において勾配コイル設計の問題に対して適用された。これ ら後者の2つの場合は、適当な(無限遠集束の)「目標」磁界が1次勾配磁界に 対して選択される。このような磁界の選択は、完全に恣意的であり、1次コイル 面の不変の無限長を考慮するものではない。
Turnet等の論文[切換え磁界勾配の受動的遮蔽法(Passive Sc rccning o(5w1Lchcd Magnetic FieldGra dicnts)J (J、Phys、E、Sci、Instrum、191(1 986年)876〜879ページ)では、磁界勾配の受動的遮蔽法のための厚い 円筒状導体が開示されている。しかし、スリーブに誘起される電流は制御されな い緩和とNMRイメージ形成における干渉との積で減衰する。これは、減衰する 電流がイメージを破壊し得るアーチファクトを生じる所望の勾配磁界に重なるイ メージ磁界を生じる故である。
Mansricld等の論文rNMRイメージ形成時の静的および時間依存性の 磁界の生成のための活性磁界遮蔽法(AcLivc Magnetic Scr ccning or Co11s for 5Latic and Time− dependent Magnetic Field Generationi n NMRImaginsr)J (J、Phys、E:Sci、Instru m、19 (1986年)540〜545ページ)は、時間依存性の磁界または 磁界勾配を生じるコイルの周囲に配置される時高導電性の厚い金属スクリーンに 生じる誘起表面電流をシミュレートする1組の電流導体または個別のワイヤ・ア レイを開示している。強い外部磁界が任意に低くなり、超伝導磁石内部またはそ の付近に大きな迅速に切換わる勾配を生じることを可能にする。活性スクリーン は、1組の導体あるいは等間隔のワイヤ・メツシュを含み、それに誘起された表 面電流の分布を模倣するように電流パターンが外部に生成される。スクリーン・ ワイヤが同じ電流を運ぶがワイヤ間隔は等しくない別の構成がある。活性スクリ ーン外部の磁界が実質的にゼロとなることが開示されている。しかし、問題の領 域に最適の磁界を得る問題は解決されない。これらの論文と対応する開示内容は 、英国特許第2,180.943号に現れる。同特許は、1次コイルにより生じ る磁界の完全な反射具として活性スクリーンを開示しており、このスクリーンは これにより包囲された空間に対する接近のための開口を提供する形状を呈する。
ヨーロッパ特許第0231879号は、上記解決法に対する代替策であり、第2 の円筒状表面からの項を加えることにより遮蔽コイルの最適化を開示している。
しかし、この遮蔽コイルの長さは厳しい拘束条件である。得られる全コイル長の 使用は、はとんど常にスクリーン・パラメータの設計に適するものではない。こ れは、必要数の高調波の波長が必ずしもこの長さに充分(訳者性 adcqua tcの誤りか)なものではない故である。結果として、この設計のコイルにより 生じる磁界は、所望のゼロ磁界の存在時に歪みを呈する。この試みにおける更に 別の問題は、これがゼロ磁界を供することである。従って、生成された磁界の歪 みを取除くために、磁界のゼロ値が非ゼロ値と折衷され、実際にはこれがROI に生成される磁界に対して悪影響を及ぼし得る。
(発明の概要) 本発明による遮蔽コイルおよびその方法は、生成される磁界を所与の所望の条件 に最適化して、制限される長さの開放コイルにおいて問題となる領域の外側にゼ ロの磁界を生じると同時に、最小の歪みを生じる。本発明によれば、所与のタイ プの磁界を生じるための電磁コイル構造は、;l!!蔽電磁コイルと、制限され た長さの開放された1次電磁コイルとを含む。このコイルは、コイルにおける電 流分布がビオーサヴアール法則の関係の2次元フーリエ変換のn次高調波の電流 振幅の最小2乗最適化法により決定されて、遮蔽コイルに隣接する1つの体積領 域における実質的にゼロの磁界を生じ、この所与のタイプの磁界が所与のタイプ の磁界が最小の歪みを生じる1次コイルに隣接する第2の体積領域に生じるよう に構成される。
一実施例によれば、2つの円筒状面一ににコイルが構成され、この表面の内部に は予め割当てられた長さの1次コイルがあり、またその外部にはコイルの全電流 の大部分gを包含する長さ1の遮蔽コイルがあり、コイル構造が近似する電流分 布は、スクリーン表面に対して外部のゼロの磁界と、所与の形態の磁界を生じる ように1次コイル内の問題となる所与の領域内に最小2乗法で最適化される磁界 とを提供する如きものである。
(図面の簡単な説明) 図1は、NMRシステムにおける従来技術の電磁コイル構造の概略図、図2は、 所与のタイプの1つの領域内に1つの磁界を生じ、かつ実質的にゼロの外部MF 生じるための従来技術の全体的な遮蔽コイル構成を示す概略図、図3は、問題の 円筒状領域にわたり均一な磁界を生じるため本発明により最適化されたシリンダ の表面における図面の紙面と直角をなす方向に振幅が一定である遮蔽されない磁 界コイルの電流分布を示すグラフ、図4は、図3の電流分布の積分における等間 隔の特性により与えられる間隔により直列接続された導体構造を線で示す図3の 電流分布を生じる実際の手段を示すグラフ、 図5は、例示の目的のため半径と比較して深さが誇張された、深さが電流分布に 比例する大きい均一な磁界を生じるためのコイル構造の一実施例の断面立面図、 図68および図6bは、それぞれ軸方向および横断方向のコイル構造の連続的な 巻き間のコイル部分の接続状態を示す斜視図、図78および図7bは、問題の領 域内の均一な磁界とゼロの外部磁界とを生じる1次および遮蔽コイルの各表面に 対する電流分布を示すグラフ、図88および図8bは、図78および図7bに示 された1次およびスクリーン表面の電流分布カーブの軸方向における積分として 等間隔の各特性を示すグラフ、 図9aおよび図9bは、1次およびスクリーンの円筒状表面に限定される線形の 軸方向勾配磁界コイルの電流分布を示すグラフ、図10aおよび図10bは、そ れぞれ図9aおよび図9bに示された1次およびスクリーン表面の電流分布カー ブの積分の一連の等間隔の特性を示すグラフ、 図11aは、図9aおよび図9bに示された遮蔽勾配コイルの軸方向の電流分布 に対して問題となる領域にわたる実質的に歪みのない線形磁界の変化Bzを示す グラフ、 図11bは、1次コイルと等しい半径の従来技術のマクスウェル・コイルにより 生じる歪みのある線形勾配磁界を示すグラフ、図12aおよび図12bは、それ ぞれ1次およびスクリーンの円筒状面における線形遮蔽コイルの横断方向の勾配 磁界を示すグラフ、図13は、本発明の一実施例による4つの象限全てを示す方 向において展開されたシリンダにおける横断方向の勾配遮蔽コイルの1次電流の 分布の等レベル特性を示すグラフ、および 図14は、本発明の一実施例による遮蔽コイルの電流分布の1象限の展開グラフ である。
(実施例) 図1において、NMRシステト1は、その構造が周知であり本文ではこれ以−に 訂細には述べない制御部2を含む。この制御部は、システムのコイルを付勢する ためのr〔を含む適当な電源を含む。システムlは、問題領域(ROI)、例え ばNMRイメージにより検査される患者を収受する領域に比較的大きな静的磁界 を生じるNMRイメージ形成システt・において広く使用される主要外側コイル 3を含む。外側コイル3は、システI・に対する静的B磁界を生じる主コイルで ある。
1次勾配コイル4は、NMRシステムにおいて公知の方法でイメージ形成の目的 のため軸方向および横断方向の勾配磁界を生じる複数の勾配コイルを表わす。こ の勾配遮蔽コイルは、包囲する金属構造部を遮蔽するため勾配コイル4により生 じる磁界を打消すため使用される活性遮蔽コイルである。
外側コイル3は通常、超伝導性でありかつ一般に遮蔽(図示せず)がなされてい る。このコイルは、構造の中心部のROIにわたり大きく均一で実質的に均質な 磁界を生じる。この磁石の内部には、1つの軸方向および2つの横断方向の、コ イル4で示される線形勾配コイルが存在する。コイル4は、ROIにわたり線形 的に変化する3つの直交する勾配磁界を生じることを意図する。
遮蔽電磁コイル5は、勾配コイル4と共働して特定のタイプの磁界、例えば、均 一で線形の磁界をROI内部に生じると共に、図2の外部領域6に実質的にゼロ の(ヌルの)磁界を生じる。遮蔽コイルおよび1次コイルは、望ましい実施例で は内側および外側の円筒状面で示される、それらの1次コイルおよび遮蔽コイル の表面に流れる必要な電流分布を有することにより前記の如き特性を得る。
本文の用語「歪み」とは、意図されるものと異なる磁界を意味する。例えば、図 118は実質的に線形の勾配磁界を示し、図11bは著しく歪みのある磁界、即 ち非線形的な磁界を示す。更に、問題となるコイルの開放性は、閉鎖されたコイ ルよりも問題の解決が更に困難である漏洩磁束を生じる。
ヨーロッパ特許第87101198号は、第2の円筒状面からの項を付加するこ とを含む遮蔽コイルの最小2乗法による最適化の形態を提案している。しかし、 長手方向のスクリーンの選択は恣意的である。得られる全長を使用することは、 充分な遮蔽のため必要な高調波波長が必ずしもこの長さの倍数ではないため、つ ねに適当であるとは限らない。従来の方法論は、コイルの設計計算を行う前に、 所与の遮蔽コイル長さの仮定を必要とする。この仮定は必ずしも正しくない。本 発明によれば、計算の目的のためには、スクリーンは無限の長さであると仮定す ることができることが認められる。結果として、完全な遮蔽コイル・即ち・1次 コイルにより第1の隣接領域にゼロの磁界を、また第2の隣接領域に所与のタイ プの実質的に歪みのない磁界をそれぞれ生じる磁界を形成することができる。遮 蔽コイルにおける電流は、1次コイルの軸方向限界を越えると急速に減衰し、そ の長さは得られる磁界に対してそれほど衝繋を与えないように遡及的に決定する ことができる。その結果、遮蔽コイルの設計に対して拘束条件が与えられること がなく、更に完全なスクリーンが従来技術のシステムと比較して実質的にゼロの 外部磁界を生じる解決法は容易に得られる。
ビオーサヴアール方程式は、距離r/Irl’の逆2乗により、電流密度の分布 9量々込々]孟onvolutiorす」タリリ■艷シト斐(立柱4ユ互翌起述 但し、B (s)は磁界B (r)のフーリエ変換であり、J (s)は電流分 布J(r)のフーリエ変換であり、両者はrが一般点のベクトルであるスペース のフーリエ・カーネル・スペースの一般点である点Sにおけるものである。
この特性を用いると、コイル構造に対する改善された勾配線形性と程度を有する 電磁コイルの開発、および遮蔽勾配コイルの開発を可能にする。この特性を用い るコイルの分析的な設計は、やや恣意的な軸方向の変動を持つ磁界1こ対して適 当な関数の選択い依存するもので、これは無限大において結果として生じる電流 分布がゼロに減衰する条件を満たすことになる。
適当な関数の選択は簡単であるが、これもまた恣意的であり、従って結果として 得る磁界は最適以下のものとなる。
NMRにおいては、主電磁石は形態において大部分が円筒状であり、従って、分 析の多(は以下に述べるように他の設定点に対しても同様に適用し得る力(、円 筒状コイルに対して下記の分析が与えられることになる。
基本的な1次電流フープ 円筒状面に巻付けられるコイルにとってビオーサヴアール方程式の解にお(1て 特に重要なことは、cos(mO)として方向的に変化する単位電流の振幅の仮 説的な基本電流フープ(hoop)、即ち、許容し得る方向の高調波モード(p crmissiblc azimuthal harmonic m、odcs )からの磁界である。簡単にするため、下記のことが単にBとして定義される磁 界の軸方向成分むよび対応する方向の電流Jの決定に限定される。電流分布の他 の成分、従って、磁界成分は、連続の方程式Div、J=Qから直ちに得ること ができる。その2次元フーリエ変換(2DFT)を用いて、但し、B−は半径「 (ベクトル位置「と混同しないこと)における磁界の方位および軸方向における フーリエ変換の軸方向成分であり、kは軸方向次元と対応するカーネル−スペー ス次元(kcrnal 5pace demcnsion)、aはフープの半径 、1.およびに、は修正ベッセル関数、I’−およびに′、はそれらの導関数で ある。
以上のことから、シリンダにおける全ての解が、純粋に軸方向の分布関数を持つ 単に基本電流の畳み込みであることが明らかである。制限された長さLの開放シ リンダの場合は、この電流分布は表面における許容高調波モードの和として表わ すことができる。即ち、 J、 (i、 z) # r:、 C,H(z) cos (2γnz/L十蚤 ) (4) 。
但し、C0は0次の高調波の電流の振幅であり、H(z)は下式により与えられ る単位階段関数である。即ち、 2方向における式4のフーリエ変換は、下式を導(。
J、(i、k)M vLZ、C,[♂5ine(KL〕2−ny)+ e”5i neOαノ2+nf)] (6)方位および軸方向における結果として得る軸方 向磁界のフーリエ変換は、下式により与えられる。即ち、 B(r、 m、 k) = J、 (a、 k) 、 % (r、 m、 k)  (7)次に、コイル設計の最適化は、カーネル・スペースとは対照的に、実際 の問題領域(ROI )にわたる第1少数項(C0)の最小2乗法により便利に 解決される。項数の選定は、コイル構造の形状およびROIに依存し、これは、 交差類係数マトリックスが、例えばこれ以」二の著しい改善ができない百万分の −に対して特異になるまで、増加する項数により解くことによって処理すること ができる。
遮蔽される基本電流フープ 示唆的に遮蔽されるフープの内部磁界に対して方位および軸方向において結果と して得るフーリエ変換は、下式により与えられる。即ち、B、(r、 m、 k ) −uo k a 1. (kr) rK’、 (ka) −に’、 (kb ) T’、 (ka)/I’、 (kaj] +s+ 但し、bは無限スクリーンの半径である。外部磁界は、定義ゼロによる。
半径aの主表面のr「容し得る高調波であるcos(2πnz/L)は、Bが式 7におけるB1にB、を代入することにより得られる便利な2次元フーリエ変換 (2DFT)に対する内部磁界の軸方向成分を生じる結果となる。即ち、B(r 、 m、 k) x J、 (i、 k) 、 B、 Cr、 m、 k) ( 91コイル設計の最適化は、+iifのスクリーン無しの場合に対するように、 新しい項を加えることなく高調波電流振幅C,に対する最小2采法に基いて解決 される。
実際に、スクリーンの長さは有限でなければならないが、電流分布が1次コイル の長さを越えると急速に低減するため、スクリーン長さは電流分布振幅が無視し 得る長さまで制限することができる。このように、係数に対する解を妨げるかあ るいはこれを禁じさえすることがあるスクリーンに対して優先的な(prior i)制限が課されることがなかった。この電流法は、遮蔽およびROIにわたる 磁界のいずれも含まない。
係数の数における著しい減少は、非畳み込み項を直列に盛込むことにより、即ち 、平坦面における電流分布から磁界を表わす成分を加えることにより達成するこ とができる。事例は、均一・な磁界が要求される時の一定の電流分布、および線 形の軸方向勾配が°県木される時に線形的に変化する電がζ分布からの磁界であ る。
下記は、非遮蔽コイルまたは遮蔽コイルのいずれかの構造に対する電流分布を決 定するために用いられる。
a)物理的定数に対する値を設定して、主表面、および必要ならばスクリーン表 面、1次コイルの深さ、およびROIの位置を指定する。ROIは、最適化が行 われるべき点の格子として規定される。例えば、遮蔽された円筒状コイル構造は 、スクリーン半径す、1次コイル半径aおよび1次コイルの長さしにより規定さ れる。望ましいROIは、円筒状の広がりである。対称性の考慮および完全な方 位角の変動は、半径pと原点から外方の軸方同位fZQの積が未知数coより大 きいことを前提として、このような円筒状の広がりはこのpとqにより規定され ることを許容する。
b)遮蔽されたシステムの場合に適当に修正される式7で与えられる磁界の各項 の逆フーリエ変換により与えられる、適当な高調波の各々の単位電流振幅から磁 界を決定する。例えば、軸相互の勾配が1つのシリンダにおいて要求されるなら ば、cos(0)の方位角の変更のみが要求され、n>Qの場合、電流の連続性 (戻り経路)の理由のため縦方向の項cos(2πnz/L)のみを考察する必 要がある。
C)次に、ROIにおける磁界の著しい改善が得られな(なるまで、係数の数を 増加して最小2乗最適化法が行われる。円筒状の事例において、2.3.4など の項は、これ以上の著しい改善が得られない百万分の−(ppm)に対する特異 でない状態になるまで、係数マトリックスに盛込まれる。
d)次に、特異な係数を用いて、式4により与えられる如き全電流分布を決定す る。
C)次に、等価電位の特性が軸方向および方位の方向において決定される。これ らの特性は、コイル構造の実際の製造のための基礎として用いられる。
以降の事例は、NMRの性能に要求される3つの主磁界を構成する。即ち、■、 均一な磁界 a、非遮蔽 b、遮蔽 2.線形の軸方向勾配磁界 3、線形の横断方向勾配磁界 本発明の方法は、同様なコイル形状および全てのROI形状に対して直ちに適用 し得る。更に、本方法は、他の開放形態、例えば平坦部に対して容易に一般化す ることができる。
下記の全ての事例においては、直径が55cm、長さが40cmの円筒状RO■ が用いられ、内部の6つの等間隔の半径にわたって最小2乗最適化法が行われた 。
円筒状ROTおよび全ての諸元の選定は任意である。
遮蔽されない均一磁界コイル 本例の目的のために、長さが200cmに制限された直径が140cmの円筒状 コイル構造を仮定する。
ROI全体の最小2乗最適化が、最初の3つの高調波頂C01C1およびC2に ついて先に述べた方法で行われた。図3は、直径が55cmおよび長さが40c mの円筒状ROjl二に均一な磁界を生じるように最適化された直径が140c m、長さが200cmのシリンダの表面」−の非遮蔽磁界コイルの電流分布(メ ガ・アンペア/m/テルサおよびcm単位)を示している。同図は、このような 均一な磁界を生じる電流分布を示し、この電流分布の振幅は方位角方向において 一定である。このような分布は、前記文献に述べた如き方法により適当な導体配 置によって達成することができる。共に方位角方向に直列に巻かれた均一な断面 の導体あるいは軸方向に沢なる幅の等間隔の導体の使用による2つの最も一般的 な実施例。両方の場合に、導体の太さはコイル直径と比較して小さいものとする 。
均一な磁界を実際に得る1つの手段は、図4に示した線に沿って均一な太さの直 列に巻かれた導体を設置することである。この磁界を達成する第2の手段は、こ れも直列に接続された線間の間隔と対応する太さの導体を設置することであり、 この場合、線はコイルの各「ループ」間の間隔となる。図4は、それぞれ均一お よび不均一な太さの導体で40あるいは41回為いたコイル構成の側面図を示し 、後者の場合の2回の余分な為きは、本例では開放状態で示される構造の端部に より形成される。この構造の正面図は円形である。1つの実施例では、主磁界に 対する巻き数は、図示されたものの数倍の大きさであり、均一なワイヤを用いて 図5の電流分布と対応する深さを形成するように巻付けられ、図示しない深さの 補償はこれを達成する便利な手段となろう。
連続する巻き間の接続部からの分は、戻り経路を図68および図6bの入力線に 隣接して配置することにより無視することができる。
4賊された均−欧兄ユ薫次 本例の目的のため、200cmの長さに制限された140cmの直径の円筒状コ イル掃込を1次用として、また200cmの直径の円筒状コイル構造をスクリー ン用として仮定する。
ROI全体の最小2乗最適化は、予期されるように最初の3つの高調波頂により 達成される。図7aおよび図7bは、図78が1次コイルに対する電流分布を、 図7bがスクリーンに対する電流分布を示し、このようなROIにおける均一な 磁界およびスクリーンに対して外部のゼロ磁界D>100cm)を同時に提供し 、両方の電流分布の大きさは方位角方向において一定である。これらの分布は、 先に示した非遮蔽コイル1aに対して提案されたものと同じ方法で達成すること ができる。
図88および図8bは、1次およびスクリーン面の電流分布に関する一連の等間 隔の特性をそれぞれ示している。
遮蔽された線形−々回前〜奥異三イ四 木例の目的のため、長さ120cmに制限された直径が70cmの円筒状コイル 描込が1次用として、また直径が99cmのコイルがスクリーン用として仮定さ れる。
Rot全体の最小2乗最適化が、それぞれ1次およびスクリーンに対して図98 および図9bに示される電流分布を結果として生じた。対応する等価電位特性、 即ち、等しいコイル巻線が、それぞれ図108および図10bに示される。これ らの電流分布は、図11aのROIにおける軸に沿って距離と共に線形的に変化 する磁界と、スクリーンに対して外部のゼロ磁界(r>45cm)とを提供し、 両方の電流分布の大きさは方位角方向において一定である。比較の目的のため、 図11bは、1次コイルと等しい半径の従来技術のマクスウェル・コイル構成に より提供される歪みのある線形勾配磁界を示している。
遮蔽された絢ル劾り広〃■すA!嘩l別りし四本例においては、120cmの長 さに制限された70cmの直径の円筒状コイル構造が1次用として、また90c mの直径のコイルがスクリーンとして仮定される。
ROI全体の最小2乗最適化が、それぞれ1次およびスクリーン・コイルに対し て図12aおよび図12bに示される電流分布を結果として生じる。これらの電 流分布は、図118のROTにおける半径に沿った距離と共に線形的に変化する 磁界を軸方向に提供し、スクリーン(r>45cm)に対して外部のゼロ磁界が あり、両方の電流分布の大きさは、方位角方向において余弦(m=1)として変 化する。図13は、手用な軸方向および周方向の面上の特性を示すため表面が展 開された4つの象限を示す。図14は、関連する遮蔽コイルの1つの象限の展開 された図を示す。
二股的な解夾法 以上のことは、特定のROI全体の解決の適用に集中して述べた。各ROI毎に 問題を再検討しなければならない。球面高調波に基く設計におけるように、ある 程度の最適化の損失を許容するならば、スケールに依存する解決法が存在する。
導体の表面において要求される磁界を提供するのに要する電流分布を決定するこ とによって、一般的な解決法を表面電流分布に対して達成することができる。結 果として得る設に1−は、その後にスケールすることができる。このような解決 法は、連合王国特許第8714’435号に論述される如き非遮蔽勾配コイルの 設計のために、超伝導表面あるいは非常に高い導電性面を磁界に生じるか、ある いは迅速に変化する表面を生じる有効と類似する。
この一般的な「超伝導」解決法は、平坦部、即ち電流分布に対する連続的な近似 化が下式により勾えられる場合に対する解決法の場合におけるように、要求され る磁界と単純に比例する電流分布から始まる反復手順により得ることができる。
即ち、 J、0、 = J、 (B −B、) / p (+01但し、Bは表面におけ る所望の磁界、B、は電流分布J、からの磁界である。
円筒状コイルの場合における別の一般的解決は、1次コイルの長さを線要素の解 決において用いられる間隔に関連付けることである。均一および線形の軸方向勾 配の場合には、これは、それぞれへルムホルツ間隔(a / 2 )に等しくか つマクスウェル間隔(av’3/2)の2倍に等しい長さを有することを意味す ることになる。
遮蔽コイル設計に対する最小2乗最適化は、任意の形状の表面に対して用いるこ とができるという利点を有する。この問題は、対称的がなく、3次元における任 意性が増加する形状を規定する必要と共に更に複雑になる。先に述べた一般的な プロセス、とりわけ「超伝導jのプロセスもまた、任意性の増す表面形態の構造 に用いられる時には利点と短所を共有する。
インダクタンスを最小化するための努力は払われなかったが、本システムはイン ダクタンスが最小値から僅かに異なるに過ぎないコイルを生じる。更に、この最 小化法は、本発明により設計されるコイルに僅かな磁界の最適化を犠牲にして実 態化することができる。
本発明は外部磁界が望ましくない電磁石の膜用の全ての特質において実現できる ことが予期される。例えば、これは、粒子加速器において、また大きな磁界の近 (のコンピュータの如き電子回路の保護のために用途を有する。また、磁界の正 確な性能と外部磁界の抑制の組合わせが超伝導磁石技術の進歩と共に、特により 高温度の超伝導材料の開発と共に、ますます重要になることが予期される◇平坦 コイル 電流分布の面Jが軸Xに対して直角をなすように規定されるならば、2次元(y 、Z)におけるビオーサヴアール方程式のフーリエ変換は、下式を導く。即ち、 また 。、 (v’ + −)l′1(+111および、VおよびWはそれぞれyおよ び2に対応するフーリエ・カーネル次元である。
特定の制限のある幾何学的形状、矩形、円形、楕円形などに対する解決法もまた 、許容調波モードを勘案するだけで得ることができる。
M Z FfG、8a FIG、8b

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.所与のタイプの磁界を有する電磁コイル構造を形成する方法において、制限 された長さの開放された1次電磁コイルを形成し、前記1次コイルを遮蔽するた めの遮蔽電磁コイルを形成し、前記遮蔽コイルに隣接する1つの体積領域内に実 質的にゼロの磁界が生成されるように、かつ前記所与のタイプの前記磁界が実質 的に無視し得る歪みを生じる前記1次コイルに隣接する第2の体積領域内に所与 のタイプの前記磁界が生成されるように、前記コイルにおける電流分布を決定す るため仮想1次面の許容される高調波の電流振幅の最小2乗最適化を用いて前記 コイル構成することを含む方法。
  2. 2.円筒状形器上でコイルを形成することを含み、電流フープの半径における電 流フープの軸方向次元と対応するカーネル・スペースにおける所与の半径の電流 フープにより生成され磁界の方位角および軸方向における2次元フーリエ変換の 軸方向成分を決定することにより、所与の次元の電流フープと、該フープの方位 角電流から前記第2の体積領域におけるcos(mO)として方位角方向に変化 する単位電流振幅との磁界を決定し、残留電流成分を生じ、結果として得る電流 を純粋に軸方向の分布関数で畳み込み、該畳み込まれた電流を第2の体積領域に わたる前記電流振幅の最小2乗法で最適化し、次に該最適化に基いてコイルを形 成することを含む請求の範囲第1項記載の方法。
  3. 3.2個の同軸の円筒状形器上でコイルを形成して、下式によりフープの半径a におけるフープの軸方向次元Zと対応するカーネル・スペースKにおける半径r の磁界の方位角および軸方向における2次元フーリエ変換の軸方向成分Bnを決 定することにより、方位角電流Jから前記第2の体積領域におけるcos(mO )として方位角方向に変化する単位電流振幅の所与の次元の電流フープの磁界B を決定して、 Bh(r,m,k)={μKal′m(Ka)Km(Kr)r>a、μKalm (Ka)K′m(Kr)r<a}但し、ImおよびKmは修正ベッセル関数、I ′mおよびK′mはその導関数残留電流動作を生じ、結果として得る電流を純粋 に軸方向の分布関数で畳み込み、該畳み込んだ電流を1つの体積領域にわたる最 小2乗法により最適化することを 含む請求の範囲第1項記載の方法。
  4. 4.前記畳み込みが、電流フープの表面上の許容される高調波モードの和として 電流分布を表わし、結果として得る電流分布を軸方向にフーリエ変換することを 含む請求の範囲第2項記載の方法。
  5. 5.前記フーリエ変換が、下式による電流分布を生じることを含む請求の範囲第 4項記載の方法。 B(r,m,k)=J0(a,k),Bh(r,m,k)但し、Bhは半径rの 磁界の方位角および軸方向におけるフーリエ変換の軸方向成分、kは軸方向次元 zと対応するカーネル・スペース次元、aはフープの半径であり、高調波ノード nを有する長さLの開放円筒の表面における電流分布は、J0(a,z)=πL ΣnCnH(z)cos(2πnz/L+■)であり、Jo(a,k)は係数C nを持つJoのフーリエ変換であり、但し、Cnはn番目の調波の電流振幅であ り、コイルのパラメータは、実際のスペースにおける第2の体積領域にわたる後 者のフーリエ変換の最初の少数項Cnの最小2乗法について解くことにより得ら れる。
  6. 6.前記構成ステップが、下式により前記コイルの電流分布Jの連続的な近似を 行うことを含む請求の範囲第1項記載の方法。 Jn+1=Jn+(B−Bn)/μ 但し、Bはコイルの表面における所望の磁界、Bnは電流分布Jnからの磁界、 μは第2の体積領域のスペースの透磁性である。
  7. 7.円筒状の整形器上でコイルを形成することを含む請求の範囲第1項記載の方 法。
  8. 8.コイルを平坦コイルとして形成することを含む請求の範囲第1項記載の方法 。
  9. 9.所与のタイプの磁界を生成する電磁コイル構造において、制限された長さの 開放された1次電磁コイルと、遮蔽電磁コイルとを設け、 実質的にゼロの磁界が遮蔽コイルに隣接する1つの体積領域内に生成されるよう に、かつ前記所与のタイプの前記磁界が、所与のタイプの前記磁界が実質的に無 視し得る歪みを生じる前記1次コイルに隣接する第2の体積領域内に生成される ように、前記コイルが、該コイルにおける電流分布を決定するため仮想主要面の 許容できる高調波の電流振幅の最小2乗最適化を用いて構成される、方法。
  10. 10.前記コイルが円筒状の整形器上で構成され、ループの半径でループの軸方 向成分と対応するカーネル・スペース内の所与の半径における電流フープにより 生成される磁界の方位角および軸方向における2次元のフーリエ変換の軸方向成 分を決定することにより前記電流フープの方位角電流から第2の体積領域におけ るcos(mO)として方位角方向に変化する単位電流振幅を持つ所与の次元の 電流フープの磁界を決定し、残留電流成分を生じ、結果として得る電流を純粋に 軸方向の分布関数で畳み込み、前記第2の体積領域にわたる前記電ひ流振幅の最 小2乗法により最適化し、次いで該最適化に基いてコイルを形成することにより 形成される請求の範囲第9項記載の方法。
  11. 11.前記構成ステップが、球面高調波分析により与えられる間隔と関連する主 要長さを用いる円筒状の整形器を含み、前記長さの事例は均一な磁界に対しては a/2の長さであり、線形軸方向磁界の生成に対してはa√3/2の長さである 請求の範囲第1項記載の方法。
  12. 12.前記構成ステップが、表面が1次コイルに近くかつ遮蔽コイルから最も遠 い前記第2の体積領域における問題の領域を含む請求の範囲第1項記載の方法。
  13. 13.内部が予め割当てられ長さの1次コイルであり、かつ外部が、コイルの全 電流の有意部分gを包含するように長さ1の遮蔽コイルである、円筒状面をそれ ぞれ有する第1および第2の電流を流すコイルを設け、該コイルが電流分布に近 似する構造を持ち、該コイル構造が近似する電流分布が、スクリーン表面に対し て外部であるゼロの磁界と、所与の形態の磁界を生じるように1次コイル内部の 問題の所与の領域内で最小2乗法に基いて最適化された磁界とを同時に生じる如 きものである コイル構造。
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