JPH0743950B2 - Read circuit - Google Patents

Read circuit

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JPH0743950B2
JPH0743950B2 JP12661287A JP12661287A JPH0743950B2 JP H0743950 B2 JPH0743950 B2 JP H0743950B2 JP 12661287 A JP12661287 A JP 12661287A JP 12661287 A JP12661287 A JP 12661287A JP H0743950 B2 JPH0743950 B2 JP H0743950B2
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read
circuit
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reference voltage
transistor
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は読出し回路、特に、浮遊ゲートを有し電気的に
書込み及び消去可能な不揮発性半導体記憶装置における
読出し回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a read circuit, and more particularly to a read circuit in a nonvolatile semiconductor memory device having a floating gate and capable of electrically writing and erasing.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、浮遊ゲートを有し電気的に書込み及び消去可能な
不揮発性半導体記憶素子である絶縁ゲート電界効果型メ
モリトランジスタ(以下メモリトランジスタと記す)を
読出す回路は、マスクROM,EPROMなどの他のメモリと同
様に、基準電圧発生回路によって作り出された基準電圧
又は基準電流と比較して“1"又は“0"の情報を読出すよ
うにしている。
Conventionally, a circuit for reading an insulated gate field effect memory transistor (hereinafter referred to as a memory transistor), which is a nonvolatile semiconductor memory element having a floating gate and capable of electrically writing and erasing, has been used in other circuits such as a mask ROM and an EPROM. Similar to the memory, the information "1" or "0" is read by comparing with the reference voltage or the reference current generated by the reference voltage generating circuit.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上述した従来の読出し回路は、製造時におけるメモリト
ランジスタのバラツキや使用時における変動に対する回
路的補償がなく、読出し不良を発生する等量産性に対し
て安定できないという欠点がある。このような欠点は、
今後、LSIが更に、大容量化,微細化するのにともない
大問題化しよう。
The above-described conventional read circuit has a drawback in that there is no circuit compensation for variations in memory transistors at the time of manufacture and fluctuations at the time of use, and it is not stable for mass production such as occurrence of read defects. Such drawbacks are
In the future, it will become a big problem as the capacity and miniaturization of LSI further increase.

このため、基準電圧発生回路に擬似メモリトランジスタ
を用いる手法が考えられていたが、製造時における浮遊
ゲートの電位(初期値)は、プラズマエッチング等製造
工程で印加される電界の程度によって大きく変化し不安
定であるため、基準電圧を発生する回路に用いる事は適
していないということから見捨てられていた。
For this reason, a method of using a pseudo memory transistor in the reference voltage generation circuit has been considered, but the potential (initial value) of the floating gate at the time of manufacturing greatly changes depending on the degree of the electric field applied in the manufacturing process such as plasma etching. Since it is unstable, it has been abandoned because it is not suitable for use in a circuit that generates a reference voltage.

本発明の目的は、バラツキや変動に対する回路的補償手
段を有しかつ安定した読出し回路を提供する事にある。
An object of the present invention is to provide a stable read circuit having a circuit-like compensating means against variations and fluctuations.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の回路は、浮遊ゲートを有し電気的に書込み及び
消去可能な絶縁ゲート電界効果型メモリトランジスタを
メモリ素子とする不揮発性半導体記憶装置における読出
し回路において、 メモリ素子およびメモリ素子に対する必要最少限の読み
書き回路と同構成の擬似メモリ素子および擬似読み書き
回路から成り擬似メモリ素子の読出電圧をメモリ素子の
読出電圧に対するリファレンス電圧として供給するリフ
ァレンス電圧発生部と、 外部制御信号に応答して設定電圧を出力するリファレン
ス電圧設定部と、 リファレンス電圧と設定電圧とを比較する比較部 とを同一集積回路内に設け、リファレンス電圧を設定す
るときには、上記比較において一致するまで擬似メモリ
素子への書込みを行うように擬似読み書き回路を動作さ
せるようにしている。
The circuit of the present invention is a read circuit in a non-volatile semiconductor memory device having an insulated gate field effect memory transistor having a floating gate and capable of electrically writing and erasing, as a memory element, and a minimum required for the memory element. Read / write circuit of the same configuration and a pseudo read / write circuit that supplies the read voltage of the pseudo memory element as a reference voltage for the read voltage of the memory element, and a set voltage in response to an external control signal. A reference voltage setting unit that outputs and a comparison unit that compares the reference voltage with the set voltage are provided in the same integrated circuit, and when setting the reference voltage, writing to the pseudo memory element is performed until they match in the above comparison. To operate the pseudo read / write circuit It

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示すブロック図であり、メ
モリ部1,リファレンス電圧発生部2,リファレンス電圧設
定部3,2つの比較器4および5並びにゲート(否定論理
和回路)6が一つの半導体集積回路内に収容されてい
る。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, in which a memory unit 1, a reference voltage generating unit 2, a reference voltage setting unit 3, two comparators 4 and 5 and a gate (NOR circuit) 6 are provided. It is housed in one semiconductor integrated circuit.

メモリ部1は、メモリ素子群,アドレス選択回路,読出
し回路,書込み回路等メモリ動作を行う回路群からな
り、読出動作時には読出電圧VAを発生する。比較器4
は、この読出電圧VAとリファレンス電圧発生部2が読出
動作時に発生するリファレンス電圧VRとを比較し、その
結果に応じて出力電圧VOを出力する。
The memory unit 1 is composed of a memory element group, an address selection circuit, a read circuit, a write circuit, and other circuits that perform memory operations, and generates a read voltage V A during a read operation. Comparator 4
Compares the read voltage V A with the reference voltage V R generated by the reference voltage generator 2 during the read operation, and outputs the output voltage V O according to the result.

リファレンス電圧設定部3は、本半導体集積回路を製造
した後において、リファレンス電圧VRを設定するときに
のみ機能し、外部から与えられる制御電圧VGの値に応答
した設定電圧VIONを発生する。設定電圧VIONは、比較器
5によってリファレンス電圧VRと比較され、この結果は
ゲート6を介してリファレンス電圧発生部2にフィード
バックされる。フィードバックの効果は、リファレンス
電圧VRの値を設定電圧VIONと同値に設定することであ
る。リファレンス電圧VRは、いったん設定されると、制
御電圧VGの除去によっても、その値を保持し、前述のよ
うに、メモリ部1からの読出電圧VRとの比較に供せられ
る。
The reference voltage setting unit 3 functions only when setting the reference voltage V R after manufacturing the semiconductor integrated circuit, and generates the setting voltage V ION in response to the value of the control voltage V G given from the outside. . The set voltage V ION is compared with the reference voltage V R by the comparator 5, and the result is fed back to the reference voltage generator 2 via the gate 6. The effect of the feedback is to set the value of the reference voltage V R to the same value as the set voltage V ION . Once set, the reference voltage V R retains its value even when the control voltage V G is removed, and is used for comparison with the read voltage V R from the memory unit 1 as described above.

メモリ部1は、第2(A)図に示すように、浮遊ゲート
を有し電気的に書込み及び消去可能な絶縁ゲート電界効
果トランジスタ(以下、電界効果トランジスタをトラン
ジスタと記す)であるメモリ素子M1と、トランジスタM2
およびM3より成るメモリ駆動回路部と、トランジスタM
4,M5と、2入力ノア(NOR)回路N1よりなり読出電圧VA
を得るセンスアンプ回路部と、書込み信号VWRをゲート
として書込み電圧VPPをドレインとするトランジスタM6
によって成る書込み回路部とによって構成される。第2
図は、図面の煩雑化を回避するために、1メモリ素子に
ついてのみ図示しているが、実際には多数のメモリ素子
群およびその内から指定されたメモリ素子を選択するた
めのアドレス選択回路を有する。
As shown in FIG. 2 (A), the memory unit 1 is a memory element M1 which is an insulated gate field effect transistor (hereinafter, field effect transistor is referred to as transistor) having a floating gate and capable of being electrically written and erased. And the transistor M2
And a memory drive circuit section consisting of M3 and a transistor M
Read voltage V A consisting of 4, M5 and 2-input NOR circuit N1
And a transistor M6 that uses the write signal V WR as the gate and the write voltage V PP as the drain
And a write circuit section. Second
The figure shows only one memory element in order to avoid complication of the drawing. However, in reality, a large number of memory element groups and an address selection circuit for selecting a designated memory element from them are provided. Have.

リファレンス電圧発生部2は、第2(B)図に示すよう
に、1メモリ素子に対するメモリ部1と同構成であり、
第2図(B)における各トランジスタは、第2図(A)
において対応する各トランジスタは、第2(A)図の
「D」を付されたトランジスタの擬似トランジスタであ
ることを表わす。リファレンス電圧発生部2は、多数の
メモリ素子に共用される。
As shown in FIG. 2 (B), the reference voltage generator 2 has the same configuration as the memory unit 1 for one memory element,
Each transistor in FIG. 2 (B) corresponds to that in FIG. 2 (A).
In FIG. 2A, each corresponding transistor is a pseudo transistor of the transistor marked with "D". The reference voltage generator 2 is shared by many memory devices.

次に第2(A)図と第2(B)図の動作を説明するが、
両者は基本的には同様であるので、第2(A)図につい
てのみ説明する。書込動作時においては、駆動信号Xと
書込み信号VWRは+25ボルトとし、消去動作時において
は前者のみ+25ボルトとし、また、ライトイネーブル信
号W/Eは両場合ともに“H"レベルとする。
Next, the operation of FIGS. 2 (A) and 2 (B) will be described.
Since both are basically the same, only FIG. 2 (A) will be described. In writing operation, the drive signals X and write signal V WR is set to +25 volts, and the former only +25 volts during erase operation and the write enable signal W / E is set to both cases are both "H" level.

“0"を書込む場合には、書込み電圧VCGを+25ボルトと
してトランジスタM3を介してトランジスタM1の浮遊ゲー
ト上に形成したコントロールゲートに+25ボルトを印加
し、また、書込み電圧VPPを0ボルトとしてトランジス
タM6を介してトランジスタM1のドレインを0ボルトにす
る。この結果コントロールゲートとドレインとの間に高
電界が生じドレイン上に形成した薄い(100オングスト
ローム)酸化膜を通して浮遊ゲートにF−Nトンネル電
流によってドレインから電子が注入される。このように
浮遊ゲートに電子が注入され、消去動作が終了しても浮
遊ゲートは電子が蓄積された状態を保持する。浮遊ゲー
トの電位が負になることにより、コントロールゲートか
ら見たスレッショールド電圧は+6ボルトと高くなる。
When writing "0", the write voltage V CG is set to +25 V, +25 V is applied to the control gate formed on the floating gate of the transistor M1 via the transistor M3, and the write voltage V PP is set to 0 V. As a result, the drain of the transistor M1 is set to 0 volt via the transistor M6. As a result, a high electric field is generated between the control gate and the drain, and electrons are injected from the drain to the floating gate by the FN tunnel current through the thin (100 angstrom) oxide film formed on the drain. In this way, electrons are injected into the floating gate, and even if the erase operation is completed, the floating gate maintains the state in which electrons are accumulated. The negative potential on the floating gate increases the threshold voltage seen by the control gate to +6 volts.

次に“1"書込みは次の様にして行う。書込み電圧VCG
0ボルトとしてトランジスタM3を介しトランジスタM1の
コントロールゲートを0ボルト、そして、書込み電圧V
PPを+25ボルトとしてトランジスタM6を介してトランジ
スタM1のドレインに+25ボルトを印加する。この結果、
浮遊ゲートからドレインに電子が放出し浮遊ゲートの電
位は正になる。これにより、コントロールゲートから見
たスレッショールド電圧は−3ボルトになる。
Next, write "1" as follows. The write voltage V CG is 0 volt, the control gate of the transistor M1 is 0 volt via the transistor M3, and the write voltage V CG is 0 volt.
With PP at +25 volts, +25 volts is applied to the drain of transistor M1 via transistor M6. As a result,
Electrons are emitted from the floating gate to the drain, and the potential of the floating gate becomes positive. This causes the threshold voltage seen by the control gate to be -3 volts.

消去動作は、上述の“0"書込みの場合と同様であり、た
とえ“1"が書込まれていても強制的に“0"書込み状態と
なる。また、読出し動作はコントロールゲートの電位を
0ボルトにして上述のように、“0"書込みと“1"書込み
とで設定されたスレッショールド電圧値に応じてトラン
ジスタM1をオフ・オンさせることにより行う。
The erasing operation is the same as the above-described case of writing "0", and even if "1" is written, the "0" write state is forcibly entered. Further, the read operation is performed by setting the potential of the control gate to 0 volt and turning on / off the transistor M1 according to the threshold voltage value set by "0" writing and "1" writing as described above. To do.

トランジスタM1がオフの場合、トランジスタM5,M4,M2お
よびM1の間に電流パスが存在しないため、読出電圧VA
電源電圧VCCレベル、また、トランジスタM1がオンの場
合は、読出電圧VAはVCC−α・IONになる。ここでαはト
ランジスタM4のコンダクタンスgmと、ノア回路N1のゲイ
ンによって決定する回路定数である。
When the transistor M1 is off, there is no current path between the transistors M5, M4, M2 and M1, so the read voltage V A is the power supply voltage V CC level, and when the transistor M1 is on, the read voltage V A Becomes V CC −α · I ON . Here, α is a circuit constant determined by the conductance g m of the transistor M4 and the gain of the NOR circuit N1.

リファレンス電圧発生部2はメモリ読出動作時にはメモ
リ部1と連動し、リファレンス電圧VRはトランジスタM1
Dのオン電流IONによって決定するが、動作安定上、トラ
ンジスタM1がオフ時の読出電圧VAとオン時の読出電圧VA
の中間電圧値に設定する事が最も好ましい。例えば、電
源電圧VDD=5ボルトで動作させる場合、読出電圧VA
トランジスタM1がオフ時には5ボルト、オン時には3ボ
ルトとし、リファレンス電圧VRは4ボルトとなるように
トランジスタM1Dのオン電流を制御する。この場合、ト
ランジスタM1のオン電流が例えば40マイクロアンペアな
らM1Dのそれは20マイクロアンペアとなる。以上の制御
の詳細は、前述のように、メモリ部1(第2図(A))
とリファレンス電圧発生部(第2図(B))の動作が同
一であることから、上述の第2図(A)の動作説明によ
り理解できよう。なお、制御信号VW2は第1図における
ゲート6の出力である。
The reference voltage generator 2 operates in conjunction with the memory unit 1 during the memory read operation, and the reference voltage V R is applied to the transistor M1.
Determined by D ON current I ON, but the operation stability on, the read voltage V A of the transistor M1 is at the read voltage V A and on the time of OFF
Most preferably, it is set to an intermediate voltage value of. For example, when operating with the power supply voltage V DD = 5 V, the read voltage V A is 5 V when the transistor M1 is off and 3 V when the transistor M1 is on, and the on-current of the transistor M1D is set so that the reference voltage V R is 4 V. Control. In this case, if the on-current of the transistor M1 is 40 microamps, that of M1D is 20 microamps. As described above, the details of the above control are described in the memory unit 1 (FIG. 2 (A)).
Since the operation of the reference voltage generator and the operation of the reference voltage generator (FIG. 2 (B)) are the same, it can be understood from the above description of the operation of FIG. 2 (A). The control signal V W2 is the output of the gate 6 in FIG.

リファレンス電圧VRは初期化に当って設定する。それに
は、先ず、メモリ部1に対するのと同様にして、トラン
ジスタM1Dを消去する。次に、リファレンス電圧設定部
3を使用する。
The reference voltage V R is set during initialization. To do so, first, the transistor M1D is erased in the same manner as for the memory section 1. Next, the reference voltage setting unit 3 is used.

リファレンス電圧設定部3は、第2(C)図に示すよう
に、トランジスタMN1,MN2,MN3とノア回路NN3によって構
成され、このうちトランジスタNM2,NM3とノア回路NN3と
で構成される回路とノア回路NN3は、メモリ部1および
リファレンス電圧発生部2における読出し回路と同構成
になっている。
As shown in FIG. 2 (C), the reference voltage setting unit 3 is composed of transistors MN1, MN2, MN3 and a NOR circuit NN3, among which a circuit composed of transistors NM2, NM3 and a NOR circuit NN3 and a NOR circuit NN3. The circuit NN3 has the same configuration as the read circuit in the memory unit 1 and the reference voltage generation unit 2.

上述のトランジスタM1Dの消去後、リファレンス電圧設
定部3において、例えば上例では、トランジスタMN1の
オン電流を20マイクロアンペアになるような制御信号VG
の電圧、例えば+3ボルトに設定し、読出動作モードに
して、設定電圧VIONとリファレンス電圧VRを比較器5に
よって比較する。トランジスタM1Dはオフであるためリ
ファレンス電圧VRは電源電圧VCCレベルで、VR≫VION
なり、比較器5の出力を“L"レベルにする。
After erasing the transistor M1D described above, in the reference voltage setting unit 3, for example, in the above example, the control signal V G that turns on current of the transistor MN1 to 20 microamperes.
Is set to the read operation mode, and the set voltage V ION and the reference voltage V R are compared by the comparator 5. Since the transistor M1D is off, the reference voltage V R is the power supply voltage V CC level and V R >> V ION , and the output of the comparator 5 is set to the “L” level.

次に、書込み電圧VEを0ボルト、書込み電圧VW1を+25
ボルト、制御信号VW3を“L"レベルに設定する事によ
り、制御信号VW2は“H"レベルになるので、トランジス
タM6DがオンしてトランジスタM1Dのドレインに高電圧が
印加され書込みを開始し、スレッショールド電圧を徐々
に低くなりリファレンス電圧発生部2のオン電流ION
大きくなっていく。制御信号VW3は、このように、リフ
ァレンス電圧VRを設定するに当っては、第1図における
リファレンス電圧発生部2,比較器5およびゲート6から
成るフィードバックルートを機能させ、またリファレン
ス電圧VRの設定後はそれを保持させる役割を担う。
Next, write voltage V E is 0 volt, and write voltage V W1 is +25.
By setting the control signal V W3 to the “L” level, the control signal V W2 goes to the “H” level, so that the transistor M6D turns on and a high voltage is applied to the drain of the transistor M1D to start writing. The threshold voltage gradually decreases and the ON current I ON of the reference voltage generator 2 increases. In setting the reference voltage V R in this way, the control signal V W3 causes the feedback route consisting of the reference voltage generator 2, the comparator 5 and the gate 6 in FIG. 1 to function, and the reference voltage V W3 . After setting R , it has a role to retain it.

このような書込みと読出しを繰り返し、リファレンス電
圧発生部におけるオン電流IONが20マイクロアンペアを
少しでも越えると比較器5の出力は“H"レベルとなって
制御信号VW2は“L"レベル、従ってトランジスタM6Dはオ
フ、トランジスタM1Dのドレインは0ボルトになり書込
みを完了する。このようにして、トランジスタM1Dはト
ランジスタMN1と同じオン電流IONで書込みを停止する。
When such writing and reading are repeated and the on-current I ON in the reference voltage generating section exceeds 20 microamps for a bit, the output of the comparator 5 becomes “H” level, and the control signal V W2 becomes “L” level, Therefore, the transistor M6D is turned off, the drain of the transistor M1D becomes 0 volt, and the writing is completed. In this way, the transistor M1D stops writing with the same on-current I ON as the transistor MN1.

これによって、リファレンス電圧VRの設定動作を終了す
るので、制御信号VW3は“H"レベルに戻し、メモリ部1
の読出しは読出電圧VAとこのリファレンス電圧VRとの比
較によって二値情報の検出が行われるようになる。
As a result, the setting operation of the reference voltage V R is completed, so that the control signal V W3 is returned to the “H” level and the memory unit 1
In reading, the binary information is detected by comparing the read voltage V A with the reference voltage V R.

本実施例は、リファレンス電圧設定回路3および上述の
フィードバック回路を採用することにより、従来はプラ
ズマエッチング等製造工程で印加される電界の程度によ
って不安定であった浮遊ゲートの電圧を回路的に補償
し、この結果、製造バラツキや使用時における変動に対
して同方向への変化をするが故に本来はリファレンス電
圧発生に適する擬似メモリの使用を可能化した。
In this embodiment, by adopting the reference voltage setting circuit 3 and the above-mentioned feedback circuit, the voltage of the floating gate, which was conventionally unstable depending on the degree of the electric field applied in the manufacturing process such as plasma etching, is circuitally compensated. However, as a result, since it changes in the same direction with respect to manufacturing variations and fluctuations during use, it is possible to use a pseudo memory that is originally suitable for generating a reference voltage.

なお、第1の実施例におけるトランジスタMN1のかわり
に、デプレーション型トランジスタを設ければ、ゲート
電圧を0ボルトにすることによって一定のオン電源ION
をトランジスタM1Dに設定する事が可能になり、第2
(C)図内の制御信号VGが不要になるので、出力ピン数
が減り、またテスト時間の短縮等効率を上げることがで
きるという利点がある。
If a depletion type transistor is provided in place of the transistor MN1 in the first embodiment, a constant on power supply I ON can be obtained by setting the gate voltage to 0 volt.
Can be set to the transistor M1D.
Since the control signal V G in the diagram (C) becomes unnecessary, there are advantages that the number of output pins can be reduced and the efficiency such as shortening the test time can be improved.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明は、擬似メモリトランジス
タを用いこのメモリトランジスタのオン電流を設定でき
る書込み/消去回路を設けることにより、製造後に容易
にオン電流、従ってリファレンス電圧を適正化でき安定
な読出し動作を実現できる効果がある。
As described above, according to the present invention, by using the pseudo memory transistor and providing the write / erase circuit capable of setting the on-current of the memory transistor, the on-current, that is, the reference voltage can be easily adjusted after manufacturing and stable reading can be performed. There is an effect that the operation can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示し、第2図は本実施例の
要部の詳細を示す。 1……メモリ部、2……リファレンス電圧発生部、3…
…リファレンス電圧設定部、4,5……比較器、6……ゲ
ート、M1〜M6,M1D〜M6D,MN1〜MN3……トランジスタ、N
1,N1D,NN3……ノア回路。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows the details of the essential parts of this embodiment. 1 ... Memory section, 2 ... Reference voltage generating section, 3 ...
… Reference voltage setting unit, 4,5 …… Comparator, 6 …… Gate, M1 to M6, M1D to M6D, MN1 to MN3 …… Transistor, N
1, N1D, NN3 …… Noah circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】浮遊ゲートを有し電気的に書込み及び消去
可能な絶縁ゲート電界効果型メモリトランジスタをメモ
リ素子とする不揮発性半導体記憶装置における読出し回
路において、 前記メモリ素子および該メモリ素子に対する必要最少限
の読み書き回路と同構成の擬似メモリ素子および擬似読
み書き回路から成り、該擬似メモリ素子の読出電圧を前
記メモリ素子の読出電圧に対するリファレンス電圧とし
て供給するリファレンス電圧発生部と、 外部制御信号に応答して設定電圧を出力するリファレン
ス電圧設定部と、 前記リファレンス電圧と前記設定電圧とを比較する比較
部 とを同一集積回路内に設け、前記リファレンス電圧を設
定するときには、前記比較において一致するまで前記擬
似メモリ素子への書込みを行うように前記擬似読み書き
回路を動作させるようにしたことを特徴とする読み出し
回路。
1. A read circuit in a non-volatile semiconductor memory device having an insulated gate field effect memory transistor, which has a floating gate and is electrically writable and erasable, as a memory element, wherein the memory element and the minimum required for the memory element. A read / write circuit having the same configuration as that of the read / write circuit and a pseudo read / write circuit, which supplies a read voltage of the pseudo memory element as a reference voltage to the read voltage of the memory element, and responds to an external control signal. A reference voltage setting unit that outputs a set voltage and a comparison unit that compares the reference voltage with the set voltage are provided in the same integrated circuit, and when setting the reference voltage, the pseudo The pseudo read and write so as to write to the memory device A read circuit characterized in that the read circuit is operated.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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