JPH0743679Y2 - エックス線照射装置 - Google Patents
エックス線照射装置Info
- Publication number
- JPH0743679Y2 JPH0743679Y2 JP1988017610U JP1761088U JPH0743679Y2 JP H0743679 Y2 JPH0743679 Y2 JP H0743679Y2 JP 1988017610 U JP1988017610 U JP 1988017610U JP 1761088 U JP1761088 U JP 1761088U JP H0743679 Y2 JPH0743679 Y2 JP H0743679Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray tube
- ray
- sample
- tube device
- irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案はエツクス線照射装置に係り、さらに詳しく
は、例えば輸血用血液やマウスなどの免疫抑制に使用さ
れるエツクス線照射装置に関している。
は、例えば輸血用血液やマウスなどの免疫抑制に使用さ
れるエツクス線照射装置に関している。
〔従来の技術〕 この種のエツクス線照射装置はエツクス線管装置とエツ
クス線管装置に対面して配置された試料皿とこれらを収
容しかつエツクス線を遮蔽する防護室とを具備してい
て、試料を試料皿に載せ、試料皿を回転させつつ、エツ
クス線を試料に照射することによつて、免疫抑制などを
なすことができるようにさせている。
クス線管装置に対面して配置された試料皿とこれらを収
容しかつエツクス線を遮蔽する防護室とを具備してい
て、試料を試料皿に載せ、試料皿を回転させつつ、エツ
クス線を試料に照射することによつて、免疫抑制などを
なすことができるようにさせている。
このようなものでは、エツクス線管の陽極と陰極方向に
おける線量分布が非対称であり、試料に対する均一なエ
ツクス線照射をなすことができないため、試料皿を平面
的に回転させる機構を設けているが、この方法では試料
のエツクス線管側とその反対側とでエツクス線の線質の
相違によつて均質な照射が不可能となる問題を有してい
た。そしてまた、試料に対して大きなエツクス線照射を
必要とする場合には、照射時間を長くするか特別な大容
量エツクス線管を使用しなければならず装置の大型化を
招くという問題を有していた。
おける線量分布が非対称であり、試料に対する均一なエ
ツクス線照射をなすことができないため、試料皿を平面
的に回転させる機構を設けているが、この方法では試料
のエツクス線管側とその反対側とでエツクス線の線質の
相違によつて均質な照射が不可能となる問題を有してい
た。そしてまた、試料に対して大きなエツクス線照射を
必要とする場合には、照射時間を長くするか特別な大容
量エツクス線管を使用しなければならず装置の大型化を
招くという問題を有していた。
本考案は、試料皿に対する回転機構なしに、より短時間
でもつて、より均一な照射を試料に対してなすことがで
き、しかも大きな照射量をもつものを、より低コストで
製作することができる、改良されたエツクス線照射装置
を提供するものである。
でもつて、より均一な照射を試料に対してなすことがで
き、しかも大きな照射量をもつものを、より低コストで
製作することができる、改良されたエツクス線照射装置
を提供するものである。
本考案のエックス線照射装置では、第一のエックス線管
装置と、該エックス線管装置に対面して配置された試料
面と、これらが組み込まれたエックス線を遮蔽する防護
室とを具備しているエックス線照射装置において、第二
のエックス線管装置が試料皿を中間にして第一のエック
ス線管装置と対面して防護室に組み込まれ、第二のエッ
クス線管装置の陰極及び陽極が第一のエックス線管装置
のそれらと互いに逆に配置されているようにすることに
より両方のエツクス線管装置によつて、試料の両面から
エツクス線の照射をして、試料皿を回転させることな
く、従来の装置よりも、少ない時間でもつて均一な照射
をなすことができるようにさせ、しかも大きな線量を必
要とするときにも、入手しやすい小形のエツクス線管に
よつて、必要とする照射量を得ることができるようにさ
せたものである。
装置と、該エックス線管装置に対面して配置された試料
面と、これらが組み込まれたエックス線を遮蔽する防護
室とを具備しているエックス線照射装置において、第二
のエックス線管装置が試料皿を中間にして第一のエック
ス線管装置と対面して防護室に組み込まれ、第二のエッ
クス線管装置の陰極及び陽極が第一のエックス線管装置
のそれらと互いに逆に配置されているようにすることに
より両方のエツクス線管装置によつて、試料の両面から
エツクス線の照射をして、試料皿を回転させることな
く、従来の装置よりも、少ない時間でもつて均一な照射
をなすことができるようにさせ、しかも大きな線量を必
要とするときにも、入手しやすい小形のエツクス線管に
よつて、必要とする照射量を得ることができるようにさ
せたものである。
本考案のエツクス線照射装置の実施例は、以下に、図面
にしたがつて説明する。
にしたがつて説明する。
図面において、参照符号11は防護室を示している。防護
室11は側面のひとつが開放された箱形の形態をもつ本体
12を具備している。本体12の開放側面には扉13がヒンジ
によつて取り付けられている。防護室11を構成する壁お
よび扉はエツクス線を遮蔽することができる材料によつ
て構成されている。
室11は側面のひとつが開放された箱形の形態をもつ本体
12を具備している。本体12の開放側面には扉13がヒンジ
によつて取り付けられている。防護室11を構成する壁お
よび扉はエツクス線を遮蔽することができる材料によつ
て構成されている。
防護室11の内部にはエツクス線管装置15および試料皿16
が収容されている。エツクス線管装置15はエツクス線管
とエツクス線束絞り装置とを具備していて、防護室11の
内部に収容され、適当する部材によつて防護室11の内壁
に支持されている。試料皿16はエツクス線管装置15に対
面して配置されていると共に、防護室本体12の内部にあ
る仕切壁17に設置されている。
が収容されている。エツクス線管装置15はエツクス線管
とエツクス線束絞り装置とを具備していて、防護室11の
内部に収容され、適当する部材によつて防護室11の内壁
に支持されている。試料皿16はエツクス線管装置15に対
面して配置されていると共に、防護室本体12の内部にあ
る仕切壁17に設置されている。
このエツクス線照射装置では、さらに、もう一台のエツ
クス線管装置が防護室11に組み込まれている。第二のエ
ックス線管装置は参照符号18で示されていて、エツクス
線管装置15と同じものからなつていて、これから放射さ
れる線束の中心軸がエツクス線管装置15のそれに一致す
るように、試料皿16を挾んで互いに対面して配置されて
いると共に、適当する機構によつて防護室11の内壁に固
定されている。
クス線管装置が防護室11に組み込まれている。第二のエ
ックス線管装置は参照符号18で示されていて、エツクス
線管装置15と同じものからなつていて、これから放射さ
れる線束の中心軸がエツクス線管装置15のそれに一致す
るように、試料皿16を挾んで互いに対面して配置されて
いると共に、適当する機構によつて防護室11の内壁に固
定されている。
エツクス線管装置15,18は高電圧線発生装置20に高電圧
ケーブル21,22によつてつながれ、高電圧線発生装置20
によつて高電圧を供給されていると共に、この高電圧線
発生装置20につながれたエツクス線制御装置23によつて
管電圧や管電流を設定するようにさせられている。これ
らの高電圧線発生装置20およびエツクス線制御装置23は
防護室11の外部に配置されている。
ケーブル21,22によつてつながれ、高電圧線発生装置20
によつて高電圧を供給されていると共に、この高電圧線
発生装置20につながれたエツクス線制御装置23によつて
管電圧や管電流を設定するようにさせられている。これ
らの高電圧線発生装置20およびエツクス線制御装置23は
防護室11の外部に配置されている。
このエツクス線照射装置は、従来の装置と同様に、エツ
クス線照射に際して、扉13を開け、試料を試料皿16に載
せたあと、扉13を閉じ、エツクス線制御装置23によって
管電圧および管電流を設定し、エツクス線管装置15,18
にエツクス線を放射させることによつて、試料にエツク
ス線の照射をなすことができる。このときに、ふたつの
エツクス線管装置15,18が試料の両面からエツクス線照
射をなしているので、試料に対して均一にエツクス線の
照射をなすことができ、さらにエツクス線管装置15,18
の各々に同じ管電流を供給することで、線量を二倍にさ
せることができるので、従来の装置に比較して、必要と
する照射を半分の時間にて行うことができ、また照射時
間を同じにすることによつて、特別なエツクス線管を使
用することなしに、二倍の線量のエツクス線で照射をな
すこともできる。
クス線照射に際して、扉13を開け、試料を試料皿16に載
せたあと、扉13を閉じ、エツクス線制御装置23によって
管電圧および管電流を設定し、エツクス線管装置15,18
にエツクス線を放射させることによつて、試料にエツク
ス線の照射をなすことができる。このときに、ふたつの
エツクス線管装置15,18が試料の両面からエツクス線照
射をなしているので、試料に対して均一にエツクス線の
照射をなすことができ、さらにエツクス線管装置15,18
の各々に同じ管電流を供給することで、線量を二倍にさ
せることができるので、従来の装置に比較して、必要と
する照射を半分の時間にて行うことができ、また照射時
間を同じにすることによつて、特別なエツクス線管を使
用することなしに、二倍の線量のエツクス線で照射をな
すこともできる。
このエツクス線照射装置では、さらに、エツクス線管装
置18は陰極および陽極がエツクス線管装置15のそれと互
いに反対に配置されている。これは、たとえば、エツク
ス線管装置15が図面に＋の記号で示す陽極を左側に、−
の記号で示す陰極を右側にして配置されているときに、
エツクス線管装置18は同じく＋で示す陽極を右側に、−
で示す陰極を左側にして配置することによつてなされて
いる。
置18は陰極および陽極がエツクス線管装置15のそれと互
いに反対に配置されている。これは、たとえば、エツク
ス線管装置15が図面に＋の記号で示す陽極を左側に、−
の記号で示す陰極を右側にして配置されているときに、
エツクス線管装置18は同じく＋で示す陽極を右側に、−
で示す陰極を左側にして配置することによつてなされて
いる。
このようなエツクス線管装置の配置は、エツクス線管装
置15の陰極および陽極方向における線束の中心軸の両側
における線量分布の不均一を補正して、試料の表面およ
び裏面の各々に対して均一なエツクス線照射をなさせる
ことができる。つまり、エツクス線管は陰極および陽極
の配列方向に直角な方向の線量分布が線束の中心軸の両
側においてほぼ対称であり、陰極および陽極方向の方向
におけるそれが非対称であるため、エツクス線管装置18
の陰極および陽極をエツクス線管装置15のそれらと逆に
配置して、陰極および陽極の配列方向に直角な方向にお
ける線量を均等にさせるようにしたものである。なお、
これは、同極同志が互いに対面するように、エツクス線
管装置15および18を配置し、各々のエツクス線管におけ
る管電圧および管電流を異ならせることによつても達成
することができる。
置15の陰極および陽極方向における線束の中心軸の両側
における線量分布の不均一を補正して、試料の表面およ
び裏面の各々に対して均一なエツクス線照射をなさせる
ことができる。つまり、エツクス線管は陰極および陽極
の配列方向に直角な方向の線量分布が線束の中心軸の両
側においてほぼ対称であり、陰極および陽極方向の方向
におけるそれが非対称であるため、エツクス線管装置18
の陰極および陽極をエツクス線管装置15のそれらと逆に
配置して、陰極および陽極の配列方向に直角な方向にお
ける線量を均等にさせるようにしたものである。なお、
これは、同極同志が互いに対面するように、エツクス線
管装置15および18を配置し、各々のエツクス線管におけ
る管電圧および管電流を異ならせることによつても達成
することができる。
以上述べた実施例において、エツクス線管装置は試料皿
16を中間にして一台ずつ配置されているが、複数台のエ
ツクス線管装置を試料皿の両側にそれぞれ配置してもよ
く、そうすることによつて、さらに均一な照射をなさせ
ることができ、しかも大きな線量を必要とするときに、
入手しやすいエツクス線管装置を採用することができる
ので、装置を低コストでもつて製作することができる。
16を中間にして一台ずつ配置されているが、複数台のエ
ツクス線管装置を試料皿の両側にそれぞれ配置してもよ
く、そうすることによつて、さらに均一な照射をなさせ
ることができ、しかも大きな線量を必要とするときに、
入手しやすいエツクス線管装置を採用することができる
ので、装置を低コストでもつて製作することができる。
〔考案の効果〕 本考案のエツクス線照射装置は、以上述べたように、エ
ツクス線管装置とエツクス線管装置からのエツクス線束
内に位置して配置された試料皿とこれらが組み込まれた
エツクス線を遮蔽する防護室とを具備していると共に、
第二のエックス線管装置が試料皿を中間にして前記エツ
クス線管装置と対面して防護室に組み込まれ、且つ第二
のエックス線管装置の陰極及び陽極が第一のエックス線
管装置のそれらと互いに逆に配置されるようにして、両
方のエツクス線管装置によつて試料の両面からエツクス
線の照射をなすことができるようにさせているので、試
料に対して均一にエツクス線の照射をなすことができ、
エツクス線管装置の各々に同じ管電流を供給することに
よつて、従来の装置よりもはるかに少ない時間でもつて
照射をなすことができ、多量のエツクス線の照射を必要
とするときにも、入手しやすい小形のエツクス線管によ
つてこれを果たすことができるので、低コストでもつて
製作することができる。
ツクス線管装置とエツクス線管装置からのエツクス線束
内に位置して配置された試料皿とこれらが組み込まれた
エツクス線を遮蔽する防護室とを具備していると共に、
第二のエックス線管装置が試料皿を中間にして前記エツ
クス線管装置と対面して防護室に組み込まれ、且つ第二
のエックス線管装置の陰極及び陽極が第一のエックス線
管装置のそれらと互いに逆に配置されるようにして、両
方のエツクス線管装置によつて試料の両面からエツクス
線の照射をなすことができるようにさせているので、試
料に対して均一にエツクス線の照射をなすことができ、
エツクス線管装置の各々に同じ管電流を供給することに
よつて、従来の装置よりもはるかに少ない時間でもつて
照射をなすことができ、多量のエツクス線の照射を必要
とするときにも、入手しやすい小形のエツクス線管によ
つてこれを果たすことができるので、低コストでもつて
製作することができる。
図面は本考案のエツクス線照射装置の一実施例を示す透
視図である。 11……防護室、15……エツクス線管装置、16……試料
皿、18……第二のエックス線管装置。
視図である。 11……防護室、15……エツクス線管装置、16……試料
皿、18……第二のエックス線管装置。
Claims (1)
- 【請求項１】第一のエックス線管装置と、該エックス線
管装置に対面して配置された試料皿と、これらが組み込
まれたエックス線を遮蔽する防護室とを具備しているエ
ックス線照射装置において、第二のエックス線管装置が
試料皿を中間にして第一のエックス線管装置と対面して
防護室に組み込まれ、第二のエックス線管装置の陰極及
び陽極が第一のエックス線管装置のそれらと互いに逆に
配置されていることを特徴とするエックス線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988017610U JPH0743679Y2 (ja) | 1988-02-15 | 1988-02-15 | エックス線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988017610U JPH0743679Y2 (ja) | 1988-02-15 | 1988-02-15 | エックス線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01124600U JPH01124600U (ja) | 1989-08-24 |
| JPH0743679Y2 true JPH0743679Y2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=31231547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988017610U Expired - Lifetime JPH0743679Y2 (ja) | 1988-02-15 | 1988-02-15 | エックス線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0743679Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011050526A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Hitachi Medical Corp | 放射線照射装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5605607B2 (ja) * | 2010-03-19 | 2014-10-15 | 横河電機株式会社 | Ｘ線測定装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5317341Y2 (ja) * | 1974-06-13 | 1978-05-09 | ||
| JPH042991Y2 (ja) * | 1985-01-08 | 1992-01-31 |
-
1988
- 1988-02-15 JP JP1988017610U patent/JPH0743679Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011050526A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-17 | Hitachi Medical Corp | 放射線照射装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01124600U (ja) | 1989-08-24 |
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