JPH0742598U - Inert gas atmosphere forming device for soldering equipment - Google Patents

Inert gas atmosphere forming device for soldering equipment

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JPH0742598U
JPH0742598U JP7035093U JP7035093U JPH0742598U JP H0742598 U JPH0742598 U JP H0742598U JP 7035093 U JP7035093 U JP 7035093U JP 7035093 U JP7035093 U JP 7035093U JP H0742598 U JPH0742598 U JP H0742598U
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chamber
inert gas
wiring board
soldering
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義昭 橘
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日本電熱計器株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 不活性ガス雰囲気を保持するはんだ付け装置
の低コスト化と、はんだ融液の酸化を防止して鉛公害の
発生を抑える。 【構成】 はんだ融液4で配線基板1にはんだ付けを行
うはんだ槽3の領域に不活性ガス雰囲気を保持するチャ
ンバ7を設け、チャンバ7の出口9側に不活性ガスを供
給する回動可能のノズル14と、ノズル14をその内部
に備えて不活性ガスの供給を調整する回動可能のU字状
の口筐13を設けた不活性ガス供給室12を設け、ま
た、チャンバ7内のはんだ槽3の領域に不活性ガスの流
れを抑える複数枚の抑止板15を設けたことを特徴とす
る。
(57) [Summary] [Purpose] To reduce the cost of soldering equipment that holds an inert gas atmosphere and to prevent the oxidation of the solder melt to suppress lead pollution. [Structure] A chamber 7 for holding an inert gas atmosphere is provided in a region of a solder bath 3 for soldering a wiring substrate 1 with a solder melt 4, and an inert gas is supplied to an outlet 9 side of the chamber 7 to be rotatable. The nozzle 14 and the inert gas supply chamber 12 provided with the rotatable U-shaped mouth casing 13 for adjusting the supply of the inert gas by providing the nozzle 14 therein, and also in the chamber 7. It is characterized in that a plurality of suppressing plates 15 for suppressing the flow of the inert gas are provided in the region of the solder bath 3.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、はんだ槽近傍のはんだ付けプロセス環境のみに低酸素濃度の不活性 ガス雰囲気を形成するはんだ付け装置のガス雰囲気形成装置に関するもので、特 に、チャンバの容積が小さいにもかかわらず雰囲気封止性を高くしたものである 。 The present invention relates to a gas atmosphere forming device for a soldering device that forms an inert gas atmosphere of low oxygen concentration only in the soldering process environment near the solder bath. It has a high sealing property.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

窒素(N2 )等の不活性ガス雰囲気中ではんだ付けを行う装置としては、例え ば、本出願人による特願平4−353879号に記載されているように、予備加 熱器およびはんだ槽をトンネル状のチャンバで覆うとともに、さらに、トンネル 状チャンバを配線基板の搬送路に沿って延長して設けた構成としたものがある。 そして、チャンバの下側および上側の内面には、配線基板の搬送方向と交差する 方向で、かつ配線基板の搬送路へ向けて複数枚の仕切板を設け、いわゆるラビリ ンス(labyrinth )流路を形成している。As an apparatus for soldering in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen (N 2 ), for example, as described in Japanese Patent Application No. 4-353879 filed by the present applicant, a preliminary heating device and a solder bath are used. There is a configuration in which the tunnel-shaped chamber is covered with a tunnel-shaped chamber, and the tunnel-shaped chamber is extended along the transfer path of the wiring board. On the inner surfaces of the lower and upper sides of the chamber, a plurality of partition plates are provided in a direction intersecting with the transfer direction of the wiring board and toward the transfer path of the wiring board, and a so-called labyrinth flow path is provided. Is forming.

【0003】 このラビリンス流路は、トンネル状のチャンバは管路を形成するので、流体の 流通に対して管路の断面積と長さ等で決まる流通抵抗と、ラビリンス流路固有の 流通抵抗とを有している。したがって、チャンバ内に供給された不活性ガスがチ ャンバの外へ流出し難くなるとともに、チャンバの外の大気がチャンバ内へ流入 し難くなる。その結果、チャンバ内のはんだ付けプロセスの環境を低酸素濃度の 不活性ガス雰囲気に保持することを可能としている。In this labyrinth flow passage, since the tunnel-shaped chamber forms a pipe, the flow resistance determined by the cross-sectional area and length of the pipe and the flow resistance specific to the labyrinth flow passage have. Therefore, it becomes difficult for the inert gas supplied into the chamber to flow out of the chamber, and it becomes difficult for the atmosphere outside the chamber to flow into the chamber. As a result, it is possible to maintain the environment of the soldering process in the chamber in an inert gas atmosphere having a low oxygen concentration.

【0004】 また、上記出願には、不活性ガスの供給位置や不活性ガスの供給・噴出方向が 重要であることと、それらの最適技術を特有のチャンバ構造として実現したこと が開示されている。Further, the above-mentioned application discloses that the supply position of the inert gas and the supply / jet direction of the inert gas are important, and that these optimum technologies are realized as a unique chamber structure. .

【0005】 すなわち、配線基板のはんだ付けが終了する位置から配線基板の搬送方向に対 して後方の位置に不活性ガスを供給するノズルを設け、その際にノズルはラビリ ンス流路を形成する複数枚の仕切板の間に設けた構成とし、不活性ガスが仕切板 相互の間から配線基板の搬送路へ向かって噴出する方向を、配線基板の搬送方向 とは逆方向となるように構成している。That is, a nozzle that supplies an inert gas is provided at a position rearward from the position where the soldering of the wiring board is completed in the transport direction of the wiring board, and at that time, the nozzle forms a labyrinth passage. The configuration is such that it is provided between a plurality of partition plates, and the direction in which the inert gas is ejected from between the partition plates toward the transport path of the wiring board is opposite to the transport direction of the wiring board. There is.

【0006】 ところで、配線基板の搬送にともなってチャンバ内の雰囲気は、配線基板や搬 送コンベア、または配線基板を装着したキャリア等の走行方向へ誘引されてチャ ンバ外へ引き出される方向へ流動する。そこで、不活性ガスの噴出方向を配線基 板の搬送方向とは逆方向となるように構成することで、そのような流出方向の雰 囲気流動を抑制し、雰囲気封止性を高めるようにしている。By the way, as the wiring board is transported, the atmosphere in the chamber flows in the direction in which the wiring board, the transport conveyor, or the carrier on which the wiring board is mounted is attracted in the traveling direction and pulled out of the chamber. . Therefore, the jetting direction of the inert gas is configured to be opposite to the transporting direction of the wiring board, so that the atmosphere flow in such an outflow direction is suppressed and the atmosphere sealing property is improved. There is.

【0007】 また、いわゆる無洗浄フラックスや水溶性フラックス等の開発が急速度に進み 、はんだ付け後の残渣が極めて少ないフラックスや、水で容易に洗浄可能なフラ ックス、あるいは、はんだ付け後の残渣が高分子樹脂膜に変化するフラックス等 が実用段階に達し、はんだ付け工程のみを低酸素濃度の不活性ガス雰囲気に保持 するだけで、良好なはんだ付け特性を確保しつつ配線基板のフロン洗浄が不要と なりつつある。Further, the development of so-called non-cleaning flux, water-soluble flux, etc. has progressed rapidly, and flux with very few residues after soldering, flux that can be easily washed with water, or residues after soldering The flux that turns into a polymer resin film has reached the stage of practical use, and by maintaining only the soldering process in an inert gas atmosphere with a low oxygen concentration, CFC cleaning of the wiring board can be performed while maintaining good soldering characteristics. It is becoming unnecessary.

【0008】[0008]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

ところで、低酸素濃度の不活性ガス雰囲気中ではんだ付けを行う目的は、少量 のフラックスで良好なはんだ付け特性を確保することができ、はんだ付け作業後 に配線基板を洗浄する必要がないからであり、また、はんだ融液の表面張力が低 下することで、いわゆるマイクロソルダリングを実現する上での必須の環境が得 られるためである。 By the way, the purpose of soldering in an inert gas atmosphere of low oxygen concentration is to ensure good soldering characteristics with a small amount of flux, and there is no need to wash the wiring board after soldering work. This is also because the surface tension of the solder melt is lowered, so that an essential environment for realizing so-called micro soldering can be obtained.

【0009】 このようなはんだ付けプロセスの環境を実現する上では、従来技術の技術思想 に顕現されているように、配線基板の加熱を行う工程全体を不活性ガス雰囲気に することが最も望ましい。すなわち、予備加熱工程およびはんだ付け工程を含め て低酸素濃度の不活性ガス雰囲気に保持することが望ましい。In order to realize such an environment of the soldering process, it is most desirable to place the entire process of heating the wiring board in an inert gas atmosphere, as is apparent from the technical idea of the prior art. That is, it is desirable to maintain the atmosphere in an inert gas having a low oxygen concentration, including the preheating step and the soldering step.

【0010】 しかしながら、はんだ付け装置を上記のような低酸素濃度の不活性ガス雰囲気 にすることは大規模のチャンバが必要となり、このことがはんだ付け装置の部品 および製造コストを押し上げ、装置価格を高騰させることになる。すなわち、不 活性ガス雰囲気中でのはんだ付け工程を実現するためには、従来から使用されて きたはんだ付け装置を廃棄して新たに高額の設備投資を行う必要があるという問 題点があった。However, making the soldering apparatus in an inert gas atmosphere with a low oxygen concentration as described above requires a large-scale chamber, which increases the parts and manufacturing cost of the soldering apparatus and increases the apparatus price. It will make you soar. In other words, in order to realize the soldering process in an inert gas atmosphere, it was necessary to discard the conventionally used soldering equipment and newly invest a large amount of capital. .

【0011】 一方、大気中ではんだ付けを行うはんだ付け装置は装置価格は低廉であるが、 はんだ融液が酸化する際に鉛が大気中に拡散し、鉛公害の原因となるという問題 点があった。On the other hand, a soldering device that performs soldering in the atmosphere has a low apparatus price, but there is a problem that lead is diffused into the atmosphere when the solder melt is oxidized and causes lead pollution. there were.

【0012】 本考案は、上記の問題点を解決するためになされたもので、はんだ槽のはんだ 融液で配線基板にはんだ付けを行う領域に封止性の高いチャンバを設けて不活性 ガスの雰囲気を保持することにより、はんだ付け装置の低コスト化と、はんだ融 液の酸化を防止して鉛公害の発生を抑えたはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形 成装置を得ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a chamber having a high sealing property is provided in a region in which a solder melt of a solder bath is used to solder a wiring substrate, and a chamber having a high sealing property is provided. By maintaining the atmosphere, it is aimed to reduce the cost of the soldering equipment and to obtain an inert gas atmosphere forming equipment for the soldering equipment that prevents the oxidation of the solder melt and suppresses the occurrence of lead pollution. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置は、チャンバの出 口側に、前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給室が形成され、 この不活性ガス供給室内に前記搬送コンベアに対して前記チャンバの上部側と下 部側に前記配線基板の搬送方向と交差する方向で前記搬送コンベアに向けて突出 する断面U字状の口筐がその開口方向を回動自在にして設けられ、前記口筐の内 部に前記不活性ガスを噴出するノズルが設けられ、さらに、前記チャンバ内の前 記はんだ槽の領域の上側内壁に前記配線基板の搬送方向と交差する方向に板面が 並び、かつ前記搬送コンベアに向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設され ているものである。 The apparatus for forming an inert gas atmosphere of a soldering apparatus according to the present invention is provided with an inert gas supply chamber for supplying an inert gas into the chamber on the outlet side of the chamber, and the inert gas supply chamber is provided in the inert gas supply chamber. Mouth casings with a U-shaped cross section that project toward the transport conveyor in a direction intersecting the transport direction of the wiring board on the upper side and the lower side of the chamber with respect to the transport conveyor make the opening direction rotatable. And a nozzle for ejecting the inert gas is provided inside the mouth casing, and further, in a direction intersecting the transport direction of the wiring board on the upper inner wall of the region of the solder bath in the chamber. The plate surfaces are arranged side by side, and a plurality of restraining plates are arranged side by side in a direction projecting toward the conveyor.

【0014】 また、はんだ槽の領域に設けられた抑止板が回動可能に設けられたものである 。Further, the restraint plate provided in the area of the solder bath is rotatably provided.

【0015】 また、チャンバは、その入口および出口の少なくとも一方に配線基板の搬送方 向と交差する方向に板面が並び、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に複数 枚の抑止板が並設されたものである。Further, in the chamber, at least one of an inlet and an outlet thereof has plate surfaces arranged in a direction intersecting with a carrying direction of the wiring board, and a plurality of inhibiting plates arranged in parallel in a direction projecting toward the carrying conveyor. It was done.

【0016】 さらに、チャンバは、搬送コンベアに対して上側チャンバと下側チャンバとに 分割可能に形成されたものである。Further, the chamber is formed so as to be divided into an upper chamber and a lower chamber with respect to the transfer conveyor.

【0017】[0017]

【作用】[Action]

本考案においては、不活性ガス供給室内の口筐のノズルから不活性ガスを配線 基板の搬送方向と逆方向に噴出し、はんだ槽領域に設けた抑止板によりはんだ槽 領域における不活性ガス雰囲気の封止性を向上させることができる。 In the present invention, the inert gas is ejected from the nozzle of the mouth casing in the inert gas supply chamber in the direction opposite to the direction of transport of the wiring board, and the suppression plate provided in the solder tank area prevents the inert gas atmosphere in the solder tank area. The sealing property can be improved.

【0018】 また、はんだ槽領域の抑止板が回動可能であるため、チャンバ内の不活性ガス 雰囲気の流動状態を最適状態に調整することができる。Further, since the restraint plate in the solder bath area is rotatable, the flow state of the inert gas atmosphere in the chamber can be adjusted to an optimum state.

【0019】 また、チャンバの入口または出口に抑止板が並設されているので、いわゆるラ ビリンス流路が形成されるので、チャンバ内の不活性ガスの流出と、外気がチャ ンバ内に流入するのを抑止することができる。Further, since the so-called labyrinth flow path is formed because the suppression plates are arranged in parallel at the inlet or outlet of the chamber, the outflow of the inert gas in the chamber and the inflow of the outside air into the chamber. Can be suppressed.

【0020】 また、チャンバを分割して上側チャンバと下側チャンバに形成したことにより 、チャンバの取付工事とメンテナンスが容易にできる。Further, the chamber is divided into the upper chamber and the lower chamber, so that the chamber can be easily installed and maintained.

【0021】[0021]

【実施例】【Example】

図1は本考案の第1の実施例を示す側断面図で、はんだ付け装置のはんだ槽部 分のみを示し、予備加熱装置やフラックス装置等は省略してある。この図におい て、1は配線基板、2は前記配線基板1を矢印A方向に搬送する搬送コンベア、 3ははんだ槽で、はんだ融液4が収容され、はんだ融液4を噴流する1次噴流槽 5と2次噴流槽6が設けられている。なお、はんだ融液4を噴流せしめる羽根車 ,モータ等の加圧装置や加熱用のヒータ等の図示は省略してある。7はチャンバ で、はんだ槽3の領域を窒素(N2 )等の不活性ガスによる低酸素濃度の雰囲気 に保持するものであって、上側チャンバ7Aと下側チャンバ7Bとからなり、か つ搬送コンベア2が貫通し、配線基板1が搬入,搬出される入口8と出口9が形 成されている。10は前記はんだ融液4の液面を封止してチャンバ7内を不活性 ガス雰囲気に保持するためのスカート部で、はんだ融液4に浸漬されている。1 1は前記チャンバ7の入口8側の上側チャンバ7Aと下側チャンバ7Bとにそれ ぞれ固定され、ラビリンス流路を形成した複数枚の抑止板で、板状部材からなり 、配線基板1の搬送方向(矢印A方向)と交差する方向に板面が並び、かつ搬送 コンベア2に向けて突出する方向に設けられている。12は前記チャンバ7の出 口9側に形成された不活性ガス供給室で、不活性ガスを供給する断面がU字状を して、一方が開口した口筐13がチャンバ7の上側チャンバ7Aと下側チャンバ 7Bの壁体にそれぞれ開口部分と反対側の外側が密接して設けられている。14 は前記口筐13内に設けられたノズルで、パイプにより形成され、不活性ガスを 噴出するもので、口筐13とノズル14は後に詳細に説明するが同一軸心を中心 としてそれぞれ別個に回動可能としてある。15は前記はんだ槽3の領域にあっ て、上側チャンバ7Aに所定の間隔で複数枚設けられた回動可能の抑止板で、板 状部材からなり、配線基板1の搬送方向(矢印A方向)と交差する方向に板面が 並んで設けられている。16は回動軸で、前記抑止板15と一体に形成され、上 側チャンバ7Aの壁面に回動可能に支持されている。FIG. 1 is a side sectional view showing a first embodiment of the present invention, showing only a solder bath portion of a soldering device and omitting a preheating device and a flux device. In this figure, 1 is a wiring board, 2 is a conveyor for carrying the wiring board 1 in the direction of arrow A, 3 is a solder bath, in which a solder melt 4 is stored, and a primary jet for jetting the solder melt 4 A tank 5 and a secondary jet tank 6 are provided. It should be noted that the impeller for jetting the solder melt 4, the pressure device such as a motor, the heater for heating, etc. are not shown. Reference numeral 7 denotes a chamber, which holds the region of the solder bath 3 in an atmosphere of low oxygen concentration by an inert gas such as nitrogen (N 2 ) and comprises an upper chamber 7A and a lower chamber 7B. An entrance 8 and an exit 9 through which the conveyor 2 penetrates and the wiring board 1 is loaded and unloaded are formed. Reference numeral 10 denotes a skirt portion for sealing the liquid surface of the solder melt 4 and maintaining the chamber 7 in an inert gas atmosphere, which is immersed in the solder melt 4. Reference numeral 11 denotes a plurality of restraining plates, which are fixed to the upper chamber 7A and the lower chamber 7B on the inlet 8 side of the chamber 7, and which form labyrinth passages, and which are made of plate-shaped members. The plate surfaces are arranged in a direction intersecting the transport direction (arrow A direction), and are provided in a direction projecting toward the transport conveyor 2. Reference numeral 12 is an inert gas supply chamber formed on the outlet 9 side of the chamber 7. The cross section for supplying the inert gas is U-shaped, and the mouth casing 13 having one opening is the upper chamber 7A of the chamber 7. And the outside of the lower chamber 7B on the side opposite to the opening is provided in close contact with the wall of the lower chamber 7B. Reference numeral 14 denotes a nozzle provided in the mouth casing 13, which is formed by a pipe and ejects an inert gas. The mouth casing 13 and the nozzle 14 are separately centered on the same axis, as will be described later in detail. It is rotatable. Reference numeral 15 denotes a rotatable restraining plate provided in the upper chamber 7A at a predetermined interval in the region of the solder bath 3, and is composed of a plate-shaped member, and is in the conveying direction of the wiring board 1 (direction of arrow A). Plates are provided side by side in the direction intersecting with. Reference numeral 16 denotes a rotating shaft, which is formed integrally with the restraining plate 15 and is rotatably supported on the wall surface of the upper chamber 7A.

【0022】 なお、図1では、はんだ槽3には1次噴流槽5と2次噴流槽6を設けた例を示 したが、1次噴流槽5または2次噴流槽6のいずれか1つであっても良く、さら に、フローディップ槽のみであっても良い。また、搬送コンベア2はキャリアレ ス式またはキャリア式のいずれであっても良い。Although FIG. 1 shows an example in which the primary jet tank 5 and the secondary jet tank 6 are provided in the solder bath 3, one of the primary jet tank 5 and the secondary jet tank 6 is provided. , Or even a flow dip tank only. Further, the conveyor 2 may be of carrierless type or carrier type.

【0023】 図2は図1のI−I線による断面図、図3は図1の口筐13の詳細を拡大して 示す斜視図で、図1において例示する4つの口筐13のうちの1つを示す。これ らの図において、図1と同一符号は同一部分を示す。なお、図2では、一例とし て配線基板1の保持爪17を備えたキャリアレス型の搬送コンベア2を装備した 搬送装置18を示している。すなわち、チャンバ7は搬送コンベア2を挟んで上 側チャンバ7Aと下側チャンバ7Bとに分割可能な構造であり、口筐13に固着 された中空の口筐用支軸21を挿通する口筐用軸受22が上側チャンバ7Aおよ び下側チャンバ7Bとにそれぞれ固着されている。そして口筐用軸受22には口 筐13の回動方向を調節した後、口筐用支軸21を固定するつまみ付きの固定ネ ジ23を設けてある。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line I-I of FIG. 1, and FIG. 3 is a perspective view showing the details of the mouth casing 13 of FIG. 1 in an enlarged manner. Of the four mouth casings 13 illustrated in FIG. Show one. In these figures, the same symbols as in FIG. 1 indicate the same parts. Note that FIG. 2 shows, as an example, a carrier device 18 equipped with a carrierless carrier conveyor 2 having a holding claw 17 for the wiring board 1. That is, the chamber 7 has a structure that can be divided into an upper chamber 7A and a lower chamber 7B with the transport conveyor 2 interposed therebetween, and is for a mouth case through which a hollow mouth case support shaft 21 fixed to the mouth case 13 is inserted. Bearings 22 are fixed to the upper chamber 7A and the lower chamber 7B, respectively. The mouth housing bearing 22 is provided with a fixing screw 23 with a knob for fixing the mouth housing support shaft 21 after adjusting the rotating direction of the mouth housing 13.

【0024】 口筐13は断面形状がU字状、つまり開口形状が長方形であり、開口部24の 長手方向は搬送コンベア2に交差する矢印A方向で、かつ矢印A方向へ向けて配 設する構造のものである。また、図3からも判るように、口筐13は垂直断面は 「U」字状の形状で、口筐13の底部には不活性ガスを供給するパイプ形のノズ ル14が設けられ、不活性ガスを噴出する噴出孔25が形成されている。そして 、ノズル14は中空の口筐用支軸21を挿通する構造で保持する構成である。な お、口筐用支軸21にはノズル14の回動方向を調節し固定するつまみ付きの固 定ネジ26を設けてある。The mouth casing 13 has a U-shaped cross section, that is, an opening shape is rectangular, and the longitudinal direction of the opening 24 is arranged in the direction of arrow A intersecting the conveyor 2 and in the direction of arrow A. It is of structure. Further, as can be seen from FIG. 3, the mouth casing 13 has a U-shaped vertical cross section, and a pipe-shaped nozzle 14 for supplying an inert gas is provided at the bottom of the mouth casing 13, The ejection hole 25 for ejecting the active gas is formed. The nozzle 14 has a structure in which the hollow shaft support shaft 21 is inserted and held. The support shaft 21 for the mouth casing is provided with a fixed screw 26 with a knob for adjusting and fixing the rotating direction of the nozzle 14.

【0025】 また、口筐13のチャンバ7への組み立てを容易にするために、口筐用支軸2 1を口筐13へ固着するためにねじ込み、あるいはフランジ付としてこのフラン ジをビスやナットで開口部24側から固定するようにするとよい。口筐用軸受2 2のチャンバ7への取り付けも同様に取り外しできるようにしておくのがよい。In addition, in order to facilitate the assembly of the mouth casing 13 into the chamber 7, the mouth casing support shaft 21 is screwed in to be fixed to the mouth casing 13, or the flange is provided with a screw or a nut. It is advisable to fix from the opening 24 side. It is preferable that the mouth housing bearing 22 can be attached to the chamber 7 in the same manner.

【0026】 図4は図1の抑止板15の回動機構を示す斜視図で、図1と同一符号は同一部 分を示し、抑止板15を固着した回動軸16は上側チャンバ7Aに設けた軸受2 7に回動可能に支軸され、回動軸16は上側チャンバ7Aの上壁内面に密接して いる構造である。他方、回動軸16と抑止板15は、回動軸16の長手方向に延 長された部分が折り曲げられて形成された操作レバー28を回動させることによ ってその方向を可変・調節することができる。なお、抑止板15の軸受27には 、回動軸16と抑止板15の方向を調節した後、固定するつまみ付きの固定ねじ 29を設けてある。なお、組み立てに際しては、例えば、回動軸16を軸受27 に挿通後、回動軸16に抑止板15をビス等(図示せず)で固定すればよい。FIG. 4 is a perspective view showing a rotation mechanism of the restraint plate 15 of FIG. 1, and the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same parts, and the rotation shaft 16 to which the restraint plate 15 is fixed is provided in the upper chamber 7A. The bearing 27 is rotatably supported, and the rotating shaft 16 is in close contact with the inner surface of the upper wall of the upper chamber 7A. On the other hand, the rotating shaft 16 and the restraining plate 15 are changed / adjusted in their directions by rotating an operation lever 28 formed by bending a portion of the rotating shaft 16 extending in the longitudinal direction. can do. The bearing 27 of the restraint plate 15 is provided with a fixing screw 29 with a knob for fixing after adjusting the directions of the rotary shaft 16 and the restraint plate 15. At the time of assembly, for example, after inserting the rotary shaft 16 into the bearing 27, the restraining plate 15 may be fixed to the rotary shaft 16 with screws or the like (not shown).

【0027】 次に、動作について説明する。Next, the operation will be described.

【0028】 図1は抑止板15および口筐13の第1の調節例を示してある。FIG. 1 shows a first adjustment example of the restraint plate 15 and the mouth casing 13.

【0029】 すなわち、4個の口筐13はそれぞれ上下対称に配線基板1の搬送方向(矢印 A方向)とは逆方向のはんだ槽3側を向き、それぞれの方向も同一に揃えている 。一方、回動可能の抑止板15は、入口8側の2枚が配線基板1の搬送方向(矢 印A方向)に対して垂直の方向へ向き、他の4枚はやや入口8側方向へ向くよう に調節してある。That is, the four mouth casings 13 are oriented symmetrically in the vertical direction toward the solder bath 3 side which is the opposite direction to the transport direction of the wiring substrate 1 (direction of arrow A), and the respective directions are also aligned. On the other hand, two rotatable restraining plates 15 on the inlet 8 side are oriented in a direction perpendicular to the transport direction of the wiring board 1 (arrow A direction), and the other four are slightly oriented on the inlet 8 side. It is adjusted to face.

【0030】 以上のように調節することによって、口筐13から噴出した不活性ガスは搬送 コンベア2に沿ってその搬送方向(矢印A方向)とは逆方向へ流れる層流を形成 し、2次噴流槽6から1次噴流槽5に到達し、配線基板1とはんだ融液4が接触 する領域に、低酸素濃度の不活性ガス雰囲気を形成する。そして、1次噴流槽5 から入口8側へ流れる不活性ガスの層流は、前記垂直方向に向いている2枚の抑 止板15により減速され、さらに、入口8側のラビリンス流路を形成する抑止板 11によって封止され、チャンバ7内の不活性ガスの流出と、外気がチャンバ7 内に流入するのが防止される。By adjusting as described above, the inert gas ejected from the mouth casing 13 forms a laminar flow that flows along the transport conveyor 2 in the direction opposite to the transport direction (direction of arrow A), and the secondary flow An inert gas atmosphere having a low oxygen concentration is formed in a region which reaches the primary jet tank 5 from the jet tank 6 and where the wiring substrate 1 and the solder melt 4 are in contact with each other. The laminar flow of the inert gas flowing from the primary jet tank 5 to the inlet 8 side is decelerated by the two vertical stop plates 15 and further forms the labyrinth passage on the inlet 8 side. It is sealed by the restraining plate 11 that prevents the inert gas from flowing out of the chamber 7 and the outside air from flowing into the chamber 7.

【0031】 なお、搬送コンベア2の搬送速度がさらに速くなった場合には、口筐13の方 向を、さらに回動してチャンバ7の内側のはんだ槽3側へ向くように調節すれば 、搬送コンベア2や配線基板1による不活性ガスの雰囲気の引き出しを抑制して 平衡し、不活性ガス雰囲気の封止性を高水準に保持することができる。When the transport speed of the transport conveyor 2 is further increased, the direction of the mouth casing 13 may be further rotated to adjust the direction toward the solder bath 3 inside the chamber 7. It is possible to suppress the drawing of the atmosphere of the inert gas by the transport conveyor 2 and the wiring board 1 to achieve equilibrium, and to maintain the sealing property of the inert gas atmosphere at a high level.

【0032】 また、ノズル14からの不活性ガス噴出量および噴出速度、さらに口筐13か らの不活性ガス噴出量および噴出速度によっても、口筐13の最適方向および抑 止板15の最適方向も変わる。要するに、配線基板1にはんだ融液4が接触する 領域に低酸素濃度の不活性ガス雰囲気を形成しつつ、チャンバ7内の不活性ガス 雰囲気がチャンバ7の外へ流出する量と、チャンバ7外の大気がチャンバ7内へ 流入する量とが最小となる平衡点を求めるようにすればよいのである。The optimal direction of the mouth casing 13 and the optimal direction of the suppressing plate 15 are also determined by the amount and the velocity of the inert gas ejected from the nozzle 14, and the amount and the velocity of the inert gas ejected from the mouth casing 13. Also changes. In short, while forming an inert gas atmosphere having a low oxygen concentration in the area where the solder melt 4 contacts the wiring board 1, the amount of the inert gas atmosphere inside the chamber 7 flowing out of the chamber 7 and the outside of the chamber 7 It suffices to find an equilibrium point at which the amount of atmospheric air flowing into the chamber 7 is minimized.

【0033】 図5は、図1の実施例の第2の調節例を示す図で、図1と同一符号は同一部分 を示す。FIG. 5 is a diagram showing a second adjustment example of the embodiment of FIG. 1, and the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same parts.

【0034】 第2の調節例が第1の調節例と相違する点は、出口9側の口筐13の方向がや や搬送コンベア2寄りに向いている点である。The difference between the second adjustment example and the first adjustment example is that the direction of the mouth casing 13 on the outlet 9 side is slightly closer to the conveyor 2.

【0035】 したがって、出口9側の口筐13から噴出する不活性ガスは、その一部がチャ ンバ7の出口9側へ流れるようになり、出口9からの大気の流入抑制力を高める ことができる。そのため、はんだ槽3側の口筐13から噴出する不活性ガスの噴 出量(噴出速度)を増加して、配線基板1とはんだ融液4とが接触する領域への 不活性ガス層流の供給量を第1の調節例と同水準に維持することが望ましい。こ れによって、チャンバ7の出口9側および入口8側の雰囲気封止性を一層高める ことができる。Therefore, a part of the inert gas ejected from the mouth casing 13 on the outlet 9 side flows to the outlet 9 side of the chamber 7, and the force of suppressing the inflow of the atmosphere from the outlet 9 can be enhanced. it can. Therefore, the ejection amount (ejection speed) of the inert gas ejected from the mouth casing 13 on the solder bath 3 side is increased, and the inert gas laminar flow to the region where the wiring board 1 and the solder melt 4 contact each other. It is desirable to maintain the feed rate at the same level as in the first control example. With this, the atmosphere sealing property on the outlet 9 side and the inlet 8 side of the chamber 7 can be further enhanced.

【0036】 図6は、図1の実施例の第3の調節例を示す図で、図1と同一符号は同一部分 を示す。FIG. 6 is a diagram showing a third adjustment example of the embodiment of FIG. 1, and the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same parts.

【0037】 第3の調節例が第1の調節例と相違する点は、回動可能な抑止板15の方向を 順次に変えている点である。The third adjustment example is different from the first adjustment example in that the direction of the rotatable restraining plate 15 is sequentially changed.

【0038】 したがって、口筐13から噴出して層流を形成する不活性ガスは、1次噴流槽 5と2次噴流槽6の噴流波に到達しつつ順次に減速し、最終的に入口8側の抑止 板11のラビリンス流路によって封止される。このような調節例は、配線基板1 に大型の部品が搭載されている場合に有効である。Therefore, the inert gas ejected from the mouth casing 13 to form the laminar flow gradually decelerates while reaching the jet waves of the primary jet tank 5 and the secondary jet tank 6, and finally the inlet 8 Side restraint Plate 11 is sealed by the labyrinth channel. Such an adjustment example is effective when a large component is mounted on the wiring board 1.

【0039】 すなわち、大型部品はチャンバ7内の雰囲気を外部へ引き出し易いので、2次 噴流槽6の領域における層流速度を高めて置くことにより、1次噴流槽5の領域 へも十分な不活性ガスを供給し、低酸素濃度の不活性ガス雰囲気を形成すること を可能としている。また、雰囲気を封止するための平衡点も最適化される。That is, since the large parts easily draw out the atmosphere in the chamber 7 to the outside, by setting the laminar flow velocity in the area of the secondary jet tank 6 at a high level, the area of the primary jet tank 5 is not sufficiently exposed. It is possible to form an inert gas atmosphere with low oxygen concentration by supplying active gas. The equilibrium point for sealing the atmosphere is also optimized.

【0040】 図7は、図1の実施例の第4の調節例を示す図で、図1と同一符号は同一部分 を示す。FIG. 7 is a diagram showing a fourth adjustment example of the embodiment of FIG. 1, and the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same parts.

【0041】 第4の調節例が第1の調節例と相違する点は、回動可能な抑止板15の方向を 全て搬送コンベア2に対して垂直方向に向け、はんだ槽3側の口筐13は搬送コ ンベア2の方向に対向するように向け、出口9側の口筐13は配線基板1の搬送 方向(矢印A方向)とは逆方向を向けた点である。The difference between the fourth adjustment example and the first adjustment example is that the rotatable restraining plates 15 are all directed vertically to the transport conveyor 2, and the mouth casing 13 on the solder bath 3 side is arranged. Is a point facing the direction of the transfer conveyor 2, and the mouth casing 13 on the outlet 9 side is directed in the direction opposite to the transfer direction of the wiring substrate 1 (direction of arrow A).

【0042】 このような調節例は、配線基板1の搬送速度が一般的な搬送速度(例えば、1 m/分)よりも相対的に遅い場合(例えば、0.6m/分)や配線基板1のプリ ヒート(図示せず)の温度が一般的な温度(例えば、80〜120℃)よりも相 対的に高い場合(例えば、150℃)、はんだ融液4の温度が一般的な温度(例 えば、250℃)よりも相対的に高い場合(例えば、350℃)、等のときに有 効である。すなわち、抑止板15によって雰囲気の熱対流抑制力が大きくなるか らである。また、はんだ槽3側の口筐13の熱対流抑制力も増大するので、総体 として雰囲気封止性を良好に保つことができる。An example of such adjustment is when the transport speed of the wiring board 1 is relatively slower than a general transport speed (eg, 1 m / minute) (eg, 0.6 m / minute), If the temperature of the preheat (not shown) is relatively higher than the general temperature (for example, 80 to 120 ° C) (for example, 150 ° C), the temperature of the solder melt 4 is the general temperature (for example, 150 ° C). For example, it is effective when the temperature is relatively higher than 250 ° C. (for example, 350 ° C.). That is, the suppression plate 15 increases the thermal convection suppression force of the atmosphere. Further, since the heat convection suppressing force of the mouth casing 13 on the solder bath 3 side is also increased, the atmosphere sealing property as a whole can be kept good.

【0043】 そしてこの場合、はんだ槽3側の口筐13から噴出する不活性ガスの噴出量( 噴出速度)を相対的に小さく、出口9側の口筐13から噴出する不活性ガスの噴 出量(噴出速度)を相対的に大きくすることによって、各噴流槽5,6へ向かっ て流れる不活性ガスの層流は第1の調節例と同一水準に保持することができる。In this case, the ejection amount (ejection speed) of the inert gas ejected from the mouth housing 13 on the solder bath 3 side is relatively small, and the inert gas ejected from the mouth housing 13 on the outlet 9 side is ejected. By making the amount (jetting speed) relatively large, the laminar flow of the inert gas flowing toward each jet tank 5, 6 can be maintained at the same level as in the first adjustment example.

【0044】 図8(a)〜(d)は、ノズル14の方向に対する口筐13の指向性の例を示 す側断面図で、ノズル14の噴出孔25から噴出する不活性ガスの噴出方向を調 節した際の、口筐13から噴出する不活性ガスの指向性を説明するものである。 なお、不活性ガスの指向性を噴出速度分布で示している。8A to 8D are side cross-sectional views showing an example of the directivity of the mouth casing 13 with respect to the direction of the nozzle 14, showing the direction of ejection of the inert gas ejected from the ejection holes 25 of the nozzle 14. The directivity of the inert gas ejected from the mouth casing 13 at the time of adjusting is described. The directivity of the inert gas is shown by the jet velocity distribution.

【0045】 図8(a)は、ノズル14の噴出孔25が口筐13の開口部24の方向へ向い ている例であり、この場合は、放射状の指向性を示す。FIG. 8A is an example in which the ejection holes 25 of the nozzle 14 face the direction of the opening 24 of the mouth casing 13, and in this case, a radial directivity is shown.

【0046】 図8(b)は、ノズル14の噴出孔25が口筐13の底部方向へ向いている例 であり、この場合は、口筐13の両側部に指向性を示す。FIG. 8B shows an example in which the ejection holes 25 of the nozzle 14 are directed toward the bottom of the mouth casing 13, and in this case, both sides of the mouth casing 13 have directivity.

【0047】 図8(c)は、ノズル14の噴出孔25が口筐13の開口方向へ斜めに向いて いる例であり、この場合は、噴出孔25側の口筐13の側面部に指向性を示す。FIG. 8C is an example in which the ejection holes 25 of the nozzle 14 are obliquely oriented in the opening direction of the mouth casing 13, and in this case, the ejection holes 25 are directed toward the side surface portion of the mouth casing 13 on the side of the ejection holes 25. Shows sex.

【0048】 図8(d)は、ノズル14の噴出孔25が口筐13の底部方向で斜めに向いて いる例であり、この場合は、噴出孔25側の口筐13の側面部にやや指向性を示 し、他方の側部には強い指向性は示さない。FIG. 8D is an example in which the ejection holes 25 of the nozzle 14 are obliquely oriented in the bottom direction of the mouth casing 13, and in this case, the ejection holes 25 are slightly provided on the side surface portion of the mouth casing 13. It shows directivity and does not show strong directivity on the other side.

【0049】 このように、ノズル14の不活性ガス噴出方向を調節することによって、口筐 13から噴出する不活性ガスの指向性を可変することができる。そのため、口筐 13の方向調節と併せて不活性ガス噴出指向性を調節することにより、層流形成 と封止性を調節し、選択することができるようになる。In this way, by adjusting the direction of the inert gas jetted from the nozzle 14, the directivity of the inert gas jetted from the mouth casing 13 can be changed. Therefore, the laminar flow formation and the sealing property can be adjusted and selected by adjusting the direction of the inert gas ejection along with the direction adjustment of the mouth casing 13.

【0050】 例えば、図1の第1の調節例および図6の第3の調節例においては、はんだ槽 3側の口筐13の指向性に図8(c)を選択し、出口9側の口筐13の指向性に 図8(a)を選択すれば、はんだ槽3側の口筐13から噴出する不活性ガスの流 れが出口9側の口筐13から噴出する不活性ガスの流れを加速させるように作用 し、良好な層流を形成することができる。For example, in the first adjustment example of FIG. 1 and the third adjustment example of FIG. 6, FIG. 8C is selected as the directivity of the mouth casing 13 on the solder bath 3 side, and the directivity of the outlet 9 side is selected. If FIG. 8A is selected for the directivity of the mouth casing 13, the flow of the inert gas ejected from the mouth casing 13 on the solder bath 3 side is the flow of the inert gas ejected from the mouth casing 13 on the outlet 9 side. It acts so as to accelerate, and can form a good laminar flow.

【0051】 また、図5の第2の調節例においては、はんだ槽3側の口筐13の指向性に図 8(c)を選択し、出口9側の口筐13の指向性に図8(b)を選択すれば、図 8(b)の指向性は2つのピークを有するので、出口9側の口筐13から噴出す る不活性ガスの一方のピークははんだ槽3側の口筐13から噴出する不活性ガス の流れを加速し、他方のピークはチャンバ7の出口9に封止性を与えることがで きる。Further, in the second adjustment example of FIG. 5, FIG. 8C is selected as the directivity of the mouth casing 13 on the solder bath 3 side, and the directivity of the mouth casing 13 on the outlet 9 side is selected as shown in FIG. If (b) is selected, the directivity of FIG. 8 (b) has two peaks, so one peak of the inert gas ejected from the mouth casing 13 on the outlet 9 side is the mouth casing on the solder bath 3 side. The flow of the inert gas ejected from 13 can be accelerated, and the other peak can provide the outlet 9 of the chamber 7 with sealing property.

【0052】 図7の第4の調節例においては、はんだ槽3側の口筐13の指向性に図8(b )を選択し、出口9側の口筐13の指向性に図8(c)を選択すれば、はんだ槽 3側の口筐13においては指向性の2つのピークが2重のガスカーテンを形成す るように作動し、出口9側の口筐13から噴出する不活性ガスによって層流を形 成することができる。In the fourth adjustment example of FIG. 7, FIG. 8B is selected as the directivity of the mouth casing 13 on the solder bath 3 side, and FIG. 8C is selected as the directivity of the mouth casing 13 on the outlet 9 side. ) Is selected, in the mouth casing 13 on the solder bath 3 side, two directivity peaks operate so as to form a double gas curtain, and the inert gas ejected from the mouth casing 13 on the outlet 9 side. Can form a laminar flow.

【0053】 なお、図8(d)の口筐13の指向性は、図8(b)の2つのピークの相対比 を可変した関係にある。そのため、第2の調節例の出口9側の口筐13や第4の 調節例のはんだ槽3側の口筐13の指向性を僅かに調節する際に有効である。The directivity of the mouth casing 13 in FIG. 8D has a relationship in which the relative ratio of the two peaks in FIG. 8B is variable. Therefore, it is effective in slightly adjusting the directivity of the mouth casing 13 on the outlet 9 side in the second adjustment example and the mouth casing 13 on the solder bath 3 side in the fourth adjustment example.

【0054】 以上のような第1の調節例〜第4の調節例および図8(a)〜(d)に例示す る調節例は、調節例の一例を示しただけであり、結論的には、配線基板1の搬送 速度やプリヒート温度、配線基板1に搭載された部品形状と大きさ、はんだ融液 4の温度、等々のはんだ付けプロセス環境のパラメータの変化に対応して、不活 性ガス供給室12から各噴流槽5,6のはんだ融液4と配線基板1とが接触する 領域への不活性ガスの層流形成と供給、チャンバ7の雰囲気封止性とが最適とな るように調節すればよい。The above-described first to fourth adjustment examples and the adjustment examples illustrated in FIGS. 8A to 8D are merely examples of the adjustment examples, and the conclusion is concluded. Is inactive in response to changes in the soldering process environment parameters such as the transport speed and preheat temperature of the wiring board 1, the shape and size of the components mounted on the wiring board 1, the temperature of the solder melt 4, and so on. Optimum laminar flow formation and supply of the inert gas from the gas supply chamber 12 to the region where the solder melt 4 of each of the jet tanks 5 and 6 and the wiring substrate 1 come into contact with each other, and the atmosphere sealing property of the chamber 7. You can adjust

【0055】 図9は、本考案の第2の実施例を示す側断面図である。FIG. 9 is a side sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【0056】 すなわち、図1の第1の実施例と相違する点は、チャンバ7の入口8に搬送コ ンベア2を挟んで形成した図1の抑止板11によるラビリンス流路を備えていな い点である。このような構成は、チャンバ7の入口8の開口面積が小さい場合に 有効である。すなわち、配線基板1に搭載される部品の大きさ(特に高さ)が小 さい場合には、このような構成の雰囲気形成装置で十分である。ちなみに、表面 実装部品で構成される配線基板1が一般化している今日の状況がこれに当たる。That is, the difference from the first embodiment of FIG. 1 is that the labyrinth flow path is not provided by the restraint plate 11 of FIG. 1 formed at the inlet 8 of the chamber 7 with the transfer conveyor 2 sandwiched therebetween. Is. Such a configuration is effective when the opening area of the inlet 8 of the chamber 7 is small. That is, when the size (particularly the height) of the components mounted on the wiring board 1 is small, the atmosphere forming device having such a configuration is sufficient. By the way, the current situation in which the wiring board 1 composed of surface-mounted components is generalized corresponds to this.

【0057】 図10は、本考案の第3の実施例を示す側断面図である。FIG. 10 is a side sectional view showing a third embodiment of the present invention.

【0058】 すなわち、図1の第1の実施例と相違する点は、チャンバ7の入口8には搬送 コンベア2を挟んで形成した図1の抑止板11によるラビリンス流路を備えてい ないが、チャンバ7の出口9に搬送コンベア2を挟んで形成した抑止板11によ るラビリンス流路を備えている点である。That is, the point different from the first embodiment of FIG. 1 is that the inlet 8 of the chamber 7 is not provided with the labyrinth flow path by the inhibition plate 11 of FIG. The exit 9 of the chamber 7 is provided with a labyrinth flow path formed by an inhibition plate 11 formed by sandwiching the conveyor 2.

【0059】 このような構成は、配線基板1の搬送速度が速い場合に有効である。すなわち 、配線基板1や搬送コンベア2により不活性ガスがチャンバ7から流出するのを 大幅に抑制することができるからである。Such a configuration is effective when the transport speed of the wiring board 1 is high. That is, it is possible to significantly suppress the outflow of the inert gas from the chamber 7 by the wiring board 1 and the conveyor 2.

【0060】 なお、この第3の実施例において、チャンバ7の入口8側にも搬送コンベア2 を挟んで形成した抑止板11によるラビリンス流路を備えた構成とすることもで きる。これにより大気がチャンバ7内へ流入するのを大幅に抑制することができ るようになる。In the third embodiment, the labyrinth flow path can be also provided on the inlet 8 side of the chamber 7 by the restraint plate 11 formed by sandwiching the conveyor 2. As a result, it becomes possible to significantly suppress the inflow of the atmosphere into the chamber 7.

【0061】 図11は、本考案の第4の実施例を示す側断面図である。FIG. 11 is a side sectional view showing a fourth embodiment of the present invention.

【0062】 すなわち、図1の第1の実施例と相違する点は、はんだ融液4と配線基板1と を接触させる領域の上方のチャンバ7の壁に設けた抑止板31が回動しない構成 である点である。つまり、抑止板31をチャンバ7に直接固定するか、あるいは 図1の回動軸16が回動しないように固定されているものである。That is, the difference from the first embodiment of FIG. 1 is that the restraint plate 31 provided on the wall of the chamber 7 above the region where the solder melt 4 and the wiring board 1 are in contact does not rotate. That is the point. That is, the restraint plate 31 is fixed directly to the chamber 7, or is fixed so that the rotation shaft 16 of FIG. 1 does not rotate.

【0063】 配線基板1の搬送速度やプリヒート温度、配線基板1に搭載される部品の大き さ、溶融はんだの温度、等に極端な変化がない場合はこのような構成で十分であ る。Such a configuration is sufficient when there is no extreme change in the conveyance speed of the wiring board 1, the preheat temperature, the size of the components mounted on the wiring board 1, the temperature of the molten solder, and the like.

【0064】 本考案は、以上のような第1の実施例〜第4の実施例を組み合わせて構成でき ることは、当然である。すなわち、はんだ付けプロセス環境に合わせた最適構成 を選択すればよい。Of course, the present invention can be constructed by combining the above-described first to fourth embodiments. In other words, it is only necessary to select the optimum configuration according to the soldering process environment.

【0065】[0065]

【考案の効果】[Effect of device]

以上説明したように本考案は、チャンバの出口側に、前記チャンバ内に不活性 ガスを供給する不活性ガス供給室が形成され、この不活性ガス供給室内に前記搬 送コンベアに対して前記チャンバの上部側と下部側に前記配線基板の搬送方向と 交差する方向で前記搬送コンベアに向けて突出する断面U字状の口筐がその開口 方向を回動自在に設けられ、前記口筐の内部に前記不活性ガスを噴出するノズル がその噴出方向を可変として設けられ、さらに、前記チャンバ内の前記はんだ槽 の領域の上側内壁に前記配線基板の搬送方向と交差する方向に板面が並び、かつ 前記搬送コンベアに向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設されているので 、口筐の開口方向とノズルの噴出方向とを調整することで不活性ガスの層流形成 と供給、ならびにチャンバの雰囲気封止性とを最適に選ぶことができるため、は んだ槽領域における不活性ガス雰囲気を安定に保持でき、そのためチャンバ全体 を小さくできるため、はんだ付け装置の低コスト化と在来のはんだ付け装置への 適用が可能となる。さらに、はんだ融液の酸化が防止できるので、鉛公害の発生 を抑制し、正常なはんだ付けの環境を実現できる利点を有する。 As described above, according to the present invention, an inert gas supply chamber for supplying an inert gas into the chamber is formed on the outlet side of the chamber, and the chamber is provided in the inert gas supply chamber with respect to the transport conveyor. On the upper side and the lower side of the wiring board, there are provided mouth casings having a U-shaped cross section that project toward the conveyor in a direction intersecting the conveyance direction of the wiring board. A nozzle for ejecting the inert gas is provided so that its ejection direction is variable, and further, a plate surface is arranged on the upper inner wall of the area of the solder bath in the chamber in a direction intersecting the transfer direction of the wiring board, Moreover, since a plurality of restraint plates are arranged in parallel in the direction of projecting toward the conveyor, it is possible to form and supply a laminar flow of the inert gas by adjusting the opening direction of the mouth casing and the jetting direction of the nozzle. Navi Since the atmosphere sealability of the chamber can be optimally selected, the inert gas atmosphere in the enclosed bath area can be stably maintained, and therefore the entire chamber can be made smaller, which reduces the cost of the soldering device and the conventional method. Can be applied to soldering equipment. Further, since the solder melt can be prevented from being oxidized, it has an advantage that lead pollution can be suppressed and a normal soldering environment can be realized.

【0066】 また、はんだ槽の領域に設けられた抑止板が回動可能に設けられたので、チャ ンバ内の不活性ガス雰囲気の流動状態を容易に調整が容易にできる利点を有する 。Further, since the restraint plate provided in the area of the solder bath is rotatably provided, there is an advantage that the flow state of the inert gas atmosphere in the chamber can be easily adjusted.

【0067】 また、チャンバは、その入口および出口の少なくとも一方に配線基板の搬送方 向と交差する方向で、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に固定された複数 枚の抑止板が形成されたので、チャンバ内の不活性ガスの流出とチャンバ内の外 気が流入するのを防止できチャンバ内の封止性を一層高く保持できる利点を有す る。Further, in the chamber, at least one of the inlet and the outlet thereof is provided with a plurality of restraining plates fixed in a direction intersecting with the carrying direction of the wiring board and projecting toward the carrying conveyor. Therefore, there is an advantage that the outflow of the inert gas in the chamber and the inflow of the outside air in the chamber can be prevented, and the sealing property in the chamber can be kept higher.

【0068】 さらに、チャンバは、搬送コンベアに対して上側チャンバと下側チャンバとに 分割可能に形成されたので、チャンバの取付工事とメンテナンスが容易で、経費 が節減できる利点を有する。Further, since the chamber is formed so as to be divided into an upper chamber and a lower chamber with respect to the transfer conveyor, there is an advantage that the installation work and maintenance of the chamber are easy and the cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰
囲気形成装置の第1の実施例を示す側断面図である。
FIG. 1 is a side sectional view showing a first embodiment of an inert gas atmosphere forming device of a soldering device according to the present invention.

【図2】図1の実施例のI−I線による断面図である。2 is a cross-sectional view taken along the line II of the embodiment of FIG.

【図3】図1の実施例の口筐の詳細を拡大して示す斜視
図である。
3 is an enlarged perspective view showing details of the mouth casing of the embodiment of FIG. 1. FIG.

【図4】図1の実施例の抑止板の回動機構を示す斜視図
である。
FIG. 4 is a perspective view showing a rotation mechanism of the inhibition plate of the embodiment of FIG.

【図5】図1の実施例の第2の調節例を説明するための
面図である。
5 is a plan view for explaining a second adjustment example of the embodiment of FIG. 1. FIG.

【図6】図1の実施例の第3の調節例を説明するための
面図である。
FIG. 6 is a side view for explaining a third adjustment example of the embodiment of FIG.

【図7】図1の実施例の第4の調節例を説明するための
面図である。
FIG. 7 is a side view for explaining a fourth adjustment example of the embodiment of FIG.

【図8】図1の実施例のノズルの方向と口筐の指向性の
例を示す側断面図である。
8 is a side sectional view showing an example of the direction of the nozzle and the directivity of the mouth casing in the embodiment of FIG.

【図9】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰
囲気形成装置の第2の実施例を示す側断面図である。
FIG. 9 is a side sectional view showing a second embodiment of the inert gas atmosphere forming device of the soldering device according to the present invention.

【図10】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス
雰囲気形成装置の第3の実施例を示す側断面図である。
FIG. 10 is a side sectional view showing a third embodiment of the inert gas atmosphere forming device of the soldering device according to the present invention.

【図11】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス
雰囲気形成装置の第4の実施例を示す側断面図である。
FIG. 11 is a side sectional view showing a fourth embodiment of the inert gas atmosphere forming device of the soldering device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 配線基板 2 搬送コンベア 3 はんだ槽 4 はんだ融液 7 チャンバ 7A 上側チャンバ 7B 下側チャンバ 8 入口 9 出口 11 抑止板 12 不活性ガス供給室 13 口筐 14 ノズル 15 抑止板 16 回動軸 24 開口部 1 Wiring Board 2 Conveyor 3 Solder Tank 4 Solder Melt 7 Chamber 7A Upper Chamber 7B Lower Chamber 8 Inlet 9 Outlet 11 Suppression Plate 12 Inert Gas Supply Chamber 13 Mouth Housing 14 Nozzle 15 Suppression Plate 16 Rotating Shaft 24 Opening

Claims (4)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 搬送コンベアで搬送される配線基板には
んだ付けを行うはんだ槽の領域を不活性ガスの雰囲気に
保持するチャンバを備えたはんだ付け装置の不活性ガス
雰囲気形成装置であって、 前記チャンバの出口側に、前記チャンバ内に不活性ガス
を供給する不活性ガス供給室が形成され、この不活性ガ
ス供給室内に前記搬送コンベアに対して前記チャンバの
上部側と下部側に前記配線基板の搬送方向と交差する方
向で前記搬送コンベアに向けて突出する断面U字状の口
筐がその開口方向を回動自在にして設けられ、前記口筐
の内部に前記不活性ガスを噴出するノズルがその噴出方
向を可変として設けられ、さらに、前記チャンバ内の前
記はんだ槽の領域の上側内壁に前記配線基板の搬送方向
と交差する方向に板面が並び、かつ前記搬送コンベアに
向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設されている
ことを特徴とするはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形
成装置。
1. An inert gas atmosphere forming device for a soldering device, comprising: a chamber for holding an area of a solder bath for soldering a wiring board transported by a transport conveyor in an atmosphere of an inert gas, comprising: An inert gas supply chamber for supplying an inert gas into the chamber is formed on the outlet side of the chamber, and the wiring board is provided on the upper side and the lower side of the chamber with respect to the transfer conveyor in the inert gas supply chamber. Nozzle for ejecting the inert gas into the inside of the mouth casing is provided with a mouth casing having a U-shaped cross section that projects toward the conveyer conveyor in a direction intersecting with the conveying direction of the mouth casing. Is provided so that its ejection direction is variable, and further, a plate surface is arranged on the upper inner wall of the region of the solder bath in the chamber in a direction intersecting the transport direction of the wiring board, and Inert gas atmosphere forming device of the soldering apparatus in which a plurality of inhibit plates in a direction protruding toward the bare is characterized in that it is arranged.
【請求項2】 はんだ槽の領域に設けられた抑止板が回
動可能に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の
はんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置。
2. The inert gas atmosphere forming device of a soldering device according to claim 1, wherein a restraining plate provided in the area of the solder bath is rotatably provided.
【請求項3】 チャンバは、その入口および出口の少な
くとも一方に配線基板の搬送方向と交差する方向に板面
が並び、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に複数
枚の抑止板が並設されたことを特徴とする請求項1また
は2記載のはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装
置。
3. The chamber has plate surfaces arranged in at least one of an inlet and an outlet thereof in a direction intersecting with a transfer direction of a wiring board, and a plurality of restraining plates arranged in parallel in a direction projecting toward a transfer conveyor. The inert gas atmosphere forming device of the soldering device according to claim 1 or 2, characterized in that.
【請求項4】 チャンバは、搬送コンベアに対して上側
チャンバと下側チャンバとに分割可能に形成されたこと
を特徴とする請求項1及至3のいずれかに記載のはんだ
付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置。
4. The inert gas for a soldering apparatus according to claim 1, wherein the chamber is formed so as to be divided into an upper chamber and a lower chamber with respect to the conveyor. Atmosphere forming device.
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