JPH0738250B2 - Method of manufacturing thin film magnetic head - Google Patents
Method of manufacturing thin film magnetic headInfo
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- JPH0738250B2 JPH0738250B2 JP62038361A JP3836187A JPH0738250B2 JP H0738250 B2 JPH0738250 B2 JP H0738250B2 JP 62038361 A JP62038361 A JP 62038361A JP 3836187 A JP3836187 A JP 3836187A JP H0738250 B2 JPH0738250 B2 JP H0738250B2
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は磁気記録・再生装置における薄膜磁気ヘッドの
製造方法に係り、特に、薄膜磁気ヘッド内に形成したリ
ード部をアセンブリ用の基板の外部接続端子に接続する
接続方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic head in a magnetic recording / reproducing apparatus, and more particularly, to a lead portion formed in the thin film magnetic head outside a substrate for assembly. The present invention relates to a connection method for connecting to a connection terminal.
(従来の技術) 近年、デジタル磁気記録再生システムの高密度化の要請
に沿って、従来のウエハー・プロセスを用いたICプロセ
ス技術、特に、蒸着、スパッタリング、CVD(ケミカル
・ベーパ・デポジション)などの薄膜形成技術とドライ
エッチング等の微細加工技術を用いた薄膜磁気ヘッドが
注目され、一部実用化されている。(Conventional Technology) In recent years, along with the demand for higher density of the digital magnetic recording / reproducing system, IC process technology using the conventional wafer process, in particular, vapor deposition, sputtering, CVD (chemical vapor deposition), etc. The thin-film magnetic head using the thin-film forming technology and the fine processing technology such as dry etching has attracted attention and has been partially put into practical use.
この薄膜磁気ヘッドは、従来のモノシリック型薄膜磁気
ヘッドに比較すると大量生産に向いており、しかも狭ト
ラック化、多トラック化が可能であり、特性面において
は、記録漏洩磁束が急峻なことから短波長の記録特性に
優れ、高密度化にとって最適とされ、例えば、オーディ
オのPCM記録用、コンピュータ用の磁気記録装置、ビデ
オフロッピー等への利用も検討されている。This thin-film magnetic head is suitable for mass production as compared with the conventional monolithic thin-film magnetic head, and it is possible to narrow the track and increase the number of tracks, and in terms of characteristics, the recording leakage flux is steep, which is short. It has excellent wavelength recording characteristics and is optimal for high density recording. For example, its use in audio PCM recording, computer magnetic recording devices, video floppies, etc. is also under consideration.
しかし、ウエハー・プロセスのメリットを生かして基板
上に大量の磁気ヘッド又は多チャンネルを有する磁気ヘ
ッドを構成した場合、これらの磁気ヘッドを単体として
分離したのち、各々の薄膜磁気ヘッドを支持部材に取り
付ける等の組立作業に際し、リード線の引き出し方法と
アッセンブリ自体をどのように簡略化するかが課題とし
て残されていた。However, when a large number of magnetic heads or magnetic heads having multiple channels are formed on the substrate by taking advantage of the wafer process, these magnetic heads are separated as individual units, and then each thin film magnetic head is attached to a supporting member. At the time of assembling work, etc., how to simplify the method of pulling out the lead wire and the assembly itself remains a problem.
以下、従来の代表的な薄膜磁気ヘッドを例にとり、その
構造とアッセンブリ方法について説明する。The structure and assembly method of the conventional thin film magnetic head will be described below as an example.
第9図は、従来の薄膜磁気ヘッドチップ10の主要部を示
す斜視図、第10図は、第9図に示す薄膜磁気ヘッドチッ
プ10に記録媒体摺動面の一部を形成する保護基板を取付
ける工程を説明するための斜視図、第11図は第9図に示
す薄膜磁気ヘッドチップをホルダに取付ける工程を説明
するための斜視図、第12図は第11図に示す薄膜磁気ヘッ
ドの接続端子部の接続構造を示す一部拡大斜視図であ
る。FIG. 9 is a perspective view showing a main part of a conventional thin film magnetic head chip 10, and FIG. 10 shows a protective substrate forming a part of a sliding surface of a recording medium in the thin film magnetic head chip 10 shown in FIG. FIG. 11 is a perspective view for explaining the attaching step, FIG. 11 is a perspective view for explaining the step of attaching the thin film magnetic head chip shown in FIG. 9 to the holder, and FIG. 12 is a connection of the thin film magnetic head shown in FIG. It is a partially expanded perspective view which shows the connection structure of a terminal part.
第9図において、11は基板であり、ガラスあるいはセラ
ミック等からなる非磁性材ブロック11aの一平面上に、
例えば、センダスト(登録商標)アモルファス磁性材、
パーマロイ等の磁性膜11bを形成したものから構成され
ているが、必要に応じて単結晶フェライト等の磁性ブロ
ック材から直接構成したものも用いられる。In FIG. 9, reference numeral 11 denotes a substrate, which is formed on one plane of the non-magnetic material block 11a made of glass or ceramics.
For example, Sendust (registered trademark) amorphous magnetic material,
The magnetic film 11b made of permalloy or the like is formed, but a magnetic block material such as single crystal ferrite or the like may be used if necessary.
12は、例えばガラス等からなる非磁性絶縁材であり、基
板11に形成された溝13の中に溶融充填され、基板11と同
一平面12aを形成している。Reference numeral 12 is a non-magnetic insulating material made of, for example, glass or the like, and is melt-filled in the groove 13 formed in the substrate 11 to form the same plane 12a as the substrate 11.
14は、例えば、センダスト、アモルファス磁性材、パー
マロイ等の磁性膜からなる薄膜コアであり、溝13をまた
ぐように基板11上に形成されており、薄膜コア14の一方
の端部14aは磁気ギャップ材15を介して磁性膜11bに接続
され、記録媒体摺動面16上にトラック幅Wを形成すると
共に他方の端部14bは磁性膜11bに接続され、磁性膜11b
と共にリングコアを構成している。17はラダー型コイル
であり、薄膜コア14の下方の非磁性絶縁材12の中に、薄
膜コア14と交差するように形成された図示しない導電膜
の列と、薄膜コア14を乗り越えるように形成した導電膜
17aの列とを図示しないスルホールを通して電気的に接
続され薄膜コア14のまわりに立体的なコイルとして形成
されている。14 is, for example, a thin film core made of a magnetic film such as sendust, an amorphous magnetic material, and permalloy, and is formed on the substrate 11 so as to straddle the groove 13, and one end 14a of the thin film core 14 has a magnetic gap. It is connected to the magnetic film 11b via the material 15, forms a track width W on the recording medium sliding surface 16, and the other end 14b is connected to the magnetic film 11b.
Together with this, it constitutes the ring core. Reference numeral 17 denotes a ladder coil, which is formed in the nonmagnetic insulating material 12 below the thin film core 14 so as to cross the thin film core 14 and a row of conductive films (not shown) formed so as to intersect the thin film core 14. Conductive film
The row of 17a is electrically connected through a through hole (not shown) to form a three-dimensional coil around the thin film core 14.
18,19はラダー型コイル17と接続しているリード部であ
り、ラダー型コイル17と同様に導電性の薄膜から形成さ
れ、導電膜17aの最初の列の一端と、非磁性絶縁材13の
中に形成された図示しない導電膜の最後の列の一端から
引き出され図示しない絶縁膜を介して後方に延在する様
に基板11上に形成されている。Reference numerals 18 and 19 denote lead portions connected to the ladder-type coil 17, which are formed of a conductive thin film similarly to the ladder-type coil 17, and have one end of the first row of the conductive film 17a and the non-magnetic insulating material 13. It is formed on the substrate 11 so as to be drawn out from one end of the last row of the conductive film (not shown) formed therein and to extend rearward through the insulating film (not shown).
上記の構造を有する薄膜磁気ヘッドチップ10は通常、基
板11上に単体として構成されるのではなく、基板11を形
成するガラスやセラミック等からなるウエハー上に、薄
膜堆積技術、高精度リソグラフィ技術と微細加工技術等
を駆使して大量に形成されるものであり、その結果均一
なトラック幅やギャップ長を有する薄膜磁気ヘッドチッ
プ10を精度よく得ることが出来る。The thin-film magnetic head chip 10 having the above structure is usually not formed as a single body on the substrate 11, but on a wafer made of glass, ceramics or the like that forms the substrate 11, a thin-film deposition technique and a high-precision lithography technique. The thin film magnetic head chip 10 having a uniform track width and a uniform gap length can be obtained with high accuracy because it is formed in a large amount by making full use of fine processing technology and the like.
ウエハー上に形成された大量の薄膜磁気ヘッドチップ10
は適当な数量を有するブロック20に切断され、第10図に
示す様に記録媒体摺動面16の一部を形成するための保護
基板21が上記ブロック20に接着剤等によって一体に取付
けられ、所定の先端研磨が施されたのち、点線で示す様
に、1チップ毎に切断され、保護基板21を有する薄膜磁
気ヘッドチップ10を得る。A large number of thin film magnetic head chips 10 formed on a wafer
Is cut into blocks 20 having an appropriate quantity, and a protective substrate 21 for forming a part of the recording medium sliding surface 16 is integrally attached to the blocks 20 by an adhesive or the like as shown in FIG. After the predetermined tip polishing, the thin film magnetic head chip 10 having the protective substrate 21 is obtained by cutting into chips as shown by the dotted line.
この時、ウエハー上に延在して形成されたリード部18,1
9は保護基板21によって完全に覆わず一部露出させてお
く。このように構成された薄膜磁気ヘッドチップ10は、
第11図に示す様に、使用目的に合せた形状を有するホル
ダー22のヘッド取付部22aに取付けられ、第12図に示す
様に、更にホルダ22に固定された例えばフレキシブルワ
イヤ23等の外部入出力端子の接続部23a,23bと薄膜磁気
ヘッドチップ10に形成したリード部19,18とをワイヤボ
ンディング24,25により電気的に接続して薄膜磁気ヘッ
ドアッセンブリを得、取付孔22b等を利用して装置に取
付けるものである。At this time, the lead portions 18 and 1 formed to extend on the wafer
9 is not completely covered by the protective substrate 21 and is partially exposed. The thin film magnetic head chip 10 configured in this way,
As shown in FIG. 11, it is attached to the head attaching portion 22a of the holder 22 having a shape according to the purpose of use, and as shown in FIG. The output terminal connecting portions 23a, 23b and the lead portions 19, 18 formed on the thin film magnetic head chip 10 are electrically connected by wire bonding 24, 25 to obtain a thin film magnetic head assembly, and the mounting holes 22b and the like are used. To be attached to the device.
(解決すべき問題点) 上記の様に、薄膜磁気ヘッドチップ10に形成したリード
部18,19をホルダ22に形成してある外部入出力端子の接
続部23a,23bにワイヤボンディング手段等を用いて接続
する場合、リード部18,19のワイヤボンディングのため
のパット面積は1端子当り100μm×100μm程度、端子
間ピッチは200μm程度必要とされている。一方、現実
の薄膜磁気ヘッドの大きさはトラック幅×コア長が100
μm×300μm程度にしかすぎないが、1個のウエハー
から多数の薄膜磁気ヘッドを構成する際、ワイヤボンデ
ィング用のパット面積は比較的大となり、これらのパッ
ト面積や端子間ピッチが占める面積によってウエハー上
に構成し得る薄膜磁気ヘッドの数は定まってしまう等の
問題点があった。(Problems to be solved) As described above, the wire bonding means or the like is used for the connecting portions 23a, 23b of the external input / output terminals formed on the holder 22 with the lead portions 18, 19 formed on the thin film magnetic head chip 10. In the case of connection by wire connection, the pad area for wire bonding of the lead portions 18 and 19 is required to be about 100 μm × 100 μm per terminal, and the inter-terminal pitch is required to be about 200 μm. On the other hand, the actual size of a thin-film magnetic head is 100 track width x 100 core length.
Although it is only about μm × 300μm, when many thin film magnetic heads are constructed from one wafer, the pad area for wire bonding becomes relatively large, and the pad area and the pitch between terminals occupy the wafer. There is a problem that the number of thin film magnetic heads that can be configured above is fixed.
特に、ウエハープロセスのメリットを生かして多チャン
ネルを有する薄膜磁気ヘッドを構成する場合にこの傾向
は大となり生産性を著しく阻害し、コスト的に不利にな
る等の問題点があった。In particular, when a thin film magnetic head having multiple channels is constructed by taking advantage of the wafer process, this tendency becomes great, productivity is significantly impaired, and there is a problem in cost.
(問題点を解決するための手段) 本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、略直方体形状の基板の第1の面上に磁性材、絶縁材
及び導電材等からなる薄膜を順次成膜、エッチングし
て、磁気ギャップと、薄膜コアと、薄膜コイルと、該薄
膜コイルの両端にそれぞれ接続されて該第1の面に隣接
する4面のうち該磁気ギャップが形成されて媒体摺接面
となるべき面を除いた3面の何れかのリード導出面まで
延在する一対の薄膜リードとを少なくとも形成して薄膜
磁気ヘッドチップを作製する第1の工程と、 該薄膜磁気ヘッドチップにおける該リード導出面と該薄
膜磁気ヘッドチップを保持すべき保持部材の所定面とが
略同一面を形成するように該薄膜磁気ヘッドチップと該
保持部材とを接合する第2の工程と、 接合されて略同一面を形成する該薄膜磁気ヘッドチップ
の該リード導出面と該保持部材の該所定面とを研磨する
第3の工程と、 該リード導出面に露出した該一対の薄膜リードの端部に
それぞれ直接電気的に接続される薄膜引き出し線パター
ンを該第3の工程により研磨された面上に形成する第4
の工程とから少なくともなる薄膜磁気ヘッドの製造方法
を提供するものである。(Means for Solving Problems) The present invention has been made to solve the above problems, and is made of a magnetic material, an insulating material, a conductive material, or the like on the first surface of a substrate having a substantially rectangular parallelepiped shape. Thin films are sequentially formed and etched to form the magnetic gap, the thin film core, the thin film coil, and the magnetic gap among the four surfaces connected to both ends of the thin film coil and adjacent to the first surface. A thin film magnetic head chip by forming at least a pair of thin film leads extending to any of the three lead derivation surfaces excluding the surface to be the medium sliding contact surface, and the thin film. Second step of joining the thin film magnetic head chip and the holding member so that the lead lead-out surface of the magnetic head chip and a predetermined surface of the holding member for holding the thin film magnetic head chip form substantially the same surface. And joined together A third step of polishing the lead-out surface of the thin-film magnetic head chip forming one surface and the predetermined surface of the holding member, and directly to the end portions of the pair of thin-film leads exposed at the lead-out surface. A fourth method for forming a thin film lead line pattern electrically connected on the surface polished by the third step.
And a method of manufacturing a thin film magnetic head, which comprises at least the steps of.
(実施例) 第1図は本発明になる薄膜磁気ヘッドの製造方法により
製造されるべき薄膜磁気ヘッドの構造を示す斜視図であ
り、第2図は第1図に示す薄膜磁気ヘッド内部に形成さ
れたリード部を示す一部破断斜視図である。以下、第1
図及び第2図を用いて説明するが、従来例で説明した構
成要素と同様な構成要素には同一符号を付し説明を省略
する。(Embodiment) FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a thin film magnetic head to be manufactured by the method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention, and FIG. 2 is formed inside the thin film magnetic head shown in FIG. FIG. 6 is a partially cutaway perspective view showing the formed lead portion. Below, the first
The description will be made with reference to FIG. 2 and FIG. 2, but the same components as the components described in the conventional example are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
第1図において30は、例えば、セラミック、ガラス等の
非磁性材からなるホルダであり、ホルダ30の略中央部に
は取付孔30aが形成されると共にホルダ30の一端面には
溝30bが形成され、この溝30bの中には薄膜磁気ヘッドチ
ップ31が接着剤等の接合手段によって取付けられてい
る。この薄膜磁気ヘッドチップ31は第9図で示す薄膜磁
気ヘッドチップ10と略同様の構造を有しているが、異な
る点は、第2図に示す如く、基板11に形成されたリード
部18,19が途中で約90°に折れ曲っていることと、基板1
1に形成された磁気ヘッド形成部とリード部18,19とは保
護基板21によって完全に覆われ、リード部18,19は、薄
膜コア14のトラック幅W方向に対して略垂直な基板面11
c及び保護基板21の面21aまで導かれ、その先端部18a,19
aがこれらの面に露出した構成となっている点である。In FIG. 1, reference numeral 30 denotes a holder made of a non-magnetic material such as ceramic or glass. The holder 30 has a mounting hole 30a formed substantially in the center and a groove 30b formed at one end surface of the holder 30. The thin film magnetic head chip 31 is mounted in the groove 30b by a bonding means such as an adhesive. The thin-film magnetic head chip 31 has a structure similar to that of the thin-film magnetic head chip 10 shown in FIG. 9, except that the lead portion 18, formed on the substrate 11, as shown in FIG. 19 is bent at about 90 ° on the way and board 1
The magnetic head forming portion and the lead portions 18 and 19 formed in 1 are completely covered by the protective substrate 21, and the lead portions 18 and 19 are substantially perpendicular to the track width W direction of the thin film core 14.
c and the surface 21a of the protective substrate 21, and the tip portions 18a, 19
The point is that a is exposed on these surfaces.
そして、この基板面11c及び保護基板21の面21aに露出し
たリード部18,19の先端部18a,19aには、直接電気的に接
続する様に導電性膜からなる2本の引き出し線パターン
32a,32bが既知の薄膜堆積技術、フォトリソ技術等を利
用して形成されている。2本の引き出し線パターン32a,
32bの面積、形状等は外部装置の接続端子と通常のハン
ダ付が可能なものに選んでやればよい。Then, two lead line patterns made of a conductive film are directly connected to the tip portions 18a, 19a of the lead portions 18, 19 exposed on the substrate surface 11c and the surface 21a of the protective substrate 21.
32a and 32b are formed using a known thin film deposition technique, photolithography technique, or the like. Two leader line patterns 32a,
The area, shape, etc. of 32b may be selected so that they can be soldered to the connection terminals of the external device in the usual manner.
次に、上述した薄膜磁気ヘッドチップ31とホルダ30との
アッセンブリ方法について説明する。Next, a method of assembling the thin film magnetic head chip 31 and the holder 30 described above will be described.
第3図及び第4図は第2図に示す薄膜磁気ヘッドチップ
31をホルダ30に取付ける工程を説明するための斜視図で
ある。3 and 4 are thin film magnetic head chips shown in FIG.
FIG. 11 is a perspective view for explaining a step of attaching 31 to holder 30.
第3図において、33は第1図に示すホルダ30を複数個形
成したウエハーである。1個のホルダ30は切断線34を示
す一点鎖線によって囲まれた部分を示し、各ホルダ30に
は取付孔30aと逃げ溝35の一部に溝30bが形成されてい
る。In FIG. 3, 33 is a wafer on which a plurality of holders 30 shown in FIG. 1 are formed. One holder 30 shows a portion surrounded by a one-dot chain line showing a cutting line 34, and each holder 30 has a mounting hole 30a and a groove 30b formed in a part of the escape groove 35.
この様な溝30b,35をウエハー33上に形成するには、例え
ば、ホトセラム(登録商標)の様にマスクにより露光
し、エッチング可能なセラミック等を利用することが出
来る。In order to form such grooves 30b and 35 on the wafer 33, it is possible to use, for example, a ceramic that can be exposed by a mask and etched such as Photoceram (registered trademark).
上記のように構成したウエハー33の溝30bの中に、第2
図に示す薄膜磁気ヘッドチップ31をリード部18,19の先
端部18a,19aが上方を向く様に挿入し、接着剤等を用い
て固定する。In the groove 30b of the wafer 33 configured as described above, the second
The thin film magnetic head chip 31 shown in the figure is inserted so that the tip portions 18a and 19a of the lead portions 18 and 19 face upward and fixed using an adhesive or the like.
次に、溝30bに挿入された薄膜磁気ヘッドチップ31の基
板面11cと保護基板面21aとがウエハー33の表面に対して
同一平面を形成するように研磨し、リード部18,19の先
端部18a,19aをウエハー33の表面と同一面に露出させ
る。Next, the substrate surface 11c of the thin film magnetic head chip 31 and the protective substrate surface 21a inserted into the groove 30b are polished so as to form the same plane with respect to the surface of the wafer 33, and the tips of the lead portions 18 and 19 are polished. 18a and 19a are exposed on the same surface as the surface of the wafer 33.
次に、公知のウエハープロセスによって、上記先端部18
a,19aの露出部に触れるように導電性膜からなる2本の
引き出し線32a,32bのパターンを研磨されたホルダー30
と基板面11c及び保護基板面21a上に形成する。Next, the tip portion 18 is formed by a known wafer process.
Holder 30 in which the pattern of two lead lines 32a, 32b made of a conductive film is polished so as to touch the exposed portions of a, 19a.
And the substrate surface 11c and the protective substrate surface 21a.
次に、ダイシングマシン等を用いてウエハー33を切断線
34に沿って切断して第1図に示す薄膜磁気ヘッドアッセ
ンブリを得る。Next, the wafer 33 is cut with a dicing machine or the like.
The thin film magnetic head assembly shown in FIG. 1 is obtained by cutting along the line 34.
上記のように本発明の第1の実施例の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、薄膜磁気ヘッドチップ31をホルダ30
に埋設したのち、導電膜からなる接続端子を直接ホルダ
30の外部端子にワイヤボンディング等の手段により電気
的に接続するのではなく、基板面11cに露出したリード
部18,19の先端部18a,19aがホルダと同一面となるように
構成し、この面にリード部18,19の露出部と触れるよう
に導電性膜からなる引き出し線パターン32a,32bを既知
の薄膜堆積手段及びフォトリソ技術を利用して形成した
ため、リード部18,19にはワイヤボンディングのための
広い面積を有するパット部を設ける必要はなく、従っ
て、リード部18,19のピッチ間隔も小とすることが出
来、1枚のウエハーからの多くの薄膜磁気ヘッドを得る
ことが出来る。As described above, according to the method of manufacturing the thin film magnetic head of the first embodiment of the present invention, the thin film magnetic head chip 31 is attached to the holder 30.
After being embedded in the
Rather than electrically connecting to the external terminals of 30 by means such as wire bonding, the tip portions 18a, 19a of the lead portions 18, 19 exposed on the substrate surface 11c are configured to be flush with the holder. Since the lead line patterns 32a and 32b made of a conductive film are formed on the surface so as to come into contact with the exposed portions of the lead portions 18 and 19 by using known thin film deposition means and photolithography technology, the lead portions 18 and 19 are wire-bonded. Therefore, it is not necessary to provide a pad portion having a large area for, so that the pitch interval between the lead portions 18 and 19 can be made small, and many thin film magnetic heads can be obtained from one wafer.
また、ホトセラム等をウエハーとして用いると、公知の
ウエハー技術により大量のホルダ30を一枚のウエハー上
に形成出来るため、薄膜磁気ヘッドのアッセンブリと引
き出し線パターン32a,32bの形成をまとめて能率良く行
うことが出来、均質でしかも信頼性の高い接続端子の接
続構造を得ることが可能となる。Further, when a photocellum or the like is used as a wafer, a large number of holders 30 can be formed on one wafer by a known wafer technique, so that the assembly of the thin film magnetic head and the formation of the lead line patterns 32a, 32b are efficiently performed. Therefore, it is possible to obtain a connection structure of connection terminals which is homogeneous and has high reliability.
次に、第2の実施例として、本発明になる薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法をフロッピーディスクドライブ用磁気ヘッ
ド(以下FDD磁気ヘッドと称す。)に適用した場合につ
いて説明する。第5図はスライダ41に薄膜磁気ヘッドチ
ップ42を組込んだFDD磁気ヘッド40を示す斜視図、第6
図は、薄膜磁気ヘッドチップ42の構造を示す拡大斜視
図、第7図は第5図に示す薄膜磁気ヘッドチップ42のリ
ード部の接続構造を示す斜視図であり、以下各図を用い
て説明する。Next, as a second embodiment, a case where the method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention is applied to a magnetic head for a floppy disk drive (hereinafter referred to as FDD magnetic head) will be described. FIG. 5 is a perspective view showing an FDD magnetic head 40 in which a thin film magnetic head chip 42 is incorporated in a slider 41.
FIG. 7 is an enlarged perspective view showing the structure of the thin film magnetic head chip 42, and FIG. 7 is a perspective view showing the connection structure of the lead portion of the thin film magnetic head chip 42 shown in FIG. 5, which will be described below with reference to the drawings. To do.
第5図において、40はFDD磁気ヘッドであり、薄膜磁気
ヘッドチップ42がスライダ41に埋設された構造となって
いる。スライダ41は、耐摩耗性に優れた非磁性絶縁材の
セラミック等からなり、略中央部に設けられた摺接溝41
aの両サイドに直接記録媒体と摺接する摺接面41bを有
し、摺接面41bの一部には薄膜磁気ヘッドチップ42を埋
設するための矩形状の透孔41cが形成され、この透孔41c
に薄膜磁気ヘッドチップ42がその記録媒体摺動面16がス
ライダ41の摺接面41bに対して同一面を形成するように
一体に取付けられている。In FIG. 5, reference numeral 40 denotes an FDD magnetic head having a structure in which a thin film magnetic head chip 42 is embedded in a slider 41. The slider 41 is made of a non-magnetic insulating material such as ceramic having excellent wear resistance, and has a sliding contact groove 41 formed in a substantially central portion.
On both sides of a, there is a sliding contact surface 41b that directly contacts the recording medium, and a rectangular through hole 41c for embedding the thin film magnetic head chip 42 is formed in a part of the sliding contact surface 41b. Hole 41c
The thin film magnetic head chip 42 is integrally mounted so that the recording medium sliding surface 16 forms the same surface as the sliding contact surface 41b of the slider 41.
薄膜磁気ヘッドチップ42は、第9図に示す薄膜磁気ヘッ
ドチップ10と略同様のラダー型コイル17を有している
が、特徴的な点は第6図に示す様に、リード部18,19が
狭いピッチPでストレートに下方に延在する如く基板11
上に形成されている点と基板11上に形成された磁気ヘッ
ド部に第2図に示すような保護基板21を特に設けていな
い点である。The thin film magnetic head chip 42 has a ladder type coil 17 which is substantially the same as the thin film magnetic head chip 10 shown in FIG. 9, but the characteristic point is that the lead portions 18 and 19 are provided as shown in FIG. So that the board 11 extends straight downward at a narrow pitch P.
The point is that it is formed above and that the magnetic head portion formed on the substrate 11 is not provided with a protective substrate 21 as shown in FIG.
この薄膜磁気ヘッドチップ42はスライダ41の透孔41cに
直接取付けられることによりスライダ41が一種の保護基
板の役割を果している。また、第7図に示す様に、リー
ド部18,19の先端部18a,19aは、スライダ41の裏面41dと
同一面となるように構成されており、この裏面41dには
リード部18,19の先端部18a,19aに触れるように導電性膜
からなる2本の引き出し線パターン32a,32bが既知の薄
膜堆積技術、フォトリソ技術等を利用して第1の実施例
と同様に形成されるため、スライダ41は第1実施例にお
けるホルダ30の役割を果している。The thin film magnetic head chip 42 is directly attached to the through hole 41c of the slider 41 so that the slider 41 serves as a kind of protective substrate. Further, as shown in FIG. 7, the tip portions 18a and 19a of the lead portions 18 and 19 are configured to be flush with the back surface 41d of the slider 41, and the lead portions 18 and 19 are provided on the back surface 41d. Since the two lead line patterns 32a, 32b made of a conductive film are formed in the same manner as in the first embodiment by using the known thin film deposition technique, photolithography technique, etc. so as to touch the tip portions 18a, 19a of the The slider 41 plays the role of the holder 30 in the first embodiment.
2本の引き出し線パターン32a,32bの面積、形状等は外
部装置の接続端子と通常のハンダ付が可能なものに選ん
でやればよい。The areas, shapes, etc. of the two lead line patterns 32a, 32b may be selected so that they can be soldered to the connection terminals of the external device as usual.
次に、上述の薄膜磁気ヘッドチップ42とスライダ41との
接続方法について説明する。Next, a method for connecting the thin film magnetic head chip 42 and the slider 41 described above will be described.
第8図は第6図に示す薄膜磁気ヘッドチップ42をスライ
ダ41に取付ける工程を説明するための斜視図である。FIG. 8 is a perspective view for explaining a process of attaching the thin film magnetic head chip 42 shown in FIG. 6 to the slider 41.
第8図において43は第5図に示すスライダ41を複数個形
成したウエハーである。1個のスライダ41は切断線44を
示す一点鎖線によって囲まれた部分を示し、各スライダ
41には摺接溝41aと透孔41cが形成されている。ウエハー
43の厚さは薄膜磁気ヘッドチップ42の高さtより若干薄
く構成しておく。薄膜磁気ヘッドチップ42をその記録媒
体摺動面16がスライダ41の摺接面41bと一致するように
透孔41cの中に挿入し、接着剤で一体に固着すると、リ
ード部18,19の先端部18a,19aは、わずかだけウエハー43
の裏面から飛び出すから、この飛び出した部分を研磨に
より落し、先端部18a,19aをウエハー43の裏面に露出さ
せる。In FIG. 8, 43 is a wafer having a plurality of sliders 41 shown in FIG. One slider 41 indicates a portion surrounded by a dashed line showing a cutting line 44, and each slider 41
The sliding contact groove 41a and the through hole 41c are formed in the 41. Wafer
The thickness of 43 is set to be slightly thinner than the height t of the thin film magnetic head chip 42. When the thin-film magnetic head chip 42 is inserted into the through hole 41c so that the sliding surface 16 of the recording medium coincides with the sliding contact surface 41b of the slider 41 and is integrally fixed with an adhesive, the tips of the lead parts 18, 19 are formed. Parts 18a and 19a are only wafers 43
Since it protrudes from the back surface of the wafer 43, the protruded portion is dropped by polishing, and the tip portions 18a and 19a are exposed on the back surface of the wafer 43.
次に、公知のウエハープロセスによって、先端部18a,19
aの露出部に触れるように導電性膜からなる2本の引き
出し線32a,32bを各ウエハー43の裏面上に形成する。Next, by the known wafer process, the tips 18a and 19a are formed.
Two lead lines 32a, 32b made of a conductive film are formed on the back surface of each wafer 43 so as to touch the exposed portion of a.
次に、ダイシングマシン等を用いてウエハー43を切断線
44に沿って切断すれば、第5図又は第7図に示す薄膜磁
気ヘッドアッセンブリを得る。Next, the wafer 43 is cut using a dicing machine or the like.
If cut along the line 44, the thin film magnetic head assembly shown in FIG. 5 or 7 is obtained.
なお、第2の実施例における主なる効果は第1の実施例
のものと概略同様と考えられるため説明を省略する。The main effect of the second embodiment is considered to be substantially the same as that of the first embodiment, and the description thereof will be omitted.
(発明の効果) 上述の様に、本発明になる薄膜磁気ヘッドの製造方法
は、略直方体形状の基板の第1の面上に磁性材、絶縁材
及び導電材等からなる薄膜を順次成膜、エッチングし
て、磁気ギャップと、薄膜コアと、薄膜コイルと、該薄
膜コイルの両端にそれぞれ接続されて該第1の面に隣接
する4面のうち該磁気ギャップが形成されて媒体摺接面
となるべき面を除いた3面の何れかのリード導出面まで
延在する一対の薄膜リードとを少なくとも形成して薄膜
磁気ヘッドチップを作製する第1の工程と、 該薄膜磁気ヘッドチップにおける該リード導出面と該薄
膜磁気ヘッドチップを保持すべき保持部材の所定面とが
略同一面を形成するように該薄膜磁気ヘッドチップと該
保持部材とを接合する第2の工程と、 接合されて略同一面を形成する該薄膜磁気ヘッドチップ
の該リード導出面と該保持部材の該所定面とを研磨する
第3の工程と、 該リード導出面に露出した該一対の薄膜リードの端部に
それぞれ直接電気的に接続される薄膜引き出し線パター
ンを該第3の工程により研磨された面上に形成する第4
の工程とから少なくともなるため、薄膜磁気ヘッドチッ
プにはワイヤボンディングのための広い面積を必要とす
るパット部を設ける必要はなく、従って薄膜リードのピ
ッチ間隔を小とすることができ、一枚のウエハーから多
くの薄膜磁気ヘッドチップを得ることが可能となり、コ
スト的に有利となる。(Effects of the Invention) As described above, in the method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention, a thin film made of a magnetic material, an insulating material, a conductive material, and the like is sequentially formed on the first surface of a substantially rectangular parallelepiped substrate. , A magnetic gap, a thin film core, a thin film coil, and a medium sliding contact surface on which the magnetic gap is formed among four surfaces adjacent to the first surface and connected to both ends of the thin film coil. A first step of forming a thin film magnetic head chip by forming at least a pair of thin film leads extending to any of the three lead derivation surfaces excluding the surface to be formed; A second step of joining the thin film magnetic head chip and the holding member so that the lead lead-out surface and a predetermined surface of the holding member for holding the thin film magnetic head chip form substantially the same surface; Forming substantially the same plane A third step of polishing the lead-out surface of the film magnetic head chip and the predetermined surface of the holding member, and direct electrical connection to the end portions of the pair of thin-film leads exposed at the lead-out surface. Forming a thin film leader line pattern on the surface polished by the third step;
Since the thin film magnetic head chip does not need to be provided with a pad portion that requires a large area for wire bonding, the pitch interval of the thin film leads can be reduced, and Many thin film magnetic head chips can be obtained from the wafer, which is advantageous in terms of cost.
また、保持部材をウエハーを用いて形成できるため、ウ
エハープロセスによる利点を生かした薄膜引き出し線パ
ターンの形成が可能となり、薄膜磁気ヘッドチップに形
成された薄膜リードと薄膜引き出し線パターンとの接続
を均一で信頼性の高いものとすることができる。In addition, since the holding member can be formed using a wafer, it is possible to form a thin film lead line pattern that takes advantage of the wafer process, and the thin film lead formed on the thin film magnetic head chip and the thin film lead line pattern can be evenly connected. It can be highly reliable.
第1図は本発明になる薄膜磁気ヘッドの製造方法により
製造されるべき薄膜磁気ヘッドの構造を示す斜視図、第
2図は薄膜磁気ヘッドチップ内部に形成されたリード部
を示す一部破断斜視図、第3図及び第4図は第2図に示
す薄膜磁気ヘッドチップをホルダに取り付ける工程を説
明するための斜視図、第5図はスライダに薄膜磁気ヘッ
ドチップを組み込んだFDD磁気ヘッドを示す斜視図、第
6図は第5図に示す薄膜磁気ヘッドチップの構造を示す
拡大斜視図、第7図は第5図に示す薄膜磁気ヘッドチッ
プのリード部の接続構造を示す斜視図、第8図は第6図
に示す薄膜磁気ヘッドチップをスライダに取り付ける工
程を説明するための斜視図、第9図は従来の薄膜磁気ヘ
ッドチップの主要部を示す斜視図、第10図は第9図に示
す薄膜磁気ヘッドチップに記録媒体摺動面の一部を形成
する保護基板を取り付ける工程を説明するための斜視
図、第11図は第9図に示す薄膜磁気ヘッドチップをホル
ダに取り付ける工程を説明するための斜視図、第12図は
第11図に示す薄膜磁気ヘッドチップのリード部の接続構
造を示す一部拡大斜視図である。 11…基板、18,19…リード部、30…ホルダ、31,42…薄膜
磁気ヘッドチップ、32a,32b…引き出し線パターン、41
…スライダFIG. 1 is a perspective view showing a structure of a thin film magnetic head to be manufactured by a method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention, and FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing a lead portion formed inside a thin film magnetic head chip. FIGS. 3, 3 and 4 are perspective views for explaining a process of attaching the thin film magnetic head chip shown in FIG. 2 to a holder, and FIG. 5 shows an FDD magnetic head in which the thin film magnetic head chip is incorporated in a slider. FIG. 6 is an enlarged perspective view showing the structure of the thin film magnetic head chip shown in FIG. 5, FIG. 7 is a perspective view showing the connecting structure of the lead portion of the thin film magnetic head chip shown in FIG. 5, and FIG. 6 is a perspective view for explaining a step of attaching the thin film magnetic head chip shown in FIG. 6 to a slider, FIG. 9 is a perspective view showing a main part of a conventional thin film magnetic head chip, and FIG. 10 is shown in FIG. Thin film magnetic head FIG. 11 is a perspective view for explaining a step of attaching a protective substrate which forms a part of the sliding surface of the recording medium, and FIG. 11 is a perspective view for explaining a step of attaching the thin film magnetic head chip shown in FIG. 9 to a holder. FIG. 12 and FIG. 12 are partially enlarged perspective views showing the connection structure of the lead portion of the thin film magnetic head chip shown in FIG. 11 ... Substrate, 18, 19 ... Lead part, 30 ... Holder, 31, 42 ... Thin film magnetic head chip, 32a, 32b ... Leader line pattern, 41
…Slider
Claims (1)
材、絶縁材及び導電材等からなる薄膜を順次成膜、エッ
チングして、磁気ギャップと、薄膜コアと、薄膜コイル
と、該薄膜コイルの両端にそれぞれ接続されて該第1の
面に隣接する4面のうち該磁気ギャップが形成されて媒
体摺接面となるべき面を除いた3面の何れかのリード導
出面まで延在する一対の薄膜リードとを少なくとも形成
して薄膜磁気ヘッドチップを作製する第1の工程と、 該薄膜磁気ヘッドチップにおける該リード導出面と該薄
膜磁気ヘッドチップを保持すべき保持部材の所定面とが
略同一面を形成するように該薄膜磁気ヘッドチップと該
保持部材とを接合する第2の工程と、 接合されて略同一面を形成する該薄膜磁気ヘッドチップ
の該リード導出面と該保持部材の該所定面とを研磨する
第3の工程と、 該リード導出面に露出した該一対の薄膜リードの端部に
それぞれ直接電気的に接続される薄膜引き出し線パター
ンを該第3の工程により研磨された面上に形成する第4
の工程とから少なくともなることを特徴とする薄膜磁気
ヘッドの製造方法。1. A magnetic gap, a thin film core, a thin film coil, and a thin film made of a magnetic material, an insulating material, a conductive material, and the like are sequentially formed and etched on a first surface of a substantially rectangular parallelepiped substrate, Up to any one of the lead derivation surfaces of the four surfaces that are respectively connected to both ends of the thin-film coil and that are adjacent to the first surface, except for the surface to be the medium sliding contact surface in which the magnetic gap is formed. A first step of forming a thin film magnetic head chip by forming at least a pair of extending thin film leads, and a predetermined lead member on the thin film magnetic head chip and a holding member for holding the thin film magnetic head chip. A second step of joining the thin film magnetic head chip and the holding member so as to form substantially the same plane, and the lead lead surface of the thin film magnetic head chip that is joined to form the substantially same plane Where the holding member is A third step of polishing the surface and a surface polished in the third step with a thin film lead wire pattern which is directly electrically connected to the end portions of the pair of thin film leads exposed on the lead leading surface. Fourth formed on
And a process for manufacturing the thin-film magnetic head.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62038361A JPH0738250B2 (en) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | Method of manufacturing thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62038361A JPH0738250B2 (en) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | Method of manufacturing thin film magnetic head |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63205812A JPS63205812A (en) | 1988-08-25 |
JPH0738250B2 true JPH0738250B2 (en) | 1995-04-26 |
Family
ID=12523143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62038361A Expired - Lifetime JPH0738250B2 (en) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | Method of manufacturing thin film magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0738250B2 (en) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5884624U (en) * | 1981-12-03 | 1983-06-08 | 日本電気株式会社 | Thin film magnetic head slider |
-
1987
- 1987-02-20 JP JP62038361A patent/JPH0738250B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63205812A (en) | 1988-08-25 |
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