JPH0737383A - Voltage controller of semiconductor integrated circuit - Google Patents

Voltage controller of semiconductor integrated circuit

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JPH0737383A
JPH0737383A JP3191580A JP19158091A JPH0737383A JP H0737383 A JPH0737383 A JP H0737383A JP 3191580 A JP3191580 A JP 3191580A JP 19158091 A JP19158091 A JP 19158091A JP H0737383 A JPH0737383 A JP H0737383A
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JP
Japan
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voltage
transistor
circuit
array
node
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Application number
JP3191580A
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Japanese (ja)
Inventor
R Helms James
アール.ヘルムス ジェームス
William R Krenik
アール.クレニック ウイリアム
Narasimhan Iyengar
イエンガー ナラシムハン
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Texas Instruments Inc
Original Assignee
Texas Instruments Inc
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Publication date
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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Continuous-Control Power Sources That Use Transistors (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE: To avoid the potential and large consumption of an electricity due to a regulator placed between a reference power source and memory array by comparing a reference voltage with a voltage on a node and controlling a driving transistor based on the result of this comparison. CONSTITUTION: Although a voltage VARY is zero at the beginning when the power source is applied, a voltage VAR fed to a transistor M3 exceeds a voltage VARY fed to a transistor M4, whereby the M3 is turned OFF and the M4 is turned ON. The M4 is also turned ON with a transistor M9 connecting an external voltage to the VARY as well. An array feeding voltage is charged toward the external voltage in this way. When the voltage VARY approaches the VAR, the state is changed with a comparator, whereby the M3 and M4 become OFF and the M9 is turned OFF. When the array feeding voltage begins to lower, the comparator is re-triggered to boost the array feeding voltage through the M9. The VAR is used to set the trigger point of the comparator, and the low impedance or the high current driving capability of the controlled array feeding power source is unnecessitated for this.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は集積回路に関するもので
あり、更に詳細には半導体基板中に形成された、例えば
ダイナミックランダムアクセスメモリ等のメモリ装置の
ような集積回路装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit, and more particularly to an integrated circuit device formed in a semiconductor substrate, such as a memory device such as a dynamic random access memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイナミックランダムアクセスメモリ
(DRAM)型の超大規模集積回路(VLSI)半導体
装置の進歩はよく知られている。近年、半導体産業界で
は、(ラオ(Rao)に与えられた米国特許第4,05
5,444号に述べられたような)16K型のDRAM
から、(マッケルロイ(McElroy)に与えられた
米国特許第4,658,377号に述べられたような)
1MB型のDRAMまで着実に進展してきており、更に
4MB型のDRAMにまで到着してきた。単一のメモリ
チップ上に一千六百万個以上のメモリセルと付随回路が
集積された16MBDRAMは生産化が予定されている
次の世代のDRAMである。
2. Description of the Related Art Advances in dynamic random access memory (DRAM) type very large scale integrated circuit (VLSI) semiconductor devices are well known. Recently, in the semiconductor industry, US Pat. No. 4,054 to Rao was issued.
16K type DRAM (as described in US Pat. No. 5,444)
(As described in US Pat. No. 4,658,377 to McElroy)
1MB type DRAM has been steadily progressing, and 4MB type DRAM has also arrived. A 16 MB DRAM in which more than 16 million memory cells and associated circuits are integrated on a single memory chip is the next generation DRAM scheduled for production.

【0003】現在、16MB DRAM型のVLSI半
導体メモリ装置を設計するについて、設計担当者は数多
くの挑戦すべき課題に直面している。
At present, designers are faced with a number of challenges in designing a 16 MB DRAM type VLSI semiconductor memory device.

【0004】関心のある1つの問題は、例えば消費電力
の問題であり、それはメモリアレイやアレイ周辺回路の
ような内部回路に対して電源を供給する外部電源を制御
するチップ回路によって消費される電力も含むものでい
る。装置の公称電源と異なる内部制御電源によって大量
の回路ブロックへ電力を供給しなければならない場合に
は、問題が更に悪化する。
One problem of interest is, for example, the power consumption problem, which is the power consumed by a chip circuit controlling an external power supply that supplies power to internal circuits such as memory arrays and array peripheral circuits. It also includes. The problem is exacerbated when a large number of circuit blocks must be powered by an internal control power supply that differs from the nominal power supply of the device.

【0005】[0005]

【発明の概要】本発明の1つの面に従えば;同一チップ
上に電圧発生器を有する半導体装置中のノードへ供給さ
れる電圧を制御するための方法であって:前記ノードを
外部電圧で充填するための駆動トランジスタによって、
前記ノードを外部電圧源へつなぐこと、基準電圧を発生
させること、前記基準電圧と前記ノード上の電圧とを比
較すること、前記比較の結果によって駆動トランジスタ
を制御すること、の工程を含む方法が得られる。
SUMMARY OF THE INVENTION According to one aspect of the present invention: a method for controlling the voltage supplied to a node in a semiconductor device having a voltage generator on the same chip: By the drive transistor for filling,
Connecting the node to an external voltage source, generating a reference voltage, comparing the reference voltage with a voltage on the node, and controlling a drive transistor according to the result of the comparison. can get.

【0006】望ましくは、ノードは半導体メモリ装置の
メモリアレイへつながれている。あるいは、ノードは半
導体メモリ装置の周辺回路へつながれている。
Preferably, the node is connected to the memory array of the semiconductor memory device. Alternatively, the node is connected to a peripheral circuit of the semiconductor memory device.

【0007】本発明の別の面に従えば、上に述べた方法
を実行する回路であって、前記半導体装置と共に集積さ
れた回路が得られる。
According to another aspect of the present invention, there is provided a circuit for implementing the method described above, which circuit is integrated with the semiconductor device.

【0008】望ましくは、同一チップ上に電圧発生器を
有する半導体メモリ装置中の電圧を制御するための回路
は:外部電圧源とメモリとへつながれた駆動トランジス
タ、同一チップ上の基準電圧発生器の出力へつながれた
入力と外部電圧源へつながれた入力とを有し、駆動トラ
ンジスタへつながれた出力を有し、外部電圧源と基準電
圧発生器の出力とを比較して、それによって駆動トラン
ジスタ経由で装置メモリアレイへ供給される電圧を制御
するようになった比較器、を含んでいる。
Preferably, a circuit for controlling a voltage in a semiconductor memory device having a voltage generator on the same chip includes: a drive transistor connected to an external voltage source and a memory; and a reference voltage generator on the same chip. Having an input connected to the output and an input connected to an external voltage source, having an output connected to the drive transistor, comparing the external voltage source and the output of the reference voltage generator, and thereby via the drive transistor. A comparator adapted to control the voltage supplied to the device memory array.

【0009】望ましくは、内部基準電圧を発生させるた
めの同一チップ上の電圧基準発生器を有する半導体メモ
リ装置の周辺回路を駆動するための回路はまた:外部電
圧源によって周辺回路を充電するためのパストランジス
タ、前記パストランジスタへつながれた比較器であっ
て、それのトリップ点が電圧基準発生器の出力と前記周
辺回路へ供給される電荷とによって設定されるようにな
った、比較器、を含んでいる。
Preferably, the circuit for driving the peripheral circuit of the semiconductor memory device having a voltage reference generator on the same chip for generating the internal reference voltage also: for charging the peripheral circuit by an external voltage source. A pass transistor, a comparator coupled to the pass transistor, the trip point of which is set by the output of a voltage reference generator and the charge supplied to the peripheral circuitry. I'm out.

【0010】本発明の好適な形態において、単一の半導
体基板上に集積されたメモリ装置のための回路は:メモ
リアレイ、メモリアレイから情報を読み出し、またメモ
リアレイへ情報を書き込むためのサポート回路、外部電
圧を受け取り、メモリアレイとサポート回路に対して電
力を供給する内部基準電圧を発生する電圧発生器、メモ
リアレイへつながれ、外部電圧および内部基準電圧源へ
つながれて、前記メモリアレイを外部電圧源から充電
し、また供給される電荷量を制御するために内部基準電
圧を使用するようになった回路、を含んでいる。
In a preferred form of the invention, a circuit for a memory device integrated on a single semiconductor substrate is: a memory array, a support circuit for reading information from and writing information to the memory array. A voltage generator for receiving an external voltage and generating an internal reference voltage for supplying power to the memory array and the support circuit; connected to the memory array; connected to the external voltage and an internal reference voltage source; A circuit adapted to use an internal reference voltage to control the amount of charge that is charged and provided by the source.

【0011】望ましくは前記本発明の回路は:1つの端
子を外部電圧へつながれ、別の1つの端子をアースへつ
ながれ、またゲートを有する、メモリアレイを駆動する
ためのトランジスタ、1つの比較入力を内部電圧へつな
がれ、別の比較入力を外部電圧へつながれて、出力を前
記トランジスタのゲートへつながれた比較器であって、
外部電圧と内部電圧とを比較してその比較の結果で以て
前記トランジスタのゲートへバイアスを与えるようにな
った比較器、を含んでいる。
Preferably said circuit of the invention comprises: a transistor for driving a memory array, having one terminal connected to an external voltage, another terminal connected to ground, and a gate, and one comparison input. A comparator coupled to an internal voltage, another comparison input to an external voltage, and an output coupled to the gate of the transistor,
A comparator adapted to compare an external voltage with an internal voltage and bias the gate of the transistor with the result of the comparison.

【0012】本出願の一部分として、メモリへの電圧を
制御するための制御回路例が開示されている。この回路
は外部電圧源と前記メモリとの間につながれた駆動トラ
ンジスタを有し、また入力を基準電圧へつながれ、もう
1つの入力を前記メモリアレイへつながれて前記駆動ト
ランジスタのゲートを制御するようになった比較器を有
する。同一チップ上に電圧発生器を有する半導体メモリ
装置中のメモリアレイへの電圧を制御するための方法も
また開示されている。この方法は、メモリアレイを駆動
トランジスタを経て外部電圧源へつなぐこと、基準電圧
を発生すること、前記基準電圧を前記メモリアレイへの
電圧と比較すること、の工程を含んでいる。前記駆動ト
ランジスタは前記比較の結果で以て制御される。
As part of this application, an example control circuit for controlling the voltage to the memory is disclosed. The circuit has a drive transistor connected between an external voltage source and the memory, and has an input connected to a reference voltage and another input connected to the memory array to control the gate of the drive transistor. Has a comparator that has become. A method for controlling voltage to a memory array in a semiconductor memory device having a voltage generator on the same chip is also disclosed. The method includes the steps of connecting a memory array to an external voltage source via a drive transistor, generating a reference voltage, and comparing the reference voltage with a voltage to the memory array. The drive transistor is controlled by the result of the comparison.

【0013】本発明のその他の目的、利点、特徴は、当
業者にとって、一例として取り上げた本発明の実施例に
ついての、図面を参照した以下の詳細な説明から明らか
となろう。
Other objects, advantages and features of the invention will be apparent to those skilled in the art from the following detailed description of the embodiments of the invention taken by way of example with reference to the drawings.

【0014】[0014]

【実施例】ここで、本発明の実施例の1例と本発明を含
むメモリチップについて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example of an embodiment of the present invention and a memory chip including the present invention will be described here.

【0015】図1は、16MB DRAMと呼ぶ16メ
ガビットダイナミックランダムアクセスメモリチップを
示す。チップ寸法は約325×660mmである。このチ
ップは4個のメモリアレイ四半分区分に分割されてい
る。各メモリアレイ四半分区分は4メガビットを含んで
いる。1個の4MBメモリアレイ四半分区分は16個の
メモリブロックを含む。各メモリブロックは256キロ
ビットを含む。コラムデコーダが、それらに対応するメ
モリアレイ四半分区分に隣接するチップの垂直軸に沿っ
て配置されている。ローデコーダが、それらに対応する
メモリアレイ四半分区分に隣接するチップの水平軸に沿
って配置されている。入出力バッファやタイミングおよ
び制御回路のような装置を含む周辺回路がチップの水平
軸および垂直軸の両方に沿って中央部に位置している。
ボンディングパッドがチップの水平軸に沿って中央部に
位置している。
FIG. 1 shows a 16 megabit dynamic random access memory chip called a 16 MB DRAM. The chip size is about 325 x 660 mm. The chip is divided into four memory array quadrants. Each memory array quadrant contains 4 megabits. A 4 MB memory array quadrant contains 16 memory blocks. Each memory block contains 256 kilobits. Column decoders are arranged along the vertical axis of the chips adjacent to their corresponding memory array quadrants. Row decoders are arranged along the horizontal axis of the chips adjacent to their corresponding memory array quadrants. Peripheral circuits, including devices such as I / O buffers and timing and control circuits, are centrally located along both the horizontal and vertical axes of the chip.
The bonding pad is centrally located along the horizontal axis of the chip.

【0016】図2はこの装置の実装/ピン出力を示す平
面図である。チップは中央でボンディングされており、
薄い樹脂製で小さい外形のJ字形のパッケージ中にカプ
セル封じされている。他の特徴の中でも、このDRAM
はX1またはX4装置のいずれかにボンディングによっ
てプログラム可能であるという特徴を有する。X1およ
びX4の動作モードの両方に対してのピン構成を示して
いる。
FIG. 2 is a plan view showing mounting / pin output of this device. The chip is bonded in the center,
Encapsulated in a thin resin J-shaped package with a small outline. Among other features, this DRAM
Has the feature of being programmable by bonding to either an X1 or X4 device. Pin configurations for both X1 and X4 operating modes are shown.

【0017】図3は、封止樹脂を透明なものとしてカプ
セル封じしたチップの三次元的外観を示す図である。図
示されたピン構成はX4オプションに対応するものであ
る。このTSOJパッケージは中央ボンディング(LO
CCB)型のリードオーバチップ(lead over
tip)である。基本的に、チップはリードフィンガ
の下側に位置している。ポリイミドのテープがチップを
リードフィンガへつないでいる。金線がリードフィンガ
からチップの中央ボンディングパッドへワイヤボンディ
ングされている。
FIG. 3 is a view showing a three-dimensional appearance of a chip in which a sealing resin is transparent and encapsulated. The pin configuration shown corresponds to the X4 option. This TSOJ package is a central bonding (LO
CCB type lead over chip
tip). Basically, the chip is located under the lead finger. A polyimide tape connects the chip to the lead finger. Gold wire is wire bonded from the lead fingers to the central bond pad of the chip.

【0018】図4はパッケージ方式の組み上げ外観図で
あり、図5は実装された装置の断面図である。図6はボ
ンディングパッドの名称とシーケンスを示す図である。
X1およびX4オプションに対する両方のシーケンスを
示している。EXT BLRはインハウス(in−ho
use)だけのためのパッドである。ボンディングパッ
ド4および25に対して示されたようなブラケットはこ
れがボンディングパッドオプションであることを示して
いる。
FIG. 4 is an external view of a package type assembly, and FIG. 5 is a sectional view of the mounted device. FIG. 6 is a diagram showing the names and sequences of bonding pads.
Both sequences are shown for the X1 and X4 options. EXT BLR is an in-house (in-ho
It is a pad only for use). Brackets such as those shown for bond pads 4 and 25 indicate that this is a bond pad option.

【0019】図1の16MB DRAMの一般的特性は
次のようなことである。この装置は典型的には5ボルト
の外部VDDを受け取っている。同一チップ上の内部電
圧レギュレータが、電力消費とチャネルホットキャリア
効果を減らすために、メモリアレイへ3.3ボルトで電
力を供給し、4.0ボルトで周辺回路へ電力を供給して
いる。基板は−2ボルトにバイアスされている。この構
成はボンディングによるプログラムが可能なX1/X4
である。X1またはX4のオプションは、製造段階で、
X1装置に対してはボンディングパッド25(図6)と
VSSとの間にボンディングワイヤを配置することによ
って、またX4装置に対してはこのボンディングワイヤ
を省略することによって、選ぶことができる。10個の
オプションに対する結果のピン出力が図2に示されてい
る。ボンディングワイヤをボンディングパッド25とリ
ードフレームのVSSバス3(図3)との間に設けるこ
とができる。
The general characteristics of the 16 MB DRAM of FIG. 1 are as follows. The device typically receives an external VDD of 5 volts. An internal voltage regulator on the same chip supplies 3.3V to the memory array and 4.0V to the peripheral circuitry to reduce power consumption and channel hot carrier effects. The substrate is biased at -2 volts. This configuration is programmable X1 / X4 by bonding
Is. X1 or X4 options are
It can be selected by placing a bonding wire between the bonding pad 25 (FIG. 6) and VSS for the X1 device and omitting this bonding wire for the X4 device. The resulting pinouts for the 10 options are shown in FIG. Bonding wires can be provided between the bonding pads 25 and the leadframe VSS bus 3 (FIG. 3).

【0020】エンハースト・ページ・モード(enha
nced page mode)が好適なオプションで
あり、それはビット毎書き込み(データマスク)動作に
対する金属マスクによってプログラム可能なオプション
を備えている。
Enhanced page mode (enha
A sized page mode) is the preferred option, with a metal mask programmable option for bit-wise write (data mask) operations.

【0021】リフレッシュ方式に関する好適オプション
は64msで4096サイクルである。しかし、このD
RAMは、ボンディングによって2048サイクルリフ
レッシュをプログラム可能である。オプションの選択
は、X1またはX4オプション選択に用いられたのと類
似の方法で達成できる。関連するボンディングパッドは
4であり、2Kリフレッシュに対してVSSへボンディ
ングされ、そうでなければ4Kリフレッシュオプション
が実行される。
The preferred option for the refresh scheme is 4096 cycles at 64 ms. But this D
The RAM is programmable for 2048 cycle refresh by bonding. Option selection can be accomplished in a manner similar to that used for X1 or X4 option selection. The associated bond pad is 4 and is bonded to VSS for 2K refresh, otherwise the 4K refresh option is implemented.

【0022】DRAMは数多くのテスト用設計の特徴を
有している。テストモードエントリー1は、モードデー
タ比較を備えた16X内部並列テストのためのアドレス
キイなしのWCBRを通してである。テストモードエン
トリー2は、その後にだけのアドレスキイと過電圧を備
えたWCBRである(A11に8ボルト)。テストモー
ドから抜け出すことは、任意のリフレッシュサイクル
(CBRまたはRASオンリー)によって発生する。テ
ストモードエントリー1は工業標準の16X並列テスト
である。このテストは1MBおよび4MBのDRAMに
おいて用いられているのと類似のものであるが、8ビッ
トの代わりに16ビットが同時比較される。有効なアド
レスキイはA0、A1、A2、A6である。テストモー
ドエントリー2は数多くのテストを含んでいる。データ
比較を備えた32X並列テストとデータ比較を備えた1
6X並列テストが含まれている。異なる並列テストに対
しては異なる16進数アドレスがキイとなる。ストレー
ジセルストレステストおよびVDDマージンテストが、
Pチャネル装置を経て外部VDDから内部VARYおよ
びVPERI装置電源ラインへの接続を許容する。その
他のテストとして、冗長サイン(signature)
テスト、ロー冗長ロールコール(roll call)
テスト、コラム冗長ロールコールテスト、ワードライン
リーク検出テスト、クリア同時発生テスト、ノーマルモ
ードへのリセットが含まれる。このDRAMはまた、そ
れがテストモードに留まっているかどうかを示すテスト
有効確認法を含んでいる。
DRAM has a number of test design features. Test mode entry 1 is through an address keyless WCBR for 16X internal parallel testing with mode data comparison. Test mode entry 2 is a WCBR with an address key and overvoltage only after that (8 volts on A11). Exiting the test mode occurs by any refresh cycle (CBR or RAS only). Test mode entry 1 is an industry standard 16X parallel test. This test is similar to that used in 1 MB and 4 MB DRAMs, but 16 bits are compared simultaneously instead of 8 bits. Valid address keys are A0, A1, A2, A6. Test mode entry 2 contains a number of tests. 32X parallel test with data comparison and 1 with data comparison
6X parallel test included. Different hexadecimal addresses are key for different parallel tests. Storage cell stress test and VDD margin test
Allow connection from external VDD to internal VARY and VPERI device power lines via P-channel device. Other tests include redundant signatures
Test, low redundancy roll call
Includes tests, column redundancy roll call test, word line leak detection test, clear concurrency test, reset to normal mode. The DRAM also includes a test validation method that indicates whether it remains in test mode.

【0023】分かりやすいようにするため、図1には示
されていないが、DRAMは欠陥消去のための冗長特徴
を備えている。それは256Kのメモリブロック当たり
に4個の冗長ローを有する。これら4個のローは同時に
使用されることができる。冗長ロー当たり3個のデコー
ダがあり、冗長ローデコーダ当たり11個のローアドレ
スがある。ロー冗長のためにヒューズが使用されてお
り、平均して単一の修正(repair)について10
個のヒューズが溶断する。ロー冗長は、修正を効率よく
可能とするために2段階のプログラム可能な方式を使用
している。四半分区分当たり12個の冗長コラムがあ
り、冗長コラム当たりに4個のデコーダがある。デコー
ダ当たりに8個のコラムアドレスと3個のロードアレス
がある。コラム修正に対する合計のヒューズ個数は、単
一の修正当たり平均約10個のヒューズ溶断である。コ
ラム冗長もまたより効率的な修正を可能とするために、
2段階のプログラム可能な方式を採用している。
Although not shown in FIG. 1 for clarity, the DRAM has redundancy features for defect erasure. It has 4 redundant rows per 256K memory block. These four rows can be used simultaneously. There are 3 decoders per redundant row and 11 row addresses per redundant row decoder. Fuses are used for row redundancy, averaging 10 for a single repair.
One fuse blows. Row redundancy uses a two-step programmable scheme to allow for efficient correction. There are 12 redundant columns per quadrant and 4 decoders per redundant column. There are 8 column addresses and 3 load ares per decoder. The total number of fuses for a column repair is approximately 10 blown fuses per single repair. Column redundancy also allows more efficient modifications,
It uses a two-step programmable scheme.

【0024】図7はコンデンサセル配置の平面図であ
る。ビットラインはポリ3(TiSi2)ポリサイドで
ある。ビットライン基準は用いられていない。ビットラ
インは雑音抑制のために3本を捻り合わせてある。電源
ライン電圧は約3.3ボルトである。ワードラインは区
分化されたポリ2である。それらは64ビット毎に金属
2によって縛られている。メモリセルは修正されたトレ
ンチコンデンサ型のもので、米国特許第5,017,5
06号および欧州特許出願第0410288号に開示さ
れたようなプロセスを用いて形成できる。
FIG. 7 is a plan view of the arrangement of the capacitor cells. The bit line is poly 3 (TiSi 2) polycide. The bit line reference is not used. Three bit lines are twisted together to suppress noise. The power line voltage is about 3.3 volts. The word lines are poly 2 segmented. They are bound by metal 2 every 64 bits. The memory cell is of the modified trench capacitor type and is disclosed in US Pat. No. 5,017,5
06 and European Patent Application No. 0410288.

【0025】これと別の好適なメモリセルは米国特許第
4,978,634号に開示されたスタックトレンチ
(stacked trench)型のものである。
Another suitable memory cell is of the stacked trench type disclosed in US Pat. No. 4,978,634.

【0026】図7において、各部の寸法は、ビットライ
ンピッチが1.6μmで、ダブルワードラインピッチが
3.0μmで、セル寸法は約4.8μm2 であり、0.
6μm技術を用いて得られている。トレンチ開口分は約
1.1μmであり、トレンチ深さは約6.0μmであ
る。誘電体は約65Åの厚さを持つ窒化物/酸化物であ
る。フィールドプレート分離が用いられている。トラン
ジスタは薄いゲートのものである。図8は修正されたト
レンチコンデンサセルの断面図であり、図9はトレンチ
コンデンサセルの側面図である。
In FIG. 7, the size of each part is such that the bit line pitch is 1.6 μm, the double word line pitch is 3.0 μm, and the cell size is about 4.8 μm 2 .
It has been obtained using the 6 μm technology. The trench opening is about 1.1 μm and the trench depth is about 6.0 μm. The dielectric is a nitride / oxide with a thickness of about 65Å. Field plate separation is used. The transistor has a thin gate. FIG. 8 is a cross-sectional view of the modified trench capacitor cell, and FIG. 9 is a side view of the trench capacitor cell.

【0027】図10において、Pチャネルトランジスタ
M9とNチャネルトランジスタM10が直列につながれ
て、それぞれVDDとVSSRGとの間にバイアスされ
ている。PチャネルトランジスタM9のゲートはPチャ
ネルトランジスタM2とNチャネルトランジスタM4と
の間の直列接続へつながれている。Nチャネルトランジ
スタM10のゲートはPチャネルトランジスタM11と
NチャネルトランジスタM6との間の直列接続へつなが
れている。トランジスタM9とM10との間の直列接続
は出力VPRへつながれている。コンデンサCCが1つ
の端子を(VPRへつながる)Nチャネルトランジスタ
M3のゲートへつながれ、他の端子をVSSRGへつな
がれている。PチャネルトランジスタM8とM11の基
板端子がノードN9へつながれている。
In FIG. 10, P-channel transistor M9 and N-channel transistor M10 are connected in series and are biased between VDD and VSSRG, respectively. The gate of P-channel transistor M9 is connected to the series connection between P-channel transistor M2 and N-channel transistor M4. The gate of N-channel transistor M10 is connected to the series connection between P-channel transistor M11 and N-channel transistor M6. The series connection between transistors M9 and M10 is connected to the output VPR. A capacitor CC has one terminal connected to the gate of N-channel transistor M3 (which connects to VPR) and the other terminal connected to VSSRG. The substrate terminals of P-channel transistors M8 and M11 are connected to node N9.

【0028】図11は電圧アレイドライバ回路VARY
DRVを示す。PチャネルトランジスタM1とNチャネ
ルトランジスタM3がそれぞれVDDとノードN3との
間に直列につながれている。PチャネルトランジスタM
2とNチャネルトランジスタM4がそれぞれVDDとノ
ードN3との間に直列につながれている。Pチャネルト
ランジスタM1とM2のゲートは一緒になってM1とM
3との間の直列接続へつながれている。M3のゲートは
ノードVARYOへつながれている。M4のゲートはV
ARへつながれている。NチャネルトランジスタM5と
M5BがノードN3とVSSRGとの間に並列につなが
れている。M5のゲートはVRCTLAOへつながれて
いる。M5BのゲートはスイッチX2の共通端子へつな
がれている。スイッチX2のA端子はVSSRGへつな
がれている。スイッチX2のB端子はVRCTLAOへ
つながれている。
FIG. 11 shows a voltage array driver circuit VARY.
Indicates DRV. P-channel transistor M1 and N-channel transistor M3 are connected in series between VDD and node N3, respectively. P-channel transistor M
2 and N-channel transistor M4 are connected in series between VDD and node N3, respectively. The gates of P-channel transistors M1 and M2 are connected together
3 connected in series. The gate of M3 is connected to node VARYO. The gate of M4 is V
Connected to AR. N-channel transistors M5 and M5B are connected in parallel between node N3 and VSSRG. The gate of M5 is connected to VRCTLAO. The gate of M5B is connected to the common terminal of switch X2. The A terminal of switch X2 is connected to VSSRG. The B terminal of the switch X2 is connected to VRCTLAO.

【0029】図11の電圧アレイドライバ回路におい
て、PチャネルトランジスタM6、Pチャネルトランジ
スタM7、そしてNチャネルトランジスタM8がそれぞ
れVDDとVSSRGとの間に直列につながれている。
トランジスタM6のゲートはVRCTLAOへつながれ
ている。M7とM8のゲートは一緒になってTLSCS
LHへつながれている。M2とM4との間の直列接続は
ノードN6である。
In the voltage array driver circuit of FIG. 11, a P-channel transistor M6, a P-channel transistor M7 and an N-channel transistor M8 are connected in series between VDD and VSSRG, respectively.
The gate of transistor M6 is connected to VRCTLAO. The gates of M7 and M8 are together TLSCS
Connected to LH. The series connection between M2 and M4 is node N6.

【0030】図11において、VDDがスイッチX4の
B端子へつながれている。スイッチX4のA端子はノー
ドN6へつながれている。スイッチX4の共通端子はP
チャネルトランジスタM9Bのゲートへつながれてい
る。トランジスタM9BはVDDと出力VARYとの間
につながれている。スイッチX3のB端子がVDDへつ
ながれている。スイッチX3のA端子はノードN6へつ
ながれている。スイッチX3の共通端子はPチャネルト
ランジスタM9Cのゲートへつながれている。トランジ
スタM9CはVDDと出力VARYとの間につながれて
いる。PチャネルトランジスタM9とNチャネルトラン
ジスタM10がそれぞれVDDとVSSRGとの間に直
列につながれている。トランジスタM9のゲートはノー
ドN6へつながれている。NチャネルトランジスタM1
0のゲートはVRCTLAOへつながれている。M9と
M10との間の直列接続は出力VARYへつながれてい
る。
In FIG. 11, VDD is connected to the B terminal of switch X4. The A terminal of switch X4 is connected to node N6. The common terminal of switch X4 is P
It is connected to the gate of the channel transistor M9B. Transistor M9B is connected between VDD and output VARY. The B terminal of the switch X3 is connected to VDD. The A terminal of switch X3 is connected to node N6. The common terminal of the switch X3 is connected to the gate of the P-channel transistor M9C. Transistor M9C is connected between VDD and output VARY. A P-channel transistor M9 and an N-channel transistor M10 are connected in series between VDD and VSSRG, respectively. The gate of the transistor M9 is connected to the node N6. N-channel transistor M1
The 0 gate is connected to VRCTLAO. The series connection between M9 and M10 is connected to the output VARY.

【0031】図11の電圧アレイドライバ回路VARY
DRVにおいて、PチャネルトランジスタM11が出力
VARYをノードVARYOへつないでいる。Pチャネ
ルトランジスタM11のゲートはVSSRGへつながれ
ている。スイッチX1がトランジスタM11のソースお
よびドレインへつながれている。抵抗VARYRESの
1つの端子が出力VARYへつながれている。抵抗VA
RYRESの他の端子はコンデンサC1の1端子へつな
がれている。コンデンサC1の他の端子はVSSへつな
がれている。すべてのPチャネル基板接続は、図11に
おいてVDDへつながれている。
The voltage array driver circuit VARY shown in FIG.
In DRV, P-channel transistor M11 connects output VARY to node VARYO. The gate of P-channel transistor M11 is connected to VSSRG. Switch X1 is connected to the source and drain of transistor M11. One terminal of the resistor VARYRES is connected to the output VARY. Resistance VA
The other terminal of RYRES is connected to one terminal of the capacitor C1. The other terminal of capacitor C1 is connected to VSS. All P-channel board connections are tied to VDD in FIG.

【0032】図12は電圧周辺ドライバ回路VPERD
RVを示す。PチャネルトランジスタM1とNチャネル
トランジスタM3がそれぞれVDDとノードN3との間
に直列につながれている。PチャネルトランジスタM2
とNチャネルトランジスタM4がそれぞれVDDとノー
ドN3との間に直列につながれている。Pチャネルトラ
ンジスタM1とM2のゲートは一緒になつてM1とM3
との間の直列接続へつながれている。M3のゲートはノ
ードVPERIOへつながれている。M4のゲートはV
PRへつながれている。NチャネルトランジスタM5と
M5BがノードN3とVSSRGとの間に並列につなが
れている。M5のゲートはVRCTLPへつながれてい
る。M5BのゲートはスイッチX2の共通端子へつなが
れている。スイッチX2のA端子はVSSRGへつなが
れている。スイッチX2のB端子はVRCTLPへつな
がれている。
FIG. 12 shows the voltage peripheral driver circuit VPERD.
RV is shown. P-channel transistor M1 and N-channel transistor M3 are connected in series between VDD and node N3, respectively. P-channel transistor M2
And N-channel transistor M4 are respectively connected in series between VDD and node N3. The gates of P-channel transistors M1 and M2 are connected together to form M1 and M3.
Is connected to the series connection between. The gate of M3 is connected to node VPERIO. The gate of M4 is V
It is connected to PR. N-channel transistors M5 and M5B are connected in parallel between node N3 and VSSRG. The gate of M5 is connected to VRCTLP. The gate of M5B is connected to the common terminal of switch X2. The A terminal of switch X2 is connected to VSSRG. The B terminal of switch X2 is connected to VRCTLP.

【0033】図12の電圧周辺ドライバ回路において、
PチャネルトランジスタM6、Pチャネルトランジスタ
M7、そしてNチャネルトランジスタM8がVDDとV
SSRGとの間に直列につながれている。トランジスタ
M6のゲートはVRCTLPへつながれている。M7と
M8のゲートは一緒になってTLSCSLHへつながれ
ている。M7とM8との間の直列接続はM2とM4との
間の直列接続とノードN6へつながれている。
In the voltage peripheral driver circuit of FIG.
P-channel transistor M6, P-channel transistor M7, and N-channel transistor M8 are VDD and V
It is connected in series with the SSRG. The gate of transistor M6 is connected to VRCTLP. The gates of M7 and M8 are connected together to TLSSCSLH. The series connection between M7 and M8 is connected to the series connection between M2 and M4 and node N6.

【0034】図12において、VDDがスイッチX4の
B端子へつながれている。スイッチX4のA端子はノー
ドN6へつながれている。スイッチX4の共通端子はP
チャネルトランジスタM9Bのゲートへつながれてい
る。トランジスタM9BはVDDとVPERIとの間に
つながれている。スイッチX3のB端子がVDDへつな
がれている。スイッチX3のA端子はノードN6へつな
がれている。スイッチX3の共通端子はPチャネルトラ
ンジスタM9Cのゲートへつながれている。トランジス
タM9Cは外部VDDと出力VPERIとの間につなが
れている。PチャネルトランジスタM9とNチャネルト
ランジスタM10がそれぞれVDDとVSSRGとの間
に直列につながれている。トランジスタM9のゲートは
ノードN6へつながれている。Nチャネルトランジスタ
M10のゲートはVRCTLPへつながれている。M9
とM10との間の直列接続は出力VPERIへつながれ
ている。
In FIG. 12, VDD is connected to the B terminal of switch X4. The A terminal of switch X4 is connected to node N6. The common terminal of switch X4 is P
It is connected to the gate of the channel transistor M9B. Transistor M9B is connected between VDD and VPERI. The B terminal of the switch X3 is connected to VDD. The A terminal of switch X3 is connected to node N6. The common terminal of the switch X3 is connected to the gate of the P-channel transistor M9C. The transistor M9C is connected between the external VDD and the output VPERI. A P-channel transistor M9 and an N-channel transistor M10 are connected in series between VDD and VSSRG, respectively. The gate of the transistor M9 is connected to the node N6. The gate of N-channel transistor M10 is connected to VRCTLP. M9
The series connection between M and M10 is connected to the output VPERI.

【0035】図12の電圧周辺ドライバ回路において、
PチャネルトランジスタM11がVPERI出力をノー
ドVPERIOへつないでいる。Pチャネルトランジス
タM11のゲートはVSSRGへつながれている。スイ
ッチX1がトランジスタM11のソースおよびドレイン
へつながれている。抵抗VPERRESの1端子が出力
VPERIへつながれている。抵抗VPERRESの他
の端子はコンデンサC1の1端子へつながれている。コ
ンデンサC1の他の端子はVSSへつながれている。す
べてのPチャネル基板接続は、図12においてVDDへ
つながれている。
In the voltage peripheral driver circuit of FIG.
P-channel transistor M11 connects the VPERI output to node VPERIO. The gate of P-channel transistor M11 is connected to VSSRG. Switch X1 is connected to the source and drain of transistor M11. One terminal of the resistor VPERRES is connected to the output VPERI. The other terminal of the resistor VPERRES is connected to one terminal of the capacitor C1. The other terminal of capacitor C1 is connected to VSS. All P-channel board connections are tied to VDD in FIG.

【0036】VARYDRV −電圧アレイドライバ VPERDRV −電圧周辺ドライバ −図11および図12に模式図 これらは装置に対する主要なドライバである。4個のV
ARYDRVがある。それらはアレイセンス増幅器へ
3.3ボルトのアレイ電圧を供給する。それらの2つは
四半分区分Q0とQ1をサポートし、残りの2つはQ2
とQ3をサポートする。これらのドライバの各々は、2
つの四半分区分の左側または右側のいずれかの八分区分
への電源供給を駆動する。VPERDRVについては、
それらの2つがある。それらは各種の周辺回路用であ
る。
VARYDRV--Voltage Array Driver VPERDRV--Voltage Peripheral Driver--Schematics in FIGS. 11 and 12 These are the main drivers for the device. 4 V
There is ARYDRV. They provide an array voltage of 3.3 volts to the array sense amplifier. Two of them support quadrants Q0 and Q1, the other two Q2
And support Q3. Each of these drivers has 2
Drives the power supply to either the left or right octet of one quadrant. For VPERDRV,
There are two of them. They are for various peripheral circuits.

【0037】これらのドライバはA級ステージドライバ
を備えたCMOS差動増幅器で構成されている。この回
路は、それの出力からそれの入力端子への帰還を備え
て、比較器及び単一利得のバッファーとして接続されて
いる。
These drivers are composed of CMOS differential amplifiers having a class A stage driver. The circuit is connected as a comparator and a unity gain buffer with feedback from its output to its input terminal.

【0038】この回路の従来の回路からの変更は、M5
とM10をソース結合対および出力ステージにおける単
なる電流源として使用するだけでなく、それらをドライ
バイネーブルまたはディスエーブルを制御させるために
も使用していることである。この制御を実行するために
用いられる信号は、VARYDRVに対してはVRCT
LAOであり、VPERDRVに対してはVRCTLP
である。このように、この制御によって必要なドライバ
だけが駆動される。もしドライバが活動的なままに留ま
るとしたら、A級出力ステージによってGNDへ常に電
流が流れることになり、それはスタンバイ電流を増大さ
せることになる。
The modification of this circuit from the conventional circuit is M5.
And M10 are not only used as a source-coupled pair and a mere current source in the output stage, but are also used to control driver enable or disable. The signal used to implement this control is VRCT for VARYDRV.
LAO and VRCTLP for VPERDRV
Is. Thus, this control drives only the required drivers. If the driver stays active, the Class A output stage will always draw current to GND, which will increase the standby current.

【0039】DFT、ストレージセルストレスモードに
おいて、活動的なTLSCLSH信号は比較器の第1ス
テージ、ソース結合対をそれの第2のステージである出
力ステージから分離させる。同時に、それはM9を完全
にスイッチオンさせ、ドライバ出力VARYまたはVP
ERIを強制的に外部電圧にしてしまう。
In the DFT, storage cell stress mode, the active TLSCLSH signal separates the first stage, source coupled pair of the comparator from its second stage, the output stage. At the same time, it causes M9 to switch on completely and the driver output VARY or
ERI is forced to an external voltage.

【0040】比較器の分析中に、金属レベルCUT P
OINTを切断することができる。そのようにすること
によって、それは交流信号に対する帰還ループを開放す
る。こうして、比較器の交流特性(帯域幅および利得)
を開放ループ分析することができる。R1とC1は出力
VARYまたはVPERIに対するダンパとして働く。
During the analysis of the comparator, the metal level CUT P
The OINT can be disconnected. By doing so, it opens the feedback loop for AC signals. Thus, the AC characteristics of the comparator (bandwidth and gain)
Can be analyzed in an open loop. R1 and C1 act as dampers for the output VARY or VPERI.

【0041】 VARYDRVS −電圧アレイドライバスタンバイ VPERDRVS −電圧周辺ドライバスタンバイ −図13および図14に模式図 これらの回路は、トランジスタの寸法が小さいことと、
すべての制御が電流源トランジスタM5およびM10に
おいて行われることを除いて主要ドライバと同じであ
る。それは出力ステージを制御するDFT、TLSCS
LH信号のための独立した回路を有していない。このD
FT制御はM5とM10ステージ中に含まれている。こ
のDFTモード(ストレージセルストレス)において、
ドライバはディスエーブルされている。従って、装置へ
外部電圧を供給するためには主要ドライバだけが使用さ
れる。
VARYDRVS-Voltage Array Driver Standby VPERDRVS-Voltage Peripheral Driver Standby-Schematic Diagrams in FIGS. 13 and 14 These circuits have small transistor dimensions,
Same as the main driver except all control is in the current source transistors M5 and M10. It is the DFT, TLSCS that controls the output stage
It does not have a separate circuit for the LH signal. This D
FT control is included in the M5 and M10 stages. In this DFT mode (storage cell stress),
The driver has been disabled. Therefore, only the main driver is used to supply the external voltage to the device.

【0042】主要ドライバの場合と同じように、帰還ル
ープを切断することができる。これによって開放ループ
利得と開放ループ帯域幅の両方を決定することができ
る。
As with the main driver, the feedback loop can be broken. This allows both open loop gain and open loop bandwidth to be determined.

【0043】これらの回路の各々が1つ装置上にある。
それらは装置へリーク電流を供給するために使用され
る。
Each of these circuits is on one device.
They are used to supply leakage current to the device.

【0044】ここに述べた構成の重要な特徴は、基準電
源とメモリ装置のメモリアレイとの中間に置かれたレギ
ュレータによる潜在的な大電力消費が回避されるという
ことである。その代わりに、アレイには外部電圧VDD
(E)によって直接電圧が供給され、アレイの供給ノー
ドは供給電圧へ向かって変化することが許容される。ア
レイ供給電圧と基準電圧の両方を検出する比較器が、供
給電圧いっぱいまで達する前に確実にボンドの充電が停
止されるように接続されている。もし電圧が低下する
と、比較器は再駆動されて充電を行う。
An important feature of the configuration described here is that it avoids potential high power consumption by a regulator located intermediate the reference power supply and the memory array of the memory device. Instead, the array receives an external voltage VDD
The voltage is directly supplied by (E) and the array supply nodes are allowed to change towards the supply voltage. A comparator that detects both the array supply voltage and the reference voltage is connected to ensure that the bond charge is stopped before the full supply voltage is reached. If the voltage drops, the comparator is re-driven to charge.

【0045】図11を参照すると、制御信号VRCTL
AOは、M1、M2、M3、M4で構成される比較器を
イネーブルするためにトランジスタMSをスイッチオン
する。メモリアレイの形の負荷がVARYRESとC1
によって表されている。VARYはアレイ供給電源を示
すために用いられている。VARは図10の回路から供
給されて、VDD(E)から取り出される基準電圧であ
る。
Referring to FIG. 11, the control signal VRCTL.
AO switches on transistor MS to enable the comparator consisting of M1, M2, M3, M4. The memory array load is VARYRES and C1
Represented by. VARY is used to indicate the array power supply. VAR is a reference voltage supplied from the circuit of FIG. 10 and taken out from VDD (E).

【0046】電源投入シーケンスを考えてみると、VA
RYは最初は零であろう。電源投入の間のある時点で、
信号VRCTLAOが比較器をイネーブルする。(M3
へ供給される)VARが(M4へ供給される)VARY
を超過するはずであるから、M3はオフで、M4はオン
となる。M4はまたVEXT(E)をVARYへつなぐ
M9によってもターンオンされる。こうしてアレイ供給
電圧はVEXTへ向かって充電される。VARYがVA
Rに接近すると、比較器が状態を変化させ、M3とM4
がオフとなる。こうして、M9がターンオフされる。ア
レイ供給電圧が低下を開始すると、比較器は再トリガし
てアレイ供給電圧をM9を経てブーストさせる。VAR
が比較器のトリガ点を設定するために使用され、これは
制御されたアレイ供給電源の低インピーダンスまたは高
電流駆動能力を必要としない。
Considering the power-on sequence, VA
RY will initially be zero. At some point during power up,
The signal VRCTLAO enables the comparator. (M3
VAR (supplied to M4) is VARY (supplied to M4)
Should be exceeded, M3 is off and M4 is on. M4 is also turned on by M9 connecting VEXT (E) to VARY. Thus, the array supply voltage is charged towards VEXT. VARY is VA
When approaching R, the comparator changes state, causing M3 and M4
Turns off. Thus, M9 is turned off. When the array supply voltage begins to drop, the comparator retriggers to boost the array supply voltage via M9. VAR
Is used to set the trigger point of the comparator, which does not require low impedance or high current drive capability of the controlled array supply.

【0047】ここに述べた回路は、それだけに限らない
がメモリアレイに特に適している。まず第1に、アレイ
は結局、容量性の負荷であって、それ自身電圧を安定化
させ、電荷を保存することを助ける。更に、安定な電源
は常時必要とされるわけではなく、例えば、電源が不活
動的である時とか、アクセスされない時には必要でな
い。実際、アクセスに先だってアレイを充電させるため
にVRCTLAOおよび/またはTLSCSCHを経て
タイミング制御を与え、供給電圧がアクセス間は安定し
ているようにすることができる。このことから、これの
変形として、M9はアレイアクセスの間は電力を与えら
れない。供給電圧が低下した時にコンデンサを再トリガ
する代わりに、特に装置が活動的な時に、同様のより小
型のトッピングアップ(topping up)回路を
使用することができる。そのような回路が図13と図1
4に示されている。図12は回路VPERDRVを示
し、それはデコーダやセンス増幅器等のアレイに対する
ドライバ周辺回路である。それは上に述べた回路に類似
しているが、異なる制御信号と異なる基準電圧を使用し
ている。
The circuits described herein are particularly, but not exclusively, suitable for memory arrays. First of all, the array is ultimately a capacitive load, which itself helps regulate the voltage and store the charge. Furthermore, a stable power supply is not required at all times, eg when the power supply is inactive or not accessed. In fact, timing control can be provided via VRCTLAO and / or TLSCSCH to charge the array prior to access, so that the supply voltage is stable between accesses. Thus, as a variation on this, M9 is unpowered during array access. Instead of retriggering the capacitor when the supply voltage drops, a similar smaller topping up circuit can be used, especially when the device is active. Such a circuit is shown in FIG. 13 and FIG.
4 is shown. FIG. 12 shows a circuit VPERDRV, which is a driver peripheral circuit for an array of decoders, sense amplifiers and the like. It is similar to the circuit described above, but uses different control signals and different reference voltages.

【0048】以上の説明に関して更に以下の項を開示す
る。 (1) 同一チップ上に電圧発生器を有する半導体装置中
のノードへ供給される電圧を制御する方法であって、前
記ノードを外部電圧で充填するための駆動トランジスタ
を経て、前記ノードを外部電圧源へつなぐこと、基準電
圧を発生すること、前記基準電圧を前記ノード上の電圧
と比較すること、前記比較工程での結果で以て前記駆動
トランジスタを制御すること、の工程を含む方法。
With respect to the above description, the following items will be further disclosed. (1) A method of controlling a voltage supplied to a node in a semiconductor device having a voltage generator on the same chip, wherein the node is supplied with an external voltage via a driving transistor for filling the node with an external voltage. Connecting to a source, generating a reference voltage, comparing the reference voltage to the voltage on the node, and controlling the drive transistor with the result of the comparing step.

【0049】(2) 第1項の方法であって、前記ノード
が半導体メモリ装置のメモリアレイへつながれている方
法。
(2) The method according to the first item, wherein the node is connected to a memory array of a semiconductor memory device.

【0050】(3) 第1項の方法であって、前記ノード
が半導体メモリ装置の周辺回路へつながれている方法。
(3) The method according to the first item, wherein the node is connected to a peripheral circuit of the semiconductor memory device.

【0051】(4) 前記半導体装置と共に集積された回
路であって、第1項から第3項の任意の方法を実行する
ための回路。
(4) A circuit integrated with the semiconductor device, for executing any of the methods of the first to third aspects.

【0052】(5) 第4項の、同一チップ上に電圧基準
発生器を有する半導体メモリ装置中の電圧を制御するた
めの回路であって、外部電圧源と前記メモリアレイへつ
ながれた駆動トランジスタ、1つの入力を前記同一チッ
プ基準発生器の出力へつながれ、別の1つの入力を外部
電圧源へつながれ、出力を駆動トランジスタへつながれ
て、外部電圧源と基準発生器の出力とを比較して、それ
によって駆動トランジスタを経て装置のメモリアレイへ
供給される電圧を制御するようになった比較器、を含む
回路。
(5) A circuit for controlling a voltage in a semiconductor memory device having a voltage reference generator on the same chip according to item 4, which is a driving transistor connected to an external voltage source and the memory array, One input is connected to the output of the same-chip reference generator, another one input is connected to an external voltage source, and the output is connected to a drive transistor, comparing the external voltage source with the output of the reference generator, A circuit adapted to control the voltage supplied to the memory array of the device via the drive transistor.

【0053】(6) 第4項の、同一チップ上に内部基準
電圧を発生する電圧基準発生器を有する半導体メモリ装
置の周辺回路を駆動するための回路であって、外部電圧
源から前記周辺回路を充電するためのパストランジス
タ、前記パストランジスタへつながれ、それのトリップ
点が前記電圧基準発生器の出力と前記周辺回路へ供給さ
れる電荷によって設定され、前記パストランジスタを制
御するようになった比較器、を含む回路。
(6) A circuit for driving a peripheral circuit of a semiconductor memory device having a voltage reference generator for generating an internal reference voltage on the same chip according to the fourth item, wherein the peripheral circuit is connected from an external voltage source. A pass transistor for charging the pass transistor, connected to the pass transistor, the trip point of which is set by the output of the voltage reference generator and the charge supplied to the peripheral circuit to control the pass transistor. Circuit including a container.

【0054】(7) 第4項の、単一の半導体基板上に集
積されたメモリ装置のための回路であって、メモリアレ
イ、前記メモリアレイから情報を読み出し、またメモリ
アレイへ情報を書き込むためのサポート回路、外部電圧
を受け取り、内部基準電圧を発生して前記メモリアレイ
とサポート回路へ電力を供給するための電圧発生器、前
記メモリアレイへつながれ、前記外部電圧へつながれ、
また前記内部基準電圧へつながれて、前記メモリへ外部
電圧源から充電を行い、内部基準電圧を用いて供給され
る電荷量を制御するようになった回路、を含む回路。
(7) A circuit for a memory device integrated on a single semiconductor substrate according to item 4, which is for memory array, for reading information from the memory array, and for writing information to the memory array. A support circuit, a voltage generator for receiving an external voltage and generating an internal reference voltage to supply power to the memory array and the support circuit, connected to the memory array, connected to the external voltage,
A circuit including a circuit which is connected to the internal reference voltage, charges the memory from an external voltage source, and controls the amount of charges supplied using the internal reference voltage.

【0055】(8) 第7項の回路であって、1つの端子
を外部電圧へつながれ、別の端子をアースへつながれ、
ゲートを有し、前記メモリアレイを駆動するためのトラ
ンジスタ、1つの比較入力を内部電圧へつながれ、他の
比較入力を外部電圧へつながれ、出力を前記トランジス
タのゲートへつながれて、外部電圧を内部電圧と比較し
て、その比較の結果で以てトランジスタのゲートをバイ
アスするようになった比較器、を含む回路。
(8) In the circuit of the seventh item, one terminal is connected to an external voltage and another terminal is connected to the ground.
A transistor having a gate for driving the memory array, one comparison input is connected to an internal voltage, another comparison input is connected to an external voltage, an output is connected to the gate of the transistor, and the external voltage is connected to the internal voltage. And a comparator adapted to bias the gate of the transistor with the result of the comparison.

【0056】(9) メモリへの電圧を制御するための回
路が開示されている。本回路は外部電圧源とメモリとの
間につながれた駆動トランジスタを有し、また1つの入
力を基準発生器へつながれ、別の入力をメモリアレイへ
つながれて、前記駆動トランジスタのゲートを制御する
ようになった比較器を含んでいる。同一チップ上に電圧
発生器を有する半導体メモリ装置中のメモリアレイへの
電圧を制御する方法もまた開示されている。本方法は、
メモリアレイを駆動トランジスタを経て外部電圧源へつ
なぐこと、基準電圧を発生すること、基準電圧をメモリ
アレイへの電圧と比較すること、の工程を含んでいる。
前記駆動トランジスタはこの比較の結果で以て制御され
る。
(9) A circuit for controlling the voltage to the memory is disclosed. The circuit has a drive transistor connected between the external voltage source and the memory, and has one input connected to the reference generator and another input connected to the memory array to control the gate of the drive transistor. Including the comparator that became. A method of controlling voltage to a memory array in a semiconductor memory device having a voltage generator on the same chip is also disclosed. This method
The steps include connecting the memory array to an external voltage source via a drive transistor, generating a reference voltage, and comparing the reference voltage with the voltage to the memory array.
The drive transistor is controlled by the result of this comparison.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を採用した16MBダイナミッ
クランダムアクセスメモリチップを示す、ブロックシス
テムレベル図。
FIG. 1 is a block system level diagram showing a 16MB dynamic random access memory chip employing an embodiment of the present invention.

【図2】実装されたメモリチップのピン構成を示す平面
図。
FIG. 2 is a plan view showing a pin configuration of a mounted memory chip.

【図3】実装されたメモリチップの三次元的構造であっ
て、封止材料を透明なものとして示した外観図。
FIG. 3 is an external view showing a three-dimensional structure of a mounted memory chip in which a sealing material is transparent.

【図4】図3の組み上げ外観図。FIG. 4 is an external view of the assembly of FIG.

【図5】図3の断面図。5 is a sectional view of FIG.

【図6】メモリチップのボンディングパッド構成を示す
平面図。
FIG. 6 is a plan view showing a bonding pad configuration of a memory chip.

【図7】メモリアレイの部分を示す平面図。FIG. 7 is a plan view showing a portion of a memory array.

【図8】メモリアレイの一部分の断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view of a portion of a memory array.

【図9】図8の断面の側面図。9 is a side view of the cross section of FIG.

【図10】VPERBUFの回路図。FIG. 10 is a circuit diagram of VPERBUF.

【図11】VARYDRVの回路図。FIG. 11 is a circuit diagram of VARYDRV.

【図12】VPERDRVの回路図。FIG. 12 is a circuit diagram of VPERDRV.

【図13】VARYDRVSの回路図。FIG. 13 is a circuit diagram of VARYDRVS.

【図14】VPERDRVSの回路図。FIG. 14 is a circuit diagram of VPERDRVS.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

N ノード X スイッチ M トランジスタ VARYDRV 電圧アレイドライバ VPERDRV 電圧周辺ドライバ N node X switch M transistor VARYDRV voltage array driver VPERDRV voltage peripheral driver

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/04 21/822 8832−4M H01L 27/04 B (72)発明者 ナラシムハン イエンガー アメリカ合衆国テキサス州プラノ,アーリ ィ モーン4425─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical indication location H01L 27/04 21/822 8832-4M H01L 27/04 B (72) Inventor Narasimhan Yenger USA Texas Plano, Early Morne 4425

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 同一チップ上に電圧発生器を有する半導
体装置中のノードへ供給される電圧を制御する方法であ
って、 前記ノードを外部電圧で充電するための駆動トランジス
タを経て、前記ノードを外部電圧源へつなぐこと、 基準電圧を発生すること、 前記基準電圧を前記ノード上の電圧と比較すること、 前記比較工程での結果で以て前記駆動トランジスタを制
御すること、の工程を含む方法。
1. A method of controlling a voltage supplied to a node in a semiconductor device having a voltage generator on the same chip, the node being connected via a drive transistor for charging the node with an external voltage. Connecting to an external voltage source, generating a reference voltage, comparing the reference voltage with a voltage on the node, and controlling the drive transistor with the result of the comparing step. .
【請求項2】 請求項1に記載された半導体装置と共に
集積された回路であって、請求項1の方法を実行するた
めの回路。
2. A circuit integrated with the semiconductor device according to claim 1, for carrying out the method according to claim 1.
JP3191580A 1991-07-31 1991-07-31 Voltage controller of semiconductor integrated circuit Pending JPH0737383A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100536575B1 (en) * 1998-03-25 2006-03-17 삼성전자주식회사 Array power supply circuit
KR101109131B1 (en) * 2008-11-14 2012-02-15 한국과학기술원 Apparatus for controlling analog voltage and method thereof

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100536575B1 (en) * 1998-03-25 2006-03-17 삼성전자주식회사 Array power supply circuit
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