JPH0737235A - Substrate of magnetic recording medium and magnetic recording medium - Google Patents

Substrate of magnetic recording medium and magnetic recording medium

Info

Publication number
JPH0737235A
JPH0737235A JP18118093A JP18118093A JPH0737235A JP H0737235 A JPH0737235 A JP H0737235A JP 18118093 A JP18118093 A JP 18118093A JP 18118093 A JP18118093 A JP 18118093A JP H0737235 A JPH0737235 A JP H0737235A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
support
recording medium
masking layer
magnetic recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP18118093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazunobu Chiba
一信 千葉
Shigeo Kimura
重男 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP18118093A priority Critical patent/JPH0737235A/en
Publication of JPH0737235A publication Critical patent/JPH0737235A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a low-cost magnetic recording medium having a metallic magnetic thin film formed with satisfactory surface properties, excellent in running durability and electromagnetic transducing characteristics and not causing uneven wear of a magnetic head. CONSTITUTION:A masking layer 2 having <=10nm center line average roughness Ra, <=80nm ten-point average roughness Rz, <=150nm max. height Rmax and 0.5-4.0mum thickness is formed on a substrate 1 for a metallic thin film type magnetic recording medium having 5-20nm center line average roughness Ra, 30-450nm ten-point average roughness Rz and 30-450nm max. height Rmax.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、真空蒸着法,スパッタ
リング法等の真空薄膜形成技術によって磁性層が形成さ
れる,いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体に適用される
磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium support applied to a so-called metal thin film type magnetic recording medium in which a magnetic layer is formed by a vacuum thin film forming technique such as a vacuum deposition method and a sputtering method. The present invention relates to a magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の
粉末磁性材料を塩化ビニルー酢酸ビニル系共重合体,ポ
リエステル樹脂,ウレタン樹脂,ポリウレタン樹脂等の
有機結合剤中に分散せしめた磁性塗料を塗布,乾燥する
ことにより作製される,いわゆる塗布型の磁気記録媒体
が広く使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording medium, a powder magnetic material such as an oxide magnetic powder or an alloy magnetic powder on a non-magnetic support is used as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyester resin, urethane resin, polyurethane. A so-called coating type magnetic recording medium, which is prepared by coating and drying a magnetic coating material dispersed in an organic binder such as a resin, is widely used.

【0003】これに対して、高密度記録への要求の高ま
りとともに、Co−Ni合金,Co−Cr合金,Co−
O等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段(真
空蒸着法,スパッタリング法,イオンプレーティング法
等)によって非磁性支持体上に直接被着した、いわゆる
金属薄膜型の磁気記録媒体が提案されて注目を集めてい
る。この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は抗磁力や角形
比等に優れ、短波長での電磁変換特性に優れるばかりで
なく、磁性層の厚みをきわめて薄くできる為、記録減磁
や再生時の厚み損失が著しく小さいこと、磁性層中に非
磁性材であるその結合剤を混入する必要が無いため磁性
材料の充填密度を高めることが出来ることなど、数々の
利点を有している。
On the other hand, with the increasing demand for high-density recording, Co--Ni alloys, Co--Cr alloys, Co--
A so-called metal thin film type magnetic recording medium in which a metal magnetic material such as O is directly deposited on a non-magnetic support by plating or vacuum thin film forming means (vacuum evaporation method, sputtering method, ion plating method, etc.) is proposed. Has been attracting attention. This metal magnetic thin film type magnetic recording medium is not only excellent in coercive force and squareness ratio and excellent in electromagnetic conversion characteristics at short wavelengths, but also because the thickness of the magnetic layer can be made extremely thin, recording demagnetization and reproduction thickness It has a number of advantages such as a very small loss and the fact that it is not necessary to mix the binder, which is a non-magnetic material, in the magnetic layer, so that the packing density of the magnetic material can be increased.

【0004】ところで、このような磁気記録媒体におい
ては、磁性層の表面性が電磁変換特性,走行性,ドロッ
プアウトの発生頻度等を大きく左右する。例えば、磁性
層表面があまり粗いと、記録再生に際してガイドロール
等の摺動部材や磁気ヘッドに対する摺動性が不良になっ
て電磁変換特性,走行性が劣化するとともにドロップア
ウトの発生頻度が高くなり耐久性,記録再生特性が不十
分となる。また、磁気ヘッドが特にギャップ近傍に金属
磁性薄膜が配されたメタルインギャップ型ヘッドの場合
には、該ヘッドを偏摩耗させ、出力減衰を誘起する。
By the way, in such a magnetic recording medium, the surface properties of the magnetic layer largely influence the electromagnetic conversion characteristics, the running property, the dropout occurrence frequency, and the like. For example, if the surface of the magnetic layer is too rough, the slidability with respect to a sliding member such as a guide roll or the magnetic head during recording / reproduction will be poor, the electromagnetic conversion characteristics and the running property will be deteriorated, and the frequency of dropout will increase. Durability and recording / reproducing characteristics become insufficient. When the magnetic head is a metal-in-gap type head in which a metal magnetic thin film is arranged particularly near the gap, the head is unevenly worn to induce output attenuation.

【0005】このため、磁気記録媒体においては、磁性
層の表面性を制御するべく各種手法が講じられ、非磁性
支持体の成膜条件を調整して非磁性支持体の平滑性を向
上させるとともに、非磁性支持体にフィラーを内添し、
そのフィラーの大きさ,密度を制御することで適度な表
面粗度を与えることが行われるようになっている。
Therefore, in the magnetic recording medium, various methods are taken to control the surface property of the magnetic layer, and the film forming conditions of the nonmagnetic support are adjusted to improve the smoothness of the nonmagnetic support. , The filler is internally added to the non-magnetic support,
By controlling the size and density of the filler, it is possible to give an appropriate surface roughness.

【0006】すなわち、非磁性支持体上に例えば膜厚
0.2μm程度の金属磁性薄膜を成膜する場合、該金属
磁性薄膜の表面には非磁性支持体の表面形状が顕著に反
映される。したがって、非磁性支持体の表面粗度が最適
化されていれば、その上に形成される金属磁性薄膜も良
好な表面性を有することになり、走行耐久性,記録再生
特性に優れた磁気記録媒体が得られることになる。
That is, when a metal magnetic thin film having a film thickness of, for example, about 0.2 μm is formed on a non-magnetic support, the surface shape of the non-magnetic support is remarkably reflected on the surface of the metal magnetic thin film. Therefore, if the surface roughness of the non-magnetic support is optimized, the metal magnetic thin film formed thereon will also have good surface properties, and magnetic recording excellent in running durability and recording / reproducing characteristics will be achieved. The medium will be obtained.

【0007】例えば、真空蒸着法によって金属磁性薄膜
が成膜された蒸着タイプの磁気テープでは、このような
制御手法によって中心線平均粗さ5nm,十点平均粗さ
39nm,最大高さRmaxが55nm程度となるよう
に調整された,塗布型の磁気記録媒体において用いられ
ているよりもさらに表面粗度の低い非磁性支持体が主に
用いられている。
For example, in a vapor-deposition type magnetic tape in which a metal magnetic thin film is formed by a vacuum vapor deposition method, a center line average roughness of 5 nm, a ten-point average roughness of 39 nm and a maximum height Rmax of 55 nm are obtained by such a control method. A non-magnetic support having a surface roughness lower than that used in a coating type magnetic recording medium, which is adjusted to a certain degree, is mainly used.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように表面粗度の低い非磁性支持体は、その製造工程に
おいて、摺接するロールに対する接触面積が広いことか
ら摩擦係数が大きく、走行性不良となってしまう割合が
大きい。このため、歩留りが低く、製造コストが高くな
るといった問題がある。
However, the non-magnetic support having a low surface roughness as described above has a large friction coefficient due to a large contact area with the rolls in sliding contact in the manufacturing process, resulting in poor runnability. The rate of becoming Therefore, there are problems that the yield is low and the manufacturing cost is high.

【0009】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、金属磁性薄膜が形成され
る面が良好な表面性であるとともに製造コストが低く、
走行耐久性,電磁変換特性に優れるとともに安価な磁気
記録媒体を実現することが可能な磁気記録媒体用支持体
及び磁気記録媒体を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and the surface on which the metal magnetic thin film is formed has a good surface property and the manufacturing cost is low.
An object of the present invention is to provide a support for a magnetic recording medium and a magnetic recording medium which are excellent in running durability and electromagnetic conversion characteristics and can realize an inexpensive magnetic recording medium.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、非磁性支持
体の金属磁性薄膜が形成される面に、表面粗度を制御す
るためのマスキング層を形成するようにすれば、非磁性
支持体として表面粗度がそれ程厳密に制御されたものを
用いなくとも表面性の良好な金属磁性薄膜が形成できる
ことを見い出すに至った。
In order to achieve the above-mentioned object, the inventors of the present invention have conducted extensive studies, and as a result, controlled the surface roughness on the surface of the non-magnetic support on which the metal magnetic thin film is formed. It has been found that by forming a masking layer for this purpose, a metal magnetic thin film having good surface properties can be formed without using a nonmagnetic support whose surface roughness is so strictly controlled.

【0011】本発明はこのような知見に基づいて完成さ
れたものである。すなわち、本発明の磁気記録媒体用支
持体は、中心線平均粗さRaが5〜20nm、十点平均
粗さRzが30〜450nm、最大高さRmaxが30
〜450である非磁性支持体上に、中心線平均粗さRa
が10nm以下、十点平均粗さRzが80nm以下、最
大高さRmaxが150nm以下、厚さが0.5〜4.
0μmであるマスキング層が設けられてなることを特徴
とするものである。
The present invention has been completed based on these findings. That is, in the magnetic recording medium support of the present invention, the center line average roughness Ra is 5 to 20 nm, the ten-point average roughness Rz is 30 to 450 nm, and the maximum height Rmax is 30.
Center line average roughness Ra on a non-magnetic support of ˜450.
Is 10 nm or less, the ten-point average roughness Rz is 80 nm or less, the maximum height Rmax is 150 nm or less, and the thickness is 0.5 to 4.
It is characterized in that a masking layer having a thickness of 0 μm is provided.

【0012】また、マスキング層が、粒径10〜500
nmの非磁性顔料を結合剤に分散させてなる層であるこ
とを特徴とするものである。さらに、本発明の磁気記録
媒体は、中心線平均粗さRaが5〜20nm、十点平均
粗さRzが30〜450nm、最大高さRmaxが30
〜450nmである非磁性支持体上に、中心線平均粗さ
Raが10nm以下、十点平均粗さRzが80nm以
下、最大高さRmaxが150nm以下、厚さが0.5
〜4.0μmであるマスキング層が設けられてなる磁気
記録媒体用支持体上に、金属磁性薄膜が形成されてなる
ことを特徴とするものである。
The masking layer has a particle size of 10 to 500.
It is a layer formed by dispersing a non-magnetic pigment of nm in a binder. Further, the magnetic recording medium of the present invention has a center line average roughness Ra of 5 to 20 nm, a ten-point average roughness Rz of 30 to 450 nm, and a maximum height Rmax of 30.
The center line average roughness Ra is 10 nm or less, the ten-point average roughness Rz is 80 nm or less, the maximum height Rmax is 150 nm or less, and the thickness is 0.5 on the non-magnetic support having a thickness of ˜450 nm.
It is characterized in that a metal magnetic thin film is formed on a magnetic recording medium support having a masking layer having a thickness of up to 4.0 μm.

【0013】さらに、マスキング層が、粒径10〜50
0nmの非磁性顔料を結合剤に分散させてなる層である
ことを特徴とするものである。
Further, the masking layer has a particle size of 10 to 50.
It is a layer formed by dispersing a 0 nm non-magnetic pigment in a binder.

【0014】なお、上記中心線平均粗さRa、十点平均
粗さRz、最大高さRmaxは、いずれも三次元中心線
平均粗さSRa、三次元十点平均粗さSRz、三次元最
大高さSRmaxとして測定される値である。
The centerline average roughness Ra, the ten-point average roughness Rz, and the maximum height Rmax are all three-dimensional centerline average roughness SRa, three-dimensional ten-point average roughness SRz, and three-dimensional maximum height. The value measured as SRmax.

【0015】本発明の磁気記録媒体用支持体は、金属磁
性材料を真空薄膜形成技術によって支持体上に直接被着
することで磁性層が形成される,いわゆる金属薄膜型の
磁気記録媒体に適用されるものである。この磁気記録媒
体用支持体は、非磁性支持体上に表面粗度を制御するた
めのマスキング層が形成されて構成されている。
The magnetic recording medium support of the present invention is applied to a so-called metal thin film type magnetic recording medium in which a magnetic layer is formed by directly depositing a metal magnetic material on the support by a vacuum thin film forming technique. It is what is done. This magnetic recording medium support is constructed by forming a masking layer for controlling the surface roughness on a non-magnetic support.

【0016】表面粗度を制御するために形成される上記
マスキング層は、非磁性微粒子,結合剤が有機溶剤に分
散,混練されてなるマスキング層用塗料を非磁性支持体
上に塗布することにより形成されるものである。
The masking layer formed to control the surface roughness is obtained by coating a non-magnetic support with a masking layer coating material obtained by dispersing and kneading non-magnetic fine particles and a binder in an organic solvent. It is what is formed.

【0017】上記非磁性微粒子としては、コロイダルシ
リカや金属超微粒子等の球状粒子が好ましく、この他、
カーボン(例えば、カーボンブラック)、ヘマタイト、
雲母、酸化マグネシウム、硫化亜鉛、炭化タングステ
ン、窒化ホウ素、デンプン、酸化亜鉛、カオリン、タル
ク、粘土、硫酸鉛、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭
酸マグネシウム、ベーム石(γーAl2 3 ・H
2 O),アルミナ、硫化タングステン、酸化チタン、ポ
リテトラフルオロエチレン粉末、ポリエチレン粉末、ポ
リ塩化ビニル粉末等が挙げられる。これらは単独で用い
ても複数のものを組み合わせて用いるようにしても差し
支えない。なお、これら非磁性微粒子には、平均粒子径
が10〜500nm,より好ましくは60〜400nm
と、非磁性支持体そのものに内添して表面粗度を制御す
る場合よりも幾分大きな粒径のものを用いることが望ま
しい。但し、粒径が500nmを越える非磁性微粒子を
用いた場合には磁気記録媒体の電磁変換特性を劣化させ
る虞れがある。また、粒径が10nm未満の非磁性粒子
は、工業的に安定に作製するのが難しいことから、適さ
ない。
The non-magnetic fine particles are preferably spherical particles such as colloidal silica and ultrafine metal particles.
Carbon (eg carbon black), hematite,
Mica, magnesium oxide, zinc sulfide, tungsten carbide, boron nitride, starch, zinc oxide, kaolin, talc, clay, lead sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, magnesium carbonate, boehmite (γ-Al 2 O 3 · H)
2 O), alumina, tungsten sulfide, titanium oxide, polytetrafluoroethylene powder, polyethylene powder, polyvinyl chloride powder and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The non-magnetic fine particles have an average particle diameter of 10 to 500 nm, more preferably 60 to 400 nm.
In addition, it is desirable to use a material having a particle size slightly larger than that in the case where the surface roughness is controlled by internally adding to the non-magnetic support itself. However, when non-magnetic fine particles having a particle size exceeding 500 nm are used, the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic recording medium may be deteriorated. Further, non-magnetic particles having a particle size of less than 10 nm are not suitable because it is difficult to produce them industrially stably.

【0018】上記非磁性粒子を分散させる結合剤として
は、アクリル酸エステル系ラテックス,合成ゴム系ラテ
ックスが望ましく、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体,
塩化ビニルー酢酸ビニルービニルアルコール共重合体,
塩化ビニルー酢酸ビニルーマレイン酸共重合体,塩化ビ
ニルー塩化ビニリデン共重合体,塩化ビニルーアクリロ
ニトリル共重合体,アクリル酸エステルーアクリロニト
リル共重合体,アクリル酸エステルー塩化ビニリデン共
重合体,メタクリル酸エステルースチレン共重合体,熱
可塑性ポリウレタン樹脂,フェノキシ樹脂,ポリ弗化ビ
ニル,塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重合体,ブ
タジエンーアクリロニトリル共重合体,ブタジエンーア
クリロニトリルーメタクリル酸共重合体,ポリビニルブ
チラール,セルロース誘導体,スチレンーブタジエン共
重合体,ポリエステル樹脂,フェノール樹脂,エポキシ
樹脂,熱硬化性ポリウレタン樹脂,尿素樹脂,メラミン
樹脂,アルキド樹脂,尿素ーホルムアルデヒド樹脂また
はこれらの混合物等が挙げられる。なかでもポリウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリロニトリルーブタジ
エン共重合体は柔軟性を付与できることから好ましい。
また、結合剤としては、これら樹脂にイソシアネート化
合物で架橋を持たせて耐久性を向上させたり、適当な極
性基を導入したものであってもよい。
As the binder for dispersing the non-magnetic particles, acrylic ester latex and synthetic rubber latex are preferable, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer,
Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer,
Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, acrylic ester-acrylonitrile copolymer, acrylic ester-vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid ester-styrene Copolymer, thermoplastic polyurethane resin, phenoxy resin, polyvinyl fluoride, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer, butadiene-acrylonitrile-methacrylic acid copolymer, polyvinyl butyral, cellulose derivative, styrene- Butadiene copolymer, polyester resin, phenol resin, epoxy resin, thermosetting polyurethane resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, urea-formaldehyde resin or mixtures thereof And the like. Of these, polyurethane resins, polyester resins, and acrylonitrile-butadiene copolymers are preferable because they can impart flexibility.
Further, as the binder, those resins may be crosslinked with an isocyanate compound to improve durability, or those having an appropriate polar group introduced.

【0019】上記非磁性微粒子,結合剤の有機溶媒とし
ては、アセトン,メチルエチルケトン,メチルイソブチ
ルケトン,シクロヘキサン等のケトン系溶剤、酢酸メチ
ル,酢酸エチル,酢酸ブチル,乳酸エチル,酢酸グリコ
ールモノエチルエステル等のエステル系溶剤、グリコー
ルジメチルエーテル,グリコールモノエチルエーテル,
ジオキサン等のグリコールエーテル系溶剤、ベンゼン,
トルエン,キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、メチレ
ンクロライド,エチレンクロライド,四塩化炭素,クロ
ロホルム,エチレンクロルヒドリン,ジクロロベンゼン
等の有機塩素化合物系溶剤が挙げられる。
Examples of the organic solvent for the non-magnetic fine particles and the binder include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexane, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, glycol acetate monoethyl ester and the like. Ester solvent, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether,
Glycol ether solvent such as dioxane, benzene,
Examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and organic chlorine compound solvents such as methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, ethylene chlorohydrin and dichlorobenzene.

【0020】一方、これら非磁性微粒子,結合剤が有機
溶剤に分散,混練されてなる塗料が塗布される非磁性支
持体としては、中心線平均粗さRaが5〜20nm、十
点平均粗さRzが30〜450nm、最大高さRmax
が30〜450nmと、従来より金属磁性薄膜型の磁気
テープにおいて用いられているものよりも表面粗度が高
く、グレードの低いものが使用される。このような非磁
性支持体の金属磁性薄膜が形成される面に上記マスキン
グ用塗料を塗布すると、マスキング層に内添された非磁
性微粒子によって適度な粗度が付与されながら非磁性支
持体表面のフィッシュアイと称される突起状物や凹凸が
マスキングされる。そして、中心線平均粗さRaが10
nm以下、十点平均粗さRzが80nm以下、最大高さ
Rmaxが150nm以下のマスキング層が形成され、
1グレード上の非磁性支持体に匹敵する支持体が得られ
ることになる。
On the other hand, as a non-magnetic support to which a coating material prepared by dispersing and kneading these non-magnetic fine particles and a binder in an organic solvent is applied, the center line average roughness Ra is 5 to 20 nm and the ten-point average roughness is Rz is 30 to 450 nm, maximum height Rmax
Of 30 to 450 nm, which has a higher surface roughness and a lower grade than those conventionally used in metal magnetic thin film type magnetic tapes. When the above-mentioned coating material for masking is applied to the surface of such a non-magnetic support on which the metal magnetic thin film is formed, the non-magnetic fine particles added internally to the masking layer impart an appropriate roughness to the surface of the non-magnetic support. The projections and irregularities called fish eyes are masked. The center line average roughness Ra is 10
nm or less, a ten-point average roughness Rz of 80 nm or less, and a maximum height Rmax of 150 nm or less are formed,
A support comparable to the non-magnetic support one grade above will be obtained.

【0021】中心線平均粗さRa、十点平均粗さRz、
最大高さRmaxが上記範囲を下回るような表面粗度が
低くグレードの高い非磁性支持体を用いた場合には、磁
気記録媒体を高価なものにするが、このように比較的表
面粗度の低い非磁性支持体にマスキング層が形成されて
なる支持体では、非磁性支持体が製造工程において走行
不良となり難く歩留りが良いこと、マスキング層の形成
もほとんどコスト上昇に繋がらないことから製造コスト
が低い。したがって、このような支持体を用いることに
より、安価で且つ磁性層表面が良好な磁気記録媒体を実
現することになる。なお、表面粗度が上記範囲を下回る
非磁性支持体は、高価であると同時に表面が平滑過ぎる
ため上記マスキング層が定着し難く、マスキング層によ
って表面粗度を制御するには適さない。一方、表面粗度
が上記範囲を上回る非磁性支持体は、安価ではあるが、
表面粗度が粗過ぎ、マスキング層を形成してもその粗度
を実用範囲内に収めることができず、磁気記録媒体の電
磁変換特性を劣化させるためやはり不適当である。な
お、非磁性支持体として、より好ましくは中心線平均粗
さRaが5〜10nm、十点平均粗さRzが30〜25
0nm、最大高さRmaxが30〜250nmを用いる
ことが望ましい。
Center line average roughness Ra, ten-point average roughness Rz,
When a non-magnetic support having a low surface roughness and a high grade such that the maximum height Rmax falls below the above range is used, the magnetic recording medium becomes expensive. In the case of a support in which a masking layer is formed on a low non-magnetic support, the non-magnetic support is less likely to cause poor running in the manufacturing process and the yield is good, and the formation of the masking layer hardly leads to an increase in manufacturing cost. Low. Therefore, by using such a support, an inexpensive magnetic recording medium having a good magnetic layer surface can be realized. A non-magnetic support having a surface roughness below the above range is expensive and at the same time has a too smooth surface, so that the masking layer is difficult to fix and is not suitable for controlling the surface roughness by the masking layer. On the other hand, a non-magnetic support whose surface roughness exceeds the above range is inexpensive,
The surface roughness is too rough, and even if a masking layer is formed, the roughness cannot be kept within a practical range, and the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic recording medium are deteriorated. The non-magnetic support more preferably has a center line average roughness Ra of 5 to 10 nm and a ten-point average roughness Rz of 30 to 25.
It is desirable to use 0 nm and a maximum height Rmax of 30 to 250 nm.

【0022】このような非磁性支持体に上述のマスキン
グ層用塗料を塗布するには、一般的な連続巻取り式のグ
ラビアコータを用いれば良い。この連続巻き取り式グラ
ビアコータで非磁性支持体上にマスキング用塗料を塗布
し、乾燥することで上記マスキング層は形成される。こ
のとき、マスキング層の表面性を向上させるには、マス
キング層に用いる結合剤の分子量やガラス転移点を高め
に設定することが好ましい。また、乾燥工程後に、カレ
ンダー処理を施することで平坦化するようにしても良
い。
In order to apply the above-mentioned coating material for the masking layer to such a non-magnetic support, a general continuous winding type gravure coater may be used. The masking layer is formed by applying a masking paint on the non-magnetic support with this continuous winding gravure coater and drying. At this time, in order to improve the surface property of the masking layer, it is preferable to set the molecular weight of the binder used in the masking layer and the glass transition point to be high. In addition, after the drying step, calendering may be performed to flatten the surface.

【0023】なお、このような非磁性支持体上にマスキ
ング層を形成するに際して、その膜厚は0.5〜4.0
μm,さらに望ましくは0.5〜3.0μmとすること
が好ましい。マスキング層の膜厚が0.5μm未満であ
るとマスキング層による表面粗度制御効果が十分に得ら
れない。マスキング層の膜厚が4μmを越えると、媒体
の全厚が厚くなり過ぎ、薄物化を図る場合に不利となる
と同時に塗布時に厚みムラが生じて表面にうねり等の形
状劣化が生じ電磁変換特性が不十分となる。
When forming a masking layer on such a non-magnetic support, the film thickness is 0.5 to 4.0.
μm, and more preferably 0.5 to 3.0 μm. If the thickness of the masking layer is less than 0.5 μm, the effect of controlling the surface roughness by the masking layer cannot be sufficiently obtained. When the film thickness of the masking layer exceeds 4 μm, the total thickness of the medium becomes too thick, which is disadvantageous in the case of thinning, and at the same time, unevenness in thickness occurs during coating to cause surface deterioration such as waviness and electromagnetic conversion characteristics. Will be insufficient.

【0024】本発明の磁気記録媒体は、以上のような支
持体上に、磁性層となる金属磁性薄膜が成膜されて構成
される。
The magnetic recording medium of the present invention is constructed by forming a metal magnetic thin film serving as a magnetic layer on the above support.

【0025】金属磁性薄膜に用いられる金属磁性材料に
は、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体において、通常、用
いられるものがいずれも使用可能である。例示するなら
ば、Fe,Co,Niなどの強磁性金属、Fe−Co,
Co−Ni,Fe−Co−Ni,Fe−Cu,Co−C
u,Co−Au,Co−Pt,Mn−Bi,Mn−A
l,Fe−Cr,Co−Cr,Ni−Cr,Fe−Co
−Cr,Co−Ni−Cr,Fe−Co−Ni−Cr等
の強磁性合金が挙げられる。
As the metal magnetic material used for the metal magnetic thin film, any of those usually used in metal magnetic thin film type magnetic recording media can be used. For example, ferromagnetic metals such as Fe, Co and Ni, Fe-Co,
Co-Ni, Fe-Co-Ni, Fe-Cu, Co-C
u, Co-Au, Co-Pt, Mn-Bi, Mn-A
1, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-Cr, Fe-Co
Examples include ferromagnetic alloys such as -Cr, Co-Ni-Cr, and Fe-Co-Ni-Cr.

【0026】これら金属磁性材料は、真空下で強磁性金
属磁性材料を加熱蒸発させ支持体上に沈着させる真空蒸
着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイオンプ
レーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグ
ロー放電を越こし生じたアルゴンイオンでターゲット表
面の原子をたたき出すスパッタ法等のいわゆるPVD技
術によって薄膜とされる。磁性層としてはこれら手法に
よって成膜される金属磁性薄膜の単層膜あるいは多層膜
のいずれでも良い。なお、非磁性支持体と金属磁性薄膜
の間,さらには金属磁性薄膜が多層膜である場合には金
属磁性薄膜同士の間に、各層間の付着力向上,抗磁力の
制御等を図るために下地層,中間層を設けるようにして
も良い。また、これら金属磁性薄膜の表面近傍は、耐蝕
性改善等を目的として酸化物層となっていてもよい。
These metal magnetic materials include a vacuum vapor deposition method of evaporating a ferromagnetic metal magnetic material under vacuum to deposit it on a support, an ion plating method of evaporating a ferromagnetic metal material in a discharge, and argon. A thin film is formed by a so-called PVD technique such as a sputtering method in which atoms on the target surface are knocked out by argon ions generated through a glow discharge in an atmosphere containing the main component. The magnetic layer may be either a single layer film or a multi-layer film of a metal magnetic thin film formed by these methods. In order to improve the adhesive force between layers and control the coercive force between the non-magnetic support and the metal magnetic thin film, and also between the metal magnetic thin films when the metal magnetic thin film is a multilayer film. A base layer and an intermediate layer may be provided. Further, the vicinity of the surface of these metal magnetic thin films may be an oxide layer for the purpose of improving corrosion resistance and the like.

【0027】マスキング層が設けられた支持体上に以上
のような手法によって金属磁性材料を被着すると、金属
磁性薄膜が上記支持体の表面形状を反映して良好な表面
性をもって形成され、安価であるとともに走行耐久性,
電磁変換特性に優れ且つ磁気ヘッドを偏摩耗させること
のない磁気記録媒体が獲得できる。
When the metal magnetic material is deposited on the support provided with the masking layer by the above-described method, the metal magnetic thin film is formed with good surface property reflecting the surface shape of the support, which is inexpensive. And running durability,
It is possible to obtain a magnetic recording medium which has excellent electromagnetic conversion characteristics and which does not cause uneven wear of the magnetic head.

【0028】なお、本発明の磁気記録媒体には、磁性層
上に保護膜が形成されていたり、支持体の磁性層が形成
されている側とは反対側の面にバックコート層が形成さ
れていても良い。
In the magnetic recording medium of the present invention, a protective film is formed on the magnetic layer, or a back coat layer is formed on the surface of the support opposite to the side on which the magnetic layer is formed. It may be.

【0029】保護膜としては、以下に例示する材料を真
空蒸着法,イオンプレーティング法,スパッタ法等のP
VD技術や、プラズマCVD法,ECRプラズマCVD
法,アークジェットプラズマCVD法等のCVD法で成
膜した薄膜等、通常、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体に
おいて形成されている保護膜が形成される。上記保護膜
の材料には、カーボン,CrO2 ,Al2 3 ,BN,
Co酸化物、MgO,SiO2 ,Si3 4 ,Si
x ,SiC,SiNx −SiO2 ,ZrO2 ,TiO
2 ,TiC等の酸化物やセラミックス、Cu,Cr,T
i,Zn,Pt,Au,Zr,Al,Sn,Ta,Cr
−Ti,Cr−Zr,Cr−Nb,Cr−Ta,Cr−
Al,Cr−Zr,Cu−Ni,Ni−Mo−Cr−F
e等の金属または合金が挙げられる。保護膜は、これら
の単層膜,複合膜あるいは複数の材料を組み合わせた複
合膜としても良い。
As the protective film, the following materials are used for the P method such as the vacuum deposition method, the ion plating method and the sputtering method.
VD technology, plasma CVD method, ECR plasma CVD
Method, a thin film formed by a CVD method such as an arc jet plasma CVD method, or the like, is usually formed as a protective film formed in a magnetic recording medium of a metal magnetic thin film type. Materials of the protective film include carbon, CrO 2 , Al 2 O 3 , BN,
Co oxide, MgO, SiO 2 , Si 3 O 4 , Si
N x, SiC, SiN x -SiO 2, ZrO 2, TiO
2 , oxides such as TiC and ceramics, Cu, Cr, T
i, Zn, Pt, Au, Zr, Al, Sn, Ta, Cr
-Ti, Cr-Zr, Cr-Nb, Cr-Ta, Cr-
Al, Cr-Zr, Cu-Ni, Ni-Mo-Cr-F
Examples thereof include metals such as e and alloys. The protective film may be a single layer film, a composite film, or a composite film in which a plurality of materials are combined.

【0030】バックコート層としては、やはり、通常の
磁気記録媒体において形成されているようなカーボンブ
ラック等の帯電防止効果や摩擦低減効果を有する非磁性
粉末が結合剤中に分散されてなる非磁性層で良い。
The back coat layer is also made of non-magnetic powder obtained by dispersing a non-magnetic powder such as carbon black, which is formed in a usual magnetic recording medium, having an antistatic effect and a friction reducing effect in a binder. Good in layers.

【0031】さらに、上記磁気記録媒体には、マスキン
グ層上に微小突起を形成する下塗層を形成したり、トッ
プ面に潤滑剤、防錆剤等よりなる層を形成するようにし
ても良い。これら層に用いられる材料には、従来公知の
ものがいずれも使用可能である。
Further, in the above magnetic recording medium, an undercoat layer for forming fine projections may be formed on the masking layer, or a layer made of a lubricant, a rust preventive agent or the like may be formed on the top surface. . Any conventionally known material can be used for the materials used for these layers.

【0032】[0032]

【作用】中心線平均粗さRaが5〜20nm、十点平均
粗さRzが30〜450nm、最大高さRmaxが30
〜450nmと表面粗度が比較的高い非磁性支持体上
に、中心線平均粗さRaが10nm以下、十点平均粗さ
Rzが80nm以下、最大高さRmaxが150nm以
下、厚さが0.5〜4.0μmであるマスキング層が設
けられてなる磁気記録媒体用支持体では、非磁性支持体
そのものが製造工程において走行不良となり難く歩留り
が良いこと、マスキング層の形成もそれ程コスト上昇に
繋がらないことから製造コストが低い。また、上記支持
体は表面がマスキング層によって低粗度となされている
ので、このマスキング層上に金属磁性材料を被着すると
金属磁性薄膜が上記支持体の表面形状を反映して良好な
表面性をもって形成される。したがって、このような支
持体を金属磁性薄膜型の磁気記録媒体に用いることによ
り、安価であるとともに走行耐久性,電磁変換特性に優
れ、磁気ヘッドを偏摩耗させることのない磁気記録媒体
が得られることになる。
The center line average roughness Ra is 5 to 20 nm, the ten-point average roughness Rz is 30 to 450 nm, and the maximum height Rmax is 30.
On the non-magnetic support having a relatively high surface roughness of ~ 450 nm, the center line average roughness Ra is 10 nm or less, the ten-point average roughness Rz is 80 nm or less, the maximum height Rmax is 150 nm or less, and the thickness is 0. In the magnetic recording medium support provided with a masking layer having a thickness of 5 to 4.0 μm, the non-magnetic support itself is less likely to cause defective running in the manufacturing process and has a good yield, and the formation of the masking layer also leads to an increase in cost. Manufacturing cost is low because it does not exist. Further, since the surface of the support is made to have a low roughness by a masking layer, when a metal magnetic material is deposited on the masking layer, the metal magnetic thin film reflects the surface shape of the support and has a good surface property. Formed with. Therefore, by using such a support for the magnetic recording medium of the metal magnetic thin film type, it is possible to obtain a magnetic recording medium which is inexpensive, has excellent running durability and electromagnetic conversion characteristics, and does not cause uneven wear of the magnetic head. It will be.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明がこの実施例に限定されるものでないこ
とは言うまでもない。
EXAMPLES Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but it goes without saying that the present invention is not limited to these examples.

【0034】実施例1 本実施例では、図1に示すように非磁性支持体となるP
ETフィルム1上にマスキング層2,金属磁性薄膜3,
保護膜4が形成され、これら層が形成された側とは反対
側の面にバックコート層5が形成されてなる磁気記録媒
体を以下のようにして作製した。
Example 1 In this example, as shown in FIG. 1, a nonmagnetic support P was formed.
Masking layer 2, metal magnetic thin film 3, on ET film 1
A magnetic recording medium in which the protective film 4 was formed and the back coat layer 5 was formed on the surface opposite to the side on which these layers were formed was prepared as follows.

【0035】まず、 厚さ10μm,幅150mmであ
り、SRaが6nm,SRzが56nm,SRmaxが
66nmなるポリエチレンテレフタレート(PET)フ
ィルム1上に以下の組成を有するマスキング層用塗料を
連続巻き取り式グラビアーコータで塗布した。
First, a coating material for a masking layer having the following composition was continuously wound on a polyethylene terephthalate (PET) film 1 having a thickness of 10 μm and a width of 150 mm, SRa of 6 nm, SRz of 56 nm and SRmax of 66 nm. It was applied with an arc coater.

【0036】 マスキング層用塗料の組成 非磁性微粒子: 平均粒径が65nmのコロイダルシリカ 90重量部 平均粒径が250nmのコロイダルシリカ 10重量部 結合剤: アクリル酸エステル 100重量部 有機溶剤: エタノール 塗布厚に合わせて調整Composition of coating material for masking layer Non-magnetic fine particles: 90 parts by weight of colloidal silica having an average particle diameter of 65 nm 10 parts by weight of colloidal silica having an average particle diameter of 250 nm Binder: 100 parts by weight of acrylic ester Organic solvent: coating thickness of ethanol Adjust according to

【0037】乾燥後、カレンダー処理を施すことで平坦
化し、膜厚0.8μmのマスキング層2を形成し、支持
体を作製した。このとき形成されたマスキング層2の表
面粗度は、SRaが3nm,SRzが34nm,SRm
axが46nmである。
After drying, it was flattened by calendering to form a masking layer 2 having a film thickness of 0.8 μm to prepare a support. The surface roughness of the masking layer 2 formed at this time has SRa of 3 nm, SRz of 34 nm, and SRm.
ax is 46 nm.

【0038】このようにして形成されたマスキング層2
上にCo95−Ni5 合金(添字は重量%を表す。)を蒸
着源に用いて真空蒸着法により膜厚0.2μmの金属磁
性薄膜3を成膜した。金属磁性薄膜3を成膜するのに用
いた蒸着装置の構成を図2に示す。
Masking layer 2 thus formed
A metal magnetic thin film 3 having a thickness of 0.2 μm was formed on the above by a vacuum vapor deposition method using a Co 95 —Ni 5 alloy (subscripts represent% by weight) as a vapor deposition source. The structure of the vapor deposition apparatus used for forming the metal magnetic thin film 3 is shown in FIG.

【0039】上記蒸着装置は、頭部と底部にそれぞれ設
けられた排気口25,25から排気されて内部が真空状
態となされた真空室11内に、送りロール13,巻き取
りロール14とが配設されており、これら送りロール1
3から巻き取りロール14に向かってテープ状の支持体
12が順次走行されるようになされている。
In the above vapor deposition apparatus, the feed roll 13 and the take-up roll 14 are placed in the vacuum chamber 11 which is evacuated from the exhaust ports 25, 25 provided at the head and the bottom, respectively, and the inside of which is in a vacuum state. It is installed and these feed rolls 1
The tape-shaped support 12 is sequentially run from 3 to the winding roll 14.

【0040】これら送りロール13から巻き取りロール
14側に上記支持体12が走行する中途部には、上記各
ロール13,14よりも大径となされた冷却キャン15
が配設されている。この冷却キャン15は、上記支持体
12を図中下方に引き出すように設けられている。この
冷却キャン15には、内部に冷却装置(図示せず。)が
設けられており、上記支持体12の温度上昇による変形
等を抑制し得るようになされている。
A cooling can 15 having a diameter larger than that of each of the rolls 13 and 14 is provided at an intermediate portion where the support 12 runs from the feed roll 13 to the take-up roll 14 side.
Is provided. The cooling can 15 is provided so as to pull out the support 12 downward in the drawing. A cooling device (not shown) is provided inside the cooling can 15 so as to suppress deformation of the support 12 due to temperature rise.

【0041】なお、上記送りロール13,巻き取りロー
ル14及び冷却キャン15は、それぞれ上記支持体12
の幅と略同じ長さからなる円筒状をなすものである。
The feed roll 13, the take-up roll 14 and the cooling can 15 are respectively provided in the support member 12.
It has a cylindrical shape having a length substantially the same as the width.

【0042】従って、上記支持体12は、上記送りロー
ル13から順次送り出され、上記冷却キャン15の周面
に沿って移動走行され、更に上記巻き取りロール14に
順次巻き取られているようになされている。また、上記
送りロール13と上記冷却キャン15との間、及び該冷
却キャン15と上記巻き取りロール14との間には、各
ロール13,14より小径のガイドロール16,17が
それぞれ配設され、上記送りロール13から上記冷却キ
ャン15、該冷却キャン15から上記巻き取りロール1
4に亘って走行する上記支持体12に所定のテンション
をかけ、該支持体12が円滑に走行するようになされて
いる。
Therefore, the support 12 is sequentially fed from the feed roll 13, moved and run along the peripheral surface of the cooling can 15, and further wound around the winding roll 14 in sequence. ing. Further, between the feed roll 13 and the cooling can 15, and between the cooling can 15 and the take-up roll 14, guide rolls 16 and 17 having a smaller diameter than the rolls 13 and 14 are arranged, respectively. , The feed roll 13 to the cooling can 15, the cooling can 15 to the take-up roll 1
A predetermined tension is applied to the support 12 that travels for four times so that the support 12 can travel smoothly.

【0043】また、上記真空室11内には、上記冷却キ
ャン15の下方にルツボ18が配設され、このルツボ1
8内に強磁性金属材料19が充填されている。上記ルツ
ボ18は、上記冷却キャン15の幅と略同一の幅を有し
てなる。
A crucible 18 is disposed in the vacuum chamber 11 below the cooling can 15.
A ferromagnetic metal material 19 is filled in the inside 8. The crucible 18 has a width substantially the same as the width of the cooling can 15.

【0044】一方、上記真空室11の側壁部には、上記
ルツボ18内に充填された強磁性金属材料を加熱蒸発さ
せるための電子銃20が取付けられている。この電子銃
20は、該電子銃20より放出される電子ビームXが上
記ルツボ18内の強磁性金属材料19に照射されるよう
な位置に配設される。そして、この電子銃20によって
加熱蒸発せしめられた上記強磁性金属材料19が上記冷
却キャン15の周面を定速走行する支持体12上に蒸着
され、磁性層である金属磁性薄膜が形成されるようにな
っている。
On the other hand, an electron gun 20 for heating and evaporating the ferromagnetic metal material filled in the crucible 18 is attached to the side wall of the vacuum chamber 11. The electron gun 20 is arranged at a position such that the electron beam X emitted from the electron gun 20 irradiates the ferromagnetic metal material 19 in the crucible 18. Then, the ferromagnetic metal material 19 heated and evaporated by the electron gun 20 is vapor-deposited on the support 12 that runs at a constant speed on the peripheral surface of the cooling can 15, and a metal magnetic thin film that is a magnetic layer is formed. It is like this.

【0045】また、上記冷却キャン15と上記ルツボ1
8との間であって該冷却キャン15の近傍には、シャッ
タ23が配設される。このシャッタ23は、上記冷却キ
ャン15の周面に沿って定速走行する支持体12の所定
領域を覆うかたちで形成され、該支持体12の表面に対
する強磁性金属材料19の入射方向を制御するようにな
されている。すなわち、蒸発せしめられた上記強磁性金
属材料19は、上記シャッタ23の送りロール13側の
端部によって上記支持体12の表面に対する最低入射角
θ1 が規制され、所定の角度範囲θ2 〜θ1 で斜めに蒸
着される。
The cooling can 15 and the crucible 1 are also provided.
8 and a shutter 23 is provided near the cooling can 15. The shutter 23 is formed so as to cover a predetermined region of the support 12 that runs at a constant speed along the peripheral surface of the cooling can 15, and controls the incident direction of the ferromagnetic metal material 19 on the surface of the support 12. It is done like this. That is, in the evaporated ferromagnetic metal material 19, the minimum incident angle θ 1 with respect to the surface of the support 12 is regulated by the end of the shutter 23 on the feed roll 13 side, and the predetermined angle range θ 2 to θ. 1 is obliquely evaporated.

【0046】さらに、このような蒸着に際し、上記真空
室11の側壁部を貫通して設けられる酸素ガス導入口
(図示せず。)を介して上記支持体12の表面付近に酸
素ガスが供給されており、得られる金属磁性薄膜の磁気
特性、耐久性及び耐候性の向上が図られている。
Further, during such vapor deposition, oxygen gas is supplied to the vicinity of the surface of the support 12 through an oxygen gas inlet (not shown) provided through the side wall of the vacuum chamber 11. Therefore, the magnetic properties, durability and weather resistance of the obtained metal magnetic thin film are improved.

【0047】この真空蒸着は、上記真空室1内の真空度
を1×10-4Torr程度に保持するとともに、この真
空室1内に上記酸素ガス導入口より酸素ガスを例えば
2.5×10-63 /秒程度の割合で導入しながら行
う。この場合、上記支持体2に対する上記強磁性金属材
料9の入射角は、45〜90°の範囲とする。
In this vacuum deposition, the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 is maintained at about 1 × 10 −4 Torr, and oxygen gas is introduced into the vacuum chamber 1 through the oxygen gas inlet, for example, 2.5 × 10 4. -Perform while introducing at a rate of about 6 m 3 / sec. In this case, the incident angle of the ferromagnetic metal material 9 with respect to the support 2 is in the range of 45 to 90 °.

【0048】なお、上記金属磁性薄膜の成膜条件は以下
の通りである。 金属磁性薄膜の成膜条件 蒸着源 :Co95−Ni5 合金 入射角 :45〜90° テープ速度 :0.17m/秒 膜厚 :0.2μm 酸素導入量 :3.3×10-63 /秒 蒸着時真空度 :7×10-2Pa
The film forming conditions for the metal magnetic thin film are as follows. Deposition conditions of metal magnetic thin film Deposition source: Co 95 -Ni 5 alloy Incident angle: 45 to 90 ° Tape speed: 0.17 m / sec Film thickness: 0.2 μm Oxygen introduction amount: 3.3 × 10 -6 m 3 / Sec Vacuum degree during vapor deposition: 7 × 10 -2 Pa

【0049】金属磁性薄膜成膜後、該金属磁性薄膜上に
カーボンをターゲットに用いてDCマグネトロンスパッ
タ法により膜厚10nmの保護膜を成膜した。保護膜の
成膜条件は以下の通りである。 保護膜の成膜条件 ターゲット :カーボン スパッタガス :アルゴン バックグランド真空度 :4×10-3Pa 成膜時真空度 :2Pa テープ速度 :0.15m/秒 膜厚 :10nm
After forming the metal magnetic thin film, a protective film having a thickness of 10 nm was formed on the metal magnetic thin film by a DC magnetron sputtering method using carbon as a target. The conditions for forming the protective film are as follows. Film forming conditions Target protective film: Carbon Sputtering gas: Argon background vacuum degree: 4 × 10 - 3 Pa Degree of vacuum during deposition: 2 Pa tape speed: 0.15 m / sec thickness: 10 nm

【0050】次いで、以下の組成に準じて、各バックコ
ート組成物をボールミルに投入して24時間分散,混合
した後、架橋剤を添加してバックコート塗料を調整し
た。 バックコート塗料の組成 カーボンブラック: 100重量部 ポリウレタン樹脂: 100重量部 そして、調整されたバックコート塗料をPETフィルム
の金属磁性薄膜が形成された側とは反対側の表面に塗布
して膜厚0.6μmのバックコート層を形成した。
Then, according to the following composition, each backcoat composition was put into a ball mill and dispersed and mixed for 24 hours, and then a crosslinking agent was added to prepare a backcoat paint. Composition of back coat paint Carbon black: 100 parts by weight Polyurethane resin: 100 parts by weight Then, the adjusted back coat paint is applied to the surface of the PET film opposite to the side where the metal magnetic thin film is formed, and the film thickness is 0. A back coat layer having a thickness of 0.6 μm was formed.

【0051】さらに、保護膜上にパーフルオロポリエー
テルを塗布してトップコート層を形成した後、8mm幅
にスリットして磁気テープを作製した。
Further, perfluoropolyether was coated on the protective film to form a top coat layer, which was then slit into a width of 8 mm to prepare a magnetic tape.

【0052】実施例2〜実施例8 非磁性支持体として表1に示す表面粗度を有するPET
フィルムを用いるとともにマスキング層の膜厚を表1に
示すように変えたこと以外は実施例1と同様にして磁気
テープを作製した。なお、形成されたマスキング層の表
面粗度は表1に示す通りである。
Examples 2 to 8 PET having the surface roughness shown in Table 1 as a non-magnetic support.
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the film was used and the thickness of the masking layer was changed as shown in Table 1. The surface roughness of the formed masking layer is as shown in Table 1.

【0053】実施例9〜実施例11 非磁性支持体として中心線平均粗さRaが6nm,十点
平均粗さRzが56nm,最大高さRmaxが66nm
であるPETフィルムを用いるとともに、マスキング層
の非磁性微粒子として表2に示す種類,粒子径の微粒子
を用い、マスキング層の膜厚を表2に示すように変えた
こと以外は実施例1と同様にして磁気テープを作製し
た。なお、形成されたマスキング層の表面粗度は表2に
示す通りである。
Examples 9 to 11 As a non-magnetic support, the center line average roughness Ra is 6 nm, the ten-point average roughness Rz is 56 nm, and the maximum height Rmax is 66 nm.
The same as Example 1 except that the PET film was used, the fine particles of the type and particle size shown in Table 2 were used as the non-magnetic fine particles of the masking layer, and the thickness of the masking layer was changed as shown in Table 2. Then, a magnetic tape was produced. The surface roughness of the formed masking layer is as shown in Table 2.

【0054】比較例1 非磁性支持体として中心線平均粗さRaが5nm,十点
平均粗さRzが39nm,最大高さRmaxが55nm
であるPETフィルムを用いるとともに該PETフィル
ム上にマスキング層を形成しないこと以外は実施例1と
同様にして磁気テープを作製した。なお、ここで用いる
PETフィルムは従来より蒸着タイプの磁気テープに用
いられているPETフィルムである。
Comparative Example 1 As a non-magnetic support, the center line average roughness Ra is 5 nm, the ten-point average roughness Rz is 39 nm, and the maximum height Rmax is 55 nm.
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the PET film of No. 1 was used and no masking layer was formed on the PET film. The PET film used here is a PET film that has been conventionally used for vapor deposition type magnetic tapes.

【0055】比較例2,比較例3 非磁性支持体として表1に示す表面粗度を有するPET
フィルムを用いるとともにマスキング層の膜厚を表1に
示すように所定範囲外に設定したこと以外は実施例1と
同様にして磁気テープを作製した。なお、形成されたマ
スキング層の表面粗度は表1に示す通りである。
Comparative Examples 2 and 3 PET having the surface roughness shown in Table 1 as a non-magnetic support.
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the film was used and the film thickness of the masking layer was set outside the predetermined range as shown in Table 1. The surface roughness of the formed masking layer is as shown in Table 1.

【0056】比較例4,比較例5 非磁性支持体として表1に示すように表面粗度が所定範
囲外のPETフィルムを用いるとともにマスキング層の
膜厚を表1に示すように変えたこと以外は実施例1と同
様にして磁気テープを作製した。なお、形成されたマス
キング層の表面粗度は表1に示す通りである。
Comparative Example 4 and Comparative Example 5 A PET film having a surface roughness outside a predetermined range as shown in Table 1 was used as the non-magnetic support, and the film thickness of the masking layer was changed as shown in Table 1. A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1. The surface roughness of the formed masking layer is as shown in Table 1.

【0057】比較例6 非磁性支持体として中心線平均粗さRaが6nm,十点
平均粗さRzが56nm,最大高さRmaxが66nm
であるPETフィルムを用いるとともに、マスキング層
の非磁性微粒子として表2に示す種類であって粒子径が
所定範囲外の微粒子を用い、マスキング層の膜厚を表2
に示すように変えたこと以外は実施例1と同様にして磁
気テープを作製した。なお、形成されたマスキング層の
表面粗度は表2に示す通りである。
Comparative Example 6 As a non-magnetic support, the center line average roughness Ra is 6 nm, the ten-point average roughness Rz is 56 nm, and the maximum height Rmax is 66 nm.
In addition to the above-mentioned PET film, fine particles of the type shown in Table 2 having a particle diameter outside the predetermined range were used as the non-magnetic fine particles of the masking layer, and the thickness of the masking layer was changed to Table 2.
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the magnetic tape was changed as shown in FIG. The surface roughness of the formed masking layer is as shown in Table 2.

【0058】比較例7 非磁性支持体として中心線平均粗さRaが6nm,十点
平均粗さRzが56nm,最大高さRmaxが66nm
であるPETフィルムを用いるとともに、マスキング層
の非磁性微粒子として表2に示す種類であって粒子径が
所定範囲外の微粒子を用いるとともにマスキング層の膜
厚も表2に示すように所定範囲外に設定したこと以外は
実施例1と同様にして磁気テープを作製した。なお、形
成されたマスキング層の表面粗度は表2に示す通りであ
る。
Comparative Example 7 As a non-magnetic support, the center line average roughness Ra is 6 nm, the ten-point average roughness Rz is 56 nm, and the maximum height Rmax is 66 nm.
In addition to using the PET film as described above, as the non-magnetic fine particles of the masking layer, fine particles having a particle size outside the predetermined range shown in Table 2 are used and the film thickness of the masking layer is also outside the predetermined range as shown in Table 2. A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the setting was made. The surface roughness of the formed masking layer is as shown in Table 2.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】[0060]

【表2】 [Table 2]

【0061】以上のようにして作製された各磁気テープ
について、表面粗さ,シャトル耐久性,電磁変換特性の
測定を行った。
The surface roughness, shuttle durability, and electromagnetic conversion characteristics of the magnetic tapes manufactured as described above were measured.

【0062】なお、表面粗さは、小坂研究所社製,商品
名SE−30Hの表面粗度測定装置を用い、倍率500
00倍,測定長1mm,カットオフ値0.08mmの条
件で測定した。シャトル耐久性は、記録再生装置(ソニ
ー社製,商品名EV−S900改造機)を用いて、2時
間長の磁気テープを100回シャトル走行させて100
回走行後の出力レベルを測定し、初期の出力レベルを0
dBとして相対値換算することで評価した。
The surface roughness is 500 at a magnification of 500 using a surface roughness measuring device manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. under the trade name of SE-30H.
The measurement was performed under the conditions of 00 times, measurement length 1 mm, and cutoff value 0.08 mm. The shuttle durability is 100 by using a recording / reproducing apparatus (manufactured by Sony Corporation, trade name EV-S900 modified machine) to shuttle a magnetic tape of 2 hours long 100 times.
Measure the output level after running and set the initial output level to 0.
It was evaluated by converting relative values as dB.

【0063】電磁変換特性は、上記記録再生装置を用い
て、磁気テープに記録された波長0.54μm信号の出
力レベルを測定し、比較例1の出力値を0dBとして相
対値換算することで評価した。これら結果を表3に示
す。
The electromagnetic conversion characteristics were evaluated by measuring the output level of the wavelength 0.54 μm signal recorded on the magnetic tape using the recording / reproducing apparatus and converting the output value of Comparative Example 1 to 0 dB to convert it to a relative value. did. The results are shown in Table 3.

【0064】[0064]

【表3】 [Table 3]

【0065】まず、実施例1〜実施例11,比較例2〜
比較例7について非磁性支持体の表面粗度とマスキング
層の表面粗度を比較すると、いずれの場合にもマスキン
グ層の表面粗度の方が非磁性支持体の表面粗度よりも低
くなっている。このことから、非磁性支持体上にマスキ
ング層を形成することは、該非磁性支持体の凹凸をマス
キングし表面粗度の小さい支持体を得る上で有効である
ことがわかる。
First, Examples 1 to 11 and Comparative Examples 2 to 2
When the surface roughness of the non-magnetic support and the surface roughness of the masking layer are compared for Comparative Example 7, the surface roughness of the masking layer is lower than the surface roughness of the non-magnetic support in each case. There is. From this, it is understood that forming the masking layer on the non-magnetic support is effective in masking the irregularities of the non-magnetic support to obtain a support having a small surface roughness.

【0066】しかし、比較例2,比較例3,比較例7の
ようにマスキング層の厚さが薄過ぎたり、逆に厚過ぎた
りする場合、あるいは比較例3,比較例4のように非磁
性支持体の表面粗度が高過ぎる場合、さらには比較例
6,比較例7のようにマスキング層に内添する非磁性微
粒子の粒径が550nmと大き過ぎる場合には、マスキ
ング層の表面粗度が十分に小さくなっていない。このた
め、これら比較例1〜比較例7の磁気テープでは、シャ
トル走行後の出力値,電磁変換特性が、非磁性支持体の
表面粗度,マスキング層に内添する非磁性微粒子の粒
径,マスキング層の厚さが適正であり、マスキング層が
小さい表面粗度をもって形成されている実施例1〜実施
例11の磁気テープに比べて低くなっており、さらに許
容下限値ー3dBをも下回っている。
However, when the thickness of the masking layer is too thin as in Comparative Examples 2, 3, and 7, or is too thick on the contrary, or nonmagnetic as in Comparative Examples 3 and 4. When the surface roughness of the support is too high, or when the particle diameter of the non-magnetic fine particles internally added to the masking layer is too large as 550 nm as in Comparative Examples 6 and 7, the surface roughness of the masking layer is Is not small enough. Therefore, in the magnetic tapes of Comparative Examples 1 to 7, the output value after the shuttle running and the electromagnetic conversion characteristics were the surface roughness of the non-magnetic support, the particle size of the non-magnetic fine particles internally added to the masking layer, The thickness of the masking layer is appropriate, and the masking layer is lower than the magnetic tapes of Examples 1 to 11 in which the masking layer is formed with a small surface roughness, and is below the lower limit of tolerance -3 dB. There is.

【0067】以上のことから、マスキング層を形成する
ことによって、十分な電磁変換特性,耐久性を有する磁
気テープを得るには、非磁性支持体の表面粗度.マスキ
ング層に内添する非磁性微粒子の粒径,マスキング層の
厚さが適正であり、マスキング層が十分に小さい表面粗
度で形成されていること、すなわち非磁性支持体の中心
線平均粗さRaが5〜20nm,十点平均粗さRzが3
0〜450nm,最大高さRmaxが30〜450n
m、マスキング層に内添する非磁性微粒子の粒径が10
〜500nm、マスキング層の厚さが0.5〜4.0n
m、マスキング層の中心線平均粗さRaが10nm以
下、十点平均粗さRzが80nm以下、最大高さRma
xが150nm以下であることが必要なことがわかっ
た。
From the above, in order to obtain a magnetic tape having sufficient electromagnetic conversion characteristics and durability by forming a masking layer, the surface roughness of the non-magnetic support should be set as follows. The particle size of the non-magnetic particles internally added to the masking layer and the thickness of the masking layer are appropriate, and the masking layer is formed with a sufficiently small surface roughness, that is, the center line average roughness of the non-magnetic support. Ra of 5 to 20 nm and ten-point average roughness Rz of 3
0 to 450 nm, maximum height Rmax is 30 to 450 n
m, the particle size of the non-magnetic fine particles internally added to the masking layer is 10
~ 500 nm, the thickness of the masking layer is 0.5-4.0 n
m, the center line average roughness Ra of the masking layer is 10 nm or less, the ten-point average roughness Rz is 80 nm or less, and the maximum height Rma.
It was found that x needs to be 150 nm or less.

【0068】なお、比較例1の磁気テープは、シャトル
耐久性,電磁変換特性に優れているが、実施例1〜実施
例11の磁気テープに比べて粗度が低く,グレードの高
いPETフィルムを用いていることから製造コストがか
かる。
The magnetic tape of Comparative Example 1 was excellent in shuttle durability and electromagnetic conversion characteristics, but was lower in roughness than the magnetic tapes of Examples 1 to 11, and a PET film of high grade was used. Since it is used, manufacturing costs are high.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、金属薄膜型の磁気記録媒体の支持体として中心
線平均粗さRaが5〜20nm、十点平均粗さRzが3
0〜450nm、最大高さRmaxが30〜450nm
である非磁性支持体上に、中心線平均粗さRaが10n
m以下、十点平均粗さRzが80nm以下、最大高さR
maxが150nm以下、厚さが0.5〜4.0μmで
あるマスキング層が設けられてなるものを用いるので、
安価であるとともに金属磁性薄膜が良好な表面性で形成
されており、走行耐久性,電磁変換特性に優れ、磁気ヘ
ッドを偏摩耗させることのない磁気記録媒体を得ること
が可能である。
As is apparent from the above description, in the present invention, the center line average roughness Ra of 5 to 20 nm and the ten-point average roughness Rz of 3 are used as the support of the metal thin film type magnetic recording medium.
0-450nm, maximum height Rmax is 30-450nm
On the non-magnetic support having a center line average roughness Ra of 10 n
m or less, ten-point average roughness Rz is 80 nm or less, maximum height R
Since a masking layer having a max of 150 nm or less and a thickness of 0.5 to 4.0 μm is provided,
It is possible to obtain a magnetic recording medium that is inexpensive and has a metal magnetic thin film formed with good surface properties, is excellent in running durability and electromagnetic conversion characteristics, and does not cause uneven wear of the magnetic head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した磁気記録媒体の一構成例を示
す要部概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an essential part showing a structural example of a magnetic recording medium to which the present invention is applied.

【図2】支持体上に金属磁性薄膜を成膜するための蒸着
装置を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a vapor deposition device for forming a metal magnetic thin film on a support.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・磁気記録媒体用支持体 2・・・マスキング層 3・・・金属磁性薄膜 4・・・保護膜 5・・・バックコート層 1 ... Support for magnetic recording medium 2 ... Masking layer 3 ... Metal magnetic thin film 4 ... Protective film 5 ... Back coat layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中心線平均粗さRaが5〜20nm、十
点平均粗さRzが30〜450nm、最大高さRmax
が30〜450nmである非磁性支持体上に、中心線平
均粗さRaが10nm以下、十点平均粗さRzが80n
m以下、最大高さRmaxが150nm以下、厚さが
0.5〜4.0μmであるマスキング層が設けられてな
ることを特徴とする磁気記録媒体用支持体。
1. A center line average roughness Ra of 5 to 20 nm, a ten-point average roughness Rz of 30 to 450 nm, and a maximum height Rmax.
Of 30 to 450 nm on the non-magnetic support, center line average roughness Ra of 10 nm or less, and ten-point average roughness Rz of 80 n.
A support for a magnetic recording medium comprising a masking layer having a maximum height Rmax of 150 nm or less and a thickness of 0.5 to 4.0 μm.
【請求項2】 マスキング層が、粒径10〜500nm
の非磁性顔料を結合剤に分散させてなる層であることを
特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体用支持体。
2. The masking layer has a particle size of 10 to 500 nm.
The support for a magnetic recording medium according to claim 1, which is a layer in which the non-magnetic pigment of (1) is dispersed in a binder.
【請求項3】 請求項1記載の磁気記録媒体用支持体上
に、金属磁性薄膜が形成されてなることを特徴とする磁
気記録媒体。
3. A magnetic recording medium comprising the magnetic recording medium support according to claim 1 and a metal magnetic thin film formed thereon.
【請求項4】 請求項2記載の磁気記録媒体用支持体上
に、金属磁性薄膜が形成されてなることを特徴とする磁
気記録媒体。
4. A magnetic recording medium comprising a magnetic recording medium support according to claim 2 and a metal magnetic thin film formed on the support.
JP18118093A 1993-07-22 1993-07-22 Substrate of magnetic recording medium and magnetic recording medium Withdrawn JPH0737235A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18118093A JPH0737235A (en) 1993-07-22 1993-07-22 Substrate of magnetic recording medium and magnetic recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18118093A JPH0737235A (en) 1993-07-22 1993-07-22 Substrate of magnetic recording medium and magnetic recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0737235A true JPH0737235A (en) 1995-02-07

Family

ID=16096276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18118093A Withdrawn JPH0737235A (en) 1993-07-22 1993-07-22 Substrate of magnetic recording medium and magnetic recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0737235A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006221782A (en) Magnetic recording medium
JPH0737235A (en) Substrate of magnetic recording medium and magnetic recording medium
JPH08255332A (en) Base for magnetic recording medium and magnetic recording medium
JP2004335005A (en) Magnetic recording medium
JPH10188256A (en) Magnetic recording medium
JP2003346329A (en) Magnetic recording medium and its manufacturing method
JP2003123241A (en) Magnetic recording medium and method of manufacturing the same
JPH0963043A (en) Magnetic recording medium and its production
JP2002367150A (en) Metal thin film type magnetic recording medium
JPH09138929A (en) Magnetic recording medium
JPH0836750A (en) Manufacture of magnetic recording medium
JP2006134370A (en) Metallic thin film type magnetic recording medium
JPH09320044A (en) Magnetic recording medium and its manufacture
JPH0916959A (en) Manufacture of magnetic recording medium
JP2004310900A (en) Magnetic recording medium
JP2000048342A (en) Magnetic record medium
JP2005092940A (en) Magnetic recording medium
JPH10255263A (en) Magnetic recording medium
JPH10188279A (en) Production of magnetic recording medium and nonmagnetic base
JPH09176525A (en) Magnetic recording medium
JPH07235051A (en) Formation of protective film of magnetic recording medium
JPH08129741A (en) Magnetic recording medium
JPH09138932A (en) Magnetic recording medium
JPH09320046A (en) Magnetic recording medium
JP2003346327A (en) Metal thin-film type magnetic recording medium and its manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20001003