JPH0735405Y2 - Solid-state imaging device - Google Patents

Solid-state imaging device

Info

Publication number
JPH0735405Y2
JPH0735405Y2 JP1989058428U JP5842889U JPH0735405Y2 JP H0735405 Y2 JPH0735405 Y2 JP H0735405Y2 JP 1989058428 U JP1989058428 U JP 1989058428U JP 5842889 U JP5842889 U JP 5842889U JP H0735405 Y2 JPH0735405 Y2 JP H0735405Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
input
gate
signal
shift register
solid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1989058428U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH031450U (en
Inventor
正秀 平間
忠邦 奈良部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP1989058428U priority Critical patent/JPH0735405Y2/en
Publication of JPH031450U publication Critical patent/JPH031450U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0735405Y2 publication Critical patent/JPH0735405Y2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、受光部からの信号電荷を電荷転送レジスタに
よって転送して読み出しを行う固体撮像装置に関するも
のであり、特に特性測定用の信号入力部を有した固体撮
像装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a solid-state image pickup device for transferring and reading out a signal charge from a light receiving section by a charge transfer register, and particularly to a signal input for characteristic measurement. The present invention relates to a solid-state imaging device having a unit.

〔考案の概要〕 本考案は、一列またはマトリクス状に配された受光部か
らの電荷を転送する電荷転送レジスタを有し、この電荷
転送レジスタに特性測定用の信号入力部が設けられた固
体撮像装置において、その信号入力部の入力端子と電源
の間に高抵抗素子を設けることにより、上記信号入力部
の入力端子が不使用とされる時に、その入力端子がフロ
ーティング状態となるのを防止し、さらには上記信号入
力部の入力端子のボンディング作業等を省略させるもの
である。
[Outline of the Invention] The present invention has a charge transfer register for transferring charges from light receiving portions arranged in a line or a matrix, and the charge transfer register is provided with a signal input portion for characteristic measurement. In the device, by providing a high resistance element between the input terminal of the signal input section and the power supply, it is possible to prevent the input terminal from floating when the input terminal of the signal input section is not used. Furthermore, the bonding work of the input terminal of the signal input section is omitted.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

通常、CCDイメージセンサは電荷の転送を行うためのシ
フトレジスタを有しており、そのシフトレジスタには転
送効率等を評価するための特性測定用の信号入力部が設
けられるものがある。
Usually, a CCD image sensor has a shift register for transferring charges, and some of the shift registers are provided with a signal input section for measuring characteristics for evaluating transfer efficiency and the like.

第4図は従来のCCDイメージセンサのブロック図であ
る。第4図に示すように、各画素に対応して一列に配さ
れる複数のフォトダイオード101の列に沿ってシフトレ
ジスタ102が配されている。
FIG. 4 is a block diagram of a conventional CCD image sensor. As shown in FIG. 4, a shift register 102 is arranged along a row of a plurality of photodiodes 101 arranged in a row corresponding to each pixel.

そして、シフトレジスタ102の一方の側には出力バッフ
ァ103が配線され、シフトレジスタ102によって転送され
る信号はこの出力バッファ103を介して外部に出力され
る。
An output buffer 103 is wired on one side of the shift register 102, and the signal transferred by the shift register 102 is output to the outside via the output buffer 103.

また、シフトレジスタ102の出力バッファ103が接続され
た逆側に特性測定用の信号入力部が設けられる。この信
号入力部は入力ソース104と入力ゲート105から構成され
る。入力ゲート105はシフトレジスタ102と並列な位置に
設けられ、その入力ゲート105のシフトレジスタ102とは
反対側に該入力ゲート105と隣接して入力ソース104が設
けられる。
Further, a signal input section for measuring characteristics is provided on the opposite side of the shift register 102 to which the output buffer 103 is connected. This signal input section is composed of an input source 104 and an input gate 105. The input gate 105 is provided in a position parallel to the shift register 102, and an input source 104 is provided adjacent to the input gate 105 on the opposite side of the input gate 105 from the shift register 102.

さらに、入力ソース104及び入力ゲート105はそれぞれ入
力端子106,107に接続される。この入力端子106及び入力
端子107は、ユーザーに納品する前にシフトレジスタの
電荷転送特性を測定するための端子であり、特性を検査
する時は、各端子に所要の測定用の信号が与えられる。
そして、実際に機器等に組み込まれて使用する場合に
は、不使用とされる。
Further, the input source 104 and the input gate 105 are connected to the input terminals 106 and 107, respectively. The input terminal 106 and the input terminal 107 are terminals for measuring the charge transfer characteristics of the shift register before delivery to the user, and when inspecting the characteristics, a required measurement signal is applied to each terminal. .
When it is actually installed in a device or the like and used, it is not used.

〔考案が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the device]

ところが、第4図のような特性測定用の信号入力部を有
する固体撮像装置では、入力ソース104,入力ゲート105
のそれぞれの入力端子106,107が不使用とされる時に、
当該入力端子106,107がフローティング状態になり、出
力バッファ103に偽信号が現れる。そこで、ユーザーは
入力端子のフローティング状態を防止するために、機器
にセットした状態で、入力端子に外部から一定電圧を印
加する必要がある。
However, in the solid-state imaging device having the signal input section for characteristic measurement as shown in FIG. 4, the input source 104, the input gate 105
When the respective input terminals 106 and 107 of
The input terminals 106 and 107 are in a floating state, and a false signal appears in the output buffer 103. Therefore, in order to prevent the floating state of the input terminal, the user needs to apply a constant voltage from the outside to the input terminal with the device set to the device.

しかしながら、外部から一定電圧を印加するためには、
上記入力端子106,107をボンディングしておく必要があ
り、入力端子をボンディングすることにより、製品のコ
ストが増大する。
However, in order to apply a constant voltage from the outside,
It is necessary to bond the input terminals 106 and 107 in advance, and bonding the input terminals increases the cost of the product.

そこで、本考案は上述の技術的な課題に鑑み、特性測定
時のみ使用される特性測定用の信号入力部を有する固体
撮像装置において、機器等に組み込んだ後で上記特性測
定用の信号入力部がフローティング状態とされるのを防
止し、ひいては、ボンディング作業等の省略を図るよう
な固体撮像装置を提供することを目的とする。
In view of the above technical problems, the present invention is directed to a solid-state imaging device having a characteristic measuring signal input section that is used only during characteristic measurement. It is an object of the present invention to provide a solid-state image pickup device that prevents the floating state of the device from being brought into a floating state, and thus omits the bonding work and the like.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

上述の目的を達成するために、本考案の固体撮像装置
は、一列またはマトリクス状に配された複数の受光部
と、その受光部からの電荷を転送する電荷転送レジスタ
を有し、その電荷転送レジスタに特性測定用の信号入力
部が設けられた固体撮像装置において、上記信号入力部
が入力端子と接続されると共に高抵抗素子を介して所要
の電源に接続されることを特徴とする。ここで、高抵抗
素子としては、ポリシリコン抵抗,拡散抵抗及びMOS抵
抗等が使用可能となる。また、上記所要の電源は電源電
圧や接地電圧などの電圧を有した電源であり、内部的に
得られる電源とされる。
In order to achieve the above-mentioned object, the solid-state imaging device of the present invention has a plurality of light receiving portions arranged in a line or a matrix, and a charge transfer register for transferring charges from the light receiving portions. In a solid-state image pickup device in which a register is provided with a signal input section for characteristic measurement, the signal input section is connected to an input terminal and is connected to a required power source through a high resistance element. Here, as the high resistance element, a polysilicon resistance, a diffusion resistance, a MOS resistance or the like can be used. Further, the required power supply is a power supply having a voltage such as a power supply voltage or a ground voltage, and is a power supply obtained internally.

〔作用〕[Action]

本考案の固体撮像装置は、特性測定用の信号入力部の入
力端子が高抵抗素子を介して所要の電源に接続される。
これにより、この入力端子が不使用とされる時、入力端
子の電圧は所要の電源の電圧と等しくなり、入力端子の
フローティング状態が回避される。
In the solid-state imaging device of the present invention, the input terminal of the signal input unit for characteristic measurement is connected to the required power source through the high resistance element.
As a result, when this input terminal is not used, the voltage of the input terminal becomes equal to the voltage of the required power supply, and the floating state of the input terminal is avoided.

〔実施例〕〔Example〕

本考案の好適な実施例を図面を参照しながら説明する。 A preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第一の実施例 本実施例は、CCDリニアセンサの例である。第1図にリ
ニアセンサの回路図を示す。複数のフォトダイオード1
が一列に配列され、一対のシフトレジスタ3,3がフォト
ダイオード1に沿って該フォトダイオード1の列の両側
に設けられる。各フォトダイオード1と一対のシフトレ
ジスタ3,3との間には、各フォトダイオード1に蓄積さ
れ、それぞれシフトレジスタ3,3へ転送される光信号電
荷の転送を制御するための転送ゲート2,2がフォトダイ
オード1の列に沿ってそれぞれ配置される。
First Embodiment This embodiment is an example of a CCD linear sensor. FIG. 1 shows a circuit diagram of the linear sensor. Multiple photodiodes 1
Are arranged in a row, and a pair of shift registers 3, 3 are provided along the photodiode 1 on both sides of the row of the photodiode 1. Between each photodiode 1 and the pair of shift registers 3, 3, a transfer gate 2, for controlling transfer of optical signal charges accumulated in each photodiode 1 and transferred to the shift registers 3, 3, respectively. 2 are arranged along the row of the photodiodes 1, respectively.

そして、シフトレジスタ3の終端部に出力バッファ4の
入力部が接続される。このシフトレジスタ3によって転
送される信号電荷はこの出力バッファ4を介して外部に
出力信号として出力される。
Then, the input section of the output buffer 4 is connected to the terminal section of the shift register 3. The signal charge transferred by the shift register 3 is output as an output signal to the outside through the output buffer 4.

また、シフトレジスタ3,3の出力バッファ4と反対側の
シフトレジスタ3,3の基端側には特性測定用の信号入力
部が設けられる。この信号入力部は入力ソース5と入力
ゲート6から構成される。この入力ゲート6はシフトレ
ジスタ3と並んで隣接した位置に設けられ、その入力ゲ
ート6のシフトレジスタ3とは反対側に入力ゲート6と
隣接して入力ソース5が設けられる。
Further, a signal input section for characteristic measurement is provided on the base end side of the shift registers 3, 3 on the side opposite to the output buffer 4 of the shift registers 3, 3. This signal input section is composed of an input source 5 and an input gate 6. The input gate 6 is provided in a position adjacent to the shift register 3 side by side, and the input source 5 is provided adjacent to the input gate 6 on the opposite side of the input gate 6 from the shift register 3.

さらに、入力ソース5はパッド部である入力端子7と接
続されると共に高抵抗素子9を介して電源線11に接続さ
れる。入力ゲート6は同様にパッド部である入力端子8
と接続されると共に高抵抗素子10を介して接地線12に接
続される。
Further, the input source 5 is connected to the input terminal 7 which is a pad portion and is connected to the power supply line 11 via the high resistance element 9. The input gate 6 is also an input terminal 8 which is a pad section.
It is also connected to the ground line 12 via the high resistance element 10.

また、第2図は、本実施例のリニアセンサの断面図であ
る。半導体基板の表面にはp型のウェル領域21に囲まれ
て入力ソースとして機能するn型の不純物拡散領域22が
形成され、そのn型の不純物拡散領域22に隣接した位置
のp型のウェル領域21上にはゲート絶縁膜24を介して入
力ゲートとして機能するゲート電極層23が形成される。
n型の不純物拡散領域22とゲート電極層23は後述するよ
うに特性測定用の信号入力部として機能する。すなわ
ち、n型の不純物拡散領域22は入力端子7と接続される
と共に高抵抗素子9を介して電源線11に接続される。ま
た、ゲート電極層23は入力端子8に接続されると共に同
じように高抵抗素子10を介して接地線12に接続される。
FIG. 2 is a sectional view of the linear sensor of this embodiment. An n-type impurity diffusion region 22 that functions as an input source is formed on the surface of the semiconductor substrate, surrounded by a p-type well region 21, and the p-type well region is located adjacent to the n-type impurity diffusion region 22. A gate electrode layer 23 functioning as an input gate is formed on the gate insulating film 24.
The n-type impurity diffusion region 22 and the gate electrode layer 23 function as a signal input portion for characteristic measurement as described later. That is, the n-type impurity diffusion region 22 is connected to the input terminal 7 and the power supply line 11 via the high resistance element 9. Further, the gate electrode layer 23 is connected to the input terminal 8 and also connected to the ground line 12 via the high resistance element 10 in the same manner.

また、上記ゲート電極層23に隣接してp型のウェル領域
21上のゲート絶縁膜24上にパターニングにより第一層目
のポリシリコン層31,33と第二層目のポリシリコン層30,
32が形成される。これらのポリシリコン層30〜33は転送
電極として機能する。上記ポリシリコン層30,31には信
号Φが供給され、上記ポリシリコン層32,33には信号
Φが供給されて、転送電極は二相駆動される。
In addition, the p-type well region is adjacent to the gate electrode layer 23.
By patterning on the gate insulating film 24 on 21, the first-layer polysilicon layers 31, 33 and the second-layer polysilicon layers 30,
32 is formed. These polysilicon layers 30 to 33 function as transfer electrodes. The above polysilicon layer 30, 31 signal [Phi A is supplied to the above polysilicon layers 32 and 33 with the signal [Phi B is supplied, the transfer electrodes are driven two-phase.

このような構造を有する本実施例のCCDリニアセンサに
おいて、上記入力端子7,8は製造過程でシフトレジスタ
の電荷転送特性を測定するための端子である。従って、
特性を検査する時は、各端子に所要の測定用の信号が与
えられる。そして、実際に機器等に組み込まれて使用す
る場合には、入力端子7,8は使用されない。
In the CCD linear sensor of this embodiment having such a structure, the input terminals 7 and 8 are terminals for measuring the charge transfer characteristics of the shift register in the manufacturing process. Therefore,
When inspecting the characteristics, each terminal is provided with the required measurement signal. The input terminals 7 and 8 are not used when actually used by being incorporated in a device or the like.

また、実際に機器等に組み込まれて使用する場合では、
入力ソース5と電源線11の間に高抵抗素子9が設けられ
ているために、入力ソース5の電位は電源電圧VDDと等
しくなる。一方、入力ゲート6と接地線12の間に高抵抗
素子10が設けられているために、入力ゲート6の電位は
接地電圧と等しくなる。従って、入力ソース5及び入力
入力ゲート6は各々所要の電圧に固定されるのでフロー
ティング状態が回避されることになる。
Also, in the case of actually incorporating it into equipment etc.,
Since the high resistance element 9 is provided between the input source 5 and the power supply line 11, the potential of the input source 5 becomes equal to the power supply voltage V DD . On the other hand, since the high resistance element 10 is provided between the input gate 6 and the ground line 12, the potential of the input gate 6 becomes equal to the ground voltage. Therefore, the input source 5 and the input input gate 6 are each fixed to a required voltage, so that the floating state is avoided.

さらに、このような入力ソース5,入力ゲート6の電位が
固定されるため、ユーザー側でこの入力端子に外部から
なる一定電圧を印加することが不要になる。このため、
信号入力部の入力端子をボンディングすることが不要に
なり、生産コストの低減がなされる。
Further, since the potentials of the input source 5 and the input gate 6 are fixed, it becomes unnecessary for the user to apply a constant voltage from the outside to this input terminal. For this reason,
It is not necessary to bond the input terminals of the signal input section, and the production cost is reduced.

第二の実施例 本実施例は、CCDエリアセンサの例であり、第3図はエ
リアセンサの回路図を示したものである。各画素に対応
してマトリクス状に配される複数のフォトダイオード41
の列に沿って垂直シフトレジスタ43が配されている。各
フォトダイオード41と垂直シフトレジスタ43との間に
は、フォトダイオード41に蓄積され、垂直シフトレジス
タ43へ転送される電荷の転送を制御するための転送ゲー
ト42が配置される。そして、垂直シフトレジスタ43と電
気的に結合する水平シフトレジスタ53が設けられる。こ
の水平シフトレジスタ53の終端部に出力バッファ44が接
続され、水平シフトレジスタ53によって転送された信号
はこの出力バッファ44を介して外部に出力される。
Second Embodiment This embodiment is an example of a CCD area sensor, and FIG. 3 is a circuit diagram of the area sensor. A plurality of photodiodes 41 arranged in a matrix corresponding to each pixel 41
Vertical shift registers 43 are arranged along the columns. A transfer gate 42 for controlling transfer of charges accumulated in the photodiode 41 and transferred to the vertical shift register 43 is arranged between each photodiode 41 and the vertical shift register 43. Then, a horizontal shift register 53 electrically connected to the vertical shift register 43 is provided. The output buffer 44 is connected to the end of the horizontal shift register 53, and the signal transferred by the horizontal shift register 53 is output to the outside via the output buffer 44.

また、水平シフトレジスタ53の出力バッファ44が接続さ
れた側と反対側の端部に特性測定用の信号入力部が設け
られる。この信号入力部は入力ソース45と入力ゲート46
から構成される。この入力ゲート46は水平シフトレジス
タ53と並列な位置に設けられ、その入力ゲート46の水平
シフトレジスタ53とは反対側に入力ゲート46と隣接して
入力ソース45が設けられる。
Further, a signal input section for characteristic measurement is provided at the end of the horizontal shift register 53 opposite to the side to which the output buffer 44 is connected. This signal input section has an input source 45 and an input gate 46.
Composed of. The input gate 46 is provided in a position parallel to the horizontal shift register 53, and an input source 45 is provided adjacent to the input gate 46 on the side of the input gate 46 opposite to the horizontal shift register 53.

さらに、入力ソース45はパッド部である入力端子47に接
続されると共に高抵抗素子49を介して電源線51に接続さ
れる。入力ゲート46はパッド部である入力端子48に接続
されると共に高抵抗素子50を介して接地線52に接続され
る。
Further, the input source 45 is connected to the input terminal 47, which is a pad portion, and is connected to the power supply line 51 via the high resistance element 49. The input gate 46 is connected to the input terminal 48, which is a pad portion, and is also connected to the ground line 52 via the high resistance element 50.

このような構造を有する本実施例のCCDエリアセンサで
は、上記入力端子47,48が製造過程でシフトレジスタの
電荷転送特性を測定するための端子であり、特性を検査
する時は、各端子に所要の測定用の信号が与えられる。
In the CCD area sensor of the present embodiment having such a structure, the input terminals 47 and 48 are terminals for measuring the charge transfer characteristics of the shift register in the manufacturing process, and when inspecting the characteristics, each terminal is The signal for the required measurement is provided.

また、実際に機器等に組み込まれた場合では、各入力端
子47,48は使用されず、入力ソース45は高抵抗素子49を
介して電源線51の電圧と等しくされ、入力ゲート46は高
抵抗素子50を介して接地線52の電圧と等しくされる。従
って、入力ソース45及び入力ゲート46には各々定電圧が
印加されるので、フローティング状態が回避され、出力
部に偽信号が現れるような弊害を防止できる。
Further, when actually incorporated in a device or the like, the input terminals 47 and 48 are not used, the input source 45 is made equal to the voltage of the power supply line 51 through the high resistance element 49, and the input gate 46 has a high resistance. It is made equal to the voltage of the ground line 52 through the element 50. Therefore, since a constant voltage is applied to each of the input source 45 and the input gate 46, the floating state is avoided, and the adverse effect that a false signal appears at the output section can be prevented.

また、上記入力端子47,48のボンディング作業は不要で
あり、生産コストの低減がなされる。
Further, the bonding work of the input terminals 47 and 48 is unnecessary, and the production cost is reduced.

なお、本考案にかかる固体撮像装置は、本考案の要旨か
ら逸脱しないかぎり変更を加えても良い。
The solid-state imaging device according to the present invention may be modified without departing from the gist of the present invention.

〔考案の効果〕[Effect of device]

本考案の固定撮像装置は、特性測定用の信号入力部を有
し、その信号入力部の入力端子に高抵抗素子を介して所
要の電源を接続するため、信号入力部が不使用とされる
時に信号入力部がフローティング状態とされて出力部に
偽信号が現れるのが防止される。また、信号入力部の入
力端子のボンディング作業等を省略することができるの
で、生産コストが低減される。
The fixed image pickup device of the present invention has a signal input unit for measuring characteristics, and the required power source is connected to the input terminal of the signal input unit via a high resistance element, so that the signal input unit is not used. At times, the signal input section is set in a floating state to prevent a false signal from appearing at the output section. Moreover, since the bonding work of the input terminal of the signal input unit can be omitted, the production cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本考案の固体撮像装置の第一の実施例の構造を
示すブロック図であり、第2図はその第一の実施例の固
体撮像装置の断面図であり、第3図は本考案の固体撮像
装置の第二の実施例の構造を示すブロック図である。 第4図は従来の固体撮像装置の一例の構造を示すブロッ
ク図である。 1,41……フォトダイオード 2,42……転送ゲート 3,43,53……シフトレジスタ 4,44……出力バッファ 5,45……入力ソース 6,46……入力ゲート 7,8,47,48……信号入力部の入力端子 9,10,49,50……高抵抗素子 11,51……電源線 12,52……接地線 21……p型のウェル領域 22……n型の不純物拡散領域 23……ゲート電極層 24……ゲート絶縁膜 30,32……第二層目のポリシリコン層 31,33……第一層目のポリシリコン層
FIG. 1 is a block diagram showing the structure of the first embodiment of the solid-state image pickup device of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of the solid-state image pickup device of the first embodiment, and FIG. It is a block diagram which shows the structure of 2nd Example of the solid-state imaging device of a device. FIG. 4 is a block diagram showing the structure of an example of a conventional solid-state imaging device. 1,41 …… photodiode 2,42 …… transfer gate 3,43,53 …… shift register 4,44 …… output buffer 5,45 …… input source 6,46 …… input gate 7,8,47, 48 …… Input terminal of signal input part 9,10,49,50 …… High resistance element 11,51 …… Power supply line 12,52 …… Grounding wire 21 …… P-type well region 22 …… N-type impurity Diffusion region 23 …… Gate electrode layer 24 …… Gate insulating film 30,32 …… Second layer polysilicon layer 31,33 …… First layer polysilicon layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 29/762 H04N 5/335 F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 29/762 H04N 5/335 F

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】一列またはマトリクス状に配された複数の
受光部と、その受光部からの電荷を転送する電荷転送レ
ジスタを有し、その電荷転送レジスタに特性測定用の信
号入力部が設けられた固体撮像装置において、 上記信号入力部が入力端子と接続されると共に高抵抗素
子を介して所要の電源に接続されることを特徴とする固
体撮像装置。
1. A plurality of light receiving portions arranged in a line or in a matrix and a charge transfer register for transferring charges from the light receiving portions, and the charge transfer register is provided with a signal input portion for characteristic measurement. In the solid-state imaging device, the signal input section is connected to an input terminal and is connected to a required power source through a high resistance element.
JP1989058428U 1989-05-20 1989-05-20 Solid-state imaging device Expired - Lifetime JPH0735405Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989058428U JPH0735405Y2 (en) 1989-05-20 1989-05-20 Solid-state imaging device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1989058428U JPH0735405Y2 (en) 1989-05-20 1989-05-20 Solid-state imaging device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH031450U JPH031450U (en) 1991-01-09
JPH0735405Y2 true JPH0735405Y2 (en) 1995-08-09

Family

ID=31584027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1989058428U Expired - Lifetime JPH0735405Y2 (en) 1989-05-20 1989-05-20 Solid-state imaging device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0735405Y2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH031450U (en) 1991-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6555842B1 (en) Active pixel sensor with intra-pixel charge transfer
US8890989B2 (en) Solid-state imaging device and method of manufacturing the same
US5336879A (en) Pixel array having image forming pixel elements integral with peripheral circuit elements
TWI413241B (en) Solid-state imaging device
KR830006824A (en) Solid state imaging device
JP3320335B2 (en) Photoelectric conversion device and contact image sensor
JPH0735405Y2 (en) Solid-state imaging device
US5115293A (en) Solid-state imaging device
JP3424360B2 (en) Solid-state imaging device
JP4571627B2 (en) Image sensor with bonded linear array
JP3270874B2 (en) Linear sensor
JPS62206878A (en) Solid-state image pickup element
JPH11195779A (en) Color linear image sensor and method for driving the same
JPH06104418A (en) Solid-state image sensing device
JPH08153865A (en) Infrared solid-state image pickup element
JPH06260630A (en) Solid-state image pickup device
JPH06303527A (en) Charge coupled device
JPH04283965A (en) Solid-state image pickup element
JP2000223689A (en) Solid state image sensor
JPH06339084A (en) Solid-state image pickup element
JPH0760895B2 (en) Charge coupled device and driving method thereof
JPH02254854A (en) In-line image sensor
JPS6088568U (en) Infrared detection solid-state image sensor
JPH0442545A (en) Signal output circuit of electric charge transferring element
JPH021978A (en) Solid-state image sensing device

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term