JPH073424A - セラミックス基複合溶射材と製造方法 - Google Patents
セラミックス基複合溶射材と製造方法Info
- Publication number
- JPH073424A JPH073424A JP5011466A JP1146693A JPH073424A JP H073424 A JPH073424 A JP H073424A JP 5011466 A JP5011466 A JP 5011466A JP 1146693 A JP1146693 A JP 1146693A JP H073424 A JPH073424 A JP H073424A
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- ceramic
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- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 収率が高く金属被覆層の密着強さの高いセラ
ミックス基複合溶射材と製造方法を提供する。 【構成】 本発明はセラミックス粒子の表面に金属類の
被覆層を施してなるセラミックス基複合溶射材におい
て、セラミックスと金属類との接触部が互に入り組んだ
機械的結合構造と、化学反応層とで構成されていること
を特徴とするセラミックス基複合溶射材であり、さらに
本発明はセラミックス粒子と金属類とに打撃を加えてセ
ラミックス基複合溶射材を製造方法する場合において、
被処理粉体に対し、加熱器によって熱を加えながら処理
することを特徴とするセラミックス基複合溶射材の製造
方法である。
ミックス基複合溶射材と製造方法を提供する。 【構成】 本発明はセラミックス粒子の表面に金属類の
被覆層を施してなるセラミックス基複合溶射材におい
て、セラミックスと金属類との接触部が互に入り組んだ
機械的結合構造と、化学反応層とで構成されていること
を特徴とするセラミックス基複合溶射材であり、さらに
本発明はセラミックス粒子と金属類とに打撃を加えてセ
ラミックス基複合溶射材を製造方法する場合において、
被処理粉体に対し、加熱器によって熱を加えながら処理
することを特徴とするセラミックス基複合溶射材の製造
方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は主成分をセラミックスと
し、副成分を金属類（金属又は金属化合物又はそれらの
混合物）として、主成分であるセラミックスを副成分で
ある金属類で被覆した、セラミックス基複合溶射材と製
造方法に関する。
し、副成分を金属類（金属又は金属化合物又はそれらの
混合物）として、主成分であるセラミックスを副成分で
ある金属類で被覆した、セラミックス基複合溶射材と製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】粉体の表面を他の材料で被覆して、その
粉体の表面を改質する技術として高速気流中衝撃法があ
る。この方法は乾式の機械的処理によって、主成分の粉
体に副成分を被覆して複合化する方法であり、図９に示
すように主成分としてセラミックス２を用い、これを副
成分である金属類３によって被覆した構造のセラミック
ス基複合溶射材１としている。このセラミックス基複合
溶射材１は、図１０に示すように、予めセラミックス２
ａに金属類３ａを混合してセラミックス２ａの表面に金
属類３ａを付着させたオーダードミクスチャー粉１ａを
作り、これを図１１及び図１２に示すような装置により
処理している。図において、５は高速で回転するロータ
ー、６はローター５の外周に間隔を置いて周設された打
撃用の複数のブレード、７はローター５を囲むケース本
体、８はローター５とケース本体７との間の空間に設け
られた処理室、９は処理室８の一部に開口し、ローター
５の中心付近に開口する循環回路、１０は材料である粉
体の投入口、１１は投入口１０を循環回路９の末端付近
に連絡する送入路、１２は処理された粉体の排出口であ
る。この装置の投入口１０からオーダードミクスチャー
粉１ａを投入し、高速回転するローター５のブレード６
によって機械的衝撃を加える。循環回路９によって粉体
は循環し、繰返して衝撃が加えられる。これによってセ
ラミックス２ａの表面に金属類３ａが打込まれ、両者が
多少変形して図９に示すようなセラミックス基複合溶射
材１がえられる。
粉体の表面を改質する技術として高速気流中衝撃法があ
る。この方法は乾式の機械的処理によって、主成分の粉
体に副成分を被覆して複合化する方法であり、図９に示
すように主成分としてセラミックス２を用い、これを副
成分である金属類３によって被覆した構造のセラミック
ス基複合溶射材１としている。このセラミックス基複合
溶射材１は、図１０に示すように、予めセラミックス２
ａに金属類３ａを混合してセラミックス２ａの表面に金
属類３ａを付着させたオーダードミクスチャー粉１ａを
作り、これを図１１及び図１２に示すような装置により
処理している。図において、５は高速で回転するロータ
ー、６はローター５の外周に間隔を置いて周設された打
撃用の複数のブレード、７はローター５を囲むケース本
体、８はローター５とケース本体７との間の空間に設け
られた処理室、９は処理室８の一部に開口し、ローター
５の中心付近に開口する循環回路、１０は材料である粉
体の投入口、１１は投入口１０を循環回路９の末端付近
に連絡する送入路、１２は処理された粉体の排出口であ
る。この装置の投入口１０からオーダードミクスチャー
粉１ａを投入し、高速回転するローター５のブレード６
によって機械的衝撃を加える。循環回路９によって粉体
は循環し、繰返して衝撃が加えられる。これによってセ
ラミックス２ａの表面に金属類３ａが打込まれ、両者が
多少変形して図９に示すようなセラミックス基複合溶射
材１がえられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようにして作られ
たセラミックス基複合溶射材は、樹脂や金属と異なって
塑性変形の少ないセラミックスを主成分とするため、前
記装置のローターによる衝撃力が不足すると、金属類３
ａを打込んだ後のセラミックス２ａによる金属類３ａの
保持が不完全となって、複合化率の低下や処理時間が長
くかかるという問題点がある。一方、ローターの衝撃力
が過度であると、金属類３ａを打込んだ後のセラミック
ス２ａによる保持は完全となるが、セラミックス２ａの
破砕を誘引し、複合化率の低下を招く。そして主成分の
セラミックスに対する副成分の金属類３ａの配合比が低
くなると、複合化の程度にバラツキが生ずるという問題
点がある。本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、
前記問題点を解消したセラミックス基複合溶射材と製造
方法を提供することを目的とする。
たセラミックス基複合溶射材は、樹脂や金属と異なって
塑性変形の少ないセラミックスを主成分とするため、前
記装置のローターによる衝撃力が不足すると、金属類３
ａを打込んだ後のセラミックス２ａによる金属類３ａの
保持が不完全となって、複合化率の低下や処理時間が長
くかかるという問題点がある。一方、ローターの衝撃力
が過度であると、金属類３ａを打込んだ後のセラミック
ス２ａによる保持は完全となるが、セラミックス２ａの
破砕を誘引し、複合化率の低下を招く。そして主成分の
セラミックスに対する副成分の金属類３ａの配合比が低
くなると、複合化の程度にバラツキが生ずるという問題
点がある。本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、
前記問題点を解消したセラミックス基複合溶射材と製造
方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記目的に添い、本発明
はセラミックス粒子の表面に金属類の被覆層を施してな
るセラミックス基複合溶射材において、セラミックスと
金属類との接触部が互に入り組んだ機械的結合構造と、
化学反応層とで構成されているセラミックス基複合溶射
材とすることによって、前記課題を解消した。また、本
発明は、セラミックス粒子と金属類とに打撃を加えてセ
ラミックス基複合溶射材を製造する場合において、被処
理粉体に対し、加熱器によって熱を加えながら処理する
ことによって、前記課題を解消した。
はセラミックス粒子の表面に金属類の被覆層を施してな
るセラミックス基複合溶射材において、セラミックスと
金属類との接触部が互に入り組んだ機械的結合構造と、
化学反応層とで構成されているセラミックス基複合溶射
材とすることによって、前記課題を解消した。また、本
発明は、セラミックス粒子と金属類とに打撃を加えてセ
ラミックス基複合溶射材を製造する場合において、被処
理粉体に対し、加熱器によって熱を加えながら処理する
ことによって、前記課題を解消した。
【０００５】
【作用】本発明に係るセラミックス基複合溶射材によっ
て密着強さの高い溶射皮膜がえられる。また本発明に係
る製造方法によってセラミックスと金属類とが機械的結
合と化学反応による結合層とによって強固に結合した複
合溶射材となる。
て密着強さの高い溶射皮膜がえられる。また本発明に係
る製造方法によってセラミックスと金属類とが機械的結
合と化学反応による結合層とによって強固に結合した複
合溶射材となる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の製造に用いる装置を概念的に
示したもので、前記従来の技術で説明した装置と同様な
構造と機能をもつ回転ローター２５、ブレード２６、ケ
ース本体２７、処理室２８、循環回路２９、材料の投入
口３０、送入路３１、排出口３２を備えている。３５は
循環回路２９に設けた加熱器で、該加熱器３５によって
循環回路２９を通過する粉体を加熱する。３６はケース
本体２７に設けられた冷却用の水冷ジャケット、３７は
排出口３２を開閉する開閉バルブである。この装置を用
い、セラミックス２ａと金属類３ａとからなる乾式混合
粉末を投入口３０から、この装置に供給する。この混合
粉末は、高速回転するローター２５のブレード２６に衝
突して衝撃が加えられるとともに、循環回路２９を通過
し、通過の際に加熱器３５によって加熱される。このよ
うにして混合粉末に対して衝撃と加熱が繰り返される。
なお水冷ジャケット３６によって処理室２８内部は一定
温度内に保持される。一定時間処理後、開閉バルブ３７
を破線で示す位置まで移動させて排出口３２を開き、処
理済のセラミックス基複合溶射材を取り出せばよい。
示したもので、前記従来の技術で説明した装置と同様な
構造と機能をもつ回転ローター２５、ブレード２６、ケ
ース本体２７、処理室２８、循環回路２９、材料の投入
口３０、送入路３１、排出口３２を備えている。３５は
循環回路２９に設けた加熱器で、該加熱器３５によって
循環回路２９を通過する粉体を加熱する。３６はケース
本体２７に設けられた冷却用の水冷ジャケット、３７は
排出口３２を開閉する開閉バルブである。この装置を用
い、セラミックス２ａと金属類３ａとからなる乾式混合
粉末を投入口３０から、この装置に供給する。この混合
粉末は、高速回転するローター２５のブレード２６に衝
突して衝撃が加えられるとともに、循環回路２９を通過
し、通過の際に加熱器３５によって加熱される。このよ
うにして混合粉末に対して衝撃と加熱が繰り返される。
なお水冷ジャケット３６によって処理室２８内部は一定
温度内に保持される。一定時間処理後、開閉バルブ３７
を破線で示す位置まで移動させて排出口３２を開き、処
理済のセラミックス基複合溶射材を取り出せばよい。
【０００７】このようにして処理された粉体は、図２に
示すようなセラミックス４２と、これを被覆する金属類
４３とからなるセラミックス基複合溶射材４１がえられ
る。その拡大断面（Ｅ部分）は、図３に示すようにセラ
ミックス４２と金属類４３が接触する界面近傍には微細
な凹凸部４４が形成されている。これはセラミックス４
２が脆弱な性質であるため、通常、粉砕や焼結等の粉末
の製造工程中にセラミックスの表面に形成されるマイク
ロクラックやオープンポアと呼ばれるもので、この凹凸
部４４に延性の金属類４３が混合・衝突によって入り込
み、同時にセラミックス４２も衝撃により僅かな変形を
繰り返すことによって凹凸部４４に入り込んだ金属類４
３がアンカーの役割を果してセラミックス４２と金属類
４３とが結合した状態となる。そして、循環回路２９に
おける加熱器３５による加熱によって、この凹凸部４４
の一部にセラミックスと金属類との化学結合層が形成さ
れる。この化学結合のため、衝撃によって打込まれた後
の金属類４３のセラミックス４２による保持が別途にな
され、衝突時における衝突面以外での両者の分離を防ぐ
とともに、比較的小さな衝撃力によってセラミックス４
２と金属類４３との結合力を高めることができる。
示すようなセラミックス４２と、これを被覆する金属類
４３とからなるセラミックス基複合溶射材４１がえられ
る。その拡大断面（Ｅ部分）は、図３に示すようにセラ
ミックス４２と金属類４３が接触する界面近傍には微細
な凹凸部４４が形成されている。これはセラミックス４
２が脆弱な性質であるため、通常、粉砕や焼結等の粉末
の製造工程中にセラミックスの表面に形成されるマイク
ロクラックやオープンポアと呼ばれるもので、この凹凸
部４４に延性の金属類４３が混合・衝突によって入り込
み、同時にセラミックス４２も衝撃により僅かな変形を
繰り返すことによって凹凸部４４に入り込んだ金属類４
３がアンカーの役割を果してセラミックス４２と金属類
４３とが結合した状態となる。そして、循環回路２９に
おける加熱器３５による加熱によって、この凹凸部４４
の一部にセラミックスと金属類との化学結合層が形成さ
れる。この化学結合のため、衝撃によって打込まれた後
の金属類４３のセラミックス４２による保持が別途にな
され、衝突時における衝突面以外での両者の分離を防ぐ
とともに、比較的小さな衝撃力によってセラミックス４
２と金属類４３との結合力を高めることができる。
【０００８】なお、図４は代表的なセラミックス（Ｓｉ
Ｃ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，Ａｌ2 Ｏ3 ）の遠赤外線領域での反射
特性を示し、これらは１０μｍを超える波長に特殊な吸
収特性を持っている。したがって前記加熱器３５に遠赤
外放射型のものを用いれば、混合粉の金属類４３や加熱
器付近の循環回路２９の部分よりも、セラミックス４２
自体を選択的に加熱することができるとともに、照射に
よる加熱のため、セラミックス４２の表面を主に加熱し
て化学反応を促進する。したがって、加熱器には遠赤外
放射型のものを用いることが好ましい。
Ｃ，Ｓｉ3 Ｎ4 ，Ａｌ2 Ｏ3 ）の遠赤外線領域での反射
特性を示し、これらは１０μｍを超える波長に特殊な吸
収特性を持っている。したがって前記加熱器３５に遠赤
外放射型のものを用いれば、混合粉の金属類４３や加熱
器付近の循環回路２９の部分よりも、セラミックス４２
自体を選択的に加熱することができるとともに、照射に
よる加熱のため、セラミックス４２の表面を主に加熱し
て化学反応を促進する。したがって、加熱器には遠赤外
放射型のものを用いることが好ましい。
【０００９】
【具体例】セラミックスに市販のα−Ａｌ2 Ｏ3 （平均
粒径３０μｍ）を１００重量部、金属に市販のＮｉ（平
均粒径０．２μ）を１０重量部混合し、この混合粉６６
ｇを図１に示す装置において、ローターを周速８０ｍ／
ｓで回転し加熱器を作動させて５分間処理した。なお、
比較例１として同量の混合粉を加熱せずに同じ条件で処
理した。さらにローターの周速を１００ｍ／ｓとし、其
他は比較例１と同じ条件で処理して比較例２とした。
粒径３０μｍ）を１００重量部、金属に市販のＮｉ（平
均粒径０．２μ）を１０重量部混合し、この混合粉６６
ｇを図１に示す装置において、ローターを周速８０ｍ／
ｓで回転し加熱器を作動させて５分間処理した。なお、
比較例１として同量の混合粉を加熱せずに同じ条件で処
理した。さらにローターの周速を１００ｍ／ｓとし、其
他は比較例１と同じ条件で処理して比較例２とした。
【００１０】その結果を表１に示す。これは前記処理の
結果、複合された溶射材とならずに、脱落したＮｉや、
破砕したα−Ａｌ2 Ｏ3 を分級するために、α−Ａｌ2
Ｏ3の最小粒径である２０μｍ（♯６３５）の目開きの
ふるいにかけた時の、ふるい上に残った溶射材の重量
を、それぞれの試料について比較したものである。これ
から本発明，比較例１，比較例２の順で収量，収率が高
いことが確認できた。
結果、複合された溶射材とならずに、脱落したＮｉや、
破砕したα−Ａｌ2 Ｏ3 を分級するために、α−Ａｌ2
Ｏ3の最小粒径である２０μｍ（♯６３５）の目開きの
ふるいにかけた時の、ふるい上に残った溶射材の重量
を、それぞれの試料について比較したものである。これ
から本発明，比較例１，比較例２の順で収量，収率が高
いことが確認できた。
【００１１】
【表１】
【００１２】表２は、表１に示したふるい上の溶射材の
真比重値から算出したふるい上溶射材中のＮｉ分の容積
率と重量率を示したものである。この表から本発明，比
較例２，比較例１の順でＮｉ分の比率が増加しているこ
とが判る。
真比重値から算出したふるい上溶射材中のＮｉ分の容積
率と重量率を示したものである。この表から本発明，比
較例２，比較例１の順でＮｉ分の比率が増加しているこ
とが判る。
【００１３】
【表２】
【００１４】表３は、表１の収量と表２の重量率から、
ふるい上中のＮｉ分の重量を算出するとともに、投入量
との比を複合化率として示したものである。
ふるい上中のＮｉ分の重量を算出するとともに、投入量
との比を複合化率として示したものである。
【００１５】
【表３】
【００１６】ローターの周速を８０ｍ／ｓから１００ｍ
／ｓに上げて高複合化を狙った比較例２は、セラミック
スのα−Ａｌ2 Ｏ3 の破砕を起こし、収率を低下させた
ため、結果として複合化率を向上させることができなか
った。一方、本発明のものは収率，複合化率とも比較例
１のものに対し、大幅に向上できた。
／ｓに上げて高複合化を狙った比較例２は、セラミック
スのα−Ａｌ2 Ｏ3 の破砕を起こし、収率を低下させた
ため、結果として複合化率を向上させることができなか
った。一方、本発明のものは収率，複合化率とも比較例
１のものに対し、大幅に向上できた。
【００１７】図５は本発明の、図６は比較例１の、図７
は主成分であるα−Ａｌ2 Ｏ3 の、それぞれのＸ線回折
図形で、各図中のＡはα−Ａｌ2 Ｏ3 の主回折ピーク
を、ＢはＮｉの主回折ピークを、ＣはＮｉＡｌ2 Ｏ4 の
主回折ピークを示す。図５においては、加熱によってＡ
ｌ2 Ｏ3 とＮｉの界面の一部で、 ２Ｎｉ＋Ｏ2 →２ＮｉＯ ＮｉＯ＋Ａｌ2 Ｏ3 →ＮｉＡｌ2 Ｏ4 の化学反応が起き、ＮｉＡｌ2 Ｏ4 の化学結合層を形成
したためＣの主回折ピークが現われたものである。この
化学結合層の形成によってＡｌ2 Ｏ3 によるＮｉの保持
が完全となり、両者の分離を起さずに衝撃力を加えるこ
とができるため、前記表１〜表３に示したような複合化
率の改善が可能となった。
は主成分であるα−Ａｌ2 Ｏ3 の、それぞれのＸ線回折
図形で、各図中のＡはα−Ａｌ2 Ｏ3 の主回折ピーク
を、ＢはＮｉの主回折ピークを、ＣはＮｉＡｌ2 Ｏ4 の
主回折ピークを示す。図５においては、加熱によってＡ
ｌ2 Ｏ3 とＮｉの界面の一部で、 ２Ｎｉ＋Ｏ2 →２ＮｉＯ ＮｉＯ＋Ａｌ2 Ｏ3 →ＮｉＡｌ2 Ｏ4 の化学反応が起き、ＮｉＡｌ2 Ｏ4 の化学結合層を形成
したためＣの主回折ピークが現われたものである。この
化学結合層の形成によってＡｌ2 Ｏ3 によるＮｉの保持
が完全となり、両者の分離を起さずに衝撃力を加えるこ
とができるため、前記表１〜表３に示したような複合化
率の改善が可能となった。
【００１８】次に、これらの複合溶射材を用いてＳＵＳ
系基板に対し、アルゴンアークによるプラズマジェット
により溶射皮膜を形成し、その密着強さを比較した結果
を図８に示す。なお、参考としてα−Ａｌ2 Ｏ3 単独の
場合も併記した。図８によれば、表３の結果と同様に、
比較例２の場合は、α−Ａｌ2 Ｏ3 単独の場合よりも高
い密着強さを示すが、比較例１の密着強さを越えること
はできない。一方、本発明による皮膜の密着強さは、算
出された複合化率の向上とともに形成されたＮｉＡｌ2
Ｏ4 の化学結合層によりＡｌ2 Ｏ3 とＮｉの結合力が向
上するため、いずれのものよりも高く、被覆による複合
化が十分完了していることを示している。以上、実施例
ではセラミックスにα−Ａｌ2 Ｏ3 を、金属類にＮｉを
用いた場合について説明したが、其他のセラミックス及
び金属類であって、加熱によって両者の機械的結合構造
とともに、その接触部に化学結合層が形成できればよ
く、前記実施例のみに限定されるものではない。
系基板に対し、アルゴンアークによるプラズマジェット
により溶射皮膜を形成し、その密着強さを比較した結果
を図８に示す。なお、参考としてα−Ａｌ2 Ｏ3 単独の
場合も併記した。図８によれば、表３の結果と同様に、
比較例２の場合は、α−Ａｌ2 Ｏ3 単独の場合よりも高
い密着強さを示すが、比較例１の密着強さを越えること
はできない。一方、本発明による皮膜の密着強さは、算
出された複合化率の向上とともに形成されたＮｉＡｌ2
Ｏ4 の化学結合層によりＡｌ2 Ｏ3 とＮｉの結合力が向
上するため、いずれのものよりも高く、被覆による複合
化が十分完了していることを示している。以上、実施例
ではセラミックスにα−Ａｌ2 Ｏ3 を、金属類にＮｉを
用いた場合について説明したが、其他のセラミックス及
び金属類であって、加熱によって両者の機械的結合構造
とともに、その接触部に化学結合層が形成できればよ
く、前記実施例のみに限定されるものではない。
【００１９】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る複合溶射材
ではセラミックスと金属類との機械的結合のほかに、両
者の接触部において化学反応による結合層が形成されて
いるため、被覆層の密着強さの高いセラミックス基複合
溶射材となる。したがって密着強さの高い溶射皮膜がえ
られる。また、本発明の方法によれば前記効果のある複
合溶射材がえられるとともに、低衝撃力で複合化が可能
なため、主成分セラミックスの破砕が少なく、また、副
成分金属類の衝撃によるセラミックスからの脱落が少な
いため収率が高くなる。さらに副成分である金属の配合
比が低くても均一に複合化された溶射材がえられる。
ではセラミックスと金属類との機械的結合のほかに、両
者の接触部において化学反応による結合層が形成されて
いるため、被覆層の密着強さの高いセラミックス基複合
溶射材となる。したがって密着強さの高い溶射皮膜がえ
られる。また、本発明の方法によれば前記効果のある複
合溶射材がえられるとともに、低衝撃力で複合化が可能
なため、主成分セラミックスの破砕が少なく、また、副
成分金属類の衝撃によるセラミックスからの脱落が少な
いため収率が高くなる。さらに副成分である金属の配合
比が低くても均一に複合化された溶射材がえられる。
【図１】本発明において用いる装置の概念的な説明図で
ある。
ある。
【図２】本発明によるセラミックス基複合溶射材で、そ
の粒子の半分を拡大した断面で示す説明図である。
の粒子の半分を拡大した断面で示す説明図である。
【図３】図２におけるセラミックス基複合溶射材のＥ部
分をさらに拡大して示す説明図である。
分をさらに拡大して示す説明図である。
【図４】セラミックスの遠赤外線領域での反射特性を示
す図である。
す図である。
【図５】本発明におけるα−Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とし、
Ｎｉを副成分とするセラミックス基複合溶射材のＸ線回
折図形を示す。
Ｎｉを副成分とするセラミックス基複合溶射材のＸ線回
折図形を示す。
【図６】比較例１のセラミックス基複合溶射材のＸ線回
折図形を示す。
折図形を示す。
【図７】主成分であるセラミックスのα−Ａｌ2 Ｏ3 の
みのＸ線回折図形を示す。
みのＸ線回折図形を示す。
【図８】プラズマジェットによる溶射皮膜の密着強さを
比較して示す図である。
比較して示す図である。
【図９】従来のセラミックス基複合溶射材でその粒子を
拡大し、半分を断面で示す説明図である。
拡大し、半分を断面で示す説明図である。
【図１０】セラミックス基複合溶射材を作るために、セ
ラミックスに金属類を付着させた処理前の粒子の状態を
拡大し、その半分を断面で示す説明図である。
ラミックスに金属類を付着させた処理前の粒子の状態を
拡大し、その半分を断面で示す説明図である。
【図１１】従来の方法に用いた図１に対応する装置の概
念的な説明図である。
念的な説明図である。
【図１２】図１１に示す装置の側面の説明図である。
２５ 回転ローター ２９ 循環回路 ３５ 加熱器 ４２ セラミックス ４３ 金属類 ４４ 凹凸部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０４Ｂ 41/88 Ｚ (72)発明者 宮井 研二 静岡県浜松市高塚町300番地 スズキ株式 会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 セラミックス粒子の表面に金属類の被覆
層を施してなるセラミックス基複合溶射材において、セ
ラミックスと金属類との接触部が互に入り組んだ機械的
結合構造と、化学反応層とで構成されていることを特徴
とするセラミックス基複合溶射材。 - 【請求項２】 セラミックス粒子と金属類とに打撃を加
えてセラミックス基複合溶射材を製造する場合におい
て、被処理粉体に対し、加熱器によって熱を加えながら
処理することを特徴とするセラミックス基複合溶射材の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01146693A JP3427078B2 (ja) | 1993-01-27 | 1993-01-27 | セラミックス基複合溶射材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01146693A JP3427078B2 (ja) | 1993-01-27 | 1993-01-27 | セラミックス基複合溶射材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH073424A true JPH073424A (ja) | 1995-01-06 |
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- 1993-01-27 JP JP01146693A patent/JP3427078B2/ja not_active Expired - Lifetime
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