JPH07335825A - Hybrid integrated circuit and its fabricating method - Google Patents

Hybrid integrated circuit and its fabricating method

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JPH07335825A
JPH07335825A JP12912194A JP12912194A JPH07335825A JP H07335825 A JPH07335825 A JP H07335825A JP 12912194 A JP12912194 A JP 12912194A JP 12912194 A JP12912194 A JP 12912194A JP H07335825 A JPH07335825 A JP H07335825A
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JP
Japan
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thick film
annular member
film substrate
integrated circuit
gel
Prior art date
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Pending
Application number
JP12912194A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanori Tomioka
昌則 冨岡
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH07335825A publication Critical patent/JPH07335825A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/181Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with surface mounted components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings

Landscapes

  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To protect peipheral chips and improve strength of a thick film substrate by surrounding, with an annular member, any one of a region including a thick film resistance for function trimming and a region including a changeover ship for adjusting electrical characteristic. CONSTITUTION:An O-ring 4 is bonded to a thick film substrate 1 in such a manner as to surround the region where a thick film resistor 3 is arranged. Since a chip 2 is protected by gel 5 at the time of executing the function trimming, it can be prevented that the chip 2 is touched directly with hand and cut fragments adhere to the chip 2 by the trimming. Moreover, since gel 5 is rather soft but has a thickness of several 100mum or more, the strength of thick film substrate 1 can be enhanced for a mechanical external force.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、混成集積回路装置及
びその製造方法に関し、特にファンクショントリミング
用の厚膜抵抗や電気的特性調整のための付替用チップが
厚膜基板上に設けられている混成集積回路装置及びその
製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hybrid integrated circuit device and a method of manufacturing the same, and more particularly to a thick film resistor for function trimming and a replacement chip for adjusting electrical characteristics provided on a thick film substrate. The present invention relates to a hybrid integrated circuit device and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、混成集積回路装置では、搭載され
たチップ部品の特性ばらつきを吸収調整するために、厚
膜基板上に設けられた厚膜抵抗に対してファンクション
トリミングが行われる。即ち、ファンクショントリミン
グとは、抵抗値が予め設計値よりも小さくなるように厚
膜抵抗を形成しておき、各チップ部品を搭載した後に、
回路全体又は所定の回路部分の出力特性をモニタしなが
ら、厚膜抵抗の一部をレーザ光線の照射等により取り去
り、厚膜抵抗の抵抗値を徐々に増加させ、上記出力特性
が適正となるように厚膜抵抗の抵抗値を調整する方法で
ある。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a hybrid integrated circuit device, function trimming is performed on a thick film resistor provided on a thick film substrate in order to absorb and adjust characteristic variations of mounted chip components. That is, the function trimming means that a thick film resistor is formed in advance so that the resistance value becomes smaller than the design value, and after mounting each chip component,
While monitoring the output characteristics of the entire circuit or a specified circuit part, remove a part of the thick film resistance by irradiating a laser beam, etc., and gradually increase the resistance value of the thick film resistance so that the above output characteristics become appropriate. It is a method of adjusting the resistance value of the thick film resistor.

【0003】また、ファンクショントリミングの方法と
しては、レーザ光線の照射によるレーザトリミング法の
他に、シリコン粉を圧縮空気で吹き付けるサンドトリミ
ング法等も知られている。
As a function trimming method, a sand trimming method in which silicon powder is blown with compressed air is known in addition to the laser trimming method by irradiating a laser beam.

【0004】さらに、上記のような従来のファンクショ
ントリミング法は、例えば特開平2−198164号公
報、特開平3−278561号公報、特開平5−949
05号公報及び実開平4−72650号公報等にも示さ
れている。
Further, the conventional function trimming method as described above is disclosed in, for example, JP-A-2-198164, JP-A-3-27861, and JP-A-5-949.
No. 05 and Japanese Utility Model Laid-Open No. 4-72650.

【0005】また、混成集積回路装置の電気的特性の最
終的な合わせ込み方法としては、上記のように厚膜抵抗
に対してファンクショントリミングを行う方法が量産性
が比較的高いため、多く採用されている。しかし、調整
する部品が抵抗でない場合や、抵抗でも厚膜抵抗では問
題がある場合には、付替用チップの付け替えにより電気
的特性が調整されることもある。
As a method of finally adjusting the electric characteristics of the hybrid integrated circuit device, the method of performing function trimming on the thick film resistor as described above is often adopted because of its relatively high mass productivity. ing. However, if the component to be adjusted is not a resistor, or if the resistor has a problem with the thick film resistor, the electrical characteristics may be adjusted by replacing the replacement chip.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の混
成集積回路装置においては、その製造時にファンクショ
ントリミングを行う場合、厚膜基板上の厚膜抵抗の周囲
に搭載されているチップ部品が剥き出しのままであるた
め、トリミング作業時にチップ部品に手などが直接触れ
たり、トリミング時に発生した切り屑が飛び散ってチッ
プ部品に付着したりすることがあり、回路の動作に悪影
響を及ぼすという問題点があった。また、付替用チップ
を付け替えることにより電気的特性を調整する場合に
も、ファンクショントリミングを行う場合とほぼ同様の
問題点があった。
In the conventional hybrid integrated circuit device as described above, when function trimming is performed at the time of manufacture, chip components mounted around the thick film resistor on the thick film substrate are exposed. Since it remains as it is, the chip component may be directly touched during trimming work, and chips generated during trimming may scatter and adhere to the chip component, which adversely affects the operation of the circuit. there were. In addition, when the electrical characteristics are adjusted by replacing the replacement chip, there is almost the same problem as in the case where the function trimming is performed.

【0007】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、ファンクショ
ントリミングを行うときや付替用チップを付け替えると
きに、周囲のチップを保護することができ、信頼性を向
上させることができる混成集積回路装置及びその製造方
法を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to protect surrounding chips when performing function trimming or replacing a replacement chip. An object of the present invention is to obtain a hybrid integrated circuit device capable of improving reliability and a manufacturing method thereof.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る混
成集積回路装置は、厚膜基板と、この厚膜基板上に搭載
されているチップと、ファンクショントリミング用の厚
膜抵抗を含む領域及び電気的特性調整のための付替用チ
ップを含む領域の少なくともいずれか一方を囲むように
厚膜基板上に設けられている環状部材と、厚膜基板上の
環状部材の外側に設けられているゲルとを備えたもので
ある。
A hybrid integrated circuit device according to a first aspect of the present invention includes a thick film substrate, a chip mounted on the thick film substrate, and a region including a thick film resistor for function trimming. And an annular member provided on the thick film substrate so as to surround at least one of regions including a replacement chip for electrical characteristic adjustment, and provided on the outside of the annular member on the thick film substrate. It is equipped with a gel.

【0009】請求項2の発明に係る混成集積回路装置の
製造方法は、ファンクショントリミング用の厚膜抵抗を
含む領域を囲むように厚膜基板上に環状部材を設ける工
程と、厚膜基板上の環状部材の外側をゲルで覆う工程
と、厚膜抵抗に対してファンクショントリミングを行う
工程とを有するものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a hybrid integrated circuit device, which comprises a step of providing an annular member on a thick film substrate so as to surround a region including a thick film resistor for function trimming, and a step on the thick film substrate. The method includes a step of covering the outside of the annular member with gel and a step of performing function trimming on the thick film resistance.

【0010】請求項3の発明に係る混成集積回路装置の
製造方法は、環状部材にキャップを被せた後、ゲルを設
けるようにしたものである。
In the method for manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the third aspect of the present invention, the gel is provided after the annular member is covered with the cap.

【0011】請求項4の発明に係る混成集積回路装置の
製造方法は、ファンクショントリミング後に環状部材に
キャップを被せるようにしたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a hybrid integrated circuit device, wherein an annular member is covered with a cap after function trimming.

【0012】請求項5の発明に係る混成集積回路装置の
製造方法は、ファンクショントリミング後に環状部材の
内側にゲルを設けるようにしたものである。
In the method of manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the fifth aspect of the invention, the gel is provided inside the annular member after the function trimming.

【0013】請求項6の発明に係る混成集積回路装置の
製造方法は、断面テーパ状の環状部材を使用し、ファン
クショントリミング後に環状部材の開口端部を押し潰す
ことにより、開口端部を閉じるようにしたものである。
In the method of manufacturing a hybrid integrated circuit device according to the sixth aspect of the present invention, an annular member having a tapered cross section is used, and after the function trimming, the opening end of the annular member is crushed to close the opening end. It is the one.

【0014】請求項7の発明に係る混成集積回路装置の
製造方法は、電気的特性調整のための付替用チップを含
む領域を囲むように厚膜基板上に環状部材を設ける工程
と、厚膜基板上の環状部材の外側をゲルで覆う工程と、
付替用チップを付け替える工程とを有するものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a hybrid integrated circuit device, comprising a step of providing an annular member on a thick film substrate so as to surround a region including a replacement chip for electrical characteristic adjustment, Covering the outside of the annular member on the membrane substrate with a gel,
And a step of replacing the replacement chip.

【0015】[0015]

【作用】請求項1の発明においては、ファンクショント
リミング用の厚膜抵抗を含む領域及び電気的特性調整の
ための付替用チップを含む領域の少なくともいずれか一
方を環状部材で囲み、その外側の厚膜基板上をゲルでカ
バーすることにより、ファンクショントリミングやチッ
プ付替に際して、周囲のチップを保護するとともに、機
械的外力に対する厚膜基板の強度を向上させる。
According to the invention of claim 1, at least one of a region including a thick film resistor for function trimming and a region including a replacement chip for adjusting electrical characteristics is surrounded by an annular member, and the outside of the region is surrounded by the annular member. Covering the thick film substrate with gel protects the surrounding chips during function trimming and chip replacement, and improves the strength of the thick film substrate against mechanical external force.

【0016】請求項2の発明においては、ファンクショ
ントリミング用の厚膜抵抗を環状部材で囲み、その外側
をゲルでカバーすることにより、ファンクショントリミ
ング時に周囲のチップを保護するとともに、機械的外力
に対する厚膜基板の強度を向上させる。
According to the second aspect of the present invention, the thick film resistor for function trimming is surrounded by the annular member, and the outside thereof is covered with gel to protect the surrounding chips at the time of function trimming, and at the same time, to prevent mechanical external force. Improve the strength of the membrane substrate.

【0017】請求項3の発明においては、環状部材にキ
ャップを被せた後、ゲルを設けることにより、環状部材
の内側にゲルが侵入してファンクショントリミングが適
正に行われなくなるのを防止する。
According to the third aspect of the present invention, by covering the annular member with the cap and then providing the gel, it is possible to prevent the gel from entering the inside of the annular member and preventing proper function trimming.

【0018】請求項4の発明においては、ファンクショ
ントリミング後に環状部材にキャップを被せることによ
り、ファンクショントリミング後の厚膜抵抗を保護し、
装置の信頼性を向上させる。
According to the fourth aspect of the present invention, by covering the annular member with a cap after the function trimming, the thick film resistance after the function trimming is protected,
Improve device reliability.

【0019】請求項5の発明においては、ファンクショ
ントリミング後に環状部材の内側にゲルを設けることに
より、ファンクショントリミング後の厚膜抵抗を保護
し、装置の信頼性を向上させる。
According to the fifth aspect of the present invention, by providing the gel inside the annular member after the function trimming, the thick film resistance after the function trimming is protected and the reliability of the device is improved.

【0020】請求項6の発明においては、ファンクショ
ントリミング後に環状部材の開口端部を押し潰して、開
口端部を閉じることにより、ファンクショントリミング
後の厚膜抵抗を保護し、装置の信頼性を向上させる。
In the invention of claim 6, the opening end of the annular member is crushed after the function trimming to close the opening end, thereby protecting the thick film resistance after the function trimming and improving the reliability of the device. Let

【0021】請求項7の発明においては、付替用チップ
を環状部材で囲み、その外側をゲルでカバーすることに
より、チップ付替時に周囲のチップを保護するととも
に、機械的外力に対する厚膜基板の強度を向上させる。
In the invention of claim 7, the chip for replacement is surrounded by an annular member, and the outside is covered with a gel to protect the surrounding chips at the time of chip replacement, and at the same time, thick film substrate against mechanical external force. Improve the strength of.

【0022】[0022]

【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。 実施例1.図1はこの発明の実施例1による混成集積回
路装置を示す平面図、図2は図1のII−II線に沿う矢視
断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1. 1 is a plan view showing a hybrid integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG.

【0023】図において、厚膜基板1上には、混成集積
回路(ハイブリッドIC)を構成するための各種のチッ
プ2が搭載されている。また、厚膜基板1上には、ファ
ンクショントリミング用の厚膜抵抗3が1つの領域にま
とめて設けられており、かつその領域を囲むように環状
部材としてのOリング4が接着されている。厚膜基板1
上のOリング4の外側には、ゲル5が塗布されている。
In the figure, various chips 2 for forming a hybrid integrated circuit (hybrid IC) are mounted on a thick film substrate 1. Further, on the thick film substrate 1, the thick film resistors 3 for function trimming are collectively provided in one region, and an O ring 4 as an annular member is bonded so as to surround the region. Thick film substrate 1
A gel 5 is applied to the outside of the upper O-ring 4.

【0024】上記のゲル5としては、例えば硬化前の粘
度400〜1600cP(25℃)、硬化前の比重0.
95〜1.00(25℃)、125℃,2hr加熱硬化
後の針入度75〜100(50cc,25℃)(AST
M D−1403)の性質を有する無色透明又は白色の
シリコンゲルなどを使用することができる。
The gel 5 has, for example, a viscosity of 400 to 1600 cP (25 ° C.) before curing and a specific gravity of 0.
95 to 1.00 (25 ° C), 125 ° C, penetration of 75 to 100 (50 cc, 25 ° C) after 2 hours heat curing (AST
A colorless transparent or white silicone gel having the property of MD-1403) can be used.

【0025】次に、この実施例1の混成集積回路装置の
製造方法について説明する。まず、厚膜基板1には、回
路パターン(図示せず)や厚膜抵抗3が設けられてい
る。厚膜抵抗3は、予めできるだけ密集して配置されて
いる。また、厚膜基板1の表面には、電極,配線間のエ
レクトロマイグレーション防止のため、チップ接続部分
を除いて低融点のガラスによるオーバコート(図示せ
ず)が施されている。このような厚膜基板1上のチップ
接続部分に、はんだ印刷,チッププレース及びリフロー
の工程を順に経てICチップやコンデンサチップ等のチ
ップ2が搭載される。
Next, a method of manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the first embodiment will be described. First, the thick film substrate 1 is provided with a circuit pattern (not shown) and a thick film resistor 3. The thick film resistors 3 are arranged as close as possible in advance. On the surface of the thick film substrate 1, an overcoat (not shown) made of glass having a low melting point is applied except for the chip connection portion, in order to prevent electromigration between electrodes and wirings. A chip 2 such as an IC chip or a capacitor chip is mounted on such a chip connection portion on the thick film substrate 1 through a sequence of solder printing, chip placement and reflow.

【0026】この後、厚膜抵抗3が配置された領域を囲
むように厚膜基板1上にOリング4が接着される。そし
て、Oリング4の内側を除いて厚膜基板1上にゲル5が
塗布される。このゲル5を加熱硬化させた後、Oリング
4内の厚膜抵抗3に対してファンクショントリミングが
行われる。このファンクショントリミングの後、高温エ
ージング,温度サイクルの工程を経て、最終的な特性検
査が行われ、製品として出荷されることになる。ゲル5
は、塗布されたままであってもハイブリッドICに悪影
響を及ぼすことはない。
After that, an O-ring 4 is bonded onto the thick film substrate 1 so as to surround the region where the thick film resistor 3 is arranged. Then, the gel 5 is applied on the thick film substrate 1 except for the inside of the O-ring 4. After the gel 5 is heated and hardened, function trimming is performed on the thick film resistor 3 in the O-ring 4. After this function trimming, a final characteristic inspection is performed through the steps of high temperature aging and temperature cycle, and the product is shipped. Gel 5
Does not adversely affect the hybrid IC even if it is applied.

【0027】このような混成集積回路装置では、ファン
クショントリミングを行う際にチップ2がゲル5により
保護されているため、チップ2に直接手が触れたり、ト
リミングによる切り屑が付着したりするのが防止され
る。従って、装置全体の電気的特性が安定し、信頼性を
向上させることができる。また、ゲル5は、比較的軟質
のものであるが、厚みが数100μm以上あるため、機
械的な外力に対して厚膜基板1の強度を高めることがで
きる。
In such a hybrid integrated circuit device, since the chip 2 is protected by the gel 5 when performing function trimming, the chip 2 may be directly touched or chips may be attached by trimming. To be prevented. Therefore, the electrical characteristics of the entire device are stable, and the reliability can be improved. Further, although the gel 5 is relatively soft, it has a thickness of several hundred μm or more, so that the strength of the thick film substrate 1 can be increased against mechanical external force.

【0028】実施例2.次に、図3はこの発明の実施例
2による混成集積回路装置の要部を示す断面図である。
図において、厚膜基板1上に接着されたOリング4の開
口端部には、キャップ6が被せられている。
Example 2. Next, FIG. 3 is a sectional view showing a main part of a hybrid integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.
In the figure, a cap 6 is put on the open end of the O-ring 4 bonded onto the thick film substrate 1.

【0029】このような混成集積回路装置では、Oリン
グ4にキャップ6を被せてからゲル5の塗布を行う。上
記実施例1の方法では、Oリング4の内側にゲル5が侵
入して正確なトリミングが行えなくなる可能性もある
が、この実施例2のキャップ6を用いることにより、ゲ
ル5がその塗布時にOリング4の内側に侵入するのを容
易に防止できる。なお、トリミング時には、キャップ6
を取り外せばよい。
In such a hybrid integrated circuit device, the gel 5 is applied after the O-ring 4 is covered with the cap 6. In the method of the first embodiment, the gel 5 may enter the inside of the O-ring 4 and accurate trimming may not be performed, but by using the cap 6 of the second embodiment, the gel 5 is applied at the time of application thereof. It can easily be prevented from entering the inside of the O-ring 4. When trimming, the cap 6
You can remove it.

【0030】実施例3.なお、上記実施例2において、
ファンクショントリミング後にキャップ6をOリング4
に再び被せることもでき、トリミング後の厚膜抵抗3を
保護することができる。即ち、ファンクショントリミン
グの後に厚膜抵抗3に対して何等かの保護手段を講じな
かった場合、レーザ等の衝撃で脆くなっているトリミン
グ跡周辺が剥がれ落ちたり、手や他の基板に触れて傷が
付いたりすることがあるが、キャップ6を設けることに
よりこれを防止できる。例えば、ファンクショントリミ
ング後のスクリーニング工程である温度サイクル工程を
通すと、キャップ6を使用したものでは抵抗値に変化が
ないのに対して、キャップ6を使用しないものでは抵抗
値が数%上昇することがある。
Example 3. In the second embodiment,
After function trimming, cap 6 O-ring 4
It is possible to cover the thick film resistor 3 after trimming, and to protect the thick film resistor 3 after trimming. That is, if no protection measures are taken against the thick film resistor 3 after the function trimming, the periphery of the trimming mark, which is fragile due to the impact of the laser or the like, is peeled off, or the hand or another substrate is touched and scratched. There is a case where it is attached, but this can be prevented by providing the cap 6. For example, when a temperature cycle process, which is a screening process after function trimming, is performed, the resistance value does not change when the cap 6 is used, whereas the resistance value increases by several percent when the cap 6 is not used. There is.

【0031】実施例4.また、上記実施例3ではファン
クショントリミング後にキャップ6をOリング4に被せ
たが、ファンクショントリミング後にOリング4内にゲ
ル5を塗布し充填してもよく、トリミング後の厚膜抵抗
3を保護することができる。
Example 4. Although the O-ring 4 is covered with the cap 6 after the function trimming in the third embodiment, the gel 5 may be applied and filled in the O-ring 4 after the function trimming to protect the thick film resistor 3 after trimming. be able to.

【0032】実施例5.図4はこの発明の実施例5によ
る混成集積回路装置の要部を示す断面図である。図にお
いて、厚膜基板1上には、厚膜抵抗3を含む領域を囲む
ように環状部材としてのOリング7が接着されている。
このOリング7は、その内径,外径ともに厚膜基板1側
から開口端部側へ向けて小さくなるように断面テーパ状
になっている。他の構成は、上記実施例1と同様であ
る。
Example 5. Fourth Embodiment FIG. 4 is a sectional view showing a main part of a hybrid integrated circuit device according to a fifth embodiment of the present invention. In the figure, an O-ring 7 as an annular member is bonded on the thick film substrate 1 so as to surround a region including the thick film resistor 3.
The O-ring 7 has a tapered cross section such that both the inner diameter and the outer diameter become smaller from the thick film substrate 1 side toward the opening end side. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

【0033】このような混成集積回路装置では、上記各
実施例と同様に厚膜基板1上のOリング7の外側にゲル
5を塗布した後に厚膜抵抗3に対してファンクショント
リミングを行う。そして、ファンクショントリミングの
後、熱したこて等を用いてOリング7の開口端部を押し
潰すことにより、開口端部を閉じる。これにより、Oリ
ング7自体を上記実施例2のキャップ6の代用とするこ
とができ、ファンクショントリミング後の厚膜抵抗3を
保護することができる。
In such a hybrid integrated circuit device, the gel 5 is applied to the outside of the O-ring 7 on the thick film substrate 1 as in the above-described embodiments, and then the thick film resistor 3 is function-trimmed. After the function trimming, the open end of the O-ring 7 is crushed by using a heated iron or the like to close the open end. As a result, the O-ring 7 itself can be used as a substitute for the cap 6 of the second embodiment, and the thick film resistor 3 after function trimming can be protected.

【0034】実施例6.図5はこの発明の実施例6によ
る混成集積回路装置の要部を示す断面図である。この実
施例6は、厚膜抵抗に対するファンクショントリミング
ではなく、付替用チップ8を付け替えることによりハイ
ブリッドICの電気的特性を調整する場合の例であり、
厚膜基板1上の付替用チップ8を含む領域を囲むように
Oリング4が接着されている。
Example 6. FIG. 5 is a sectional view showing a main part of a hybrid integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention. The sixth embodiment is an example of adjusting the electrical characteristics of the hybrid IC by replacing the replacement chip 8 instead of function trimming with respect to the thick film resistor.
An O-ring 4 is adhered so as to surround a region including the replacement chip 8 on the thick film substrate 1.

【0035】このような混成集積回路装置では、厚膜基
板1上のOリング4の外側にゲル5を塗布した後、付替
用チップ8の付け替えを行い、ハイブリッドICの電気
的特性を調整する。これにより、チップ付替時に他のチ
ップを保護することができ、信頼性を向上させることが
できる。
In such a hybrid integrated circuit device, after the gel 5 is applied to the outside of the O-ring 4 on the thick film substrate 1, the replacement chip 8 is replaced to adjust the electrical characteristics of the hybrid IC. . This makes it possible to protect other chips during chip replacement and improve reliability.

【0036】この後、Oリング4にキャップを被せた
り、Oリング4内にゲル5を充填したりすることも可能
である。また、図4に示したようなOリング7を使用す
ることも可能である。
After that, it is possible to cover the O-ring 4 with a cap or fill the O-ring 4 with the gel 5. It is also possible to use the O-ring 7 as shown in FIG.

【0037】なお、上記各実施例では環状部材としてO
リング4,7を使用したが、環状部材はOリングに限定
されるものではなく、その断面形状,平面形状及び材料
等は種々の変更が可能である。例えば、平面形状が角形
の環状部材を使用してもよい。
In each of the above embodiments, the annular member is O
Although the rings 4 and 7 are used, the annular member is not limited to the O-ring, and the cross-sectional shape, the planar shape, the material, and the like can be variously changed. For example, an annular member having a rectangular planar shape may be used.

【0038】また、ゲル5の材料も上記各実施例で示し
たシリコンゲルに限定されるものではない。
The material of the gel 5 is not limited to the silicon gel shown in each of the above embodiments.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明の
混成集積回路装置は、ファンクショントリミング用の厚
膜抵抗を含む領域及び電気的特性調整のための付替用チ
ップを含む領域の少なくともいずれか一方を環状部材で
囲み、その外側の厚膜基板上をゲルでカバーするように
したので、ファンクショントリミングやチップ付替に際
して、周囲のチップを保護することができ、信頼性を向
上させることができるとともに、機械的外力に対する厚
膜基板の強度を向上させることができるなどの効果を奏
する。
As described above, in the hybrid integrated circuit device according to the invention of claim 1, at least the region including the thick film resistor for function trimming and the region including the replacement chip for adjusting the electrical characteristics. Since one of them is surrounded by an annular member and the thick film substrate on the outside is covered with gel, it is possible to protect surrounding chips during function trimming or chip replacement, and improve reliability. In addition to that, it is possible to improve the strength of the thick film substrate against mechanical external force.

【0040】また、請求項2の発明の混成集積回路装置
の製造方法は、ファンクショントリミング用の厚膜抵抗
を含む領域を環状部材で囲み、その外側をゲルでカバー
するようにしたので、ファンクショントリミング時に周
囲のチップを保護することができ、信頼性を向上させる
ことができるとともに、機械的外力に対する厚膜基板の
強度を向上させることができるなどの効果を奏する。
In the method of manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the second aspect of the present invention, the region including the thick film resistor for function trimming is surrounded by the annular member, and the outside thereof is covered with gel. At the same time, the surrounding chips can be protected, the reliability can be improved, and the strength of the thick film substrate against mechanical external force can be improved.

【0041】さらに、請求項3の発明の混成集積回路装
置の製造方法は、環状部材にキャップを被せた後、ゲル
を設けるようにしたので、上記請求項2の発明と同様の
効果に加えて、環状部材の内側にゲルが侵入するのを防
止することができ、ファンクショントリミングをより適
正に行うことができるという効果を奏する。
Further, in the method for manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the third aspect of the invention, since the gel is provided after the annular member is covered with the cap, in addition to the same effect as that of the second aspect of the invention. The gel can be prevented from entering the inside of the annular member, and the function trimming can be more appropriately performed.

【0042】さらにまた、請求項4の発明の混成集積回
路装置の製造方法は、ファンクショントリミング後に環
状部材にキャップを被せるようにしたので、上記請求項
2の発明と同様の効果に加えて、ファンクショントリミ
ング後の厚膜抵抗を保護し、装置の信頼性を向上させる
ことができるという効果を奏する。
Furthermore, in the method of manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the invention of claim 4, the annular member is covered with the cap after the function trimming. Therefore, in addition to the same effect as the invention of claim 2, The thick film resistor after trimming is protected, and the reliability of the device can be improved.

【0043】また、請求項5の発明の混成集積回路装置
の製造方法は、ファンクショントリミング後に環状部材
の内側にゲルを設けるようにしたので、上記請求項2の
発明と同様の効果に加えて、ファンクショントリミング
後の厚膜抵抗を保護し、装置の信頼性を向上させること
ができるという効果を奏する。
In the method of manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the fifth aspect of the invention, since the gel is provided inside the annular member after the function trimming, in addition to the same effect as that of the second aspect of the invention, The thick film resistance after function trimming is protected, and the reliability of the device can be improved.

【0044】さらに、請求項6の発明の混成集積回路装
置の製造方法は、ファンクショントリミング後に断面テ
ーパ状の環状部材の開口端部を押し潰して、開口端部を
閉じるようにしたので、上記請求項2の発明と同様の効
果に加えて、ファンクショントリミング後の厚膜抵抗を
保護し、装置の信頼性を向上させることができるという
効果を奏する。
Further, in the method for manufacturing the hybrid integrated circuit device according to the invention of claim 6, after the function trimming, the opening end of the annular member having the tapered cross section is crushed to close the opening end. In addition to the same effect as the invention of Item 2, there is an effect that the thick film resistance after function trimming is protected and the reliability of the device can be improved.

【0045】さらにまた、請求項7の発明の混成集積回
路装置の製造方法は、付替用チップを含む領域を環状部
材で囲み、その外側をゲルでカバーするようにしたの
で、チップ付替時に周囲のチップを保護することがで
き、信頼性を向上させることができるとともに、機械的
外力に対する厚膜基板の強度を向上させることができる
などの効果を奏する。
Further, in the method of manufacturing a hybrid integrated circuit device according to the invention of claim 7, the area including the replacement chip is surrounded by the annular member, and the outside thereof is covered with the gel. The surrounding chips can be protected, the reliability can be improved, and the strength of the thick film substrate against mechanical external force can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施例1による混成集積回路装置
を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a hybrid integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1のII−II線に沿う矢視断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG.

【図3】 この発明の実施例2による混成集積回路装置
の要部を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a main part of a hybrid integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施例5による混成集積回路装置
の要部を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a main part of a hybrid integrated circuit device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施例6による混成集積回路装置
の要部を示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a main part of a hybrid integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 厚膜基板、2 チップ、3 厚膜抵抗、4,7 O
リング(環状部材)、5 ゲル、6 キャップ、8 付
替用チップ。
1 thick film substrate, 2 chips, 3 thick film resistors, 4, 7 O
Ring (annular member), 5 gels, 6 caps, 8 replacement tips.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 厚膜基板と、 この厚膜基板上に搭載されているチップと、 ファンクショントリミング用の厚膜抵抗を含む領域及び
電気的特性調整のための付替用チップを含む領域の少な
くともいずれか一方を囲むように上記厚膜基板上に設け
られている環状部材と、 上記厚膜基板上の上記環状部材の外側に設けられている
ゲルとを備えていることを特徴とする混成集積回路装
置。
1. A thick film substrate, a chip mounted on the thick film substrate, and a region including a thick film resistor for function trimming and a region including a replacement chip for adjusting electrical characteristics. A hybrid integrated device comprising: an annular member provided on the thick film substrate so as to surround one of the two, and a gel provided outside the annular member on the thick film substrate. Circuit device.
【請求項2】 ファンクショントリミング用の厚膜抵抗
を含む領域を囲むように厚膜基板上に環状部材を設ける
工程と、 上記厚膜基板上の上記環状部材の外側をゲルで覆う工程
と、 上記厚膜抵抗に対してファンクショントリミングを行う
工程とを有することを特徴とする混成集積回路装置の製
造方法。
2. A step of providing an annular member on the thick film substrate so as to surround a region including a thick film resistor for function trimming, a step of covering the outside of the annular member on the thick film substrate with a gel, And a step of performing function trimming on the thick film resistor, the method of manufacturing a hybrid integrated circuit device.
【請求項3】 環状部材にキャップを被せた後、ゲルを
設けることを特徴とする請求項2記載の混成集積回路装
置の製造方法。
3. The method for manufacturing a hybrid integrated circuit device according to claim 2, wherein the gel is provided after the annular member is covered with the cap.
【請求項4】 ファンクショントリミング後に環状部材
にキャップを被せることを特徴とする請求項2又は請求
項3記載の混成集積回路装置の製造方法。
4. The method of manufacturing a hybrid integrated circuit device according to claim 2, wherein the annular member is covered with a cap after the function trimming.
【請求項5】 ファンクショントリミング後に環状部材
の内側にゲルを設けることを特徴とする請求項2又は請
求項3記載の混成集積回路装置の製造方法。
5. The method of manufacturing a hybrid integrated circuit device according to claim 2, wherein the gel is provided inside the annular member after the function trimming.
【請求項6】 断面テーパ状の環状部材を使用し、ファ
ンクショントリミング後に上記環状部材の開口端部を押
し潰すことにより、上記開口端部を閉じることを特徴と
する請求項2又は請求項3記載の混成集積回路装置の製
造方法。
6. The method according to claim 2, wherein an annular member having a tapered cross section is used, and the opening end is closed by crushing the opening end of the annular member after function trimming. For manufacturing a hybrid integrated circuit device.
【請求項7】 電気的特性調整のための付替用チップを
含む領域を囲むように厚膜基板上に環状部材を設ける工
程と、 上記厚膜基板上の上記環状部材の外側をゲルで覆う工程
と、 上記付替用チップを付け替える工程とを有することを特
徴とする混成集積回路装置の製造方法。
7. A step of providing an annular member on the thick film substrate so as to surround a region including a replacement chip for electrical characteristic adjustment, and a gel covering the outside of the annular member on the thick film substrate. A method of manufacturing a hybrid integrated circuit device, comprising: a step; and a step of replacing the replacement chip.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004104708A2 (en) * 2003-05-15 2004-12-02 3D Systems, Inc. Seal and support structure for semiconductor wafer
JP2012195615A (en) * 2012-07-10 2012-10-11 Denso Corp Electronic apparatus

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