JPH07333406A - Optical sheet - Google Patents

Optical sheet

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Publication number
JPH07333406A
JPH07333406A JP6145431A JP14543194A JPH07333406A JP H07333406 A JPH07333406 A JP H07333406A JP 6145431 A JP6145431 A JP 6145431A JP 14543194 A JP14543194 A JP 14543194A JP H07333406 A JPH07333406 A JP H07333406A
Authority
JP
Japan
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optical sheet
sheet
pitch
height
diameter
Prior art date
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Pending
Application number
JP6145431A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Kusano
賢次 草野
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OPUTESU KK
Zeon Corp
Original Assignee
OPUTESU KK
Nippon Zeon Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by OPUTESU KK, Nippon Zeon Co Ltd filed Critical OPUTESU KK
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Publication of JPH07333406A publication Critical patent/JPH07333406A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain an optical sheet with which uniform illumination with high luminance and with decreased restrictions on a visual field angle is possible and a reduction of thickness is possible by composing this optical sheet of a microlens array specified in diameter, height and pitch. CONSTITUTION:This optical sheet consists of the microlens array which is 0.1 to 100mum in all of the diameter (a), the height (c) and the pitch (d). Namely, this fine lens assembly is curved by subjecting three-dimensional patterns of dotty or stripe patterns of 0.1 to 100mum, more preferably 0.1 to 50mum, further preferably 0.1 to 20mum in all of the diameter (a), width (b), the height (c) and the pitch (d) formed of a thermally flowable photoresist material on a substrate to fluidization under heating. The surface of the assembly is coated with a conductive metal and further a metallic layer is formed by electroforming thereon; thereafter, a stamper for producing a metallic sheet is obtd by being separated from the boundary between the resist layer and the conductive metallic layer. This optical sheet is formed and produced by using the stamper formed in the manner described above.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、集光性のある光学シー
トに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical sheet having a light collecting property.

【0002】[0002]

【従来の技術】パーソナルコンピューターの液晶表示部
を背面から照らすバックライトは、表示部が薄型化され
るに伴い、それ迄の直下型に代ってサイドライト(エッ
ジライトともいう)型が多く使われるようになった。サ
イドライト型バックライトにおいては、側面にあるラン
プの光を導光板で液晶表示部全面に導き、裏面の反射板
の作用も加えて液晶側を照らすものである。光源の光を
より有効に利用するため、種々の工夫と改良が行われて
いる。例えば、導光板としてアクリル樹脂製の板の裏面
に白色顔料が入ったインクを用いて点を全面に印刷した
ものや、V字形状の平行溝を施したもの等が使用されて
いる。
2. Description of the Related Art As a backlight for illuminating a liquid crystal display section of a personal computer from the back side, a side light (also called edge light) type is often used instead of the direct type until then, as the display section becomes thinner. I started to be seen. In the sidelight type backlight, the light from the lamp on the side surface is guided to the entire surface of the liquid crystal display unit by the light guide plate, and the function of the reflection plate on the back surface is added to illuminate the liquid crystal side. In order to use the light of the light source more effectively, various innovations and improvements have been made. For example, as the light guide plate, there is used an acrylic resin plate on the back surface of which dots are printed using ink containing a white pigment or a V-shaped parallel groove.

【0003】また、ランプの消費電力を増加させずに更
にバックライトを明るくするために集光シートが用いら
れている。従来の集光シートにはポリカーボネートなど
のプラスチックのシートの前面に頂角90〜100度の
プリズムをアレイにしたものが知られている。これはシ
ートの平面側から入った光をシートから出すときプリズ
ムによって狭い範囲の角度に集めるので輝度を増すが、
視野角が狭い不便がある。
Further, a light-condensing sheet is used to further brighten the backlight without increasing the power consumption of the lamp. As a conventional light-condensing sheet, there is known a sheet of plastic such as polycarbonate in which prisms having an apex angle of 90 to 100 degrees are arrayed. This increases the brightness by collecting the light entering from the flat side of the sheet into a narrow range of angles by the prism when exiting from the sheet.
There is inconvenience that the viewing angle is narrow.

【0004】一方、大型計算機や通信機器における大容
量情報伝送手段としての光並列伝送や、カメラ一体型ビ
デオテープレコーダの電子の目としての小型CCDには
画素ピッチに対応したマイクロレンズアレイが用いられ
ている。
On the other hand, a microlens array corresponding to a pixel pitch is used for optical parallel transmission as a large-capacity information transmission means in a large-scale computer or communication equipment and a small CCD as an electronic eye of a camera-integrated video tape recorder. ing.

【0005】マイクロレンズアレイの製造法としては、
光学ガラス基板の表面にレジストパターンを形成した後
にエッチングして円柱形の突部の配列を作成し、レジス
ト層を除去して加熱して凸部を球面状に変形させる方法
(特開昭58−185445号、特開平5−16490
4号)、半導体材料に対してフォトレジストパターンを
施してAr+イオンエッチングしてレンズアレイを形成
する方法(Journal of the elect
rochemical soc.,vol.131,p
p.2373〜2380,1984)、等が知られてい
る。
As a method of manufacturing a microlens array,
A method in which a resist pattern is formed on the surface of an optical glass substrate and then etched to form an array of cylindrical protrusions, and the resist layer is removed and heated to deform the protrusions into spherical shapes (Japanese Patent Laid-Open No. 58-58-58). 185445, JP-A-5-16490
No. 4), a method of forming a lens array by applying a photoresist pattern to a semiconductor material and performing Ar + ion etching (Journal of the elect).
rochemical soc. , Vol. 131, p
p. 2373-2380, 1984), etc. are known.

【0006】しかし、これら従来の製法によるマイクロ
レンズアレイは、無機材料であるので可撓性や軽量化に
難があり、また生産性が低いという問題がある。
However, since the microlens array manufactured by these conventional manufacturing methods is made of an inorganic material, it is difficult to reduce flexibility and weight, and there is a problem that productivity is low.

【0007】一方、レーザ等のスポットを形成させるた
めに用いられる多数の角部をもった凹凸を同心円状に設
けた1個の直径0.4mmといったマイクロフレネルレ
ンズの製法としてガラス、プラスチックス、金属板など
の基板の平滑表面にレジストを塗布し、これに同心円状
のパターンをあてて露光、現像し、同心円状の凸部と凹
部を形成後、この表面にスパッタリング、蒸着などの方
法で導電層を形成し、これを電極としてニッケルを電鋳
し、その後、ニッケル層を剥離し、これをスタンパーと
して、合成樹脂製のマイクロフレネルレンズを製造する
方法が特開昭60−103308号公報に開示されてい
る。
On the other hand, glass, plastics, and metal are used as a method for manufacturing a micro Fresnel lens having a concentric circular shape with a large number of corners used for forming a spot such as a laser, having a diameter of 0.4 mm. A resist is applied to the smooth surface of a substrate such as a plate, a concentric pattern is applied to this to expose and develop it, and then concentric convexes and concaves are formed, and then a conductive layer is formed on the surface by a method such as sputtering or vapor deposition. Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-103308 discloses a method for producing a micro Fresnel lens made of a synthetic resin by forming an electrode, electroforming nickel using this as an electrode, then peeling off the nickel layer, and using this as a stamper. ing.

【0008】しかしながら、この方法はあくまでも図6
に占めすように、多数の角部をもった凹凸を同心円状に
設けた1個のマイクロフレネルレンズを製造することを
目的とするものであり、シート面全域における輝度の向
上を達成するのに必要な凸レンズの、しかもその集合体
よりなる光学シートを製造するものではない。
However, this method is only shown in FIG.
The purpose of the present invention is to manufacture a single micro-Fresnel lens in which concavities and convexities with a large number of corners are concentrically provided, and to improve the brightness over the entire sheet surface. It does not produce an optical sheet of the necessary convex lenses and an assembly thereof.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
表示部のバックライト等として、輝度が高く、かつ均一
で、視野角の制限の少ない照明が可能な、また必要によ
り薄型化が可能な光学シートを提供する点にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide, as a backlight for a liquid crystal display unit, high-luminance and uniform illumination with a limited viewing angle and, if necessary, reduction in thickness. To provide a simple optical sheet.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、径、高
さおよびピッチがいずれも0.1〜100μmのマイク
ロレンズアレイからなることを特徴とする光学シートに
関する。前記光学シートは、径をaμm、高さをcμ
m、ピッチをdμmとしたとき、
A first aspect of the present invention relates to an optical sheet comprising a microlens array having a diameter, a height and a pitch of 0.1 to 100 μm. The optical sheet has a diameter of a μm and a height of cμ.
m and pitch is dμm,

【数3】d/2≦a≦d ………(1) c≧a/4 ………(2) の関係を満足するものであることが好ましい。## EQU3 ## It is preferable that the relationship of d / 2 ≦ a ≦ d (1) and c ≧ a / 4 (2) is satisfied.

【0011】本発明の第二は、幅、高さおよびピッチが
いずれも0.1〜100μmのバー状(かまぼこ状)レ
ンズアレイからなることを特徴とする光学シートに関す
る。前記光学シートは、幅bμm、高さcμm、ピッチ
dμmとしたとき、
A second aspect of the present invention relates to an optical sheet comprising a bar-shaped (cylindrical) lens array whose width, height and pitch are all 0.1 to 100 μm. When the width of the optical sheet is b μm, the height is c μm, and the pitch is d μm,

【数4】d/2≦b≦d ………(3) c≧b/4 ………(4) の関係を満足するものであることが好ましい。## EQU4 ## It is preferable that the relationship of d / 2 ≦ b ≦ d (3) and c ≧ b / 4 (4) is satisfied.

【0012】前記微細レンズ集合体は、例えば基体上に
加熱流動性フォトレジスト材料により形成された径また
は幅、高さおよびピッチのいずれもが0.1〜100μ
m、好ましくは0.1〜50μm、更に好ましくは0.
1〜20μmの斑点または縞模様の立体パターン(レジ
スト層)を加熱流動化することにより曲面化し、この表
面に、導電性金属を被覆し、更にこの上に電鋳により金
属層を形成した後レジスト層と導電性金属層との界面か
ら分離して得られた金属製の光学シート製造用スタンパ
ーを用いて成形することにより製造することができる。
なお、ここでいうシートは板状のものも含む。フォトレ
ジスト材料は加熱流動化するものであれば、どれでも使
用可能であるが、100〜200℃で溶融して流動化す
るものが好ましい。
In the fine lens assembly, for example, the diameter or width, the height, and the pitch of the heat-fluidizable photoresist material formed on the substrate are each 0.1 to 100 μm.
m, preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.
A three-dimensional pattern (resist layer) having spots or stripes of 1 to 20 μm is made into a curved surface by heating and fluidizing, a conductive metal is coated on this surface, and a metal layer is further formed thereon by electroforming to form a resist. It can be manufactured by molding using a metal optical sheet manufacturing stamper obtained by separating from the interface between the layer and the conductive metal layer.
The sheet here includes a plate-like sheet. Any photoresist material can be used as long as it can be fluidized by heating, but a material that is melted and fluidized at 100 to 200 ° C. is preferable.

【0013】レンズの径または幅およびピッチを100
μm以下にすることによりシートに入射した光がシート
から出射する際の強度をシート面全域において均一にす
ることができ、液晶用バックライト等において輝度の均
一な照明が可能になる。
The lens diameter or width and pitch are set to 100
When the thickness is not more than μm, the intensity of the light incident on the sheet when it is emitted from the sheet can be made uniform over the entire surface of the sheet, and illumination with uniform brightness can be performed in a liquid crystal backlight or the like.

【0014】また、本発明のシートを標示板等に貼りつ
けて用いる場合は、レンズの径または幅およびピッチを
100μm以下にすることにより肌目の細かい、解像性
の高い、映像を得ることができ、また、目障りなレンズ
自体を視認できなくすることができる。
When the sheet of the present invention is used by being attached to a marking plate or the like, by setting the lens diameter or width and pitch to 100 μm or less, it is possible to obtain an image with fine texture and high resolution. It is also possible to make the uncomfortable lens itself invisible.

【0015】更に、ピッチをより小さくすることによ
り、液晶セルその他の光学ディスプレイや印刷ポスター
等の同期性画素を有する表示装置・表示物との組合わせ
において予想されるモアレの発生を抑えることができ
る。
Further, by making the pitch smaller, it is possible to suppress the occurrence of moiré which is expected in a combination with a display device / display object having a synchronous pixel such as a liquid crystal cell or an optical display or a print poster. .

【0016】スタンパーの製造を図1を参照して説明す
る。図1における(a)〜(i)により、スタンパーの
製造工程例が示される。
The manufacture of the stamper will be described with reference to FIG. (A) to (i) in FIG. 1 show an example of a stamper manufacturing process.

【0017】(a)基体1、たとえばシリコンウエハま
たはガラス板のようにフォトレジスト形成用溶液を塗布
するためのベースの断面図である。
FIG. 1A is a sectional view of a base 1, such as a silicon wafer or a glass plate, for applying a photoresist forming solution to a base.

【0018】(b)シリコン単結晶板やガラス板のよう
な基体1上にネガ型またはポジ型のフォトレジスト形成
用溶液を斑点状または縞状に塗布してフォトレジスト形
成用層2を形成した(レジスト塗布工程)。
(B) A negative or positive photoresist forming solution is applied on a substrate 1 such as a silicon single crystal plate or a glass plate in spots or stripes to form a photoresist forming layer 2. (Resist coating step).

【0019】(c)ガラス板4の上にクロム膜などの遮
光層3を有するフォトマスク5を、前記(b)のレジス
ト形成用層2の上に置き、矢印のように紫外線あるいは
電子線などの活性光線を照射する(露光工程)。前記遮
光層は、最終的に得られる微細レンズ集合体において、
径(図2のaで示す)または幅(図4のbで示す)、高
さ(図3のcで示す)およびピッチ(図4のdで示す)
のいずれもが0.1〜100μm、好ましくは0.1〜
50μm、更に好ましくは0.1〜20μmのものにな
るような斑点(形状は、正方形、長方形、円形、楕円形
など任意)または縞状のパターンとする。
(C) A photomask 5 having a light-shielding layer 3 such as a chrome film on a glass plate 4 is placed on the resist forming layer 2 (b), and an ultraviolet ray, an electron beam, or the like as indicated by an arrow. Irradiating the active light of (exposure step). The light shielding layer, in the finally obtained fine lens aggregate,
Diameter (shown as a in FIG. 2) or width (shown as b in FIG. 4), height (shown as c in FIG. 3) and pitch (shown as d in FIG. 4).
Any of 0.1 to 100 μm, preferably 0.1 to 100 μm
The spots (shapes are arbitrary such as square, rectangle, circle, and ellipse) or striped patterns having a thickness of 50 μm, more preferably 0.1 to 20 μm.

【0020】(d)前記フォトレジスト形成用材料とし
てポジ型のものを使用したので、光の当った個所を現像
により溶出した。光が当らなかった部分はそのまま残
り、レジスト層2′となった(現像、リンス工程)。レ
ジスト層の厚みは0.1〜100μmが好ましい。な
お、ネガ型のものを用いれば、光が当った部分が残存す
る。現像液は、使用するレジスト材料によって選択され
る。
(D) Since a positive type material was used as the photoresist forming material, the portion exposed to light was eluted by development. The part which was not exposed to light remained as it was, and became a resist layer 2 '(development and rinse steps). The thickness of the resist layer is preferably 0.1 to 100 μm. If a negative type is used, the part exposed to the light remains. The developing solution is selected depending on the resist material used.

【0021】(e)レジスト層2′が熱流動する温度に
加熱すると、レジスト層2′が流動し、その表面張力に
よりレジスト層2′は図に示すように凸状または山脈状
に凸出し、上に凸のレンズの形状群(マイクロレンズア
レイの形状に対応)または断面が上に凸の曲線を有する
立体縞(バー状レンズアレイの形状に対応)のパターン
が形成される(加熱凸状化工程)。加熱の温度は、レジ
スト層の形成材料に依存するが、通常100〜200℃
である。
(E) When the resist layer 2'is heated to a temperature at which it heat-flows, the resist layer 2'flows, and the surface tension thereof causes the resist layer 2'to project in a convex shape or a mountain range shape as shown in the figure. An upward convex lens shape group (corresponding to the shape of the microlens array) or a pattern of three-dimensional stripes (corresponding to the shape of the bar-shaped lens array) having a curved convex cross section is formed (heating convex shape). Process). The heating temperature depends on the material for forming the resist layer, but is usually 100 to 200 ° C.
Is.

【0022】(f)冷却後、前記マイクロレンズアレイ
相当の形状2′またはバー状レンズアレイ相当の形状
2′の表面を銀、ニッケル等の導電性金属を蒸着、スパ
ッタリング等の成膜法により被覆し、導電性金属層6を
形成する(成膜工程)。導電性金属層6の厚さは通常
0.01〜1μmである。
(F) After cooling, the surface of the shape 2'corresponding to the microlens array or the shape 2'corresponding to the bar-shaped lens array is coated with a conductive metal such as silver or nickel by a film forming method such as vapor deposition or sputtering. Then, the conductive metal layer 6 is formed (film forming step). The thickness of the conductive metal layer 6 is usually 0.01 to 1 μm.

【0023】(g)前記導電性金属層6の上に、電鋳に
より、ニッケル、銅などの金属層7を形成する(電鋳工
程)。金属層の厚さは通常0.01〜50mmである
が、これに限定されるものではない。
(G) A metal layer 7 of nickel, copper or the like is formed on the conductive metal layer 6 by electroforming (electroforming step). The thickness of the metal layer is usually 0.01 to 50 mm, but is not limited to this.

【0024】(h)レジスト層2′をもつ基体1と、導
電性金属層6/電鋳金属層7よりなる積層体とを剥離す
る(剥離工程)。剥離手段に制限はなく、手でも剥離す
ることができる。
(H) The substrate 1 having the resist layer 2'and the laminated body composed of the conductive metal layer 6 / electroformed metal layer 7 are peeled off (peeling step). There is no limitation on the peeling means, and it can be peeled by hand.

【0025】(i)ついで、導電性金属層6は、通常、
酸洗い等により除去する(導電性金属層の除去工程)。
この工程はすべての場合に必要なものではないが、導電
性金属としてAgを使用した場合は、スタンパーとして
用いる際汚れが転写する可能性があるので、除去するこ
とが好ましい。
(I) Next, the conductive metal layer 6 is usually
It is removed by pickling or the like (removing step of the conductive metal layer).
This step is not necessary in all cases, but when Ag is used as the conductive metal, stains may be transferred when used as a stamper, so it is preferable to remove it.

【0026】本発明に用いる微細レンズ集合体は、前記
スタンパーの凹凸模様を合成樹脂層に転写することによ
り製造することができるが、具体的な好ましい方法とし
てはつぎの三つの方法がある。
The fine lens assembly used in the present invention can be manufactured by transferring the uneven pattern of the stamper onto the synthetic resin layer, and the following three specific preferred methods are available.

【0027】その第一は、透明性の熱可塑性樹脂、好ま
しくはポリカーボネート、メチルフタレート単重合体ま
たは共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチ
レンおよび熱可塑性ノルボルネン樹脂からなる群から選
択された樹脂よりなる厚さ0.01〜5mmの樹脂シー
トに、前記スタンパーを用いて熱プレス法により該スタ
ンパーの凹凸を樹脂シートに転写する製造方法である。
The first is a thickness of a transparent thermoplastic resin, preferably a resin selected from the group consisting of polycarbonate, methylphthalate homopolymers or copolymers, polyethylene terephthalate, polystyrene and thermoplastic norbornene resins. It is a manufacturing method in which unevenness of the stamper is transferred to a resin sheet by a hot pressing method using the stamper on a resin sheet of 0.01 to 5 mm.

【0028】その第二は、透明性の熱可塑性樹脂、好ま
しくはポリカーボネート、メチルフタレート単重合体ま
たは共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチ
レンおよび熱可塑性ノルボルネン樹脂からなる群から選
択された樹脂の組成物を、前記スタンパーを底面とする
金型に射出成形する製造方法である。
The second is a composition of a transparent thermoplastic resin, preferably a resin selected from the group consisting of polycarbonate, methyl phthalate homopolymers or copolymers, polyethylene terephthalate, polystyrene and thermoplastic norbornene resins. The method is a method of injection molding into a die having the stamper as a bottom surface.

【0029】その第三は、前記スタンパーを底面とする
金型に単量体またはオリゴマーよりなる樹脂形成材料お
よび光重合開始剤を注入した後、これを紫外線などの光
を照射することにより重合する製造方法である。
Thirdly, a resin forming material consisting of a monomer or an oligomer and a photopolymerization initiator are injected into a mold having the stamper as a bottom surface, and then this is polymerized by irradiating light such as ultraviolet rays. It is a manufacturing method.

【0030】前記の樹脂成形用単量体又はオリゴマーと
しては、メチルメタクリレート;エチレングリコール、
1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン等
のポリオール類とアクリル酸又はメタクリル酸とのエス
テルである多官能(メタ)アクリレート誘導体等の単量
体;メタクリレートオリゴマー、アクリレートオリゴマ
ー、前記多官能誘導体のオリゴマーなどのオリゴマーを
例示することができる。とりわけ、メチルメタクリレー
トに多官能(メタ)アクリレート誘導体および必要に応
じてさらにこれら単量体のオリゴマーを加えたものを使
用することがのぞましい。また光重合開始剤としては過
酸化ベンゾイル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル等が
用いられる。
Examples of the resin molding monomer or oligomer include methyl methacrylate; ethylene glycol;
Monomers such as polyfunctional (meth) acrylate derivatives which are esters of polyols such as 1,3-propanediol and trimethylolpropane with acrylic acid or methacrylic acid; methacrylate oligomers, acrylate oligomers, oligomers of the polyfunctional derivatives. Examples thereof include oligomers. In particular, it is preferable to use a methyl methacrylate in which a polyfunctional (meth) acrylate derivative and optionally an oligomer of these monomers are added. Further, benzoyl peroxide, benzoin, benzoin ether, etc. are used as the photopolymerization initiator.

【0031】液晶用照明装置における集光シートとして
本発明の光学シートを利用する場合の態様としては、例
えば図5〜7に示すように液晶のバックライトの一構成
要素として使用することができるが、照明装置の構成に
は格別の制限はない。図5では拡散シート11の下に集
光シート12を置いた形で使用しているが、拡散シート
の上に集光シートを置く形でも使用できる(例えば図
6、図7参照)。勿論、集光シートは複数枚使用するこ
ともできる。
As a mode in which the optical sheet of the present invention is used as a light-condensing sheet in a liquid crystal lighting device, it can be used as one component of a liquid crystal backlight as shown in FIGS. There are no particular restrictions on the configuration of the lighting device. In FIG. 5, the light collecting sheet 12 is placed under the diffusion sheet 11, but the light collecting sheet may be placed on the diffusion sheet (see FIGS. 6 and 7). Of course, a plurality of light collecting sheets can be used.

【0032】マイクロレンズアレイの形状としては、集
光シートにおける素レンズの占有面積率を高めるという
観点からは四角柱(正方形または矩形柱)を溶融して得
たものが好ましい。また、バー状レンズアレイの場合
は、複数枚を縦横交差して積層することにより、集光の
方向を調整することができる。
The shape of the microlens array is preferably obtained by melting a quadrangular prism (square or rectangular prism) from the viewpoint of increasing the occupation area ratio of the elementary lenses in the light condensing sheet. Further, in the case of the bar-shaped lens array, the direction of light collection can be adjusted by stacking a plurality of sheets in a vertical and horizontal manner.

【0033】本発明の光学シートに反射光を利用する場
合は、警告用表示板などの表面に貼り付れば、入射光を
種々の角度に反射するので、人の注意を充分引きつける
ことができる。
When reflected light is used in the optical sheet of the present invention, if it is attached to the surface of a warning display plate or the like, the incident light is reflected at various angles, so that the attention of a person can be sufficiently drawn. .

【0034】本発明の実施態様を示せば、つぎのとおり
である。 (1) 径、高さおよびピッチがいずれも0.1〜10
0μmのマイクロレンズアレイ集合体シートからなるこ
とを特徴とする光学シート。 (2) 径、高さおよびピッチがいずれも0.1〜50
μmである前項(1)記載の光学シート。 (3) 径、高さおよびピッチがいずれも0.1〜20
μmである前項(1)記載の光学シート。 (4) 透明性の熱可塑性樹脂からなる前項(1)、
(2)または(3)記載の光学シート。 (5) 光重合性樹脂からなる前項(1)、(2)また
は(3)記載の光学シート。 (6) 径をaμm、高さをcμm、ピッチをdμmと
したとき、
The embodiment of the present invention is as follows. (1) Diameter, height and pitch are all 0.1 to 10
An optical sheet comprising a microlens array assembly sheet of 0 μm. (2) Diameter, height and pitch are all 0.1 to 50
The optical sheet according to the above item (1), which has a thickness of μm. (3) Diameter, height and pitch are all 0.1 to 20
The optical sheet according to the above item (1), which has a thickness of μm. (4) The above item (1), which comprises a transparent thermoplastic resin,
The optical sheet according to (2) or (3). (5) The optical sheet as described in (1), (2) or (3) above, which comprises a photopolymerizable resin. (6) When the diameter is a μm, the height is c μm, and the pitch is d μm,

【数5】d/2≦a≦d ………(1) c≧a/4 ………(2) の関係を満足するものである前項(1)、(2)、
(3)、(4)または(5)記載の光学シート。 (7) 幅、高さおよびピッチがいずれも0.1〜10
0μmのバー状レンズアレイシートからなることを特徴
とする光学シート。 (8) 幅、高さおよびピッチがいずれも0.1〜50
μmである前項(7)記載の光学シート。 (9) 幅、高さおよびピッチがいずれも0.1〜20
μmである前項(7)記載の光学シート。 (10) 透明性の熱可塑性樹脂からなる前項(7)、
(8)または(9)記載の光学シート。 (11) 光重合性樹脂からなる前項(7)、(8)また
は(9)記載の光学シート。 (12) 幅bμm、高さcμm、ピッチdμmとしたと
き、
## EQU5 ## d / 2 ≦ a ≦ d (1) c ≧ a / 4 (2), which satisfies the relationship (1), (2),
The optical sheet according to (3), (4) or (5). (7) All of width, height and pitch are 0.1 to 10
An optical sheet comprising a bar-shaped lens array sheet of 0 μm. (8) All of width, height and pitch are 0.1 to 50
The optical sheet according to the above item (7), which has a thickness of μm. (9) All of width, height and pitch are 0.1 to 20
The optical sheet according to the above item (7), which has a thickness of μm. (10) The previous item (7) consisting of a transparent thermoplastic resin,
The optical sheet according to (8) or (9). (11) The optical sheet as described in (7), (8) or (9) above, which comprises a photopolymerizable resin. (12) When the width is b μm, the height is c μm, and the pitch is d μm,

【数6】d/2≦b≦d ………(3) c≧b/4 ………(4) の関係を満足するものである前項(7)、(8)、
(9)、(10)または(11)記載の光学シート。 (13) 前項(1)、(2)、(3)、(4)、
(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、
(11)または(12)記載の光学シートよりなる集光
シート。
## EQU6 ## d / 2 ≦ b ≦ d (3) c ≧ b / 4 (4), which satisfies the relationship (7), (8),
The optical sheet according to (9), (10) or (11). (13) (1), (2), (3), (4),
(5), (6), (7), (8), (9), (10),
A light-condensing sheet comprising the optical sheet according to (11) or (12).

【0035】[0035]

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れにより限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0036】実施例1 1−1 マスターの作製 4インチ径のシリコンウエハー上に、ノボラック系ポジ
型フォトレジスト(日本ゼオン株式会社製ZPP320
0)をスピン塗布し、ホットプレート上にて100℃で
90秒間乾燥して、膜厚2.3μmのフォトレジスト層
を設けた。次いで、フォトレジスト層に所定のパターン
を有するフォトマスクを密着し、紫外線焼き付け装置
(キャノン株式会社製PLA501F、250W超高圧
水銀灯付き)にて約7秒間紫外線を照射した。この後、
2.38重量%のテトラメチルアンモニウムハイドロキ
サイド水溶液にて90秒間現像し、次いで純水にてリン
スを行った。得られたパターンは、縦横各4μm、高さ
2.3μmの寸法を有する略四角柱が、縦横両方向各
0.5μmのスペースを介して配列されたものであっ
た。次に、上記レジストパターンを有するシリコンウエ
ハーをホットプレート上で180℃で10分間加熱し、
所望の曲面を有するレンズ状のパターンを得た。
Example 1 1-1 Preparation of Master A novolac-based positive photoresist (ZPP320 manufactured by Zeon Corporation of Japan) was formed on a silicon wafer having a diameter of 4 inches.
0) was spin-coated and dried on a hot plate at 100 ° C. for 90 seconds to form a photoresist layer having a film thickness of 2.3 μm. Then, a photomask having a predetermined pattern was brought into close contact with the photoresist layer and irradiated with ultraviolet rays for about 7 seconds by an ultraviolet baking device (PLA501F manufactured by Canon Inc., equipped with a 250 W ultra-high pressure mercury lamp). After this,
It was developed for 90 seconds with a 2.38 wt% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution, and then rinsed with pure water. The obtained pattern was formed by arranging substantially rectangular prisms each having a length and width of 4 μm and a height of 2.3 μm with a space of 0.5 μm in each of the length and width directions. Next, the silicon wafer having the above resist pattern is heated on a hot plate at 180 ° C. for 10 minutes,
A lenticular pattern having a desired curved surface was obtained.

【0037】1−2 スタンパーの作製 実施例1−1で作製したマスター上に、蒸着により厚さ
2000Åの銀の層を設けた後、スルファミン酸ニッケ
ルを主成分とする電解液中で厚さ1mmのニッケルを電
着した。次いで、ニッケル層をレジスト層より分離した
後、表面の銀をクロム酸水溶液で除去して、所望のパタ
ーンを有するスタンパーを得た。
1-2 Preparation of Stamper After a silver layer having a thickness of 2000 Å was provided on the master prepared in Example 1-1 by vapor deposition, the thickness of 1 mm was obtained in an electrolytic solution containing nickel sulfamate as a main component. Of nickel was electrodeposited. Then, after separating the nickel layer from the resist layer, the silver on the surface was removed with a chromic acid aqueous solution to obtain a stamper having a desired pattern.

【0038】1−3 光学シートの製造 得られたスタンパーを金型表面に用い、射出成形法によ
り厚さ1mmのポリカーボネート製マイクロレンズアレ
イのシートを作成した。
1-3 Production of Optical Sheet Using the obtained stamper on the surface of the mold, a sheet of polycarbonate microlens array having a thickness of 1 mm was prepared by injection molding.

【0039】1−4 光学シートの利用 管径15mmの15ワットの蛍光灯2本を12mmの空
間をおいて平行に並べた照明装置の前面にアクリル樹脂
製の導光板を配置し、更にこの前面に乳白色のアクリル
樹脂製拡散板を置き、その前面に実施例1−3で得られ
たマイクロレンズアレイのシートを置いた。このシート
の垂直上方35cmの位置15点における輝度を測定し
た結果、マイクロレンズアレイのシートを置かない場合
に比して平均18.0%の輝度の向上がみられた。ま
た、輝度のばらつき(相対標準偏差)は4%と小さかっ
た。
1-4 Use of Optical Sheet A light guide plate made of acrylic resin is arranged on the front surface of an illuminating device in which two 15-watt fluorescent lamps having a tube diameter of 15 mm are arranged in parallel with each other with a space of 12 mm. A milky white acrylic resin diffuser plate was placed in the above, and the microlens array sheet obtained in Example 1-3 was placed on the front surface thereof. As a result of measuring the luminance at 15 points at a position 35 cm vertically above this sheet, an average 18.0% improvement in luminance was observed as compared with the case where the sheet of the microlens array was not placed. In addition, the variation in luminance (relative standard deviation) was as small as 4%.

【0040】実施例2 2−1 マスターの作製 4インチ径のシリコンウエハー上に、環化ポリイソプレ
ン系ネガ型レジスト(日本ゼオン株式会社製ZPN10
3)をスピン塗布し、ホットプレート上にて90℃で9
0秒間乾燥して、膜厚2.5μmのフォトレジスト層を
設けた。次いで、フォトレジスト層に所定のパターンを
有するフォトマスクを密着し、実施例1−1で使用した
紫外線焼き付け装置(光学フィルターUC−20付き)
にて約6秒間紫外線を照射した。この後、ノルマルヘプ
タン/酢酸ノルマルブチル混合液(50/50容量%)
にて1分間現像し、次いで酢酸ノルマルブチルにてリン
スを行った。得られたパターンは、上方よりみて縦横各
6μmの略正方形が、縦横両方向各1.5μmのスペー
スを介して配列されたものであった。次に、上記レジス
トパターンを有するシリコンウエハーをホットプレート
上で160℃で2分間加熱し、所望の曲面を有するレン
ズ状のパターンを得た。
Example 2 2-1 Preparation of Master A cyclized polyisoprene negative resist (ZPN10 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was formed on a 4-inch diameter silicon wafer.
3) is applied by spin coating, and it is 9 at 90 ° C on a hot plate.
After drying for 0 seconds, a photoresist layer having a film thickness of 2.5 μm was provided. Then, a photomask having a predetermined pattern was brought into close contact with the photoresist layer, and the ultraviolet baking apparatus used in Example 1-1 (with an optical filter UC-20).
UV irradiation for about 6 seconds. Then, a normal heptane / normal butyl acetate mixed solution (50/50% by volume)
Development was carried out for 1 minute, followed by rinsing with normal butyl acetate. The obtained pattern was such that substantially squares of 6 μm each in the vertical and horizontal directions were arrayed through spaces of 1.5 μm in each of the vertical and horizontal directions when viewed from above. Next, the silicon wafer having the above resist pattern was heated on a hot plate at 160 ° C. for 2 minutes to obtain a lens-shaped pattern having a desired curved surface.

【0041】2−2 スタンパーの作製 実施例2−1で作製したマスターを用いて、実施例1−
2と同様にして所望のパターンを有するスタンパーを得
た。
2-2 Production of Stamper Example 1-using the master produced in Example 2-1
A stamper having a desired pattern was obtained in the same manner as in 2.

【0042】2−3 光学シートの製造 スタンパーと、厚さ0.25mmのポリカーボネートの
シートの間に、下記組成の混合物を注入し、次いでポリ
カーボネートのシートを通して紫外線を照射して重合反
応を行った。ポリカーボネートのシートと合体して硬化
した樹脂をスタンパーから剥離してマイクロレンズアレ
イのシートを得た。 メチルメタクリレート 81重量部 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 17重量部 ベンゾインブチルエーテル 2重量部
2-3 Production of Optical Sheet A mixture having the following composition was injected between a stamper and a polycarbonate sheet having a thickness of 0.25 mm, and ultraviolet rays were irradiated through the polycarbonate sheet to carry out a polymerization reaction. The resin that was combined with the polycarbonate sheet and cured was peeled from the stamper to obtain a microlens array sheet. Methyl methacrylate 81 parts by weight 1,6-hexanediol diacrylate 17 parts by weight Benzoin butyl ether 2 parts by weight

【0043】2−4 光学シートの利用 実施例1−4と同様に、ただしマイクロレンズアレイの
シートとして2−3で得られたシートを用いて上方35
cmの15点における輝度を測定した結果、マイクロレ
ンズアレイのシートを置かない場合に比して平均11.
4%の輝度の向上がみられた。また、輝度のばらつき
(相対標準偏差)は6%と小さかった。
2-4 Utilization of Optical Sheet As in Example 1-4, except that the sheet obtained in 2-3 was used as the sheet of the microlens array and the upper 35
As a result of measuring the luminance at 15 points of 10 cm, an average of 11.
The brightness was improved by 4%. Further, the variation in brightness (relative standard deviation) was as small as 6%.

【0044】比較例1 機械加工により作成した凹状の径2mmの半球をピッチ
4mmで縦横に配したスタンパーを用いた金型により、
実施例2−3と同様にしてポリカーボネートのシートに
凸状のレンズアレイを形成した。このシートを用いて実
施例1−4と同様にして輝度を測定した結果、レンズア
レイのシートを置かない場合に比して平均6%の輝度の
向上が見られた。輝度のばらつき(相対標準偏差)は1
7%と大きかった。また、レンズの形状がはっきりと視
認された。
Comparative Example 1 A mold using a stamper in which concave-shaped hemispheres having a diameter of 2 mm and arranged vertically and horizontally with a pitch of 4 mm were prepared by machining.
A convex lens array was formed on a polycarbonate sheet in the same manner as in Example 2-3. As a result of measuring the luminance using this sheet in the same manner as in Example 1-4, it was found that the luminance was improved by 6% on average as compared with the case where the lens array sheet was not placed. Brightness variation (relative standard deviation) is 1
It was as large as 7%. Also, the shape of the lens was clearly visible.

【0045】[0045]

【発明の効果】 1) 本発明は、レジスト層の加熱により流動化してレ
ジストの表面張力により発生する曲面を利用し、簡単に
微細、かつ均一な曲面を形成するので、径または幅、高
さおよびピッチを100μm以下、好ましくは50μm
以下、更に好ましくは20μmとすることが可能とな
り、これにより従来の集光シートより一層輝度の面内均
一性を高めることができた。 2) 本発明の光学シートを反射光に対して使用すれ
ば、レンズ集合体の精度が高いので面全体の反射の均一
性に優れたものとなった。
EFFECTS OF THE INVENTION 1) Since the present invention utilizes a curved surface generated by the surface tension of the resist by fluidizing by heating the resist layer, a fine and uniform curved surface can be easily formed. And the pitch is 100 μm or less, preferably 50 μm
Hereafter, it is possible to further preferably set the thickness to 20 μm, which makes it possible to further improve the in-plane uniformity of the luminance as compared with the conventional light-condensing sheet. 2) When the optical sheet of the present invention is used for reflected light, the accuracy of the lens assembly is high, and therefore the uniformity of reflection on the entire surface is excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のスタンパー製造工程(a)〜(i)の
概念図を示す。
FIG. 1 is a conceptual diagram of stamper manufacturing steps (a) to (i) of the present invention.

【図2】本発明に用いる光学シートの1例であるマイク
ロレンズアレイの部分平面図である。
FIG. 2 is a partial plan view of a microlens array which is an example of an optical sheet used in the present invention.

【図3】図2の断面図である。3 is a cross-sectional view of FIG.

【図4】本発明に用いる光学シートの1例であるバー状
マイクロレンズアレイの部分的斜視図である。
FIG. 4 is a partial perspective view of a bar-shaped microlens array which is an example of an optical sheet used in the present invention.

【図5】本発明の液晶用照明装置の1構成例を示す断面
図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing one structural example of a liquid crystal lighting device of the present invention.

【図6】マイクロフレネルレンズの構造を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a sectional view showing a structure of a micro Fresnel lens.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基体 2 フォトレジスト形成用層 2′ レジスト層 3 遮光層 4 ガラス板 5 フォトマスク 6 導電性金属層 7 金属層 11 拡散シート 12 集光シート 13 導光板 14 反射板 15 蛍光灯又は冷隠極管 16 反射板 17 フレーム a 直径 b 幅 c 高さ d ピッチ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 Photoresist forming layer 2'Resist layer 3 Light-shielding layer 4 Glass plate 5 Photomask 6 Conductive metal layer 7 Metal layer 11 Diffusion sheet 12 Condensing sheet 13 Light guide plate 14 Reflector 15 Fluorescent lamp or cold concealed tube 16 Reflector 17 Frame a Diameter b Width c Height d Pitch

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 径、高さおよびピッチがいずれも0.1
〜100μmのマイクロレンズアレイからなることを特
徴とする光学シート。
1. The diameter, height and pitch are all 0.1.
An optical sheet comprising a microlens array of -100 μm.
【請求項2】 径をaμm、高さをcμm、ピッチをd
μmとしたとき、 【数1】d/2≦a≦d ………(1) c≧a/4 ………(2) の関係を満足するものである請求項1記載の光学シー
ト。
2. The diameter is a μm, the height is c μm, and the pitch is d.
The optical sheet according to claim 1, wherein, when μm, the following relationship is satisfied: d / 2 ≦ a ≦ d (1) c ≧ a / 4 (2)
【請求項3】 幅、高さおよびピッチがいずれも0.1
〜100μmのバー状レンズアレイからなることを特徴
とする光学シート。
3. The width, height and pitch are all 0.1.
An optical sheet comprising a bar-shaped lens array of -100 μm.
【請求項4】 幅bμm、高さcμm、ピッチdμmと
したとき、 【数2】d/2≦b≦d ………(3) c≧b/4 ………(4) の関係を満足するものである請求項3記載の光学シー
ト。
4. When the width is b μm, the height is c μm, and the pitch is d μm, the following relationship is satisfied: d / 2 ≦ b ≦ d (3) c ≧ b / 4 (4) The optical sheet according to claim 3, wherein
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