JPH07328933A - Abrasive sheet and manufacture thereof - Google Patents

Abrasive sheet and manufacture thereof

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JPH07328933A
JPH07328933A JP14875294A JP14875294A JPH07328933A JP H07328933 A JPH07328933 A JP H07328933A JP 14875294 A JP14875294 A JP 14875294A JP 14875294 A JP14875294 A JP 14875294A JP H07328933 A JPH07328933 A JP H07328933A
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polishing
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soluble solid
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Abstract

PURPOSE:To carry out the precise polishing in one stage by mixing abrasive grains, soluble solid grains, and a binder adhesive to form the slurry used for polishing. CONSTITUTION:The slurry 5 mixed with abrasive grains 2, soluble solid grains 3, and a binder adhesive 4 is applied on a base sheet 1 to form an abrasive sheet 10. A nonwoven fabric or the like is used for the base sheet 1. Diamonds or the like are used for the abrasive grains 2. Ammonium sulfate or the like is used for the soluble solid grains 3, and the weight mixing ratio between the abrasive grains 2 and the soluble solid grains 3 is set to 1: 9-9:1. Polyester or polyurethane is used for the binder adhesive 4. An elastic material is used for the base sheet 1 and the binder adhesive 4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバー端面の研
磨、液晶表示板用ガラス表面の研磨、磁気ハードディス
クの研磨、磁気ディスク、またはレンズ、その他精密な
仕上研磨に使用される研磨シートおよびその製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing sheet used for polishing an end face of an optical fiber, polishing a glass surface for a liquid crystal display panel, polishing a magnetic hard disk, a magnetic disk or a lens, and other precision finishing polishing, and a production thereof. Regarding the method.

【0002】[0002]

【従来技術】従来、精密な研磨は、遊離した研磨材粒子
を使用するか、または研磨シートを使用して行われてい
た。
2. Description of the Related Art Heretofore, precision polishing has been performed by using loose abrasive particles or by using a polishing sheet.

【0003】遊離した研磨材粒子を使用した研磨方法
は、起毛布等の研磨布表面に研磨材粒子を冷却液と共に
滴下し、その表面上に被研磨物を圧接して研磨を行とい
うものであり、研磨シートを使用した研磨方法は、プラ
スチックフィルム等の基板シート上に研磨材粒子を固定
的に接着し、研磨シートの表面に被研磨物を圧接して研
磨を行うというものであった。
A polishing method using loose abrasive particles is carried out by dropping abrasive particles together with a cooling liquid onto the surface of a polishing cloth such as a raised cloth, and pressing an object to be polished onto the surface to perform polishing. However, the polishing method using a polishing sheet has been one in which abrasive particles are fixedly adhered to a substrate sheet such as a plastic film, and an object to be polished is pressed against the surface of the polishing sheet to perform polishing.

【0004】[0004]

【発明の解決しようとする課題】しかし、遊離した研磨
材粒子を使用した研磨では、遊離した研磨材粒子が研磨
布上を転がるので被研磨物表面にスクラッチを生じさせ
ず被研磨物表面を比較的滑らかに研磨できるが、研削力
が小さいため、遊離した研磨材粒子を使用した研磨を行
う前に粗研磨を行わなければならないという2段階の研
磨工程が必要であり、研磨に時間がかかっていた。
However, in polishing using loose abrasive particles, since the loose abrasive particles roll on the polishing cloth, scratches do not occur on the surface of the object to be polished and the surface of the object to be polished is compared. Although it can be polished smoothly, it requires a two-step polishing process, in which rough polishing must be performed before polishing using loose abrasive particles because the grinding force is small, and it takes time to polish. It was

【0005】また、遊離した研磨材粒子を使用した研磨
において、時間的に間隔をあけて研磨材粒子を冷却液と
共に滴下すると被研磨物表面に波形の凹凸を生じさせ、
研磨材の滴下を連続的に行うと冷却液が研磨材粒子の被
研磨物表面への圧接を妨げ、研磨効率を著しく低下させ
る。
Further, in polishing using loose abrasive particles, when abrasive particles are dropped together with a cooling liquid at a time interval, corrugated irregularities are generated on the surface of the object to be polished,
When the abrasive is continuously dropped, the cooling liquid impedes the pressure contact of the abrasive particles with the surface of the object to be polished, and the polishing efficiency is significantly reduced.

【0006】研磨シートを使用した研磨では、研削力が
あり、被研磨物表面を平坦に研磨できるが、研磨材粒子
がバインダー接着剤で基板シートに強固に固着されてい
るため、研磨シート表面上に突出した研磨材粒子が被研
磨物表面に鋭角で接触したままの状態で被研磨物表面を
擦るために被研磨物表面にスクラッチを生じさせてい
た。
In the polishing using the polishing sheet, there is a grinding force and the surface of the object to be polished can be polished flatly, but since the abrasive particles are firmly fixed to the substrate sheet by the binder adhesive, the surface of the polishing sheet is The abrasive particles protruding to the surface rub against the surface of the object to be polished while being in contact with the surface of the object to be polished at an acute angle, causing scratches on the surface of the object to be polished.

【0007】したがって、本発明の目的は、粗研磨およ
び仕上研磨という2段階の研磨工程を行わず、1段階の
研磨工程で、被研磨物表面に波形の凹凸やスクラッチを
生じさせずに精密な研磨ができる研磨シートおよびその
製造方法を提供することである。
Therefore, the object of the present invention is not to perform the two-step polishing steps of rough polishing and finish polishing, but to perform precise polishing without causing wavy unevenness or scratches on the surface of the object to be polished in the single-step polishing step. An object of the present invention is to provide a polishing sheet that can be polished and a manufacturing method thereof.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、基板シートにスラリーを塗布して成る研
磨シートにおいて、スラリーが、研磨材粒子と、可溶性
固体粒子と、バインダー接着剤とを混合したものである
ことを特徴とする研磨シートである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a polishing sheet obtained by applying a slurry to a substrate sheet, wherein the slurry comprises abrasive particles, soluble solid particles, and a binder adhesive. It is a polishing sheet characterized by being a mixture of and.

【0009】ここで、可溶性固体粒子は好適に、硫酸ア
ンモニウム、尿素、サッカロース、アンモニウム鉄明
礬、アンモニウム・クロム鉄明礬、硫酸アンモニウム、
または硫酸亜鉛であり、塩、錯塩、有機結晶、その他の
可溶物であってもよい。
The soluble solid particles are preferably ammonium sulfate, urea, saccharose, ammonium iron alum, ammonium chromium iron alum, ammonium sulfate,
Alternatively, it is zinc sulfate, and may be a salt, a complex salt, an organic crystal, or another soluble substance.

【0010】研磨材粒子と可溶性固体粒子との重量混合
比は1:9から9:1の範囲にある。 本発明の上記研
磨シートの製造方法は、スラリーを製造する工程と、ス
ラリーを基板シートに塗布する工程とから成る研磨シー
トの製造方法において、スラリーを製造する工程が、研
磨材粒子とバインダー接着剤とを混合する工程と、研磨
材粒子とバインダー接着剤との混合物に可溶性固体粒子
を更に加えて混合する工程とから成る、研磨シートの製
造方法。
The weight mixing ratio of abrasive particles and soluble solid particles is in the range of 1: 9 to 9: 1. The method for producing a polishing sheet of the present invention is a method for producing a polishing sheet, which comprises a step of producing a slurry and a step of applying a slurry to a substrate sheet, wherein the step of producing a slurry comprises abrasive particles and a binder adhesive. And a step of further adding soluble solid particles to a mixture of abrasive particles and a binder adhesive and mixing them.

【0011】本発明の上記研磨シートを使用する研磨方
法は、上記研磨シートのスラリーに冷却液を吹き付ける
工程と、上記研磨シートを被研磨靴表面に圧接させ、走
行させる工程とから成る。ここで、スラリーの研磨材粒
子の周りの可溶性固体粒子がスラリーに冷却液を吹きか
けることによって溶解し、研磨材粒子が上記研磨シート
から分離することなく容易に動くことができるようにな
る。
The polishing method using the polishing sheet of the present invention comprises the steps of spraying a cooling liquid on the slurry of the polishing sheet and pressing the polishing sheet against the surface of the shoe to be polished and running it. Here, the soluble solid particles around the abrasive particles of the slurry are dissolved by spraying a cooling liquid on the slurry, and the abrasive particles can easily move without separating from the abrasive sheet.

【0012】[0012]

【作用】本発明の、研磨材粒子と、可溶性固体粒子と、
バインダー接着剤とを混合したスラリーを基板シートに
塗布して成る研磨シートを被研磨物表面に圧接させなが
ら走行させ、冷却液を研磨シートに吹きかけて研磨を行
うと、可溶性固体粒子が軟質であることから研磨時に被
研磨物を圧接すると磨砕(つまり、研磨によって可溶性
固体粒子が粉砕される)し、冷却液がスラリーに吹きか
けられるとスラリーの可溶性固体粒子が溶解するので、
短時間で研磨シート表面の可溶性固体粒子は消滅する。
Function: Abrasive particles, soluble solid particles of the present invention,
When a polishing sheet formed by applying a slurry mixed with a binder adhesive to a substrate sheet is pressed against the surface of an object to be polished, and a cooling liquid is sprayed onto the polishing sheet to perform polishing, the soluble solid particles are soft. Therefore, when the object to be polished is pressed during polishing, it is ground (that is, the soluble solid particles are ground by polishing), and when the cooling liquid is sprayed on the slurry, the soluble solid particles of the slurry are dissolved.
The soluble solid particles on the surface of the polishing sheet disappear in a short time.

【0013】また、研磨材粒子は硬質であり、スラリー
に冷却液を吹きかけても溶解せず、研磨材粒子の周りの
可溶性固体粒子が上述のように溶解し、基板シートおよ
びバインダー接着剤には弾力性のあるものが使用されて
いるので、研磨材粒子が動き易くなり、研磨において、
研磨材粒子が被研磨物表面に弾力的に作用する。このと
き、研磨材粒子が研磨シートから分離されることがな
い。
Further, the abrasive particles are hard, do not dissolve even when the cooling liquid is sprayed on the slurry, and the soluble solid particles around the abrasive particles dissolve as described above, and the abrasive particles are not adhered to the substrate sheet and the binder adhesive. Since an elastic material is used, the abrasive particles move easily, and during polishing,
The abrasive particles act elastically on the surface of the object to be polished. At this time, the abrasive particles are not separated from the polishing sheet.

【0014】[0014]

【実施例】図1は、本発明の研磨シートを示す。EXAMPLE FIG. 1 shows a polishing sheet of the present invention.

【0015】図1に示すように、本発明の研磨シート1
0は、研磨材粒子2と、可溶性固体粒子3と、バインダ
ー接着剤4とを混合したスラリー5を基板シート1上に
塗布して成る。
As shown in FIG. 1, the polishing sheet 1 of the present invention.
In No. 0, the slurry 5 in which the abrasive particles 2, the soluble solid particles 3, and the binder adhesive 4 are mixed is applied onto the substrate sheet 1.

【0016】基板シート1は、不織布、電植布(つま
り、静電気を利用して基板シート上に植毛したもの)、
起毛布、ポリウレタンフォームフィルム、またはポリエ
ステルフィルム等が使用できる。
The substrate sheet 1 is made of a non-woven fabric, an electrografted fabric (that is, a sheet of hair is planted on the substrate sheet by using static electricity),
A raised cloth, a polyurethane foam film, a polyester film, or the like can be used.

【0017】研磨材粒子2は、ダイアモンド(C)、参
加アルミニウム(Al23)、シリコンカーバイド(S
iC)、酸化鉄(Fe23)、酸化クロム(Cr
23)、または酸化セリウム(CeO2)等である。
Abrasive particles 2 are diamond (C), participating aluminum (Al 2 O 3 ), silicon carbide (S
iC), iron oxide (Fe 2 O 3 ), chromium oxide (Cr
2 O 3 ) or cerium oxide (CeO 2 ) or the like.

【0018】可溶性固体粒子3は、硫酸アンモニウム
[(NH42SO4]、尿素[CO(NH22]、サッ
カロース(C122211)、アンモニウム鉄明礬[(N
42SO4・Fe2(SO43・24H2O]、アンモ
ニウム・クロム鉄明礬[(NH42SO4・Al2(SO
43・24H2O]、硫酸アルミニウム[Al2(S
43・18H2O]、硫酸亜鉛(ZnSO4・7H
2O)等である。
The soluble solid particles 3 include ammonium sulfate [(NH 4 ) 2 SO 4 ], urea [CO (NH 2 ) 2 ], sucrose (C 12 H 22 O 11 ), ammonium iron alum [(N
H 4 ) 2 SO 4 · Fe 2 (SO 4 ) 3 / 24H 2 O], Ammonium / chromium iron alum [(NH 4 ) 2 SO 4 · Al 2 (SO
4 ) 3・ 24H 2 O], aluminum sulfate [Al 2 (S
O 4 ) 3・ 18H 2 O], zinc sulfate (ZnSO 4・ 7H
2 O) etc.

【0019】バインダー接着剤4は、ポリエステル・ポ
リウレタン系、塩化ビニル・アクリル系、塩化ビニル・
酢酸ビニル系、またはポリエステル系樹脂接着剤が使用
できる。
The binder adhesive 4 is polyester / polyurethane type, vinyl chloride / acrylic type, vinyl chloride /
A vinyl acetate-based or polyester-based resin adhesive can be used.

【0020】基板シート1およびバインダー接着剤4に
は、弾力性のあるものが使用されている。
As the substrate sheet 1 and the binder adhesive 4, those having elasticity are used.

【0021】研磨材粒子2と可溶性固体粒子3との重量
混合比は、約1:9から9:1の範囲にある。
The weight mixing ratio of the abrasive particles 2 and the soluble solid particles 3 is in the range of about 1: 9 to 9: 1.

【0022】本発明の上記研磨シート10の製造方法
は、スラリー5を調製する工程と、スラリー5を基板シ
ート1上に塗布する工程とから成る研磨シートの製造方
法において、スラリー5を調製する工程が、研磨材粒子
2とバインダー接着剤4とを混合する工程と、その後、
更に可溶性固体粒子3を加えて混合する工程とから成る
ことを特徴とする。
The method for producing the polishing sheet 10 of the present invention comprises a step of preparing the slurry 5 and a step of applying the slurry 5 onto the substrate sheet 1 to prepare the slurry 5. Is a step of mixing the abrasive particles 2 and the binder adhesive 4, and thereafter,
Further, the step of adding and mixing the soluble solid particles 3 is included.

【0023】図2は、本発明の研磨シートによる研磨方
法を示す。
FIG. 2 shows a polishing method using the polishing sheet of the present invention.

【0024】図2に示すように、本発明の研磨シート1
0による研磨方法は、スラリー5に冷却液6を吹きかけ
た研磨シート10を被研磨物7の表面に圧接し、走行
(図2の矢印9の方向)させるものであって、スラリー
5に冷却水6を吹きかけて可溶性固体粒子3を溶解さ
せ、研磨材粒子2の周りの可溶性固体粒子3の粒径を小
さく(図2の符号3′を参照)し、バインダー接着剤4
が弾力性のあるものであることから、研磨材粒子2が研
磨シート10から分離することなく容易に動くことがで
きるようにし、研磨シート10を走行させた(矢印9の
方向)とき、研磨材粒子2が被研磨物7の表面と接触し
て回転(矢印8の方向)され、研磨材粒子2の被研磨物
7の表面に対する接触角度が緩やかなものになるという
ものである。
As shown in FIG. 2, the polishing sheet 1 of the present invention.
In the polishing method by 0, the polishing sheet 10 in which the cooling liquid 6 is sprayed on the slurry 5 is brought into pressure contact with the surface of the object to be polished 7 and is run (in the direction of arrow 9 in FIG. 2). 6, the soluble solid particles 3 are dissolved to reduce the particle diameter of the soluble solid particles 3 around the abrasive particles 2 (see reference numeral 3'in FIG. 2), and the binder adhesive 4
Is elastic, so that the abrasive particles 2 can easily move without separating from the abrasive sheet 10, and when the abrasive sheet 10 is run (in the direction of arrow 9), the abrasive material is The particles 2 come into contact with the surface of the object to be polished 7 and are rotated (in the direction of arrow 8), so that the contact angle of the abrasive particles 2 with respect to the surface of the object to be polished 7 becomes gentle.

【0025】本発明の研磨シートの実施例を以下に詳細
に述べる。
Examples of the polishing sheet of the present invention will be described in detail below.

【0026】[実施例1] 本発明の、光ファイバーの
端面研磨用の研磨シートを以下のとおりに製造した。
Example 1 A polishing sheet for polishing the end face of an optical fiber according to the present invention was manufactured as follows.

【0027】平均粒径1μmの酸化セリウム粒子の研磨
材粒子と、ポリエステル・ポリウレタン系接着剤とを混
合撹拌し、次いで、平均粒径1μmの硫酸アンモニウム
の結晶粒子の可溶性固体粒子を加えて混合し、スラリー
を製造した。
Abrasive particles of cerium oxide particles having an average particle size of 1 μm and polyester / polyurethane adhesive were mixed and stirred, and then soluble solid particles of ammonium sulfate crystal particles having an average particle size of 1 μm were added and mixed, A slurry was produced.

【0028】このとき、酸化セリウム粒子と硫酸アンモ
ニウム粒子との重量混合比は2:3であった。
At this time, the weight mixing ratio of the cerium oxide particles and the ammonium sulfate particles was 2: 3.

【0029】硫酸アンモニウムの結晶粒子は、エタノー
ル、アセトン等の有機溶媒には不溶であることから有機
溶媒を含むバインダー接着剤と混合することができ、ま
た、この結晶粒子は水によく溶ける。
Since ammonium sulfate crystal particles are insoluble in organic solvents such as ethanol and acetone, they can be mixed with a binder adhesive containing an organic solvent, and the crystal particles are well soluble in water.

【0030】酸化セリウム粒子とポリエステル・ポリウ
レタン系接着剤との混合撹拌において、酸化セリウム粒
子が凝集すると光ファイバーの表面に凹凸を生じさせて
しまうので、これらの混合撹拌な丹念に行われた。
In the mixing and stirring of the cerium oxide particles and the polyester / polyurethane adhesive, since the cerium oxide particles aggregate to form irregularities on the surface of the optical fiber, these mixing and stirring were carefully performed.

【0031】酸化セリウム粒子とポリエステル・ポリウ
レタン系接着剤との混合物と、硫酸アンモニウム粒子と
の混合が長時間行われると硫酸アンモニウム粒子が磨砕
するので、短時間撹拌し、粘度80cpから150cp
の範囲のスラリーとした。
When the mixture of the cerium oxide particles and the polyester / polyurethane adhesive is mixed with the ammonium sulfate particles for a long time, the ammonium sulfate particles are ground, so that the mixture is stirred for a short time and the viscosity is from 80 cp to 150 cp.
It was set as the slurry of the range.

【0032】このスラリーを、厚さ50μmのポリウレ
タンフォームフィルムの基板シート上に、スラリーの厚
さが約4μmになるように均一に塗布し、90°C以下
の温度で乾燥させて、本発明の、光ファイバー用の研磨
シートを製造した。
This slurry was uniformly applied onto a substrate sheet of a polyurethane foam film having a thickness of 50 μm so that the thickness of the slurry would be about 4 μm, and dried at a temperature of 90 ° C. or less to obtain the slurry of the present invention. A polishing sheet for optical fiber was manufactured.

【0033】この研磨シートを使用した光ファイバー端
面の研磨は、冷却液に水を使用し、冷却液を吹きかけた
研磨シートを光ファイバー端面に圧接し、走行させて研
磨した。
In the polishing of the end face of the optical fiber using this polishing sheet, water was used as the cooling liquid, and the polishing sheet sprayed with the cooling liquid was pressed against the end face of the optical fiber to run and polish.

【0034】[実施例2] 本発明の、液晶表示板用ガ
ラス表面の研磨のための研磨シートを以下のとおりに製
造した。
Example 2 A polishing sheet for polishing a glass surface for a liquid crystal display plate of the present invention was manufactured as follows.

【0035】平均粒径2μmの酸化セリウム粒子の研磨
材粒子と、塩化ビニル・酢酸ビニル系接着剤とを撹拌混
合し、次いで、平均粒径3μmの尿素結晶粒子の可溶性
固体粒子を加えて撹拌混合し、粘度80cpから150
cpの範囲のスラリーを製造した。
Abrasive particles of cerium oxide particles having an average particle size of 2 μm and a vinyl chloride / vinyl acetate adhesive are mixed by stirring, and then soluble solid particles of urea crystal particles having an average particle size of 3 μm are added and mixed by stirring. Viscosity of 80 cp to 150
A slurry in the cp range was produced.

【0036】このとき、酸化セリウム粒子と尿素粒子と
の重量混合比は1:2であった。
At this time, the weight mixing ratio of the cerium oxide particles and the urea particles was 1: 2.

【0037】尿素結晶粒子は、有機溶媒に対して難溶解
であるが、水にはよく溶解する。
Urea crystal particles are hardly soluble in an organic solvent, but are highly soluble in water.

【0038】このスラリーを、厚さ100μmの不織布
の基板シート上に、スラリーの厚さが約6μmになるよ
うに均一に塗布し、90°C以下の温度で乾燥させて、
本発明の、液晶表示板用ガラス表面の研磨シートを製造
した。
This slurry was uniformly applied onto a 100 μm-thick non-woven substrate sheet so that the slurry had a thickness of about 6 μm, and dried at a temperature of 90 ° C. or lower,
A polishing sheet for a glass surface of a liquid crystal display panel of the present invention was produced.

【0039】この研磨シートを使用した液晶表示板用ガ
ラス表面の研磨は、冷却液に水を使用し、実施例1と同
様の方法で行われた。
Polishing of the glass surface for a liquid crystal display panel using this polishing sheet was performed in the same manner as in Example 1 using water as a cooling liquid.

【0040】[実施例3] 本発明の、磁気ハードディ
スクの研磨のための研磨シートを以下のとおりに製造し
た。
Example 3 A polishing sheet for polishing a magnetic hard disk according to the present invention was manufactured as follows.

【0041】平均粒径1μmの酸化アルミニウムの研磨
材粒子と、ポリエステル系樹脂接着剤とを混合撹拌し、
次いで、平均粒径2μmのサッカロースの結晶粒子の可
溶性固体粒子を加えて混合し、粘度80cpから150
cpの範囲のスラリーを製造し、このスラリーを、厚さ
30μmのポリエステルフィルムの基板シート上に、ス
ラリーの厚さが5μmになるように均一に塗布し、70
°C以下の温度で乾燥させて、本発明の磁気ハードディ
スクの研磨のための研磨シートを製造した。
Aluminum oxide abrasive particles having an average particle diameter of 1 μm and a polyester resin adhesive are mixed and stirred,
Then, soluble solid particles of sucrose crystal particles having an average particle size of 2 μm are added and mixed, and a viscosity of 80 cp to 150
A slurry having a cp range is manufactured, and the slurry is uniformly applied onto a substrate sheet of a polyester film having a thickness of 30 μm so that the slurry has a thickness of 5 μm.
After drying at a temperature of ° C or less, a polishing sheet for polishing the magnetic hard disk of the present invention was manufactured.

【0042】ここで、酸化アルミニウムとサッカロース
の結晶粒子との重量混合比は1:2であった。
Here, the weight mixing ratio of aluminum oxide and sucrose crystal particles was 1: 2.

【0043】サッカロースの結晶は有機溶媒に対して難
溶解であるが、水には溶解し、特に、研磨中に冷却液の
量を制御することによって適度の粘性を有して溶解する
ことができるので、脱粒した酸化アルミニウム粒子を基
板シートから流し去ることなく保持することができる。
The saccharose crystals are hardly soluble in organic solvents, but they are soluble in water, and in particular, they can be dissolved with an appropriate viscosity by controlling the amount of the cooling liquid during polishing. Therefore, it is possible to retain the shattered aluminum oxide particles without flowing them away from the substrate sheet.

【0044】この研磨シートを使用した磁気ハードディ
スクの研磨は、冷却液に水を使用し、実施例1と同様の
方法で行われた。
Polishing of a magnetic hard disk using this polishing sheet was performed in the same manner as in Example 1 using water as the cooling liquid.

【0045】[実施例4] 本発明の、磁気ヘッドのよ
うな強磁性体の研磨のための研磨シートを以下のとおり
に製造した。
Example 4 A polishing sheet for polishing a ferromagnetic material such as a magnetic head of the present invention was manufactured as follows.

【0046】平均粒径2μmの酸化鉄の研磨材粒子と、
塩化ビニル・アクリル系接着剤とを混合撹拌し、次い
で、平均粒径2μmのアンモニウム鉄明礬を加えて混合
し、粘度80cpから150cpの範囲のスラリーを製
造し、このスラリーを、厚さ30μmのポリエステルフ
ィルムの基板シート上に、スラリーの厚さが約6μmに
なるように均一に塗布し、90°C以下の温度で乾燥さ
せて、本発明の、磁気ヘッドのような強磁性体の研磨の
ための研磨シートを製造した。
Iron oxide abrasive particles having an average particle diameter of 2 μm,
A vinyl chloride / acrylic adhesive is mixed and stirred, and then ammonium iron alum having an average particle diameter of 2 μm is added and mixed to produce a slurry having a viscosity in the range of 80 cp to 150 cp. For polishing a ferromagnetic material such as a magnetic head according to the present invention, the slurry is evenly coated on a substrate sheet of a film so as to have a thickness of about 6 μm and dried at a temperature of 90 ° C. or less. Of the polishing sheet was manufactured.

【0047】ここで、酸化鉄とアンモニウム鉄明礬との
混合重量費は1:1であった。
Here, the mixing weight cost of iron oxide and ammonium iron alum was 1: 1.

【0048】アンモニウム鉄明礬は有機溶媒には不溶で
あるが、水には可溶である。
Ammonium iron alum is insoluble in organic solvents but soluble in water.

【0049】この研磨シートを使用した磁気ヘッドの研
磨は、冷却液に水を使用し、実施例1と同様の方法で行
われた。
The polishing of the magnetic head using this polishing sheet was performed in the same manner as in Example 1 using water as the cooling liquid.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の研
磨シートを実施すると以下の効果を奏する。
As described in detail above, when the polishing sheet of the present invention is used, the following effects are obtained.

【0051】本発明の研磨シートは、研磨材粒子と、可
溶性固体粒子と、バインダー接着剤とを混合したスラリ
ーを基板シートに塗布して成り、研磨時に研磨シートに
冷却液を吹きかけると、スラリーの研磨材粒子の周りの
可溶性固体粒子が溶解し、研磨材粒子が研磨シートから
分離することなく容易に動くことができるため、研磨材
粒子が被研磨物表面に鋭角に接触しても研磨材粒子が動
いて研磨材粒子と被研磨物表面との接触の角度が緩やか
なものになり、従来の研磨シートを使用することで生じ
ていたスクラッチを被研磨物表面に生じさせずに研磨で
き、研磨材粒子が完全に遊離したものではないことか
ら、被研磨物表面の研削力もよく、被研磨物表面に波形
の凹凸を生じることなく一様に研磨することができる。
The polishing sheet of the present invention is formed by coating a slurry of a mixture of abrasive particles, soluble solid particles and a binder adhesive on a substrate sheet. The soluble solid particles around the abrasive particles are dissolved, and the abrasive particles can easily move without separating from the polishing sheet. Therefore, even if the abrasive particles contact the surface of the object to be polished at an acute angle, the abrasive particles Moves and the angle of contact between the abrasive particles and the surface of the object to be polished becomes gradual, and it is possible to polish without causing scratches on the surface of the object to be polished, which was caused by using a conventional polishing sheet. Since the material particles are not completely separated, the surface of the object to be polished has a good grinding force, and the surface of the object to be polished can be uniformly polished without generating wavy irregularities.

【0052】また、冷却液を研磨シートに吹きかけるこ
とから、研磨シートと被研磨物表面との接触部分で生じ
る摩擦熱を分散することができる。
Further, since the cooling liquid is sprayed on the polishing sheet, it is possible to disperse the frictional heat generated at the contact portion between the polishing sheet and the surface of the object to be polished.

【0053】したがって、本発明の研磨シートを実施す
ると、粗研磨および仕上研磨の2段階の研磨工程を行わ
ず1段階の研磨工程で、被研磨物表面に波形の凹凸やス
クラッチを生じさせずに精密な研磨を実施できる、とい
う効果を奏する。
Therefore, when the polishing sheet of the present invention is carried out, a two-step polishing process of rough polishing and finish polishing is not performed, and a single-step polishing process does not cause corrugated irregularities or scratches on the surface of the object to be polished. The effect is that precise polishing can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の研磨シートを示す。FIG. 1 shows a polishing sheet of the present invention.

【図2】本発明の研磨シートによる研磨方法を示す。FIG. 2 shows a polishing method using the polishing sheet of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ...基板シート 2 ...研磨材粒子 3 ...可溶性固体粒子 3′ ...溶解中の可溶性固体粒子 4 ...バインダー接着剤 5 ...スラリー 6 ...冷却液 7 ...被研磨物 8 ...研磨材粒子の回転方向 9 ...研磨シートの走行方向 10...研磨シート 1. . . Substrate sheet 2. . . Abrasive particles 3. . . Soluble solid particles 3 '. . . 3. Soluble solid particles being dissolved 4. . . Binder adhesive 5. . . Slurry 6. . . Coolant 7. . . Object to be polished 8. . . Rotation direction of abrasive particles 9. . . Running direction of polishing sheet 10. . . Polishing sheet

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板シートにスラリーを塗布して成る研
磨シートにおいて、前記スラリーが、研磨材粒子と、可
溶性固体粒子と、バインダー接着剤とを混合したもので
あることを特徴とする、研磨シート。
1. A polishing sheet formed by applying a slurry to a substrate sheet, wherein the slurry is a mixture of abrasive particles, soluble solid particles and a binder adhesive. .
【請求項2】 前記可溶性固体粒子が、硫酸アンモニウ
ム、尿素、サッカロース、アンモニウム鉄明礬、アンモ
ニウム・クロム鉄明礬、硫酸アンモニウム、または硫酸
亜鉛である、請求項1記載の研磨シート。
2. The polishing sheet according to claim 1, wherein the soluble solid particles are ammonium sulfate, urea, saccharose, ammonium iron alum, ammonium chrome iron alum, ammonium sulfate, or zinc sulfate.
【請求項3】 前記研磨材粒子と前記可溶性固体粒子と
の重量混合比が1:9から9:1の範囲にある、請求項
1記載の研磨シート。
3. The polishing sheet according to claim 1, wherein the weight mixing ratio of the abrasive particles and the soluble solid particles is in the range of 1: 9 to 9: 1.
【請求項4】 スラリーを製造する工程と、前記スラリ
ーを基板シートに塗布する工程とから成る研磨シートの
製造方法において、前記スラリーを製造する前記工程
が、研磨材粒子とバインダー接着剤とを混合する工程
と、前記研磨材粒子と前記バインダー接着剤との混合物
に可溶性固体粒子を更に加えて混合する工程とから成
る、研磨シートの製造方法。
4. A method of manufacturing a polishing sheet, which comprises a step of manufacturing a slurry and a step of applying the slurry to a substrate sheet, wherein the step of manufacturing the slurry mixes abrasive particles and a binder adhesive. And a step of further adding soluble solid particles to a mixture of the abrasive particles and the binder adhesive and mixing them.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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