JPH07325297A - Laminated sheet with plastic substrate and treatment of substrate - Google Patents
Laminated sheet with plastic substrate and treatment of substrateInfo
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- JPH07325297A JPH07325297A JP14234094A JP14234094A JPH07325297A JP H07325297 A JPH07325297 A JP H07325297A JP 14234094 A JP14234094 A JP 14234094A JP 14234094 A JP14234094 A JP 14234094A JP H07325297 A JPH07325297 A JP H07325297A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、透明電極を有するプラ
スチックス基板を粘着性層を介してガラス板上に貼着し
た状態で、そのプラスチックス基板に対するレジスト形
成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラ
ビング処理、シール形成、圧着、乾燥・熱処理などの液
晶セル組立工程のための各種処理を行い、さらには処理
後に粘着性層の粘着力を喪失または著減させる方法に関
するものである。また、そのような方法で各種処理を行
う目的に適したプラスチックス基板付き積層シートに関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plastic substrate having a transparent electrode adhered on a glass plate via an adhesive layer, and a resist forming process, an etching process, a cleaning process for the plastic substrate, It relates to a method of performing various treatments for the liquid crystal cell assembling process such as alignment film formation, rubbing treatment, seal formation, pressure bonding, and drying / heat treatment, and further, after the treatment, the adhesive force of the adhesive layer is lost or significantly reduced. is there. The present invention also relates to a laminated sheet with a plastic substrate suitable for the purpose of performing various treatments by such a method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示パネル用電極基板（つまり液晶
セルの基板）としては、従来はガラスが用いられていた
が、重量が大であること、薄型にできないこと、破損し
やすいこと、量産化しにくいことなどの問題点があるた
め、最近ではプラスチックス基板が普及してきている。
本出願人の一人においても、次に列挙するような特許出
願を行っている。Conventionally, glass has been used as an electrode substrate for a liquid crystal display panel (that is, a substrate of a liquid crystal cell), but it is heavy, cannot be thinned, is easily damaged, and is mass-produced. Due to problems such as difficulty, plastic substrates have become popular recently.
One of the applicants has also filed the following patent applications.
【０００３】特開昭６３−７１８２９号公報には、光等
方性基材シート層の少なくとも片面にアンカーコート層
を介して耐透気性樹脂層を設け、さらに該耐透気性樹脂
層上に架橋性樹脂硬化物層を設けた構成の液晶表示パネ
ル用電極基板が示されている。In Japanese Patent Laid-Open No. 63-71829, an air permeation-resistant resin layer is provided on at least one surface of an optically isotropic substrate sheet layer via an anchor coat layer, and a cross-linkable resin is further formed on the air permeation-resistant resin layer. An electrode substrate for a liquid crystal display panel having a configuration in which a cured product layer is provided is shown.
【０００４】特開昭６４−５００２１号公報には、耐透
気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層からなる積層フィルム
の２枚を、耐透気性樹脂層同士が対向する状態で接着剤
層を介して積層一体化した液晶表示パネル用電極基板が
示されている。In Japanese Patent Laid-Open No. 64-50021, two laminated films comprising a gas-permeable resin layer / cured crosslinkable resin layer are provided with an adhesive layer with the gas-permeable resin layers facing each other. An electrode substrate for a liquid crystal display panel is shown, which is laminated and integrated through the electrode substrate.
【０００５】特開昭６４−５００２２号公報には、耐熱
性合成樹脂フィルムの表面に耐透気性樹脂の溶液または
分散液を流延したのち乾燥して耐透気性合成樹脂フィル
ム層を形成させ、さらにその上から架橋性樹脂組成物の
溶液または分散液を流延したのち硬化させて架橋性樹脂
硬化物層を形成させ、ついで耐熱性合成樹脂フィルムか
ら耐透気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物層と
の積層体を剥離すると共に、該積層体の耐透気性合成樹
脂フィルム層の側の面に架橋性樹脂組成物の溶液または
分散液を流延したのち硬化させて架橋性樹脂硬化物層を
形成させることにより、架橋性樹脂硬化物層／耐透気性
樹脂層／架橋性樹脂硬化物層の構成を有する液晶表示パ
ネル用電極基板を得ることが示されている。In JP-A-64-50022, a solution or dispersion of a gas-permeable resin is cast on the surface of a heat-resistant synthetic resin film and then dried to form a gas-resistant synthetic resin film layer. Further, a solution or dispersion of the crosslinkable resin composition is cast thereon and then cured to form a cured crosslinkable resin layer, and then the heat-resistant synthetic resin film is changed to an air-permeable synthetic resin film layer and a crosslinkable resin. While peeling the laminate with the cured product layer, a solution or dispersion of the crosslinkable resin composition is cast on the surface of the laminate on the side of the air-permeable synthetic resin film layer, and then cured to cure the crosslinkable resin. It is shown that an electrode substrate for a liquid crystal display panel having a structure of a crosslinked resin cured product layer / an air permeation resistant resin layer / a crosslinked resin cured product layer is obtained by forming a material layer.
【０００６】特開平４−１５９５１８号公報には、光等
方性基材シート層(1) の少なくとも片面に流延法による
耐透気性樹脂層が設けられ、さらに該耐透気性樹脂層上
に流延法による架橋性樹脂硬化物層が設けられた単位積
層シートの２枚またはそれ以上を、架橋性樹脂硬化物層
が両最外層となるように接着剤層を介して貼着した構成
を有する液晶表示パネル用電極基板が示されている。In Japanese Patent Laid-Open No. 4-159518, an air permeation resistant resin layer is provided on at least one side of an optically isotropic substrate sheet layer (1) by a casting method, and the air permeation resistant resin layer is further cast on the air permeation resistant resin layer. A liquid crystal having a constitution in which two or more unit laminate sheets provided with a cured crosslinkable resin layer by the method are attached via an adhesive layer so that the cured crosslinkable resin layers are both outermost layers. An electrode substrate for a display panel is shown.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】液晶表示パネルはここ
数年で驚くほど進展しており、しかも年々大型化の趨勢
にある。液晶表示パネル用の電極基板としては、全体で
は依然としてガラス基板が主流となっているが、しだい
にプラスチックス基板に置き換えられつつあり、特に最
近普及しはじめている電子手帳、ペン入力タイプコンピ
ュータ、携帯電話などの携帯用機器の場合には、破損防
止および軽量化の観点からプラスチックス基板が有利で
あると見られている。The liquid crystal display panel has made remarkable progress in the last few years, and is in the trend of increasing in size year by year. Glass substrates are still the mainstream as electrode substrates for liquid crystal display panels, but they are gradually being replaced by plastics substrates, and electronic notebooks, pen-input computers, and mobile phones, which have recently become popular, are becoming popular. In the case of portable equipment such as, plastics substrates are considered to be advantageous from the viewpoint of preventing damage and reducing weight.
【０００８】プラスチックス基板を用いた場合は、基板
の大型化に対応して厚手のプラスチックス基板にするこ
とが要求される。というのは、薄手のプラスチックス基
板は手で触れたときの変形がすぐには戻らないため手で
触れた個所に液晶リングを生じたり、液晶セルのカール
などを生ずるという問題点があるからである。厚手のプ
ラスチックス基板にすることは、上記の問題点を解決す
ると共に、ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの
製造装置や製造工程をそのまま利用できる可能性があ
る。When a plastics substrate is used, it is required to use a thick plastics substrate in response to the increase in size of the substrate. This is because the thin plastic substrate does not return to its original shape when touched by hand, which causes problems such as a liquid crystal ring or a liquid crystal cell curl where it is touched. is there. The use of a thick plastic substrate may solve the above-mentioned problems, and may allow the conventional manufacturing apparatus and manufacturing process of a liquid crystal display panel using a glass substrate to be used as they are.
【０００９】ところで、実際の液晶表示パネルの製造工
程においては、パターン露光工程ではプラスチックス基
板を精度良く平坦に保持する必要があり、ラビング処理
においてはプラスチックス基板の表面を擦るために基板
を強固に保持する必要がある。しかるに、プラスチック
ス基板は厚手であってもガラス基板に比べて剛性が不足
するので、このような方法をそのままプラスチックス基
板に適用すると、精度不良を生じたり、円滑な処理を行
いえないという事態に直面する。By the way, in the actual manufacturing process of a liquid crystal display panel, it is necessary to accurately and flatly hold the plastics substrate in the pattern exposure process, and in the rubbing treatment, the plastics substrate is strongly rubbed to rub the surface thereof. Need to hold. However, even if the plastics substrate is thick, the rigidity is insufficient compared to the glass substrate, so if such a method is applied to the plastics substrate as it is, accuracy failure occurs or smooth processing cannot be performed. Face.
【００１０】そこで本発明者らは、プラスチックス基板
をガラス板上に貼着した状態でその基板に対する液晶セ
ル組立工程のための各種処理を行うことを考えたが、処
理終了後にガラス板からプラスチックス基板を取り外す
操作が容易ではなかった。Therefore, the inventors of the present invention considered performing various kinds of processing for the liquid crystal cell assembling process on the glass substrate with the plastic substrate attached to the glass plate. It was not easy to remove the board.
【００１１】本発明は、このような背景下において、透
明電極を有するプラスチックス基板をガラス板上に貼着
した状態でその基板に対する液晶セル組立工程のための
各種処理を行う方法を採用することにより、ガラス基板
を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工程を
そのまま利用することができる上、処理後のプラスチッ
クス基板の取り外しが極めて容易であるプラスチックス
基板の処理方法を提供すること、またそのような方法で
処理を行う目的に適したプラスチックス基板付き積層シ
ートを提供することを目的とするものである。Under such a background, the present invention employs a method of performing various treatments for assembling a liquid crystal cell on a plastics substrate having a transparent electrode attached to a glass plate. According to the present invention, a conventional liquid crystal display panel manufacturing apparatus or manufacturing process using a glass substrate can be used as it is, and a plastics substrate processing method in which it is extremely easy to remove the plastics substrate after processing is provided. It is another object of the present invention to provide a laminated sheet with a plastic substrate suitable for the purpose of treating by such a method.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明のプラスチックス
基板付き積層シートは、透明電極(e) を有するプラスチ
ックス基板(1) の透明電極(e) 非設置側の面に、後操作
により粘着力が喪失または著減する性質を有する粘着性
層(2) を介して、剥離性シート(3) を積層した構造を有
するものである。The laminated sheet with a plastics substrate of the present invention can be adhered to the surface of the plastics substrate (1) having the transparent electrode (e) on the side where the transparent electrode (e) is not installed by a post-operation. It has a structure in which a peelable sheet (3) is laminated with an adhesive layer (2) having a property of losing or significantly reducing force.
【００１３】本発明の基板処理方法は、上記のプラスチ
ックス基板付き積層シートから剥離性シート(3) を剥離
除去し、残余の層を粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側と
なるようにして該ガラス板(4) に貼着した状態で、プラ
スチックス基板(1) に対し各種処理を行うことを特徴と
するものである。According to the substrate processing method of the present invention, the peelable sheet (3) is peeled off from the above-mentioned laminated sheet with a plastic substrate, and the remaining layer becomes the adhesive layer (2) side and the glass plate (4) side. In this way, the plastics substrate (1) is subjected to various treatments in a state of being adhered to the glass plate (4).
【００１４】処理終了後は、活性エネルギー線の照射操
作や加熱操作（場合により冷却操作）などの後操作によ
り、粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる。After the completion of the treatment, the adhesive force of the adhesive layer (2) is lost or significantly reduced by post-operations such as irradiation of active energy rays and heating (optionally cooling).
【００１５】以下本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.
【００１６】プラスチックス基板付き積層シート プラスチックス基板(1) としては、少なくとも１層の耐
透気性層(1a)と少なくとも１層の架橋性樹脂硬化物層(1
b)とを有するもの、たとえば、耐透気性層(1a)／架橋性
樹脂硬化物層(1b)、耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物
層(1b)／耐透気性層(1a)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐
透気性層(1a)／光等方性基材シート層／耐透気性層(1a)
／架橋性樹脂硬化物層(1b)、架橋性樹脂硬化物層(1b)／
耐透気性層(1a)／架橋性樹脂硬化物層(1b)、架橋性樹脂
硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)／耐透気性層(1a)／架橋
性樹脂硬化物層(1b)などの層構成を有するものが好適に
用いられるが、これらに限らず単層または複層の種々の
プラスチックス基板を用いることができる。プラスチッ
クス基板(1) にはＩＴＯなどの透明電極(e) を形成させ
ておく。またプラスチックス基板(1) は、偏光板一体型
基板や位相板一体型基板であってもよい。 Laminated Sheet with Plastics Substrate As the plastics substrate (1), at least one air permeation resistant layer (1a) and at least one crosslinkable resin cured product layer (1
b), for example, a gas-permeable layer (1a) / crosslinkable resin cured product layer (1b), a gas-permeable layer (1a) / crosslinkable resin cured product layer (1b) / gas-permeable layer ( 1a), cured crosslinkable resin layer (1b) / air-permeable layer (1a) / isotropic substrate sheet layer / air-permeable layer (1a)
/ Crosslinkable resin cured product layer (1b), Crosslinkable resin cured product layer (1b) /
Air-permeable layer (1a) / cross-linked resin cured product layer (1b), cross-linked resin cured product layer (1b) / air-permeable layer (1a) / air-permeable layer (1a) / cross-linked resin cured product layer Those having a layer structure such as (1b) are preferably used, but not limited to these, various single-layer or multi-layer plastic substrates can be used. A transparent electrode (e) such as ITO is formed on the plastic substrate (1). The plastics substrate (1) may be a polarizing plate integrated type substrate or a phase plate integrated type substrate.
【００１７】上記において耐透気性層(1a)としては、ビ
ニルアルコール系樹脂（殊にエチレン−ビニルアルコー
ル共重合体）、アクリロニトリル系樹脂、塩化ビニリデ
ン系樹脂、ポリアミド系樹脂などの樹脂層や、ＳｉＯ
2 、ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２）、Ａl2Ｏ3 、Ｆe2Ｏ3 、Ｍ
ｇＣＯ3 、ＣｅＯ2 、ＺｎＯ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｉ
ＴＯ、ＢａＴｉＯ3 、ＬｉＮｂＯ3 、ＫＴａＯ3 、Ｐｂ
Ｏ、アルミン酸カルシウム、ガラスなど、あるいはこれ
らの混合物などの透明無機層があげられる。透明無機層
の形成は、真空蒸着法、スパッタリング法等の真空薄膜
形成法、金属アルコキシド、水ガラス等を原料とするコ
ーティング法などによりなされる。In the above, as the air permeation resistant layer (1a), a resin layer such as a vinyl alcohol resin (in particular, an ethylene-vinyl alcohol copolymer), an acrylonitrile resin, a vinylidene chloride resin, a polyamide resin, or a SiO 2 layer is used.
2 , SiOx (1 <x <2), Al 2 O 3 , Fe 2 O 3 , M
gCO 3 , CeO 2 , ZnO, TiO 2 , ZrO 2 , I
TO, BaTiO 3 , LiNbO 3 , KTaO 3 , Pb
Examples of the transparent inorganic layer include O, calcium aluminate, glass and the like, or a mixture thereof. The transparent inorganic layer is formed by a vacuum thin film forming method such as a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, a coating method using a metal alkoxide, water glass or the like as a raw material.
【００１８】架橋性樹脂硬化物層(1b)としては、加熱硬
化型樹脂や活性エネルギー線硬化型樹脂（紫外線硬化型
樹脂や電子線硬化型樹脂）を用いて形成した硬化物層が
あげられる。Examples of the crosslinkable resin cured product layer (1b) include a cured product layer formed by using a heat curable resin or an active energy ray curable resin (ultraviolet ray curable resin or electron beam curable resin).
【００１９】このうち加熱硬化型樹脂としては、フェノ
キシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ウレタン樹脂などの加熱硬化型樹脂があげられ、
特にフェノキシエーテル型架橋性樹脂が重要である。こ
の場合、イソシアネート基、カルボキシル基、メルカプ
ト基など活性水素と反応しうる架橋剤を配合することが
望ましい。Among them, examples of the thermosetting resin include phenoxy ether type crosslinkable resins, epoxy resins, acrylic resins, acrylic epoxy resins, melamine resins, phenol resins and urethane resins.
Phenoxyether type crosslinkable resins are particularly important. In this case, it is desirable to add a crosslinking agent capable of reacting with active hydrogen, such as an isocyanate group, a carboxyl group or a mercapto group.
【００２０】活性エネルギー線硬化型樹脂のうち紫外線
硬化型樹脂としては、光重合性を有するプレポリマーま
たは／およびモノマーに、必要に応じ他の単官能または
多官能性モノマー、各種ポリマー、光重合開始剤（アセ
トフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケトン、ベ
ンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンジルケ
タール類、チオキサントン類等）、増感剤（アミン類、
ジエチルアミノエチルメタクリレート等）などを配合し
た樹脂組成物が用いられる。ここで光重合性プレポリマ
ーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリエステル
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリオ
ールアクリレートなどが例示され、光重合性モノマーと
しては、単官能アクリレート、２官能アクリレート、３
官能以上のアクリレートなどが例示される。光重合性を
有するプレポリマーまたはモノマーとしては、上記のほ
か、ホスファゼン系樹脂も用いられる。電子線硬化型樹
脂としても同様の組成のものが用いられるが、光重合開
始剤や増感剤は添加するには及ばない。Among the active energy ray curable resins, the ultraviolet curable resin includes a prepolymer or / and a monomer having photopolymerizability, and optionally other monofunctional or polyfunctional monomers, various polymers, and photopolymerization initiation. Agents (acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin ether, benzyl ketals, thioxanthones, etc.), sensitizers (amines,
A resin composition containing, for example, diethylaminoethyl methacrylate) is used. Here, examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, polyester urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyol acrylate, and examples of the photopolymerizable monomer include monofunctional acrylate, bifunctional acrylate, and trifunctional acrylate.
Examples thereof include functionally or higher acrylates. As the photopolymerizable prepolymer or monomer, a phosphazene resin may be used in addition to the above. An electron beam curable resin having the same composition is used, but it is not necessary to add a photopolymerization initiator or a sensitizer.
【００２１】光等方性基材シート層としては、たとえ
ば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィ
ン、セルロース系高分子などの層があげられる。Examples of the optically isotropic substrate sheet layer include layers of polycarbonate, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyolefin, cellulosic polymer and the like.
【００２２】プラスチックス基板(1) の厚みは、１０μ
m 程度の極めて薄いものから２０００μm あるいはそれ
以上というように極めて厚いものまで任意に設定するこ
とができるが、特に厚手のシートである場合に、ガラス
基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や製造工
程をそのまま利用できるという利点がある。The thickness of the plastic substrate (1) is 10 μm
The thickness can be arbitrarily set from an extremely thin film of about m to an extremely thick film of 2000 μm or more, but especially in the case of a thick sheet, a conventional liquid crystal display panel manufacturing apparatus using a glass substrate or There is an advantage that the manufacturing process can be used as it is.
【００２３】粘着性層(2) としては、活性エネルギー線
（紫外線や電子線）照射や加熱操作、あるいは場合によ
っては冷却操作などの後操作により、粘着力が喪失また
は著減する性質を有する層が用いられる。後操作前の粘
着力は過大である必要はなく、たとえば１００〜５００
g/inch程度で充分である。The adhesive layer (2) is a layer having a property that the adhesive force is lost or significantly reduced by irradiation with active energy rays (ultraviolet rays or electron beams), heating operation, or in some cases post-operation such as cooling operation. Is used. The adhesive force before the post-operation does not need to be excessive, for example, 100 to 500.
About g / inch is enough.
【００２４】活性エネルギー線照射や加熱操作は、三次
元架橋を進めることにより粘着性層(2) の凝集力を高め
て粘着力を弱めるための手段である。冷却操作は、ポリ
マーをガラス転移点以下にもたらして粘着性層(2) の粘
着力を弱めるための手段である。The irradiation with active energy rays and the heating operation are means for increasing the cohesive force of the adhesive layer (2) by advancing the three-dimensional crosslinking to weaken the adhesive force. The cooling operation is a means for bringing the polymer below the glass transition point and weakening the adhesive force of the adhesive layer (2).
【００２５】剥離性シート(3) としては、プラスチック
スフィルム（場合により紙）にシリコーン系剥離剤など
の剥離剤を塗布・定着させたもの、それ自身が剥離性を
有するシート、剥離剤を内添して成形したプラスチック
スシート、オルガノポリシロキサンとポリオレフィン系
樹脂とをグラフト共重合させたプラスチックスシートな
どが用いられる。As the peelable sheet (3), a plastic film (paper in some cases) coated with a release agent such as a silicone release agent and fixed, a sheet having a release property itself, and a release agent A plastics sheet additionally formed and a plastics sheet obtained by graft-copolymerizing an organopolysiloxane and a polyolefin resin are used.
【００２６】本発明のプラスチックス基板付き積層シー
トは、上記のプラスチックス基板(1) の透明電極(e) 非
設置側の面に、上記の粘着性層(2) を介して剥離性シー
ト(3) を積層した構造を有する。The laminated sheet with a plastic substrate of the present invention comprises a peelable sheet (1) on the surface of the plastic substrate (1) on which the transparent electrode (e) is not placed via the adhesive layer (2). 3) has a laminated structure.
【００２７】この場合、プラスチックス基板(1) 側に粘
着性層(2) を形成してから剥離性シート(3) を積層する
ことも可能であるが、剥離性シート(3) 側に粘着性層
(2) を形成してからプラスチックス基板(1) を積層する
方がより一般的である。得られたプラスチックス基板付
き積層シートから剥離性シート(3) を剥離すると、粘着
性層(2) はプラスチックス基板(1) 側に転写する。In this case, it is possible to form the adhesive layer (2) on the plastics substrate (1) side and then laminate the peelable sheet (3), but it is possible to adhere to the peelable sheet (3) side. Sex layer
It is more common to form (2) and then laminate the plastics substrates (1). When the peelable sheet (3) is peeled from the obtained laminated sheet with a plastics substrate, the adhesive layer (2) is transferred to the plastics substrate (1) side.
【００２８】基板処理方法 基板の処理に際しては、上記のプラスチックス基板付き
積層シートから剥離性シート(3) を剥離除去し、残余の
層を粘着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして
該ガラス板(4) に貼着した状態で、プラスチックス基板
(1) に対し各種処理を行う。各種処理とは、レジスト形
成処理、エッチング処理、洗浄処理、配向膜の形成、ラ
ビング処理、シール形成、圧着、乾燥・熱処理などのセ
ル組立工程のための処理である。 Substrate Treatment Method In treating the substrate, the peelable sheet (3) was peeled off from the above-mentioned laminated sheet with a plastic substrate, and the remaining layer was formed with the adhesive layer (2) side being the glass plate (4) side. So that it adheres to the glass plate (4) as
Perform various processing for (1). The various treatments are treatments for cell assembling processes such as resist formation treatment, etching treatment, cleaning treatment, alignment film formation, rubbing treatment, seal formation, pressure bonding, and drying / heat treatment.
【００２９】処理終了後は、活性エネルギー線（紫外線
や電子線）の照射操作や加熱操作（場合により冷却操
作）などの後操作により、粘着性層(2) の粘着力を喪失
または著減させる。After completion of the treatment, the adhesive force of the adhesive layer (2) is lost or significantly reduced by post-operations such as irradiation of active energy rays (ultraviolet rays or electron rays) and heating operation (cooling operation in some cases). .
【００３０】後操作終了後はガラス板(4) からプラスチ
ックス基板(1) を剥離するが、その剥離時には、後操作
後の粘着性層(2) が、（イ）ガラス板(4) 側に付着する
か、（ロ）プラスチックス基板(1) 側に付着するか、
（ハ）プラスチックス基板(1) およびガラス板(4) のい
ずれにも付着しないか、のいずれかになるようにする。After finishing the post-operation, the plastics substrate (1) is peeled off from the glass plate (4). At the time of peeling, the adhesive layer (2) after the post-operation is (a) on the glass plate (4) side. Or (b) on the plastics substrate (1) side,
(C) Make sure that it does not adhere to either the plastics substrate (1) or the glass plate (4).
【００３１】上記（イ）または（ロ）にあっても、最終
的にはプラスチックス基板(1) またはガラス板(4) か
ら、機械的手段、洗浄操作、吸引手段などにより、後操
作後の粘着性層(2) を除去する。ただし上記（ロ）にお
いては、後操作後の粘着性層(2) をそのまま残し、耐ス
クラッチ層、耐熱性層、ガスバリヤー層などの役割を果
たさせることもできる。Even in the case of (a) or (b) above, after the post-operation, the plastic substrate (1) or the glass plate (4) is finally operated by mechanical means, washing operation, suction means or the like. The adhesive layer (2) is removed. However, in the above (b), the adhesive layer (2) after the post-operation can be left as it is, and can serve as a scratch resistant layer, a heat resistant layer, a gas barrier layer, and the like.
【００３２】用途 上に述べた本発明のプラスチックス基板付き積層シート
および基板処理方法は、小型または中型はもとより、大
型のＴＮ、ＳＴＮ液晶用の液晶セルの作製にも対処しう
る。そのほか、各種の記録装置（光カード、光ディスク
等）、表示装置（高分子液晶表示基板等）などにも適用
できる。 Use The above-mentioned laminated sheet with a plastic substrate and the method for treating a substrate according to the present invention can deal with the production of liquid crystal cells for TN and STN liquid crystals of large size as well as small or medium size. In addition, it can be applied to various recording devices (optical cards, optical disks, etc.), display devices (polymer liquid crystal display substrates, etc.), and the like.
【００３３】[0033]
【作用】本発明のプラスチックス基板付き積層シート
は、透明電極(e) ／プラスチックス基板(1) ／粘着性層
(2) ／剥離性シート(3) の層構成を有する。このプラス
チックス基板付き積層シート取り扱いは次の手順に従っ
て行われる。なお液晶セル作製のためのシール形成、圧
着、乾燥・熱処理などの処理は、ガラス板(4) からのプ
ラスチックス基板(1) の分離の前に行うことが多いが、
その分離の後に行うこともできる。 ・プラスチックス基板付き積層シート (e)/(1)/(2)/(3) ・剥離性シート(3) の剥離除去 (e)/(1)/(2) ・残余の層のガラス板(4) への貼着 (e)/(1)/(2)/(4) ・プラスチックス基板(1) に対する各種処理の実行 (e)/(1)/(2)/(4) ・後操作による粘着性層(2) の粘着力の喪失または著減 (e)/(1)/(2)/(4) ・ガラス板(4) からのプラスチックス基板(1) の分離 (e)/(1)/(2) + (4) 、(e)/(1) + (2)/(4) 、または、
(e)/(1) + (2) + (4)[Function] The laminated sheet with a plastic substrate of the present invention comprises a transparent electrode (e) / plastic substrate (1) / adhesive layer
(2) / Has a layer structure of peelable sheet (3). The handling of the laminated sheet with a plastic substrate is performed according to the following procedure. It should be noted that treatments such as seal formation, pressure bonding, drying and heat treatment for producing a liquid crystal cell are often performed before separating the plastic substrate (1) from the glass plate (4).
It can also be performed after the separation.・ Laminated sheet with plastics substrate (e) / (1) / (2) / (3) ・ Peeling removal of peelable sheet (3) (e) / (1) / (2) ・ Glass plate of remaining layer Adhesion to (4) (e) / (1) / (2) / (4) ・ Execution of various treatments on plastics substrate (1) (e) / (1) / (2) / (4) ・Loss or significant reduction of the adhesive strength of the adhesive layer (2) due to post-operation (e) / (1) / (2) / (4) ・ Separation of the plastic substrate (1) from the glass plate (4) (e ) / (1) / (2) + (4), (e) / (1) + (2) / (4), or
(e) / (1) + (2) + (4)
【００３４】プラスチックス基板(1) に対するラビング
処理等の処理の実行は、プラスチックス基板(1) が粘着
性層(2) を介してガラス板(4) に貼着されているためプ
ラスチックス基板(1) が撓みを生ずることがないので、
ガラス基板を用いた従来の液晶表示パネルの製造装置や
製造工程をそのまま利用できる。The rubbing process or the like is performed on the plastics substrate (1) because the plastics substrate (1) is attached to the glass plate (4) via the adhesive layer (2). (1) does not bend, so
The conventional manufacturing apparatus and manufacturing process of a liquid crystal display panel using a glass substrate can be used as they are.
【００３５】そして処理終了後は、活性エネルギー線の
照射操作や加熱操作（場合により冷却操作）などの後操
作により粘着性層(2) の粘着力を喪失または著減させる
ことができるので、処理後のプラスチックス基板(1) を
ガラス板(4) から容易に剥離することができる。After the completion of the treatment, the adhesive force of the adhesive layer (2) can be lost or significantly reduced by post-operations such as irradiation of active energy rays and heating operation (cooling operation in some cases). The later plastics substrate (1) can be easily peeled off from the glass plate (4).
【００３６】[0036]
【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。EXAMPLES The present invention will be further described with reference to examples.
【００３７】実施例１ 図１は本発明のプラスチックス基板付き積層シートおよ
び基板処理方法の一例を示した説明図である。Example 1 FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a laminated sheet with a plastic substrate and a substrate processing method of the present invention.
【００３８】架橋性樹脂硬化物層(1b)／耐透気性層(1a)
／架橋性樹脂硬化物層(1b)の層構成を有する厚み１０８
μm の長尺のプラスチックス基板(1) を準備すると共
に、その片面にＩＴＯ層からなる厚み２０００オングス
トロームの透明電極(e) をスパッタリング法により形成
させた。透明電極(e) の密着性は極めて良好であった。
なお、耐透気性層(1a)としては厚み８μm の架橋化され
たエチレン−ビニルアルコール共重合体層を用い、架橋
性樹脂硬化物層(1b), (1b)としては、厚み各５０μm の
ポリイソシアネート化合物配合エポキシアクリレート系
紫外線硬化型樹脂硬化物層を用いた。Crosslinked resin cured product layer (1b) / permeation resistant layer (1a)
/ Thickness 108 having the layer structure of the crosslinkable resin cured product layer (1b)
A long plastic substrate (1) having a thickness of μm was prepared, and a transparent electrode (e) made of an ITO layer and having a thickness of 2000 angstrom was formed on one surface thereof by a sputtering method. The adhesion of the transparent electrode (e) was extremely good.
As the air-permeable layer (1a), a cross-linked ethylene-vinyl alcohol copolymer layer having a thickness of 8 μm was used, and as the cross-linkable resin cured material layers (1b) and (1b), a thickness of 50 μm each was used. An isocyanate compound-blended epoxy acrylate-based ultraviolet curable resin cured product layer was used.
【００３９】シリコーン化合物による離型性加工を行っ
た厚み３８μm の長尺のポリエステルフィルムからなる
剥離性シート(3) の離型面に、紫外線照射により粘着力
が著減する性質を有するアクリル系樹脂溶液（帝国化学
産業株式会社製の「ＴＵＲ−１０４０」、固形分７０重
量％、溶剤はトルエン）をコーティングした後、８０℃
で５分間乾燥して、厚み２０μm の粘着性層(2) を形成
させた。An acrylic resin having a property that the release force of a release sheet (3) made of a long polyester film having a thickness of 38 μm, which has been subjected to a release treatment with a silicone compound, causes the adhesive force to be significantly reduced by irradiation with ultraviolet rays. After coating with a solution ("TUR-1040" manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd., solid content 70% by weight, solvent: toluene), 80 ° C
And dried for 5 minutes to form an adhesive layer (2) having a thickness of 20 μm.
【００４０】このようにして作製した粘着性層(2) 付き
剥離性シート(3) を繰り出しながら、その粘着性層(2)
側の面に、上記で準備した透明電極(e) 付きプラスチッ
クス基板(1) を繰り出しながらその透明電極(e) 非設置
側を重ね合わせ、ロール間を通して軽く圧着し、ついで
３００mm×３００mmの寸法に裁断した。これにより、
(e)/(1)/(2)/(3) の層構成を有するプラスチックス基板
付き積層シートが得られた。While releasing the release sheet (3) with the adhesive layer (2) thus produced, the adhesive layer (2)
While the plastic substrate (1) with the transparent electrode (e) prepared above is extended on the side surface, the transparent electrode (e) non-installed side is overlaid, lightly pressed through the rolls, and then the size of 300 mm × 300 mm. Cut into. This allows
A laminated sheet with a plastic substrate having a layer structure of (e) / (1) / (2) / (3) was obtained.
【００４１】この積層シートから剥離性シート(3) を剥
離除去すると共に、残余の層を厚み1.7mmのガラス板(4)
へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このと
きのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の
接着力は３００g/inchであった。The peelable sheet (3) was peeled off from this laminated sheet, and the remaining layer was replaced by a glass plate (4) having a thickness of 1.7 mm.
It was affixed to (e) / (1) / (2) / (4) to form a layered structure. At this time, the adhesive force between the plastics substrate layer (1) and the glass plate (4) was 300 g / inch.
【００４２】ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備を
そのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極
(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターン
の露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォト
レジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一
連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実
行した。The transparent electrode of the plastic substrate (1) is used by using the processing equipment for producing the liquid crystal cell of the glass substrate as it is.
A series of processes such as forming a photoresist film on the (e) side, exposing and developing a predetermined pattern, etching the transparent electrode (e), removing the remaining photoresist, forming an alignment film, and rubbing are performed on a conventional glass substrate. It was carried out according to the usual method for.
【００４３】処理終了後、ガラス板(4) 側から、後操作
の一例としての紫外線照射を行ったところ、粘着性層
(2) の粘着力が著減したので、ガラス板(4) から処理後
のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度は２０
g/inchであり、後処理後の粘着性層(2) はガラス板(4)
側に付着した。After the completion of the treatment, the glass plate (4) side was irradiated with ultraviolet rays as an example of post-treatment, and the adhesive layer
Since the adhesive strength of (2) was significantly reduced, the treated plastics substrate (1) was peeled from the glass plate (4). Peel strength is 20
g / inch, the post-treatment adhesive layer (2) is a glass plate (4)
Adhered to the side.
【００４４】実施例２ シリコーン化合物による離型性加工を行った厚み３８μ
m のポリエステルフィルムからなる剥離性シート(3) の
離型面に、紫外線照射により粘着力が著減する性質を有
するアクリル系樹脂溶液（帝国化学産業株式会社製の
「ＴＵＲ−１２１２」、固形分６０重量％、溶剤はトル
エン）をコーティングした後、８０℃で５分間乾燥し
て、厚み２５μm の粘着性層(2) を形成させた。Example 2 Releasing processing with a silicone compound was applied to a thickness of 38 μm.
On the release surface of the releasable sheet (3) made of a polyester film of m 3, an acrylic resin solution having a property that the adhesive force is significantly reduced by UV irradiation (“TUR-1212” manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd., solid content) After coating with 60% by weight and toluene as a solvent), it was dried at 80 ° C. for 5 minutes to form an adhesive layer (2) having a thickness of 25 μm.
【００４５】このようにして作製した粘着性層(2) 付き
剥離性シート(3) を用いたほかは、実施例１を繰り返し
てプラスチックス基板付き積層シートを得た。A laminated sheet with a plastics substrate was obtained by repeating Example 1 except that the peelable sheet (3) with the adhesive layer (2) thus produced was used.
【００４６】この積層シートから剥離性シート(3) を剥
離除去すると共に、残余の層を厚み1.2mmのガラス板(4)
へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。このと
きのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間の
接着力は３５０g/inchであった。The peelable sheet (3) was peeled off from this laminated sheet, and the remaining layer was replaced by a glass plate (4) having a thickness of 1.2 mm.
It was affixed to (e) / (1) / (2) / (4) to form a layered structure. At this time, the adhesive force between the plastics substrate layer (1) and the glass plate (4) was 350 g / inch.
【００４７】ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備を
そのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極
(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターン
の露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォト
レジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一
連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実
行した。The transparent electrode of the plastic substrate (1) is used by using the processing equipment for liquid crystal cell production of the glass substrate as it is.
A series of processes such as forming a photoresist film on the (e) side, exposing and developing a predetermined pattern, etching the transparent electrode (e), removing the remaining photoresist, forming an alignment film, and rubbing are performed on a conventional glass substrate. It was carried out according to the usual method for.
【００４８】処理終了後、ガラス板(4) 側から、後操作
の一例としての紫外線照射を行ったところ、粘着性層
(2) の粘着力が著減したので、ガラス板(4) から処理後
のプラスチックス基板(1) を剥離した。剥離強度は１０
g/inchであり、後処理の粘着性層(2) はガラス板(4) 側
に付着した。After completion of the treatment, the glass plate (4) side was irradiated with ultraviolet rays as an example of a post-operation, and the adhesive layer
Since the adhesive strength of (2) was significantly reduced, the treated plastics substrate (1) was peeled from the glass plate (4). Peel strength is 10
It was g / inch, and the post-treatment adhesive layer (2) adhered to the glass plate (4) side.
【００４９】実施例３ 加熱により粘着力を喪失するアクリル系樹脂溶液を用い
て、厚み３８μm のポリエステルフィルムからなる剥離
性シート(3) の離型面に厚み２５μm の粘着性層(2) を
形成させた。Example 3 An adhesive layer (2) having a thickness of 25 μm was formed on the release surface of a releasable sheet (3) made of a polyester film having a thickness of 38 μm, using an acrylic resin solution that loses its adhesive force by heating. Let
【００５０】以下、実施例１と同様にして(e)/(1)/(2)/
(3) の層構成を有するプラスチックス基板付き積層シー
トを得た後、剥離性シート(3) を剥離除去し、ガラス板
(4)へ貼着して(e)/(1)/(2)/(4) の層構成とした。この
ときのプラスチックス基板層(1) とガラス板(4) との間
の接着力は３８０g/inchであった。Thereafter, in the same manner as in Example 1, (e) / (1) / (2) /
After obtaining the laminated sheet with a plastics substrate having the layer structure of (3), the peelable sheet (3) is peeled and removed, and a glass plate
It was attached to (4) to form a layer structure of (e) / (1) / (2) / (4). At this time, the adhesive force between the plastics substrate layer (1) and the glass plate (4) was 380 g / inch.
【００５１】ガラス基板の液晶セル作製用の処理設備を
そのまま使用して、プラスチックス基板(1) の透明電極
(e) 側に対するフォトレジスト膜の形成、所定パターン
の露光・現像、透明電極(e) のエッチング、残存フォト
レジストの除去、配向膜の形成、ラビング処理などの一
連の処理を、従来のガラス基板に対する常法に従って実
行した。The transparent substrate of the plastics substrate (1) is used by using the processing equipment for producing the liquid crystal cell of the glass substrate as it is.
A series of processes such as forming a photoresist film on the (e) side, exposing and developing a predetermined pattern, etching the transparent electrode (e), removing the remaining photoresist, forming an alignment film, and rubbing are performed on a conventional glass substrate. It was carried out according to the usual method for.
【００５２】処理終了後、後操作の一例としての加熱操
作を行ったところ、粘着性層(2) の粘着力が喪失したの
で、ガラス板(4) から処理後のプラスチックス基板(1)
を剥離した。剥離強度はほぼゼロであった。After the completion of the treatment, a heating operation was performed as an example of a post-operation. Since the adhesive force of the adhesive layer (2) was lost, the glass plate (4) was treated with the plastic substrate (1) after the treatment.
Was peeled off. The peel strength was almost zero.
【００５３】[0053]
【発明の効果】本発明によれば、透明電極を有しまたは
有しないプラスチックス基板をガラス板上に貼着した状
態でその基板に対するラビング処理などの処理を行う方
法を採用しているので、ガラス基板を用いた従来の液晶
表示パネルの製造装置や製造工程をそのまま利用でき
る。そして、処理後のプラスチックス基板の取り外しも
極めて容易である。According to the present invention, a method is adopted in which a plastic substrate having or not having a transparent electrode is attached to a glass plate and a treatment such as a rubbing treatment is applied to the substrate. The conventional manufacturing apparatus and manufacturing process of a liquid crystal display panel using a glass substrate can be used as they are. Further, it is extremely easy to remove the plastics substrate after processing.
【図１】本発明のプラスチックス基板付き積層シートお
よび基板処理方法の一例を示した説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a laminated sheet with a plastic substrate and a substrate processing method of the present invention.
(1) …プラスチックス基板、(1a)…耐透気性層、(1b)…
架橋性樹脂硬化物層、(2) …粘着性層、(3) …剥離性シ
ート、(4) …ガラス板、(e) …透明電極(1)… Plastics substrate, (1a)… Air-permeable layer, (1b)…
Crosslinked resin cured product layer, (2) ... Adhesive layer, (3) ... Releasable sheet, (4) ... Glass plate, (e) ... Transparent electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岸 進 東京都中央区日本橋馬喰町１丁目４番16号 藤森工業株式会社内 (72)発明者 照井 弘敏 東京都中央区日本橋馬喰町１丁目４番16号 藤森工業株式会社内 (72)発明者 太田 勉 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Susumu Kishi 1-4-16 Nihonbashi Bakurocho, Chuo-ku, Tokyo Fujimori Kogyo Co., Ltd. (72) Hirotoshi Terui 1-4-1 Nihonbashi Bakurocho, Chuo-ku, Tokyo In Fujimori Industry Co., Ltd. (72) Inventor Tsutomu Ota 3-3-5 Yamato, Suwa City, Nagano Seiko Epson Corporation
Claims (7)
(1) の透明電極(e) 非設置側の面に、後操作により粘着
力が喪失または著減する性質を有する粘着性層(2) を介
して、剥離性シート(3) を積層した構造を有するプラス
チックス基板付き積層シート。1. A plastic substrate having a transparent electrode (e).
A structure in which a peelable sheet (3) is laminated on the transparent electrode (e) non-installation side of (1) with an adhesive layer (2) having a property that the adhesive force is lost or significantly reduced by post-operation. A laminated sheet with a plastics substrate.
用のプラスチックス基板である請求項１記載のプラスチ
ックス基板付き積層シート。2. The laminated sheet with a plastic substrate according to claim 1, wherein the plastic substrate (1) is a plastic substrate for producing a liquid crystal cell.
層の耐透気性層(1a)と少なくとも１層の架橋性樹脂硬化
物層(1b)とを有する基板である請求項１記載のプラスチ
ックス基板付き積層シート。3. A plastics substrate (1) comprising at least one
The laminated sheet with a plastics substrate according to claim 1, which is a substrate having a gas permeable resistant layer (1a) and at least one cross-linkable resin cured product layer (1b).
加熱操作または冷却操作である請求項１記載のプラスチ
ックス基板付き積層シート。4. The post-operation is an irradiation operation of active energy rays,
The laminated sheet with a plastic substrate according to claim 1, which is a heating operation or a cooling operation.
ートから剥離性シート(3) を剥離除去し、残余の層を粘
着性層(2) 側がガラス板(4) 側となるようにして該ガラ
ス板(4) に貼着した状態で、プラスチックス基板(1) に
対する各種処理を行うことを特徴とする基板処理方法。5. The peelable sheet (3) is peeled and removed from the laminated sheet with a plastic substrate according to claim 1, and the remaining layer is formed so that the adhesive layer (2) side is the glass plate (4) side. A substrate processing method, which comprises performing various kinds of processing on a plastics substrate (1) while being attached to a glass plate (4).
または著減させる後操作を行うことを特徴とする請求項
５記載の基板処理方法。6. The method for treating a substrate according to claim 5, wherein after the treatment, a post-operation for losing or significantly reducing the adhesive strength of the adhesive layer (2) is performed.
加熱操作または冷却操作である請求項６記載の基板処理
方法。7. The post-operation is an irradiation operation of active energy rays,
The substrate processing method according to claim 6, which is a heating operation or a cooling operation.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14234094A JP3739424B2 (en) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | LAMINATED SHEET WITH PLASTICS SUBSTRATE, SUBSTRATE TREATMENT METHOD, AND LIQUID CRYSTAL CELL OR DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14234094A JP3739424B2 (en) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | LAMINATED SHEET WITH PLASTICS SUBSTRATE, SUBSTRATE TREATMENT METHOD, AND LIQUID CRYSTAL CELL OR DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07325297A true JPH07325297A (en) | 1995-12-12 |
| JP3739424B2 JP3739424B2 (en) | 2006-01-25 |
Family
ID=15313088
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|---|---|---|---|
| JP14234094A Expired - Lifetime JP3739424B2 (en) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | LAMINATED SHEET WITH PLASTICS SUBSTRATE, SUBSTRATE TREATMENT METHOD, AND LIQUID CRYSTAL CELL OR DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD |
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