JP2008203619A - Method for manufacturing liquid crystal display panel - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal display panel Download PDF

Info

Publication number
JP2008203619A
JP2008203619A JP2007040749A JP2007040749A JP2008203619A JP 2008203619 A JP2008203619 A JP 2008203619A JP 2007040749 A JP2007040749 A JP 2007040749A JP 2007040749 A JP2007040749 A JP 2007040749A JP 2008203619 A JP2008203619 A JP 2008203619A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plastic substrate
liquid crystal
crystal display
display panel
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007040749A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Kaneda
吉弘 金田
Takeshi Ogasawara
健 小笠原
Hideki Sugiyama
秀樹 杉山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Citizen Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Holdings Co Ltd filed Critical Citizen Holdings Co Ltd
Priority to JP2007040749A priority Critical patent/JP2008203619A/en
Publication of JP2008203619A publication Critical patent/JP2008203619A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a liquid crystal display panel in which a plastic substrate having good flatness can be obtained after the plastic substrate is arranged of a glass substrate and is subjected to various kinds of processing. <P>SOLUTION: This method includes steps of: bonding the first plastic substrate (3) onto a glass substrate (1); forming a patterned transparent electrode (4) onto the first plastic substrate; forming an alignment layer (6) onto the first plastic substrate; forming a sealing material (7) on the first plastic substrate; superposing a second plastic substrate (l1) via the sealing material onto the first plastic substrate; peeling the glass substrate from the first plastic substrate superposed with the second plastic substrate thereby forming the cell (30) for the liquid crystal display panel; and forming the cell for the liquid crystal display. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示パネルの製造方法、特にプラスチック基板を用いた液晶表示パネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display panel, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal display panel using a plastic substrate.

液晶表示パネル用基板としてプラスチック基板を用いた液晶表示パネルの製造方法が知られている(例えば、特許文献1)。特許文献1においては、プラスチック基板だけでは強度が不足しているため、各種処理によってプラスチック基板がたわみ、精度不良を生じたりすることから、ガラス基板上にプラスチック基板を粘着層を介して貼着し、その後プラスチック基板上における各種処理(透明電極の形成、配向膜の形成、ラビング処理、焼成工程等)を行い、その後紫外線等を照射して粘着層の粘着力を低減させた後にガラス基板からプラスチック基板を剥離している。   A manufacturing method of a liquid crystal display panel using a plastic substrate as a liquid crystal display panel substrate is known (for example, Patent Document 1). In Patent Document 1, since a plastic substrate alone is insufficient in strength, the plastic substrate may be bent by various processes, resulting in poor accuracy. Therefore, the plastic substrate is attached to the glass substrate via an adhesive layer. After that, various treatments (formation of transparent electrode, formation of alignment film, rubbing treatment, baking process, etc.) are performed on the plastic substrate, and after that, the adhesive strength of the adhesive layer is reduced by irradiating ultraviolet rays etc. The substrate is peeled off.

このような紫外線によって粘着力が弱まるような粘着層を利用する理由は、焼成工程等における高温等によってガラス基板とプラスチック基板とが強固に接着してしまい、剥離することが容易でなくなるためである。   The reason for using such an adhesive layer whose adhesive strength is weakened by ultraviolet rays is that the glass substrate and the plastic substrate are strongly bonded due to high temperature in the baking process or the like, and it becomes difficult to peel off. .

特開平7−325297号公報(第2頁)JP 7-325297 A (2nd page)

しかしながら、紫外線によって粘着力が弱まるような粘着層の利用や紫外線を照射する工程を必要とすることは、コストアップや工程ステップの増加を生み、好ましいものではなかった。   However, the use of an adhesive layer whose adhesive strength is weakened by ultraviolet rays and the need for a process of irradiating with ultraviolet rays have resulted in increased costs and increased process steps, which is not preferable.

さらに、ガラス基板とプラスチック基板の膨張率が異なることから、ガラス基板とプラスチック基板を貼着した状態で焼成工程を行うと、プラスチック基板のみが大きく膨張することによって、たわみ及びうねり等が発生して、平面性の良いプラスチック基板を得ることができないという問題があった。   Furthermore, since the glass substrate and the plastic substrate have different expansion rates, when the baking process is performed with the glass substrate and the plastic substrate adhered, only the plastic substrate expands significantly, causing deflection and undulation. There is a problem that a plastic substrate with good flatness cannot be obtained.

そこで、本発明は、ガラス基板上にプラスチック基板を配置して各種処理を行った後に、容易且つ簡易にガラス基板をプラスチック基板から剥離することが可能な液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a method for manufacturing a liquid crystal display panel that can easily and easily peel a glass substrate from a plastic substrate after a plastic substrate is placed on the glass substrate and subjected to various treatments. Objective.

また、本発明は、ガラス基板上にプラスチック基板を配置して各種処理を行った後に、平面性の良いプラスチック基板を得ることが可能な液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。   It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display panel that can obtain a plastic substrate with good flatness after a plastic substrate is placed on a glass substrate and subjected to various treatments.

上記目的を達成するために、本発明に係る液晶表示パネルの第1の製造方法では、ガラス基板上に第1のプラスチック基板を粘着層によって貼着し、第1のプラスチック基板上にパターン化された透明電極を形成し、第1のプラスチック基板上に配向膜を形成し、第1のプラスチック基板上にシール材を形成し、第1のプラスチック基板上に前記シール材を介して第2のプラスチック基板を重ね合わせ、第2のプラスチック基板が重ね合わされた第1のプラスチック基板からガラス基板を剥離することによって液晶表示パネル用セルを形成し、液晶表示用セルを焼成する工程を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, in the first method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention, a first plastic substrate is adhered to a glass substrate with an adhesive layer, and is patterned on the first plastic substrate. A transparent electrode is formed, an alignment film is formed on the first plastic substrate, a sealing material is formed on the first plastic substrate, and the second plastic is formed on the first plastic substrate via the sealing material. A step of forming a liquid crystal display panel cell by stacking the substrates, peeling the glass substrate from the first plastic substrate on which the second plastic substrate is stacked, and firing the liquid crystal display cell; To do.

また、上記目的を達成するために、本発明に係る液晶表示パネルの第2の製造方法では、ガラス基板上に第1のプラスチック基板を粘着層によって貼着し、第1のプラスチック基板上にパターン化された透明電極を形成し、第1のプラスチック基板上に配向膜を形成し、第1のプラスチック基板上にシール材を形成し、第1のプラスチック基板からガラス基板を剥離し、ガラス基板が剥離された第1のプラスチック基板上にシール材を介して第2のプラスチック基板を重ね合わせることによって液晶表示パネル用セルを形成し、液晶表示用セルを焼成する工程を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, in the second method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention, a first plastic substrate is adhered to a glass substrate with an adhesive layer, and a pattern is formed on the first plastic substrate. Forming a transparent electrode, forming an alignment film on the first plastic substrate, forming a sealing material on the first plastic substrate, peeling the glass substrate from the first plastic substrate, A liquid crystal display panel cell is formed by overlaying a second plastic substrate on a peeled first plastic substrate with a sealant interposed therebetween, and the liquid crystal display cell is baked.

さらに、本発明に係る液晶表示パネルでは、第1のプラスチック基板からガラス基板を剥離する工程までを全て低温度化、特に60℃以下で処理することが好ましい。   Furthermore, in the liquid crystal display panel according to the present invention, it is preferable that all processes from the first plastic substrate to the step of peeling the glass substrate are performed at a low temperature, particularly 60 ° C. or less.

さらに、本発明に係る液晶表示パネルでは、更に、第1のプラスチック基板、第2のプラスチック基板及びシール材で規定された空間に液晶材料を注入して封止する工程を有することが好ましい。   Furthermore, the liquid crystal display panel according to the present invention preferably further includes a step of injecting a liquid crystal material into a space defined by the first plastic substrate, the second plastic substrate, and the sealing material and sealing.

本発明に係る液晶表示パネルの製造方法では、堅固なガラス基板上に配置されたプラスチック基板上で各種処理を行うので、プラスチック基板の平面性を確保することができ、透明電極のパターンニングの精度を上げることが可能となった。   In the method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention, since various processes are performed on a plastic substrate disposed on a rigid glass substrate, the flatness of the plastic substrate can be ensured and the patterning accuracy of the transparent electrode can be ensured. It became possible to raise.

また、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法では、焼成工程の前にガラス基板からプラスチックを剥離するので、平面性の良いプラスチック基板を得ることが可能となった。   Further, in the method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention, the plastic is peeled off from the glass substrate before the baking step, and thus it is possible to obtain a plastic substrate with good flatness.

さらに、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法では、ガラス基板からプラスチックを剥離するまでの工程は、全て60℃以下の低温度下で行われていることから、第1及び第2の粘着層2及び12は、比較的容易にガラス基板を剥離することが可能となる。よって、ガラス基板の剥離時のプラスチック基板の損傷、たわみ及ひずみが発生しにくい。   Furthermore, in the method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention, the steps until the plastic is peeled off from the glass substrate are all performed at a low temperature of 60 ° C. or lower. 2 and 12 can peel the glass substrate relatively easily. Therefore, the plastic substrate is hardly damaged, bent and strained when the glass substrate is peeled off.

以下図面を参照して、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法について説明する。   A method for manufacturing a liquid crystal display panel according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1〜4は、本発明に係る第1の液晶表示パネルの製造方法を説明するための図である。図1〜4は全て断面図であって、説明のために実際の中間材料の一部分を示しており、縮尺が実際と異なる点に留意されたい。   1 to 4 are views for explaining a method of manufacturing the first liquid crystal display panel according to the present invention. It should be noted that FIGS. 1 to 4 are all cross-sectional views and show a part of an actual intermediate material for explanation, and the scale is different from the actual one.

図1(a)は、第1のガラス基板1上に第1の粘着層2を介して配置された、第1の透明電極層4を有する第1のプラスチック基板3を示している。第1のガラス基板1は、400×300mmの長方形をしており、第1の第1のプラスチック基板3はロールから引き出され、第1のガラス基板1に合う大きさにカットされて第1のガラス基板1上に第1の粘着層2によって貼着される。第1の粘着層2として、微粘着材を用いた。なお、第1のガラス基板1の大きさは一例であって、これに限定されるものではない。また、1個のガラス基板上には約30個分の液晶表示パネル用セル30を一度に形成するようにしている。   FIG. 1A shows a first plastic substrate 3 having a first transparent electrode layer 4 disposed on a first glass substrate 1 via a first adhesive layer 2. The first glass substrate 1 has a rectangular shape of 400 × 300 mm, and the first first plastic substrate 3 is pulled out from the roll and cut into a size that fits the first glass substrate 1. It is stuck on the glass substrate 1 by the first adhesive layer 2. A fine adhesive material was used as the first adhesive layer 2. In addition, the magnitude | size of the 1st glass substrate 1 is an example, Comprising: It is not limited to this. Further, about 30 liquid crystal display panel cells 30 are formed on one glass substrate at a time.

第1のプラスチック基板3は、ポリカーボネイト樹脂によって形成され、厚さ100μmとした。しかしながら、第1のプラスチック基板3はこれに限定されるものではなく、変性アクリル樹脂、ポリメタクリル樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ノルボルテン樹脂等であっても良く、また厚さも50μm〜250μmであることが好ましい。   The first plastic substrate 3 was formed of polycarbonate resin and had a thickness of 100 μm. However, the first plastic substrate 3 is not limited to this, and may be a modified acrylic resin, polymethacrylic resin, polyethersulfone resin, polyethylene terephthalate resin, norboltene resin, and the thickness is 50 μm to It is preferable that it is 250 micrometers.

第1の透明電極層4は、ITOから構成し、第1のプラスチック基板3上にスパッタリング法によって厚さ約0.03μmに形成した。   The first transparent electrode layer 4 was made of ITO and formed on the first plastic substrate 3 to a thickness of about 0.03 μm by sputtering.

図1(b)は、図1(a)の工程後のロールコーター40による第1のポジ型感光性レジスト層の塗布工程を示している。なお、塗布方法はこれに限定されることなく、例えば、スピンナー法を用いても良い。ポジ型感光性レジストとして、ZPP1700を用い、厚さ1.5μmとなるように、第1のポジ型感光性レジスト層5を形成した。第1のポジ型感光性レジスト層5を塗布後、20秒間減圧(0.8〜1.0Torr)し、その後大気圧中で乾燥させた。   FIG.1 (b) has shown the application | coating process of the 1st positive photosensitive resist layer by the roll coater 40 after the process of Fig.1 (a). The application method is not limited to this, and for example, a spinner method may be used. As the positive photosensitive resist, ZPP1700 was used, and the first positive photosensitive resist layer 5 was formed so as to have a thickness of 1.5 μm. After the first positive photosensitive resist layer 5 was applied, the pressure was reduced (0.8 to 1.0 Torr) for 20 seconds, followed by drying at atmospheric pressure.

図1(c)は、図1(b)の工程後の第1のポジ型感光性レジスト層5のプリベイク処理工程を示している。プリベイク処理は、第1のポジ型感光性レジスト層5の残留溶剤を蒸発させ第1の透明電極層4との密着力を強化するために行い、温度60℃のホットプレート上で3分間加熱することにより行った。   FIG. 1C shows a pre-baking process of the first positive photosensitive resist layer 5 after the process of FIG. The pre-baking process is performed to evaporate the residual solvent of the first positive photosensitive resist layer 5 and strengthen the adhesion with the first transparent electrode layer 4, and is heated on a hot plate at a temperature of 60 ° C. for 3 minutes. Was done.

図1(d)は、図1(c)の工程後のフォトマスク41を用いた露光処理工程を示している。所望の透明電極の形状に対応したフォトマスク41と第1のプラスチック基板3とのアライメントマークが一致するように両者を配置してフォトマスク41側から露光を行い、光が照射された箇所の第1のポジ型感光性レジスト層5を現像液に侵食され易くなるように変性させた。露光では、100mJの強さで紫外線を照射した。   FIG. 1D shows an exposure processing step using the photomask 41 after the step of FIG. The photomask 41 corresponding to the shape of the desired transparent electrode and the first plastic substrate 3 are arranged so that the alignment marks coincide with each other, and exposure is performed from the photomask 41 side. 1 positive photosensitive resist layer 5 was modified so as to be easily eroded by the developer. In the exposure, ultraviolet rays were irradiated at an intensity of 100 mJ.

図2(a)は、図1(d)の工程後の第1のポジ型感光性レジスト層5の現像工程を示している。現像液として、水酸化カリウム0.7%水溶液を用いて、25℃の水温で1分間処理を行い、図1(d)において露光されなかった箇所の第1のポジ型感光性レジスト層5を除去した。   FIG. 2A shows a developing process of the first positive photosensitive resist layer 5 after the process of FIG. Using a 0.7% aqueous solution of potassium hydroxide as a developing solution, treatment was performed at a water temperature of 25 ° C. for 1 minute, and the first positive photosensitive resist layer 5 at a location not exposed in FIG. Removed.

図2(b)は、図2(a)の工程後の第1の透明電極層4のエッティング工程を示している。エッティング溶液として、臭化水素酸の4%の水溶液を用い、25℃の水温で1分間処理を行い、第1のポジ型感光性レジスト層5が残存していない箇所の第1の透明電極層4を除去した。   FIG. 2B shows an etching process of the first transparent electrode layer 4 after the process of FIG. A first transparent electrode at a location where the first positive photosensitive resist layer 5 does not remain, using a 4% aqueous solution of hydrobromic acid as an etching solution, treated at a water temperature of 25 ° C. for 1 minute. Layer 4 was removed.

図2(c)は、図2(b)の工程後の残存した第1のポジ型感光性レジスト層5の除去工程を示している。除去溶液として水酸化カリウムの2%水溶液を用いて、25℃の水温で2分間処理を行った。   FIG. 2C shows a process of removing the remaining first positive photosensitive resist layer 5 after the process of FIG. Using a 2% aqueous solution of potassium hydroxide as a removal solution, treatment was performed at a water temperature of 25 ° C. for 2 minutes.

図2(d)は、図2(c)の工程後の洗浄工程を示している。現像工程、エッティング工程及び除去工程時に付着した溶液を、ノズル42からの純水によって洗浄し、その後エアナイフ(図示せず)等によって純水を除去し乾燥させた。図1(a)〜図2(d)の工程によって、第1のプラスチック基板3上に、所望のパターン化された第1の透明電極層4が形成された。   FIG. 2D shows a cleaning process after the process of FIG. The solution adhering during the development process, the etching process, and the removal process was washed with pure water from the nozzle 42, and then the pure water was removed with an air knife (not shown) and dried. A desired patterned first transparent electrode layer 4 was formed on the first plastic substrate 3 by the steps of FIGS. 1 (a) to 2 (d).

図3(a)は、図2(d)の工程後の配向膜の塗布工程を示している。材料としてポリイミドを用い、オフセット印刷法によって、第1の透明電極層4が形成された第1のプラスチック基板3上に第1の配向膜6を塗布した。   FIG. 3A shows an alignment film coating step after the step of FIG. A first alignment film 6 was applied on the first plastic substrate 3 on which the first transparent electrode layer 4 was formed by using an polyimide as a material and an offset printing method.

図3(b)は、図3(a)の工程後の第1の配向膜6の加熱工程を示している。第1の配向膜6の加熱工程は、配向膜を硬化させるために行い、60℃のオーブンで20分間処理を行った。   FIG. 3B shows a heating process of the first alignment film 6 after the process of FIG. The heating process of the first alignment film 6 was performed to cure the alignment film, and the treatment was performed in an oven at 60 ° C. for 20 minutes.

図3(c)は、図3(b)の工程後の第1の配向膜6のラビング処理工程を示している。ラビング処理では、ロール43の回転数を1000rpmとし、プラスチック基板3の送り速度を25mm/secとして1回通過させた。   FIG. 3C shows a rubbing treatment process of the first alignment film 6 after the process of FIG. In the rubbing process, the rotation speed of the roll 43 was set to 1000 rpm, and the feeding speed of the plastic substrate 3 was set to 25 mm / sec and passed once.

図3(d)は、図3(c)の工程後のシール材の形成及びギャップ材の散布工程を示している。ラビング処理が終了したプラスチック基材3の上に、約120℃にて硬化する熱硬化型の接着剤をシール材7としてシール印刷によって形成し、ギャップ材8を散布機(図示せず)によって散布した。ギャップ材8として、球径約7μmのプラスチックビーズを用い、約150個/mm散布した。なお、シール材及びギャップ材は一例であって、これに限定されるものではなく、ギャップ材としては、球径7〜10μmのプラスチックビーズ又はシリカビーズを用いることができ、散布量も、50〜200個/mmとすることが好ましい。 FIG. 3D shows a sealing material forming process and a gap material spraying process after the process of FIG. A thermosetting adhesive that cures at about 120 ° C. is formed by seal printing on the plastic substrate 3 that has been subjected to the rubbing treatment, and the gap material 8 is spread by a spreader (not shown). did. As the gap material 8, plastic beads having a spherical diameter of about 7 μm were used and sprayed at about 150 pieces / mm 2 . Note that the sealing material and the gap material are examples, and the present invention is not limited thereto. As the gap material, plastic beads or silica beads having a spherical diameter of 7 to 10 μm can be used, and the application amount is 50 to 50. The number is preferably 200 / mm 2 .

図4(a)は、図3(d)の工程後の図1(a)から図3(d)までの工程によって製造された一方の側10と、図1(a)から図3(c)までの工程によって製造された他方の側20とを重ね合わせる工程を示している。図1(a)から図3(c)までの工程によって製造された他方の側20は、第2のガラス基板11、第2の粘着層12、第2のプラスチック基板13、第2の透明電極層14及び第2の配向膜16を有している。図4(a)に示す工程では、一方の側10と他方の側20とを、第1及び第2のガラス基板のアライメントマークに合わせて専用の重ね合わせ機(図示せず)によって重ね合わせた。   4 (a) shows one side 10 manufactured by the steps from FIG. 1 (a) to FIG. 3 (d) after the step of FIG. 3 (d), and FIG. 1 (a) to FIG. 3 (c). The process of superimposing the other side 20 manufactured by the process up to FIG. The other side 20 manufactured by the steps from FIG. 1A to FIG. 3C includes a second glass substrate 11, a second adhesive layer 12, a second plastic substrate 13, and a second transparent electrode. The layer 14 and the second alignment film 16 are included. In the step shown in FIG. 4A, one side 10 and the other side 20 are overlapped by a dedicated overlayer (not shown) in accordance with the alignment marks of the first and second glass substrates. .

図4(b)は、図4(a)の工程後の重ね合わされた一方の側10及び他方の側20とのプリベイク処理工程を示している。シール材7を有る程度硬化させるために、一方の側10及び他方の側20をエアバック(不図示)にて挟み、所定の圧力(0.4〜1.2kg/cm)をかけて、60℃のオーブン(不図示)で約2時間加熱した。 FIG. 4B shows a pre-baking process step with the one side 10 and the other side 20 which are overlapped after the step of FIG. In order to cure the sealing material 7 to some extent, the one side 10 and the other side 20 are sandwiched between airbags (not shown), and a predetermined pressure (0.4 to 1.2 kg / cm 2 ) is applied, Heated in an oven (not shown) at 60 ° C. for about 2 hours.

図4(c)は、図4(b)の工程後のガラス基板の剥離工程を示す。第1及び第2のガラス基板1及び11を専用の剥離器(図示せず)により剥離して、液晶表示パネルのセル30とした。   FIG.4 (c) shows the peeling process of the glass substrate after the process of FIG.4 (b). The first and second glass substrates 1 and 11 were peeled off by a dedicated peeler (not shown) to form a cell 30 of a liquid crystal display panel.

図1(a)〜図4(b)までの工程は全て60℃以下の低温度下で行われていることから、第1及び第2の粘着層2及び12は、硬化して強固に第1及び第2のガラス基板1及び11に付着しないため、比較的容易にガラス基板を剥離することが可能となる。よって、ガラス基板の剥離時のプラスチック基板の損傷、たわみ及ひずみが発生しにくい。   Since all the steps from FIG. 1A to FIG. 4B are performed at a low temperature of 60 ° C. or lower, the first and second adhesive layers 2 and 12 are cured and firmly fixed. Since it does not adhere to the 1st and 2nd glass substrates 1 and 11, it becomes possible to peel a glass substrate comparatively easily. Therefore, the plastic substrate is hardly damaged, bent and strained when the glass substrate is peeled off.

また、図1(a)〜図4(b)までの工程は全て60℃以下の低温度下で行われていることから、ガラス基板とプラスチック基板との膨張係数の違いに基づく、プラスチック基板のたわみやひずみ等が生じることなく、プラスチック基板の処理を精度良く行なうことが可能となる。   Moreover, since all the processes from FIG. 1A to FIG. 4B are performed at a low temperature of 60 ° C. or less, the plastic substrate based on the difference in expansion coefficient between the glass substrate and the plastic substrate is used. The plastic substrate can be processed with high accuracy without causing deflection or distortion.

その後、液晶表示パネルのセル30を60℃のオーブン中で4時間、引き続き120℃のオーブン中で2時間ステップ焼成し、その後5時間徐々に冷却して、液晶表示パネル用セル30を完成させた。   Thereafter, the cell 30 of the liquid crystal display panel was step-baked in an oven at 60 ° C. for 4 hours and subsequently in an oven at 120 ° C. for 2 hours, and then gradually cooled for 5 hours to complete the liquid crystal display panel cell 30. .

その後、セル単位に切断し(1個のガラス基板上には約30個分の液晶表示パネル用セルを一度に形成しているので)、第1及び第2のプラスチック基板3及び13とシール材7で規定された空間に、シール材7の開口部(注入口)から液晶を注入し、封止材によって開口部を封止し、偏光板や保護層を更に装着し、電気配線やICチップを装着して液晶表示パネルとした。   Then, it is cut into cell units (since about 30 liquid crystal display panel cells are formed on one glass substrate at a time), the first and second plastic substrates 3 and 13 and the sealing material Liquid crystal is injected into the space defined by 7 from the opening (injection port) of the sealing material 7, the opening is sealed with the sealing material, a polarizing plate and a protective layer are further mounted, electric wiring and IC chip Was installed to make a liquid crystal display panel.

図5は、本発明に係る第2の液晶表示パネルの製造方法を説明するための図である。図5は全て断面図であって、説明のために実際の中間材料の一部分を示しており、縮尺が実際と異なる点に留意されたい。   FIG. 5 is a diagram for explaining a method of manufacturing the second liquid crystal display panel according to the present invention. It should be noted that FIG. 5 is all a cross-sectional view and shows a part of an actual intermediate material for the purpose of explanation, and the scale is different from the actual one.

図5(a)は、図3(d)の工程後のガラス基板の剥離工程を示す。第1のガラス基板1を専用の剥離器(図示せず)により剥離して、液晶表示パネル用セル30の一方の側50を作成する。第1のガラス基板1上に各種処理を行う工程は、図1(a)から図3(d)までに示す工程と同一であるので、記載を省略する。   Fig.5 (a) shows the peeling process of the glass substrate after the process of FIG.3 (d). The first glass substrate 1 is peeled off by a dedicated peeler (not shown) to form one side 50 of the liquid crystal display panel cell 30. Since the process of performing various treatments on the first glass substrate 1 is the same as the process shown in FIGS. 1A to 3D, description thereof is omitted.

図5(b)は、図3(c)の工程後のガラス基板の剥離工程を示す。図5(a)で示した第1のガラス基板1とは異なった第2のガラス基板11を専用の剥離器(図示せず)により剥離して、液晶表示パネル用セル30の他方の側60を作成する。第2のガラス基板11上に各種処理を行う工程は、図1(a)から図3(c)までに示す工程と同一であるので、記載を省略する。また、液晶表示パネル用セル30の他方の側60は、第2の粘着層12、第2のプラスチック基板13、第2の透明電極層14及び第2の配向膜16を有している。   FIG.5 (b) shows the peeling process of the glass substrate after the process of FIG.3 (c). A second glass substrate 11 different from the first glass substrate 1 shown in FIG. 5A is peeled off by a dedicated peeling device (not shown), and the other side 60 of the liquid crystal display panel cell 30 is removed. Create Since the process of performing various treatments on the second glass substrate 11 is the same as the process shown in FIGS. 1A to 3C, description thereof is omitted. In addition, the other side 60 of the liquid crystal display panel cell 30 includes a second adhesive layer 12, a second plastic substrate 13, a second transparent electrode layer 14, and a second alignment film 16.

図5(a)及び(b)の工程において、図1(a)〜図3(d)までの工程は全て60℃以下の低温度下で行われていることから、第1及び第2の粘着層2及び12は、硬化して強固に第1及び第2のガラス基板1及び11に付着しないため、比較的容易にガラス基板を剥離することが可能となる。よって、ガラス基板の剥離時のプラスチック基板の損傷、たわみ及ひずみが発生しにくい。また、図1(a)〜図3(d)までの工程は全て60℃以下の低温度下で行われていることから、ガラス基板とプラスチック基板との膨張係数の違いに基づく、プラスチック基板のたわみやひずみ等が生じることなく、プラスチック基板の処理を精度良く行なうことが可能となる。   In the steps of FIGS. 5A and 5B, the steps from FIGS. 1A to 3D are all performed at a low temperature of 60 ° C. or lower. Since the adhesive layers 2 and 12 are cured and do not adhere firmly to the first and second glass substrates 1 and 11, the glass substrate can be peeled relatively easily. Therefore, the plastic substrate is hardly damaged, bent and strained when the glass substrate is peeled off. In addition, since all the steps from FIG. 1A to FIG. 3D are performed at a low temperature of 60 ° C. or less, the plastic substrate based on the difference in expansion coefficient between the glass substrate and the plastic substrate is used. The plastic substrate can be processed with high accuracy without causing deflection or distortion.

図5(c)は、図5(a)の工程による液晶表示パネル用セル30の一方の側50と図5(b)の工程による他方の側60とを重ね合わせる工程を示している。図5(c)の工程では、第1及び第2のプラスチック基板3及び13のアライメントマークに合わせて専用の重ね合わせ機(図示せず)によって重ね合わせを行う。   FIG. 5C shows a process of superposing one side 50 of the liquid crystal display panel cell 30 by the process of FIG. 5A and the other side 60 by the process of FIG. 5B. In the step of FIG. 5 (c), superposition is performed by a dedicated superposing machine (not shown) in accordance with the alignment marks of the first and second plastic substrates 3 and 13.

図5(d)は、図5(c)の工程後の液晶表示パネル用セルの加圧焼成工程を示している。シール材7を有る硬化させるために、液晶表示パネル用セル30の両側をエアバック(不図示)にて挟み、所定の圧力(0.4〜1.2kg/cm)をかけ、液晶表示パネルのセル30を60℃のオーブン中で4時間、引き続き120℃のオーブン中で2時間ステップ焼成し、その後5時間徐々に冷却して、液晶表示パネル用セル30を完成する。 FIG. 5 (d) shows a pressure firing process of the liquid crystal display panel cell after the process of FIG. 5 (c). In order to cure with the sealing material 7, both sides of the liquid crystal display panel cell 30 are sandwiched between airbags (not shown), a predetermined pressure (0.4 to 1.2 kg / cm 2 ) is applied, and the liquid crystal display panel The cell 30 is subjected to step baking in an oven at 60 ° C. for 4 hours, then in an oven at 120 ° C. for 2 hours, and then gradually cooled for 5 hours to complete the liquid crystal display panel cell 30.

その後、セル単位に切断し(1個のガラス基板上には約30個分の液晶表示パネル用セルを一度に形成しているので)、シール材7の開口部(注入口)から液晶を注入し、封止材によって開口部を封止し、偏光板や保護層を更に装着し、電気配線やICチップを装着して液晶表示パネルとした。   After that, it is cut into cell units (because about 30 liquid crystal display panel cells are formed on one glass substrate at a time), and liquid crystal is injected from the opening (injection port) of the sealing material 7. Then, the opening was sealed with a sealing material, a polarizing plate and a protective layer were further mounted, and electrical wiring and an IC chip were mounted to obtain a liquid crystal display panel.

前述した第1の製造方法では、ガラス基板を剥離するためにある程度シール材を硬化させる必要があることから、プリベイク処理工程(図4(b)参照)後、ガラス基板の剥離を行った(図4(c)参照)。また、その後シール材7を完全に硬化させるために、はじめから高い温度で処理を行うプラスチック基板に障害が発生する恐れがあることから、ステップ焼成を行った。これに対して、第2の製造方法では、ガラス基板を剥離後のプラスチック基板同士を重ね合わせるので、第1の製造方法におけるプリベイク処理工程(図4(b)参照)が不要となる。   In the first manufacturing method described above, since the sealing material needs to be cured to some extent in order to peel off the glass substrate, the glass substrate is peeled off after the pre-baking treatment step (see FIG. 4B) (see FIG. 4). 4 (c)). Further, in order to completely cure the sealing material 7 thereafter, step baking was performed because there is a possibility that the plastic substrate which is processed at a high temperature from the beginning may be damaged. On the other hand, in the second manufacturing method, since the plastic substrates after the glass substrates are peeled are overlapped, the prebaking process step (see FIG. 4B) in the first manufacturing method is not necessary.

上述した第1及び第2の製造方法では、その大部分の工程において、ガラス基板上にプラスチック基板を配置した状態で各種処理を行っており、従前のガラス基板を用いた液晶表示パネル用の製造ラインをそのまま流用することができ、上述した第1及び第2の製造方法を実施するに際して新た多くの設備投資を行う必要がないという利点もある。   In the first and second manufacturing methods described above, in most of the steps, various treatments are performed with a plastic substrate placed on a glass substrate, and manufacturing for a liquid crystal display panel using a conventional glass substrate is performed. The line can be used as it is, and there is an advantage that it is not necessary to make a large amount of capital investment when the first and second manufacturing methods described above are performed.

本発明に係る第1の製造方法に係る工程を説明するための第1の図である。It is the 1st figure for explaining the process concerning the 1st manufacturing method concerning the present invention. 本発明に係る第1の製造方法に係る工程を説明するための第2の図である。It is the 2nd figure for explaining the process concerning the 1st manufacturing method concerning the present invention. 本発明に係る第1の製造方法に係る工程を説明するための第3の図である。It is the 3rd figure for explaining the process concerning the 1st manufacturing method concerning the present invention. 本発明に係る第1の製造方法に係る工程を説明するための第4の図である。It is the 4th figure for explaining the process concerning the 1st manufacturing method concerning the present invention. 本発明に係る第2の製造方法に係る工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the process which concerns on the 2nd manufacturing method which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1のガラス基板
2 第1の粘着層
3 第1のプラスチック層
4 第1の透明電極層
6 第1の配向層
7 シール材
8 ギャップ材
11 第2のガラス基板
12 第2の粘着層
13 第2のプラスチック層
14 第2の透明電極層
16 第2の配向層
30 液晶表示パネル用セル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st glass substrate 2 1st adhesion layer 3 1st plastic layer 4 1st transparent electrode layer 6 1st orientation layer 7 Seal material 8 Gap material 11 2nd glass substrate 12 2nd adhesion layer 13 Second plastic layer 14 Second transparent electrode layer 16 Second alignment layer 30 Cell for liquid crystal display panel

Claims (4)

液晶表示パネルの製造方法であって、
ガラス基板上に第1のプラスチック基板を粘着層によって貼着し、
前記第1のプラスチック基板上にパターン化された透明電極を形成し、
前記第1のプラスチック基板上に配向膜を形成し、
前記第1のプラスチック基板上にシール材を形成し、
前記第1のプラスチック基板上に前記シール材を介して第2のプラスチック基板を重ね合わせ、
前記第2のプラスチック基板が重ね合わされた前記第1のプラスチック基板から前記ガラス基板を剥離することによって液晶表示パネル用セルを形成し、
前記液晶表示用セルを焼成する、
工程を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display panel,
A first plastic substrate is adhered to the glass substrate with an adhesive layer,
Forming a patterned transparent electrode on the first plastic substrate;
Forming an alignment layer on the first plastic substrate;
Forming a sealing material on the first plastic substrate;
Overlaying the second plastic substrate on the first plastic substrate via the sealing material,
Forming a cell for a liquid crystal display panel by peeling the glass substrate from the first plastic substrate on which the second plastic substrate is overlaid;
Firing the liquid crystal display cell;
A process for producing a liquid crystal display panel, comprising a step.
液晶表示パネルの製造方法であって、
ガラス基板上に第1のプラスチック基板を粘着層によって貼着し、
前記第1のプラスチック基板上にパターン化された透明電極を形成し、
前記第1のプラスチック基板上に配向膜を形成し、
前記第1のプラスチック基板上にシール材を形成し、
前記第1のプラスチック基板から前記ガラス基板を剥離し、
前記ガラス基板が剥離された前記第1のプラスチック基板上に前記シール材を介して第2のプラスチック基板を重ね合わせることによって液晶表示パネル用セルを形成し、
前記液晶表示用セルを焼成する、
工程を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display panel,
A first plastic substrate is adhered to the glass substrate with an adhesive layer,
Forming a patterned transparent electrode on the first plastic substrate;
Forming an alignment layer on the first plastic substrate;
Forming a sealing material on the first plastic substrate;
Peeling the glass substrate from the first plastic substrate;
Forming a cell for a liquid crystal display panel by superimposing a second plastic substrate on the first plastic substrate from which the glass substrate has been peeled through the sealing material;
Firing the liquid crystal display cell;
A process for producing a liquid crystal display panel, comprising a step.
前記第1のプラスチック基板から前記ガラス基板を剥離する工程までを全て低温度化で処理する、請求項1又は2に記載の液晶表示パネルの製造方法。   The manufacturing method of the liquid crystal display panel of Claim 1 or 2 which processes by the low temperature all processes from the said 1st plastic substrate to the process of peeling the said glass substrate. 更に、前記第1のプラスチック基板、前記第2のプラスチック基板及びシール材で規定された空間に液晶材料を注入して封止する工程を有する、請求項1〜3の何れか一項に記載の液晶表示パネルの製造方法。   4. The method according to claim 1, further comprising a step of injecting and sealing a liquid crystal material into a space defined by the first plastic substrate, the second plastic substrate, and a sealing material. A method for manufacturing a liquid crystal display panel.
JP2007040749A 2007-02-21 2007-02-21 Method for manufacturing liquid crystal display panel Pending JP2008203619A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007040749A JP2008203619A (en) 2007-02-21 2007-02-21 Method for manufacturing liquid crystal display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007040749A JP2008203619A (en) 2007-02-21 2007-02-21 Method for manufacturing liquid crystal display panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008203619A true JP2008203619A (en) 2008-09-04

Family

ID=39781180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007040749A Pending JP2008203619A (en) 2007-02-21 2007-02-21 Method for manufacturing liquid crystal display panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008203619A (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05323250A (en) * 1992-05-15 1993-12-07 Canon Inc Method and device for manufacturing liquid crystal display element
JPH07234411A (en) * 1994-02-21 1995-09-05 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display device and its production
JPH07325297A (en) * 1994-05-31 1995-12-12 Fujimori Kogyo Kk Laminated sheet with plastic substrate and treatment of substrate
JPH08248368A (en) * 1995-03-09 1996-09-27 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Production of liquid crystal optical element, thin film type liquid crystal optical element for optical waveguide and waveguide type optical device
JP2001125082A (en) * 1999-10-29 2001-05-11 Citizen Watch Co Ltd Method for manufacturing plastic panel
WO2003075343A1 (en) * 2002-03-05 2003-09-12 Sharp Kabushiki Kaisha Method for holding substrate in vacuum, method for manufacturing liquid crystal display device, and device for holding substrate
JP2003270644A (en) * 2002-03-19 2003-09-25 Seiko Epson Corp Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05323250A (en) * 1992-05-15 1993-12-07 Canon Inc Method and device for manufacturing liquid crystal display element
JPH07234411A (en) * 1994-02-21 1995-09-05 Casio Comput Co Ltd Liquid crystal display device and its production
JPH07325297A (en) * 1994-05-31 1995-12-12 Fujimori Kogyo Kk Laminated sheet with plastic substrate and treatment of substrate
JPH08248368A (en) * 1995-03-09 1996-09-27 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Production of liquid crystal optical element, thin film type liquid crystal optical element for optical waveguide and waveguide type optical device
JP2001125082A (en) * 1999-10-29 2001-05-11 Citizen Watch Co Ltd Method for manufacturing plastic panel
WO2003075343A1 (en) * 2002-03-05 2003-09-12 Sharp Kabushiki Kaisha Method for holding substrate in vacuum, method for manufacturing liquid crystal display device, and device for holding substrate
JP2003270644A (en) * 2002-03-19 2003-09-25 Seiko Epson Corp Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6342405B2 (en) Releasable substrate on carrier
JP3203166B2 (en) Jig for manufacturing liquid crystal display element and method for manufacturing liquid crystal display element using the same
WO2016201830A1 (en) Flexible substrate and manufacturing method therefor, and display apparatus
KR101624714B1 (en) a etching method of display panel for manufacturing a curved display device
US20170263488A1 (en) Method of manufacturing flexible display device
JP2013235196A (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP3871983B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display panel
KR101104271B1 (en) The etching method for ultra-thin glass of display panel
JPS637476B2 (en)
JP4685256B2 (en) Manufacturing method of plastic liquid crystal panel
JP4658029B2 (en) Pattern forming method and liquid crystal display device manufacturing method using the same
JP2008203619A (en) Method for manufacturing liquid crystal display panel
JP2001125082A (en) Method for manufacturing plastic panel
JP4999836B2 (en) Manufacturing method of display panel
CN109178516A (en) Notacoria minimizing technology and device, display device
JP2000248243A (en) Production of adhesive sheet and liquid crystal panel
JP4685853B2 (en) Manufacturing method of plastic liquid crystal panel
CN110783253B (en) Manufacturing method of display substrate, display substrate and display device
TWI439983B (en) Flexible substrate manufacturing method for flexible display
JP3689529B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal element
CN107450217B (en) Substrate, method for manufacturing substrate, and method for dividing display panel
JP2004063694A (en) Pattern transfer film, manufacture thereof, functional mask and manufacture of functional mask
JP2009008868A (en) Method for manufacturing liquid crystal display element, and liquid crystal display element
TWI507771B (en) Method of manufacturing liquid crystal panel and method of manufacturing substrate
KR20130037763A (en) Support substrate and method of manufacturing the same and method of manufacturing substrate for display device by using it

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091215

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111213

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120605

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120724

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130212