JP2003270644A - Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor - Google Patents

Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor

Info

Publication number
JP2003270644A
JP2003270644A JP2002077155A JP2002077155A JP2003270644A JP 2003270644 A JP2003270644 A JP 2003270644A JP 2002077155 A JP2002077155 A JP 2002077155A JP 2002077155 A JP2002077155 A JP 2002077155A JP 2003270644 A JP2003270644 A JP 2003270644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
fixing member
sealing material
substrates
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002077155A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Norimatsu
力 則松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2002077155A priority Critical patent/JP2003270644A/en
Publication of JP2003270644A publication Critical patent/JP2003270644A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To attach and bond a counter substrate and an element substrate together while accurately controlling cell thickness and fabrication accuracy without causing the deterioration of pixels. <P>SOLUTION: In steps S<SB>21</SB>-S<SB>23</SB>, sealant, vertically conductive material and a fixing member are formed on a TFT substrate. The fixing member is formed outside the sealant. That is, the fixing member is adequately separated from a pixel region, the TFT substrate and the counter substrate are attached together (step S<SB>25</SB>) and aligned and, at the same time, the fixing member is photoset (step S<SB>26</SB>). Therein, the pixel is not irradiated with the leakage light. In step S<SB>27</SB>, the sealant is properly cured by heat. In such a manner, the pixel is not irradiated with the leakage light, the pixel is not deteriorated and the assembly with high alignment accuracy and adequate strength can be performed. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、小型の液晶パネル
の貼り合わせに好適な液晶装置及びその製造方法並びに
接着剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device suitable for laminating small liquid crystal panels, a method for manufacturing the same, and an adhesive.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ライトバルブ等の液晶装置は、ガラ
ス基板、石英基板等の2枚の基板間に液晶を封入して構
成される。液晶ライトバルブでは、一方の基板に、例え
ば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、T
FTと称す)をマトリクス状に配置し、他方の基板に対
向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特
性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可
能にする。
2. Description of the Related Art A liquid crystal device such as a liquid crystal light valve is constructed by enclosing a liquid crystal between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate. In a liquid crystal light valve, for example, a thin film transistor (hereinafter, referred to as T
(Referred to as FT) are arranged in a matrix, the counter electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between both substrates are changed according to the image signal, thereby enabling image display. To do.

【0003】TFTを配置したTFT基板と、TFT基
板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。
両基板は、パネル組み立て工程において高精度に貼り合
わされた後、液晶が封入される。
The TFT substrate on which the TFTs are arranged and the counter substrate opposed to the TFT substrate are manufactured separately.
After both substrates are bonded with high precision in the panel assembly process, liquid crystal is sealed.

【0004】パネル組み立て工程においては、先ず、各
基板工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板
との対向面、即ち、対向基板及びTFT基板の液晶層と
接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が
行われる。
In the panel assembling process, first, an alignment film is formed on the facing surfaces of the TFT substrate and the counter substrate manufactured in each substrate process, that is, on the surfaces of the counter substrate and the liquid crystal layer of the TFT substrate in contact with each other. Then, a rubbing process is performed.

【0005】配向膜を形成してラビング処理を施すこと
で、電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向
膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメーターの厚さで
塗布することにより形成される。液晶層に対向する両基
板の面上に配向膜を形成することで、液晶分子を基板面
に沿って配向処理することができる。ラビング処理は、
配向膜表面に細かい溝を形成して配向異方性の膜にする
ものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施すこ
とで、液晶分子の配列を規定することができる。
By forming an alignment film and performing rubbing treatment, the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied is determined. The alignment film is formed, for example, by applying polyimide to a thickness of about several tens of nanometers. By forming the alignment films on the surfaces of both substrates facing the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules can be aligned along the surfaces of the substrates. The rubbing process is
A fine groove is formed on the surface of the alignment film to form an alignment anisotropic film, and the alignment film can be rubbed in a certain direction to define the alignment of liquid crystal molecules.

【0006】次に、一方の基板上の端辺に接着剤となる
シール材が形成される。TFT基板と対向基板とをシー
ル材を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧
着硬化させる。シール材の一部には切り欠きが設けられ
ており、この切り欠きを介して液晶を封入する。
Next, a sealing material as an adhesive is formed on the edge of one of the substrates. The TFT substrate and the counter substrate are attached to each other with a sealant, and pressure-bonded and cured while performing alignment. A notch is provided in a part of the sealing material, and the liquid crystal is sealed through this notch.

【0007】ところで、基板の貼り合わせ処理において
は、熱硬化を利用してシール材を硬化させる方法と、光
(紫外線)硬化を利用してシール材を硬化させる方法と
がある。
By the way, in the bonding process of the substrates, there are a method of curing the sealing material by utilizing heat curing and a method of curing the sealing material by utilizing light (ultraviolet) curing.

【0008】シール材を熱硬化する方法は生産性が高い
という利点を有する。しかしながら、シール材の熱膨張
率とガラスの熱膨張率との相違等によって、アライメン
トに狂いが生じてしまう。
The method of thermosetting the sealing material has an advantage of high productivity. However, due to the difference between the coefficient of thermal expansion of the sealing material and the coefficient of thermal expansion of glass, the alignment may be misaligned.

【0009】このため、一般的には、接着部を紫外線硬
化させる方法が採用されることが多い。紫外線硬化を採
用すると、熱を加えないことから、アライメント精度が
高いという利点がある。しかし、紫外線硬化では300
0〜30000mJといった大光量を必要とし十分な硬
化に長時間を要してしまう。
Therefore, in general, a method of curing the adhesive portion with ultraviolet rays is often adopted. Adopting UV curing has the advantage of high alignment accuracy because it does not apply heat. However, it is 300 with UV curing.
A large amount of light such as 0 to 30,000 mJ is required, and it takes a long time for sufficient curing.

【0010】また、紫外線を照射した際にポリイミドに
光が照射され劣化し、液晶の配向のプレチルト角が低下
する等の問題がある。
Further, there is a problem that the polyimide is irradiated with light when it is irradiated with ultraviolet rays and deteriorates, and the pretilt angle of the alignment of the liquid crystal is lowered.

【0011】そこで、最近では、短時間で硬化する紫外
線硬化を仮硬化に採用し、本硬化において大光量の紫外
線による紫外線硬化及び補助的に熱硬化を採用したシー
ル材を用いることがある。短時間の仮硬化によってアラ
イメント精度を向上させると共に、大光量の紫外線を用
いた本硬化によって、十分な固着強度を得る。
Therefore, in recent years, a UV curable material which cures in a short time has been adopted for temporary curing, and in the main curing, there has been used a seal material in which UV curing by a large amount of UV light and auxiliary heat curing are adopted. Alignment accuracy is improved by temporary curing for a short time, and sufficient fixing strength is obtained by main curing using a large amount of ultraviolet light.

【0012】なお、シール材に紫外線を照射する場合に
は、画素への影響を回避するために、シール材以外の部
分を遮光する遮光マスクを用いるようになっている。
When the sealing material is irradiated with ultraviolet rays, a light-shielding mask for shielding the portion other than the sealing material from light is used in order to avoid the influence on the pixels.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、遮光マ
スクだけでは画素への紫外線の入射を完全に阻止するこ
とはできない。しかも、UV露光時の光量は1000〜
4000mJと比較的高い。このため、生産性及び組立
精度等の観点からシール材として紫外線硬化型の接着材
料を使用すると、シール材に対する紫外線硬化時にシー
ル材近傍の画素に比較的大きな光量の光が入射してしま
う。そうすると、配向膜等が劣化しやすくなり、画面品
位の低下を招来してしまうという問題点があった。
However, it is not possible to completely block the incidence of ultraviolet rays on a pixel only with a light-shielding mask. Moreover, the amount of light during UV exposure is 1000-
It is relatively high at 4000 mJ. Therefore, when an ultraviolet curable adhesive material is used as the seal material from the viewpoint of productivity and assembly accuracy, a relatively large amount of light is incident on pixels near the seal material when the seal material is cured by ultraviolet light. Then, there is a problem that the alignment film and the like are easily deteriorated and the screen quality is deteriorated.

【0014】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、対向基板と素子基板とを固着するシール材
以外に、仮硬化用の固定部材をシール材の外側に設け、
固定部材をUV硬化型とし、シール材を熱硬化型とする
ことにより、セル厚及び組立精度を高精度に制御可能と
すると共に、紫外線による画素への悪影響を回避するこ
とができる液晶装置及びその製造方法並びに接着剤を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and in addition to the sealing material for fixing the counter substrate and the element substrate, a fixing member for temporary curing is provided outside the sealing material,
By making the fixing member a UV curing type and the sealing material a thermosetting type, the cell thickness and the assembly accuracy can be controlled with high accuracy, and the adverse effect of ultraviolet rays on the pixels can be avoided, and the liquid crystal device. It is an object to provide a manufacturing method and an adhesive.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶装置
は、相互に対向配置されて液晶が封入される第1及び第
2の液晶基板相互間に形成され、熱硬化することによ
り、前記第1及び第2の液晶基板同士を固着するシール
材と、前記第1及び第2の液晶基板相互間で前記第1及
び第2の液晶基板によって構成される画素領域から離間
した位置に形成され、光硬化することにより、前記第1
及び第2の液晶基板同士を仮固定する固定部材とを具備
したことを特徴とする。
A liquid crystal device according to the present invention is formed between first and second liquid crystal substrates which are arranged so as to face each other and in which a liquid crystal is sealed, and are thermally cured to form the first liquid crystal device. A sealing material for fixing the first and second liquid crystal substrates to each other, and a position between the first and second liquid crystal substrates, which is separated from a pixel region formed by the first and second liquid crystal substrates, By photo-curing, the first
And a fixing member for temporarily fixing the second liquid crystal substrates to each other.

【0016】このような構成によれば、第1及び第2の
液晶基板相互間にはシール材が形成される。また、第1
及び第2の液晶基板相互間で第1及び第2の液晶基板に
よって構成される画素領域から離間した位置に固定部材
が形成される。固定部材は光硬化することによって、第
1及び第2の液晶基板同士を仮固定する。光による硬化
によって、セル厚及び組立精度を高精度に制御しなが
ら、仮固定が行われる。固定部材の光硬化に際して、画
素領域に漏れ光が照射されることはない。シール材は熱
硬化し、十分な強度で第1及び第2の液晶基板同士を固
着する。こうして、画素の劣化を招来することなく、高
精度の貼り付けが行われる。
According to this structure, the sealing material is formed between the first and second liquid crystal substrates. Also, the first
The fixing member is formed between the second liquid crystal substrate and the second liquid crystal substrate at a position separated from the pixel region formed by the first and second liquid crystal substrates. The fixing member is photo-cured to temporarily fix the first and second liquid crystal substrates to each other. By curing with light, temporary fixing is performed while controlling the cell thickness and the assembly accuracy with high accuracy. During the photo-curing of the fixing member, the leak light is not applied to the pixel area. The sealing material is heat-cured to fix the first and second liquid crystal substrates to each other with sufficient strength. In this way, high-accuracy pasting is performed without causing deterioration of pixels.

【0017】前記固定部材は、前記第1及び第2の液晶
基板相互間の前記シール材の外側に形成されることを特
徴とする。
The fixing member is formed outside the sealing material between the first and second liquid crystal substrates.

【0018】このような構成によれば、固定部材はシー
ル材の外側に形成されるので、固定部材は、少なくとも
シール材の幅以上に画素領域から離間する。これによ
り、光露光に際して、光が画素領域に照射されることが
防止される。
According to this structure, since the fixing member is formed outside the sealing material, the fixing member is separated from the pixel region by at least the width of the sealing material. This prevents light from being applied to the pixel area during light exposure.

【0019】また、前記固定部材は、マスク露光に際し
て、漏れ光が前記第1及び第2の液晶基板によって構成
される画素領域に照射されない位置に形成されることを
特徴とする。
Further, the fixing member is formed at a position where the leaked light is not irradiated to the pixel region formed by the first and second liquid crystal substrates during mask exposure.

【0020】このような構成によれば、マスク露光の際
の漏れ光が画素に照射されないので、画素が劣化するこ
とを防止することができる。
According to such a configuration, the leaked light at the time of mask exposure is not applied to the pixel, so that the pixel can be prevented from being deteriorated.

【0021】また、前記固定部材は、前記第1及び第2
の液晶基板同士を電気的に接続する上下導通材と兼用さ
れることを特徴とする。
Further, the fixing member includes the first and second fixing members.
It is also used as an up-and-down conducting material for electrically connecting the liquid crystal substrates to each other.

【0022】このような構成によれば、固定部材は上下
導通材と兼用されるので、固定部材を形成するためのス
ペースを新たに設ける必要はなく、設計の自由度が低下
することはない。
According to this structure, since the fixing member is also used as the upper and lower conducting members, it is not necessary to newly provide a space for forming the fixing member, and the degree of freedom in design is not reduced.

【0023】また、前記固定部材は、前記シール材の全
外辺に沿って形成されることを特徴とする。
Further, the fixing member is formed along the entire outer periphery of the sealing material.

【0024】このような構成によれば、シール材と同様
の形成工程によって固定部材を形成することができる。
According to this structure, the fixing member can be formed by the same forming process as the sealing material.

【0025】また、前記固定部材は、前記第1及び第2
の液晶基板のうちの一方の液晶基板の四隅に形成される
ことを特徴とする。
Further, the fixing member includes the first and second fixing members.
The liquid crystal substrate is formed at four corners of one of the liquid crystal substrates.

【0026】このような構成によれば、第1及び第2の
液晶基板のうちの一方の液晶基板の四隅は、画素領域か
ら比較的離間した位置で比較的大きな空きスペースを有
しており、固定部材の形成位置として最適である。
According to this structure, the four corners of one of the first and second liquid crystal substrates have relatively large empty spaces at positions relatively separated from the pixel region, It is the most suitable position for forming the fixing member.

【0027】本発明に係る液晶装置の製造方法は、相互
に対向配置されて液晶が封入される第1及び第2の液晶
基板の一方に熱硬化型のシール材を形成すると共に前記
第1及び第2の液晶基板によって構成される画素領域か
ら離間した位置に光硬化型の固定部材を形成する工程
と、前記第1及び第2の液晶基板を貼り合わせて、前記
固定部材に光を照射することによって、アライメントし
ながら前記第1及び第2の液晶基板を仮固定する仮硬化
工程と、前記シール材を熱によって本硬化させて前記第
1及び第2の液晶基板を固着する工程とを具備したこと
を特徴とする。
In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, a thermosetting sealing material is formed on one of the first and second liquid crystal substrates which are arranged so as to face each other and in which liquid crystal is sealed, and the first and second liquid crystal substrates are formed. A step of forming a photo-curing type fixing member at a position separated from a pixel region constituted by the second liquid crystal substrate, and bonding the first and second liquid crystal substrates to irradiate the fixing member with light. Accordingly, a temporary curing step of temporarily fixing the first and second liquid crystal substrates while aligning, and a step of permanently curing the sealing material by heat to fix the first and second liquid crystal substrates are provided. It is characterized by having done.

【0028】このような構成によれば、シール材及び固
定部材が、第1及び第2の液晶基板の一方に形成され
る。固定部材は、第1及び第2の液晶基板によって構成
される画素領域から離間した位置に形成される。第1及
び第2の液晶基板は貼り合わされ、固定部材に光を照射
して、アライメントしながら固定部材を硬化させる。こ
れにより、第1及び第2の液晶基板を仮固定する。次
に、シール材を熱によって本硬化させて第1及び第2の
液晶基板を固着する。こうして、画素の劣化を招来する
ことなく、高精度の貼り付けが行われる。
According to this structure, the sealing material and the fixing member are formed on one of the first and second liquid crystal substrates. The fixing member is formed at a position separated from the pixel region formed by the first and second liquid crystal substrates. The first and second liquid crystal substrates are attached to each other, and the fixing member is irradiated with light so that the fixing member is cured while being aligned. As a result, the first and second liquid crystal substrates are temporarily fixed. Next, the sealing material is fully cured by heat to fix the first and second liquid crystal substrates. In this way, high-accuracy pasting is performed without causing deterioration of pixels.

【0029】また、前記固定部材は、前記第1及び第2
の液晶基板相互間の前記シール材の外側に形成されるこ
とを特徴とする。
The fixing member includes the first and second fixing members.
Is formed outside the sealing material between the liquid crystal substrates.

【0030】また、前記固定部材は、前記第1及び第2
の液晶基板相互間を電気的に接続する上下導通材と兼用
されることを特徴とする。
The fixing member includes the first and second fixing members.
It is also used as a vertical conductive material for electrically connecting the liquid crystal substrates to each other.

【0031】このような構成によれば、仮硬化用の固定
部材によって、第1及び第2の液晶基板相互間を電気的
に接続することができる。また、上下導通材を形成する
工程と固定部材を形成する工程が兼用されることにな
り、工程数の増加が防止される。
According to this structure, the first and second liquid crystal substrates can be electrically connected to each other by the temporary curing fixing member. Further, the step of forming the upper and lower conducting members and the step of forming the fixing member are combined, and an increase in the number of steps is prevented.

【0032】本発明に係る液晶装置の製造に用いる接着
剤は、光硬化可能な基体樹脂と、光開始材と、導通機能
を有するフィラーとを具備したことを特徴とする。
The adhesive used in the manufacture of the liquid crystal device according to the present invention is characterized by comprising a photocurable base resin, a photoinitiator, and a filler having a conduction function.

【0033】このような構成によれば、基体樹脂は、光
開始材によって光硬化する。導通機能を有するフィラー
によって、基体樹脂の両端に接触した部材間を電気的に
接続することができる。
According to this structure, the base resin is photocured by the photoinitiator. By means of the filler having a conduction function, it is possible to electrically connect the members in contact with both ends of the base resin.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について詳細に説明する。図1は本発明の第1
の実施の形態に係る製造方法を示すフローチャートであ
る。図2は図1の製造方法によって基板が組み立てられ
る液晶装置について、その画素領域を構成する複数の画
素における各種素子、配線等の等価回路図である。図3
は図2の液晶装置を、TFT基板等の素子基板をその上
に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面
図であり、図4は素子基板と対向基板とを貼り合わせて
液晶を封入する組み立て工程終了後の液晶装置を、図3
のH−H’線の位置で切断して示す断面図である。ま
た、図5は液晶装置の画素の構成を詳細に示す断面図で
ある。図6はパネル組み立て工程を示すフローチャート
である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows the first of the present invention.
5 is a flowchart showing a manufacturing method according to the embodiment of the present invention. FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, etc. in a plurality of pixels forming the pixel region of the liquid crystal device in which the substrate is assembled by the manufacturing method of FIG. Figure 3
2 is a plan view of the liquid crystal device of FIG. 2 as viewed from the counter substrate side together with the constituent elements such as a TFT substrate formed on the element substrate, and FIG. The liquid crystal device after the assembly process for enclosing the
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG. Further, FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail the configuration of the pixel of the liquid crystal device. FIG. 6 is a flowchart showing the panel assembling process.

【0035】本実施の形態は、有効な画素領域から十分
に離間した位置において光硬化型の仮固定用の部材によ
って対向基板と素子基板とをアライメントを施しながら
仮固定すると共に、熱硬化型のシール材を本硬化させて
対向基板と素子基板とを確実に接着固定するようにした
ものである。
In this embodiment, the counter substrate and the element substrate are temporarily fixed while being aligned by a photo-curing temporary fixing member at a position sufficiently separated from the effective pixel region, and at the same time, a thermosetting type member is used. The sealing material is fully cured so that the counter substrate and the element substrate are securely bonded and fixed.

【0036】先ず、図2乃至図5を参照して、液晶装置
の構造について説明する。
First, the structure of the liquid crystal device will be described with reference to FIGS.

【0037】液晶装置は、図3及び図4に示すように、
TFT基板等の素子基板10と対向基板20との間に液
晶50を封入して構成される。素子基板10上には画素
を構成する画素電極等がマトリクス状に配置される。図
2は画素を構成する素子基板10上の素子の等価回路を
示している。
The liquid crystal device, as shown in FIG. 3 and FIG.
A liquid crystal 50 is sealed between the element substrate 10 such as a TFT substrate and the counter substrate 20. Pixel electrodes that form pixels are arranged in a matrix on the element substrate 10. FIG. 2 shows an equivalent circuit of the elements on the element substrate 10 which form the pixels.

【0038】図2に示すように、画素領域においては、
複数本の走査線3aと複数本のデータ線6aとが交差す
るように配線され、走査線3aとデータ線6aとで区画
された領域に画素電極9aがマトリクス状に配置され
る。そして、走査線3aとデータ線6aの各交差部分に
対応してTFT30が設けられ、このTFT30に画素
電極9aが接続される。
As shown in FIG. 2, in the pixel area,
The plurality of scanning lines 3a and the plurality of data lines 6a are arranged so as to intersect with each other, and the pixel electrodes 9a are arranged in a matrix in a region partitioned by the scanning lines 3a and the data lines 6a. A TFT 30 is provided corresponding to each intersection of the scanning line 3a and the data line 6a, and the pixel electrode 9a is connected to this TFT 30.

【0039】TFT30は走査線3aのON信号によっ
てオンとなり、これにより、データ線6aに供給された
画像信号が画素電極9aに供給される。この画素電極9
aと対向基板20に設けられた対向電極21との間の電
圧が液晶50に印加される。また、画素電極9aと並列
に蓄積容量70が設けられており、蓄積容量70によっ
て、画素電極9aの電圧はソース電圧が印加された時間
よりも例えば3桁も長い時間の保持が可能となる。蓄積
容量70によって、電圧保持特性が改善され、コントラ
スト比の高い画像表示が可能となる。
The TFT 30 is turned on by the ON signal of the scanning line 3a, whereby the image signal supplied to the data line 6a is supplied to the pixel electrode 9a. This pixel electrode 9
A voltage between a and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20 is applied to the liquid crystal 50. Further, a storage capacitor 70 is provided in parallel with the pixel electrode 9a, and the storage capacitor 70 enables the voltage of the pixel electrode 9a to be retained for a time that is, for example, three digits longer than the time when the source voltage is applied. The storage capacitor 70 improves the voltage holding characteristic and enables image display with a high contrast ratio.

【0040】図5は、一つの画素に着目した液晶装置の
模式的断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view of a liquid crystal device focusing on one pixel.

【0041】ガラスや石英等の素子基板10には、溝1
1が形成されている。この溝11上に遮光膜12及び第
1層間絶縁膜13を介してLDD構造をなすTFT30
が形成されている。溝11によって、TFT基板の液晶
50との境界面が平坦化される。
The groove 1 is formed in the element substrate 10 such as glass or quartz.
1 is formed. A TFT 30 having an LDD structure is formed on the groove 11 via a light shielding film 12 and a first interlayer insulating film 13.
Are formed. The groove 11 flattens the boundary surface of the TFT substrate with the liquid crystal 50.

【0042】TFT30は、チャネル領域1a、ソース
領域1d、ドレイン領域1eが形成された半導体層に絶
縁膜2を介してゲート電極をなす走査線3aが設けられ
てなる。なお、遮光膜12は、TFT30の形成領域に
対応する領域、後述するデータ線6a及び走査線3a等
の形成領域、即ち各画素の非表示領域に対応した領域に
形成されている。この遮光膜12によって、反射光がT
FT30のチャネル領域1a、ソース領域1d及びドレ
イン領域1eに入射することが防止される。
The TFT 30 comprises a scanning line 3a forming a gate electrode via an insulating film 2 in a semiconductor layer in which a channel region 1a, a source region 1d and a drain region 1e are formed. The light shielding film 12 is formed in a region corresponding to the formation region of the TFT 30, a formation region of the data lines 6a and the scanning lines 3a described later, that is, a region corresponding to the non-display region of each pixel. Due to the light-shielding film 12, the reflected light is T
Incident on the channel region 1a, the source region 1d, and the drain region 1e of the FT 30 is prevented.

【0043】TFT30上には第2層間絶縁膜14が積
層され、第2層間絶縁膜14上には中間導電層15が形
成されている。中間導電層15上には誘電体膜17を介
して容量線18が対向配置されている。容量線18は、
容量層と遮光層とからなり、中間導電層15との間で蓄
積容量を構成すると共に、光の内部反射を防止する遮光
機能を有する。半導体層に比較的近接した位置に中間導
電層15を形成しており、光の乱反射を効率よく防止す
ることができる。
A second interlayer insulating film 14 is laminated on the TFT 30, and an intermediate conductive layer 15 is formed on the second interlayer insulating film 14. Capacitor lines 18 are arranged on the intermediate conductive layer 15 with a dielectric film 17 interposed therebetween. The capacitance line 18 is
It is composed of a capacitance layer and a light-shielding layer, constitutes a storage capacitor with the intermediate conductive layer 15, and has a light-shielding function of preventing internal reflection of light. Since the intermediate conductive layer 15 is formed at a position relatively close to the semiconductor layer, diffused reflection of light can be efficiently prevented.

【0044】容量線18上には第3層間絶縁膜19が配
置され、第3層間絶縁膜19上にはデータ線6aが積層
される。データ線6aは、第3及び第2層間絶縁膜1
9,14を貫通するコンタクトホール24a,24bを
介してソース領域1dに電気的に接続される。データ線
6a上には第4層間絶縁膜25を介して画素電極9aが
積層されている。画素電極9aは、第4〜第2層間絶縁
膜25,19,14を貫通するコンタクトホール26
a,26bにより容量線18を介してドレイン領域1e
に電気的に接続される。画素電極9a上にはポリイミド
系の高分子樹脂からなる配向膜16が積層され、所定方
向にラビング処理されている。
A third interlayer insulating film 19 is arranged on the capacitance line 18, and a data line 6a is laminated on the third interlayer insulating film 19. The data line 6a is connected to the third and second interlayer insulating films 1
It is electrically connected to the source region 1d through the contact holes 24a and 24b penetrating the electrodes 9 and 14. A pixel electrode 9a is stacked on the data line 6a with a fourth interlayer insulating film 25 interposed therebetween. The pixel electrode 9a has a contact hole 26 penetrating the fourth to second interlayer insulating films 25, 19, and 14.
a, 26b through the capacitance line 18 to the drain region 1e
Electrically connected to. An alignment film 16 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the pixel electrode 9a, and is rubbed in a predetermined direction.

【0045】走査線3a(ゲート電極)にON信号が供
給されることで、チャネル領域1aが導通状態となり、
ソース領域1dとドレイン領域1eとが接続されて、デ
ータ線6aに供給された画像信号が画素電極9aに与え
られる。
When the ON signal is supplied to the scanning line 3a (gate electrode), the channel region 1a becomes conductive,
The source region 1d and the drain region 1e are connected to each other, and the image signal supplied to the data line 6a is applied to the pixel electrode 9a.

【0046】一方、対向基板20には、TFTアレイ基
板のデータ線6a、走査線3a及びTFT30の形成領
域に対向する領域、即ち各画素の非表示領域において第
1遮光膜23が設けられている。この第1遮光膜23に
よって、対向基板20側からの入射光がTFT30のチ
ャネル領域1a、ソース領域1d及びドレイン領域1e
に入射することが防止される。第1遮光膜23上に、対
向電極(共通電極)21が基板20全面に亘って形成さ
れている。対向電極21上にポリイミド系の高分子樹脂
からなる配向膜22が積層され、所定方向にラビング処
理されている。
On the other hand, the counter substrate 20 is provided with a first light-shielding film 23 in a region facing the data line 6a, the scanning line 3a and the TFT 30 forming region of the TFT array substrate, that is, in the non-display region of each pixel. . Due to the first light-shielding film 23, incident light from the counter substrate 20 side allows the channel region 1a, the source region 1d and the drain region 1e of the TFT 30 to be incident.
Is prevented from entering. A counter electrode (common electrode) 21 is formed on the first light-shielding film 23 over the entire surface of the substrate 20. An alignment film 22 made of a polyimide-based polymer resin is laminated on the counter electrode 21 and rubbed in a predetermined direction.

【0047】そして、素子基板10と対向基板20との
間に液晶50が封入されている。これにより、TFT3
0は所定のタイミングでデータ線6aから供給される画
像信号を画素電極9aに書き込む。書き込まれた画素電
極9aと対向電極21との電位差に応じて液晶50の分
子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示
を可能にする。
Liquid crystal 50 is sealed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. As a result, the TFT3
0 writes the image signal supplied from the data line 6a to the pixel electrode 9a at a predetermined timing. Depending on the written potential difference between the pixel electrode 9a and the counter electrode 21, the orientation or order of the molecular assembly of the liquid crystal 50 is changed to modulate light and enable gradation display.

【0048】図3及び図4に示すように、対向基板20
には表示領域を区画する額縁としての遮光膜42が設け
られている。遮光膜42は例えば遮光膜23と同一又は
異なる遮光性材料によって形成されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the counter substrate 20
Is provided with a light shielding film 42 as a frame that divides the display area. The light shielding film 42 is made of, for example, the same or different light shielding material as the light shielding film 23.

【0049】遮光膜42の外側の領域には、液晶を封入
するシール材41が、素子基板10と対向基板20間に
形成されている。シール材41は対向基板20の輪郭形
状に略一致するように配置され、素子基板10と対向基
板20を相互に固着する。本実施の形態においては、シ
ール材41としては熱硬化型の接着材料が用いられる。
A sealing material 41 for enclosing the liquid crystal is formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20 in a region outside the light shielding film 42. The sealing material 41 is arranged so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and fixes the element substrate 10 and the counter substrate 20 to each other. In this embodiment, a thermosetting adhesive material is used as the sealing material 41.

【0050】更に、本実施の形態においては、シール材
41の外側の領域には、仮固定用の固定部材43が形成
されている。固定部材43は、素子基板10と対向基板
20間に形成されて、素子基板10と対向基板20を相
互に固着する。固定部材43としてはUV硬化型の接着
材料が用いられる。
Further, in this embodiment, a fixing member 43 for temporary fixing is formed in the area outside the sealing material 41. The fixing member 43 is formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20, and fixes the element substrate 10 and the counter substrate 20 to each other. As the fixing member 43, a UV curable adhesive material is used.

【0051】シール材41及び固定部材43は、素子基
板10の1辺の一部において欠落しており、貼り合わさ
れた素子基板10及び対向基板20相互の間隙には、液
晶50を注入するための液晶注入口78が形成される。
液晶注入口78より液晶が注入された後、液晶注入口7
8を封止材79で封止するようになっている。
The sealing material 41 and the fixing member 43 are missing on a part of one side of the element substrate 10, and the liquid crystal 50 is injected into the gap between the element substrate 10 and the counter substrate 20 which are bonded together. A liquid crystal injection port 78 is formed.
After the liquid crystal is injected through the liquid crystal injection port 78, the liquid crystal injection port 7
8 is sealed with a sealing material 79.

【0052】素子基板10の固定部材43の外側の領域
には、データ線駆動回路61及び実装端子62が素子基
板10の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接
する2辺に沿って、走査線駆動回路63が設けられてい
る。素子基板10の残る一辺には、画面表示領域の両側
に設けられた走査線駆動回路63間を接続するための複
数の配線64が設けられている。また、対向基板20の
コーナー部の少なくとも1箇所においては、素子基板1
0と対向基板20との間を電気的に導通させるための上
下導通材65が設けられている。
A data line drive circuit 61 and mounting terminals 62 are provided along one side of the element substrate 10 in a region outside the fixing member 43 of the element substrate 10, and along two sides adjacent to the one side. , A scanning line drive circuit 63 is provided. A plurality of wirings 64 for connecting the scanning line drive circuits 63 provided on both sides of the screen display area are provided on the remaining side of the element substrate 10. The element substrate 1 is provided at least at one corner of the counter substrate 20.
A vertical conduction member 65 is provided to electrically connect 0 and the counter substrate 20.

【0053】次に、固定部材43の具体例について説明
する。
Next, a specific example of the fixing member 43 will be described.

【0054】本実施の形態においては、固定部材43と
しては、光硬化可能な基体樹脂を採用する。例えば、ア
クリル酸エステル、メタクリル酸エステルのモノマー又
はオリゴマー、ビスフェノール変性アクリレート、ビス
フェノール変性メタクリレート、シリコン変性アクリレ
ート、ウレタン変性アクリレート、ふっ素アクリレー
ト、アリルモノマー、アリルオリゴマー等の光ラジカル
発生剤で重合可能な樹脂であればよい。
In this embodiment, as the fixing member 43, a photo-curable base resin is adopted. For example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester monomer or oligomer, bisphenol-modified acrylate, bisphenol-modified methacrylate, silicon-modified acrylate, urethane-modified acrylate, fluorine acrylate, allyl monomer, allyl oligomer, etc. I wish I had it.

【0055】固定部材43の光開始剤としては、ベンゾ
フェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾ
イルイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケター
ル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チ
オキサントン等の光ラジカル発生剤が考えられる。
As the photoinitiator for the fixing member 43, a photoradical generator such as benzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, benzoylisopropyl ether, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, thioxanthone and the like can be considered.

【0056】一方、シール材41としては、熱シール剤
が用いられる。シール材41の基本組成としては、エポ
キシ系の基体樹脂、硬化剤又は硬化触媒とセルギャップ
を形成するフィラー剤がある。必要に応じて、接着付与
剤、平坦化剤を添加する。
On the other hand, as the sealing material 41, a heat sealing agent is used. The basic composition of the sealing material 41 includes an epoxy-based base resin, a curing agent or a curing catalyst and a filler agent that forms a cell gap. If necessary, an adhesion-imparting agent and a flattening agent are added.

【0057】シール材41の基体樹脂としては、ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、各種変性エポキシ樹
脂等が考えられる。
As the base resin of the sealing material 41, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, cycloaliphatic epoxy resin, various modified epoxy resins and the like can be considered.

【0058】シール材41の硬化剤としては、アミン系
硬化剤、ウレタン系硬化剤又はメラミン系硬化剤等、基
体樹脂と硬化反応するものであれば制限はない。
The curing agent for the sealing material 41 is not limited as long as it can be cured with the base resin, such as an amine-based curing agent, a urethane-based curing agent or a melamine-based curing agent.

【0059】また、シール材41の硬化触媒(エポキシ
単体で硬化させる場合)としては、各種の金属触媒、酸
触媒等が考えられる。
Various metal catalysts, acid catalysts and the like can be considered as the curing catalyst for the sealing material 41 (when it is cured with an epoxy alone).

【0060】また、シール材41のフィラーとしては、
ガラスビーズ、ガラスフィラー等の各種のセラミックビ
ーズ又はファイバー又はウイスカーが考えられる。
As the filler of the sealing material 41,
Various ceramic beads such as glass beads, glass fillers or fibers or whiskers are conceivable.

【0061】このような液晶装置は、例えば、図6に示
すパネル組み立て工程によって組み立てられる。素子基
板10(TFT基板)と対向基板20とは、別々に製造
される。ステップS1 ,S6 で夫々用意されたTFT基
板及び対向基板20に対して、次のステップS2 ,S7
では、配向膜16,22となるポリイミド(PI)を塗
布する。次に、ステップS3 ,S8 において、素子基板
10表面の配向膜16及び対向基板20表面の配向膜2
2に対して、ラビング処理を施す。
Such a liquid crystal device is assembled by, for example, the panel assembling process shown in FIG. The element substrate 10 (TFT substrate) and the counter substrate 20 are manufactured separately. For the TFT substrate and the counter substrate 20 respectively prepared in steps S1 and S6, the following steps S2 and S7 are performed.
Then, polyimide (PI) that becomes the alignment films 16 and 22 is applied. Next, in steps S3 and S8, the alignment film 16 on the surface of the element substrate 10 and the alignment film 2 on the surface of the counter substrate 20 are formed.
A rubbing process is applied to 2.

【0062】次に、ステップS4 ,S9 において、洗浄
工程を行う。この洗浄工程は、ラビング処理によって生
じた塵埃を除去するためのものである。洗浄工程が終了
すると、ステップS5 において、シール材41及び固定
部材43(図2参照)を形成する。次に、ステップS10
で、素子基板10と対向基板20とを貼り合わせ、ステ
ップS11でアライメントを施しながら圧着し、固定部材
43を硬化させ、更にシール材41を硬化させる。最後
に、ステップS12において、シール材41の一部に設け
た切り欠きから液晶を封入し、切り欠きを塞いで液晶を
封止する。
Next, in steps S4 and S9, a cleaning process is performed. This cleaning step is for removing dust generated by the rubbing process. When the cleaning process is completed, the seal material 41 and the fixing member 43 (see FIG. 2) are formed in step S5. Next, step S10
Then, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other, and they are pressure-bonded while performing alignment in step S11 to cure the fixing member 43 and further cure the sealing material 41. Finally, in step S12, the liquid crystal is sealed from the notch provided in a part of the sealing material 41, and the notch is closed to seal the liquid crystal.

【0063】図1は図6の接着剤形成工程、貼り合わせ
工程及びアライメント・圧着硬化工程を具体的に示して
いる。
FIG. 1 specifically shows the adhesive forming step, the laminating step, and the alignment / pressure-bonding hardening step of FIG.

【0064】図1のステップS20,S24において、夫
々、ラビング処理後のTFT基板及び対向基板が投入さ
れる。ステップS21〜S23では、例えばディスペンス方
式によって、TFT基板表面にシール材41、上下導通
材65及び固定部材43が形成される。シール材41は
画素領域の縁辺部に形成され、上下導通材65は対向基
板20の四隅に形成され、固定部材43はシール材41
の外側に形成される。シール材41は例えば約500μ
mの幅に形成される。
In steps S20 and S24 of FIG. 1, the TFT substrate and the counter substrate after the rubbing treatment are put in, respectively. In steps S21 to S23, the sealing material 41, the vertical conducting material 65, and the fixing member 43 are formed on the surface of the TFT substrate by, for example, a dispensing method. The sealing material 41 is formed on the edge of the pixel area, the vertical conducting materials 65 are formed on the four corners of the counter substrate 20, and the fixing member 43 is the sealing material 41.
Formed on the outside of. The sealing material 41 is, for example, about 500 μ.
It has a width of m.

【0065】次のステップS25では、TFT基板と対向
基板とが貼り合わされる。次に、ステップS26におい
て、アライメントを施しながら、固定部材43を仮硬化
させる。この場合には、固定部材43以外の部分を遮光
マスクでマスキングして、紫外線によってマスク露光す
る。固定部材43として、感度が高い光ラジカル硬化型
の樹脂を採用しており、UV光量が約2000mJ以下
という比較的低い光量での硬化が可能である。
In the next step S25, the TFT substrate and the counter substrate are bonded together. Next, in step S26, the fixing member 43 is temporarily cured while performing the alignment. In this case, parts other than the fixing member 43 are masked with a light-shielding mask, and mask exposure is performed with ultraviolet rays. As the fixing member 43, a photo-radical curable resin having high sensitivity is adopted, and the UV light amount can be cured with a relatively low light amount of about 2000 mJ or less.

【0066】次のステップS27においては、シール材4
1に対して熱硬化を施す。例えば、約摂氏180度の熱
をシール材41に印加することで、シール材41を強固
に本硬化させる。
In the next step S27, the sealing material 4
1 is heat-cured. For example, by applying heat of about 180 degrees Celsius to the seal material 41, the seal material 41 is firmly and fully cured.

【0067】このように構成された実施の形態において
は、硬化工程では、UVを用いた仮硬化と熱による本硬
化とが行われる。仮硬化においては、アライメントを施
しながら比較的低い光量で、短時間に固定部材43を硬
化させる。これにより、セル厚及び組立精度を高精度に
制御することができる。固定部材43の内側にはシール
材41が形成されており、従って、固定部剤43の内側
の縁辺は画素端辺より少なくとも500μm以上離間し
ている。
In the embodiment configured as described above, in the curing step, temporary curing using UV and main curing by heat are performed. In the temporary curing, the fixing member 43 is cured in a short time with a relatively low light amount while performing the alignment. Thereby, the cell thickness and the assembly accuracy can be controlled with high accuracy. The seal material 41 is formed inside the fixing member 43, and therefore the inner edge of the fixing member 43 is separated from the pixel edge by at least 500 μm or more.

【0068】マスク露光時には、マスクよりも外側に約
200μm程度は紫外線が照射されてしまう。しかし、
この場合でも、固定部材43から画素端辺までは約50
0μm以上離間しているので、露光に用いた紫外線が画
素領域に照射されることはない。即ち、仮硬化時におい
て画素領域に漏れ光が照射されることはない。
During mask exposure, ultraviolet rays are irradiated to the outside of the mask by about 200 μm. But,
Even in this case, the distance from the fixing member 43 to the pixel edge is about 50.
Since they are separated by 0 μm or more, the ultraviolet rays used for the exposure are not applied to the pixel area. That is, the leak light is not applied to the pixel area during the temporary curing.

【0069】シール材41に対する本硬化は、熱硬化に
よって行われる。熱硬化によって、シール材41はTF
T基板と対向基板とを強固に固着する。また、UV硬化
を採用していないので、本硬化時においても、画素領域
にはUV光は照射されない。
The main curing of the sealing material 41 is performed by heat curing. Due to heat curing, the sealing material 41 becomes TF
The T substrate and the counter substrate are firmly fixed to each other. In addition, since UV curing is not adopted, UV light is not applied to the pixel area even during main curing.

【0070】このように、本実施の形態においては、仮
硬化において、画素領域から十分に離間した位置の固定
部材に対するUV硬化を行っており、高いアライメント
精度での短時間の硬化を可能にし、本硬化において、シ
ール材に対する熱硬化によって十分な接着強度での固着
を可能にしている。これにより、紫外線による画素への
悪影響を回避しながら、セル厚及び組立精度を高精度に
制御した液晶装置を得ることができる。
As described above, in the present embodiment, the UV curing is performed on the fixing member at the position sufficiently separated from the pixel area in the temporary curing, which enables the curing for a short time with high alignment accuracy. In the main curing, the thermosetting with respect to the sealing material enables fixation with sufficient adhesive strength. As a result, it is possible to obtain a liquid crystal device in which the cell thickness and the assembly accuracy are controlled with high accuracy while avoiding the adverse effect of ultraviolet rays on the pixels.

【0071】なお、上記実施の形態においては、固定部
材はシール材を囲むように、シール材の全ての縁辺の外
側に帯状に形成した。しかし、固定部材は、TFT基板
と対向基板とを仮固定するための強度を有していればよ
く、シール材の外側の一部に形成するようにしてもよ
い。例えば、シール材の対向する辺の外側の2カ所に線
状(壁状)又は点状(柱状)に形成してもよい。また例
えば、シール材の外側であれば、固定部材を対向基板の
四隅に設けてもよい。
In the above embodiment, the fixing member is formed in a band shape so as to surround the sealing material, outside all the edges of the sealing material. However, the fixing member only needs to have a strength for temporarily fixing the TFT substrate and the counter substrate, and may be formed on a part of the outer side of the sealing material. For example, it may be formed in a linear shape (wall shape) or a dot shape (columnar shape) at two locations outside the opposing sides of the sealing material. Further, for example, the fixing members may be provided at the four corners of the counter substrate if they are outside the sealing material.

【0072】図7及び図8は本発明の第2の実施の形態
に係り、図7はTFT基板等の素子基板をその上に形成
された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図であ
り、図8は素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を
封入する組み立て工程終了後の液晶装置を、図7のA−
A’線の位置で切断して示す断面図である。
7 and 8 relate to the second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate as viewed from the counter substrate side together with the respective components formed thereon. FIG. 8 shows the liquid crystal device after the assembly process of bonding the element substrate and the counter substrate and enclosing the liquid crystal, and
It is sectional drawing cut and shown in the position of A'line.

【0073】本実施の形態はUV硬化型の固定部材を上
下導通材と兼用した例であって、上下導通材を対向基板
の四隅に設けた例を示している。
The present embodiment is an example in which the UV curing type fixing member is also used as the vertical conducting material, and the vertical conducting material is provided at the four corners of the counter substrate.

【0074】本実施の形態は、図3及び図4の固定部材
41及び上下導通材65に代えて、上下導通材82を採
用した点が第1の実施の形態と異なる。シール材81は
図3及び図4のシール材41と同様の構成である。な
お、ディスペンス方式でシール材を形成した場合、実際
には、シール材の四隅は図7に示すように円弧状に曲が
った平面形状となる。この四隅の位置に、上下導通材8
2を配置する。
This embodiment is different from the first embodiment in that a vertical conducting material 82 is adopted instead of the fixing member 41 and the vertical conducting material 65 shown in FIGS. The sealing material 81 has the same structure as the sealing material 41 of FIGS. 3 and 4. When the sealing material is formed by the dispensing method, the four corners of the sealing material actually have a planar shape curved in an arc shape as shown in FIG. 7. At the positions of these four corners, the upper and lower conducting members 8
Place 2.

【0075】本実施の形態においては、上下導通材82
をUV硬化型の仮固定部材としても用いる。即ち、上下
導通材82としては低光量で光硬化可能で、且つ必要な
上下導通機能を有したものを採用する。基本組成として
は光硬化可能な基体樹脂、光開始材、上下導通機能を有
するフィラーが必要であり、上下導通剤の貯蔵性向上を
目的とした分散剤、耐久性向上を目的とした熱硬化樹脂
/硬化剤、また平坦化剤、付着付与剤等を添加してもよ
い。
In the present embodiment, the upper and lower conducting members 82
Is also used as a UV curing type temporary fixing member. That is, as the vertical conducting material 82, a material that can be photo-cured with a low light amount and has a required vertical conducting function is adopted. As the basic composition, a photocurable base resin, a photoinitiator, and a filler having a vertical conduction function are required. A dispersant for improving the storage property of the vertical conduction agent, and a thermosetting resin for improving durability.
/ A hardening agent, a flattening agent, an adhesion imparting agent, etc. may be added.

【0076】このような上下導通材82としては、第1
の実施の形態における固定部材43に導通機能を有する
フィラーを混合することで実現することができる。
As the upper and lower conducting members 82, the first
It can be realized by mixing the fixing member 43 in the embodiment with a filler having a conduction function.

【0077】上下導通機能を有するフィラーとしては、
金めっき、銅めっき、クロムニッケルメッキ等の金属め
っきガラスビーズ又はガラスファイバー又はウイスカー
に必要に応じて、金粉、銀粉等の金属分を混合したもの
が考えられる。
As the filler having the vertical conduction function,
Metal plating glass beads such as gold plating, copper plating, or chrome nickel plating, glass fibers, or whiskers may be mixed with a metal component such as gold powder or silver powder, if necessary.

【0078】上下導通材82は上端が端子83を介して
対向基板20の図示しない電極に電気的に接続され、下
端が端子84を介して素子基板10の図示しない電極に
電気的に接続される。
The upper and lower conducting members 82 are electrically connected at their upper ends to electrodes (not shown) of the counter substrate 20 via terminals 83, and at their lower ends are electrically connected to electrodes (not shown) of the element substrate 10 via terminals 84. .

【0079】本実施の形態における液晶装置は、図9に
示す貼り合わせ工程によって対向基板20と素子基板1
0とが貼り合わされる。即ち、上下導通材82を上下導
通材としてだけでなく固定部材としても使用しているの
で、固定部材の形成工程は不要である。ステップS21,
S31において、例えば、ディスペンス方式によって、シ
ール材81及び上下導通材82を形成する。
The liquid crystal device according to the present embodiment includes the counter substrate 20 and the element substrate 1 by the bonding process shown in FIG.
0 is pasted together. That is, since the vertical conducting member 82 is used not only as the vertical conducting member but also as the fixing member, the step of forming the fixing member is unnecessary. Step S21,
In S31, the sealing material 81 and the vertical conducting material 82 are formed by, for example, a dispensing method.

【0080】ステップS25において素子基板10と対向
基板20とを貼り合わせた後、ステップS32において、
アライメントを施しながら、上下導通材82をUV仮硬
化させる。この場合には、上下導通材82以外の部分を
遮光マスクでマスキングして、紫外線によってマスク露
光する。この仮硬化では、約2000mJ以下という比
較的低い光量での硬化が可能である。
After the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other in step S25, in step S32.
While performing the alignment, the upper and lower conductive materials 82 are UV-cured. In this case, a portion other than the upper and lower conducting members 82 is masked with a light-shielding mask, and mask exposure is performed with ultraviolet rays. In this temporary curing, it is possible to cure with a relatively low light amount of about 2000 mJ or less.

【0081】上下導通材82は、端子83,84を介し
て素子基板10上の電極と対向基板20上の電極とを電
気的に接続する。また、上下導通材82は、比較的短時
間で硬化して、素子基板10と対向基板20とを仮固定
する。これにより、セル厚及び組立精度を高精度に制御
することが可能である。ステップS27においてシール材
81を熱によって本硬化させることは第1の実施の形態
と同様である。
The upper and lower conducting members 82 electrically connect the electrodes on the element substrate 10 and the electrodes on the counter substrate 20 via the terminals 83 and 84. The upper and lower conducting members 82 are hardened in a relatively short time to temporarily fix the element substrate 10 and the counter substrate 20. This makes it possible to control the cell thickness and the assembly accuracy with high accuracy. The main curing of the sealing material 81 by heat in step S27 is the same as in the first embodiment.

【0082】このように、本実施の形態においては、対
向基板の四隅に設けた上下導通材によって、対向基板と
素子基板とをUV露光によって仮固定し、熱硬化型のシ
ール材の本硬化によって対向基板と素子基板とを強固に
固着するようになっており、第1の実施の形態と同様の
効果を得ることができる。更に、シール材の外側に新た
に固定部材を形成する必要が無く、工程数を削減すると
共に、固定部材によって設計の自由度が制限されること
を阻止することができる。
As described above, in the present embodiment, the counter substrate and the element substrate are temporarily fixed by UV exposure by the vertical conducting materials provided at the four corners of the counter substrate, and the thermosetting sealing material is fully cured. The counter substrate and the element substrate are firmly fixed to each other, and the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Furthermore, it is not necessary to newly form a fixing member on the outer side of the sealing material, which can reduce the number of steps and prevent the fixing member from restricting the degree of freedom in design.

【0083】なお、上記各実施の形態においては、固定
部材はシール材の外側に配置するものとして説明した。
しかし、マスク露光に際して紫外線が画素領域に照射さ
れない位置に固定部材を配置すればよく、例えば、シー
ル部材が比較的広幅である場合には、シール部材内に固
定部材を配置するようにしてもよいことは明らかであ
る。
In each of the above-described embodiments, the fixing member is arranged outside the sealing material.
However, it suffices to dispose the fixing member at a position where the pixel region is not irradiated with ultraviolet light during mask exposure. For example, when the sealing member has a relatively wide width, the fixing member may be arranged inside the sealing member. That is clear.

【0084】[0084]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、対
向基板と素子基板とを固着するシール材以外に、仮硬化
用の固定部材をシール材の外側に設け、固定部材をUV
硬化型とし、シール材を熱硬化型とすることにより、セ
ル厚及び組立精度を高精度に制御可能とすると共に、紫
外線による画素への悪影響を回避することができるとい
う効果を有する。
As described above, according to the present invention, in addition to the sealing material for fixing the counter substrate and the element substrate, a fixing member for temporary curing is provided outside the sealing material, and the fixing member is UV.
By using the curable type and the thermosetting type sealing material, it is possible to control the cell thickness and the assembly accuracy with high accuracy, and it is possible to avoid the adverse effect of ultraviolet rays on the pixels.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る製造方法を示
すフローチャート。
FIG. 1 is a flowchart showing a manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の製造方法によって基板が組み立てられる
液晶装置について、その画素領域を構成する複数の画素
における各種素子、配線等の等価回路図。
2 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, etc. in a plurality of pixels forming a pixel region of a liquid crystal device in which a substrate is assembled by the manufacturing method of FIG.

【図3】図2の液晶装置を、TFT基板等の素子基板を
その上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見
た平面図。
FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal device of FIG. 2 with an element substrate such as a TFT substrate and the respective components formed thereon viewed from the counter substrate side.

【図4】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封
入する組み立て工程終了後の液晶装置を、図3のH−
H’線の位置で切断して示す断面図。
FIG. 4 shows a liquid crystal device after completion of an assembly process in which an element substrate and a counter substrate are bonded to each other and a liquid crystal is sealed.
Sectional drawing which cuts and shows in the position of H'line.

【図5】液晶装置の画素の構成を詳細に示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing in detail a pixel configuration of a liquid crystal device.

【図6】パネル組み立て工程を示すフローチャート。FIG. 6 is a flowchart showing a panel assembly process.

【図7】TFT基板等の素子基板をその上に形成された
各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。
FIG. 7 is a plan view of an element substrate such as a TFT substrate as viewed from the counter substrate side together with the constituent elements formed thereon.

【図8】素子基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封
入する組み立て工程終了後の液晶装置を、図7のA−
A’線の位置で切断して示す断面図。
FIG. 8 shows a liquid crystal device after the completion of an assembly process in which an element substrate and a counter substrate are bonded to each other and a liquid crystal is sealed.
Sectional drawing cut and shown in the position of A'line.

【図9】第2の実施の形態における貼り合わせ工程を示
すフローチャート。
FIG. 9 is a flowchart showing a bonding step in the second embodiment.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H088 FA01 FA03 FA04 FA21 HA01 HA02 HA03 HA04 HA08 HA14 HA21 MA02 MA20 2H089 LA24 NA39 NA42 NA43 NA44 NA45 NA51 PA13 PA15 QA12 QA16 TA01 TA02 TA04 TA07 TA09 TA13 TA17 2H092 GA28 GA29 JA24 JA37 JA41 JA46 JB11 JB22 JB51 JB56 MA10 NA25 PA01 PA02 PA04 PA06 PA09    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2H088 FA01 FA03 FA04 FA21 HA01                       HA02 HA03 HA04 HA08 HA14                       HA21 MA02 MA20                 2H089 LA24 NA39 NA42 NA43 NA44                       NA45 NA51 PA13 PA15 QA12                       QA16 TA01 TA02 TA04 TA07                       TA09 TA13 TA17                 2H092 GA28 GA29 JA24 JA37 JA41                       JA46 JB11 JB22 JB51 JB56                       MA10 NA25 PA01 PA02 PA04                       PA06 PA09

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 相互に対向配置されて液晶が封入される
第1及び第2の液晶基板相互間に形成され、熱硬化する
ことにより、前記第1及び第2の液晶基板同士を固着す
るシール材と、 前記第1及び第2の液晶基板相互間で前記第1及び第2
の液晶基板によって構成される画素領域から離間した位
置に形成され、光硬化することにより、前記第1及び第
2の液晶基板同士を仮固定する固定部材とを具備したこ
とを特徴とする液晶装置。
1. A seal which is formed between first and second liquid crystal substrates which are arranged so as to face each other and in which a liquid crystal is sealed, and which is fixed by heat so as to fix the first and second liquid crystal substrates to each other. A material and the first and second liquid crystal substrates between the first and second liquid crystal substrates.
And a fixing member for temporarily fixing the first and second liquid crystal substrates to each other by being photo-cured, the liquid crystal device being formed at a position separated from a pixel region formed by the liquid crystal substrate. .
【請求項2】 前記固定部材は、前記第1及び第2の液
晶基板相互間の前記シール材の外側に形成されることを
特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the fixing member is formed outside the sealing material between the first and second liquid crystal substrates.
【請求項3】 前記固定部材は、マスク露光に際して、
漏れ光が前記第1及び第2の液晶基板によって構成され
る画素領域に照射されない位置に形成されることを特徴
とする請求項1に記載の液晶装置。
3. The fixing member, during mask exposure,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein leak light is formed at a position where the pixel region formed by the first and second liquid crystal substrates is not irradiated with the leak light.
【請求項4】 前記固定部材は、前記第1及び第2の液
晶基板同士を電気的に接続する上下導通材と兼用される
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
4. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the fixing member is also used as a vertical conduction member that electrically connects the first and second liquid crystal substrates to each other.
【請求項5】 前記固定部材は、前記シール材の全外辺
に沿って形成されることを特徴とする請求項1に記載の
液晶装置。
5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the fixing member is formed along the entire outer edge of the sealing material.
【請求項6】 前記固定部材は、前記第1及び第2の液
晶基板のうちの一方の液晶基板の四隅に形成されること
を特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
6. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the fixing member is formed at four corners of one of the first and second liquid crystal substrates.
【請求項7】 相互に対向配置されて液晶が封入される
第1及び第2の液晶基板の一方に熱硬化型のシール材を
形成すると共に前記第1及び第2の液晶基板によって構
成される画素領域から離間した位置に光硬化型の固定部
材を形成する工程と、 前記第1及び第2の液晶基板を貼り合わせて、前記固定
部材に光を照射することによって、アライメントしなが
ら前記第1及び第2の液晶基板を仮固定する仮硬化工程
と、 前記シール材を熱によって本硬化させて前記第1及び第
2の液晶基板を固着する工程とを具備したことを特徴と
する液晶装置の製造方法。
7. A thermosetting sealant is formed on one of the first and second liquid crystal substrates which are arranged so as to face each other and in which liquid crystal is sealed, and are constituted by the first and second liquid crystal substrates. A step of forming a photo-curing type fixing member at a position separated from the pixel region; and a step of adhering the first and second liquid crystal substrates and irradiating the fixing member with light to align the first And a temporary curing step of temporarily fixing the second liquid crystal substrate, and a step of permanently curing the sealing material with heat to fix the first and second liquid crystal substrates. Production method.
【請求項8】 前記固定部材は、前記第1及び第2の液
晶基板相互間の前記シール材の外側に形成されることを
特徴とする請求項7に記載の液晶装置の製造方法。
8. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 7, wherein the fixing member is formed outside the sealing material between the first and second liquid crystal substrates.
【請求項9】 前記固定部材は、前記第1及び第2の液
晶基板相互間を電気的に接続する上下導通材と兼用され
ることを特徴とする請求項7に記載の液晶装置の製造方
法。
9. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 7, wherein the fixing member is also used as a vertical conductive material that electrically connects the first and second liquid crystal substrates to each other. .
【請求項10】 光硬化可能な基体樹脂と、 光開始材と、 導通機能を有するフィラーとを具備したことを特徴とす
る液晶装置の製造に用いる接着剤。
10. An adhesive used in the manufacture of a liquid crystal device, comprising a photocurable base resin, a photoinitiator, and a filler having a conduction function.
JP2002077155A 2002-03-19 2002-03-19 Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor Withdrawn JP2003270644A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002077155A JP2003270644A (en) 2002-03-19 2002-03-19 Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002077155A JP2003270644A (en) 2002-03-19 2002-03-19 Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003270644A true JP2003270644A (en) 2003-09-25

Family

ID=29205631

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002077155A Withdrawn JP2003270644A (en) 2002-03-19 2002-03-19 Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003270644A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008203619A (en) * 2007-02-21 2008-09-04 Citizen Holdings Co Ltd Method for manufacturing liquid crystal display panel
JP2016099499A (en) * 2014-11-21 2016-05-30 株式会社ジャパンディスプレイ Display device
JP2019194732A (en) * 2019-07-22 2019-11-07 株式会社ジャパンディスプレイ Display

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008203619A (en) * 2007-02-21 2008-09-04 Citizen Holdings Co Ltd Method for manufacturing liquid crystal display panel
JP2016099499A (en) * 2014-11-21 2016-05-30 株式会社ジャパンディスプレイ Display device
US10228590B2 (en) 2014-11-21 2019-03-12 Japan Display Inc. Display device
US10551685B2 (en) 2014-11-21 2020-02-04 Japan Display Inc. Display device
US10809577B2 (en) 2014-11-21 2020-10-20 Japan Display Inc. Display device
US11204526B2 (en) 2014-11-21 2021-12-21 Japan Display Inc. Display device
US11487166B2 (en) 2014-11-21 2022-11-01 Japan Display Inc. Display device
US11662628B2 (en) 2014-11-21 2023-05-30 Japan Display Inc. Display device
US11906851B2 (en) 2014-11-21 2024-02-20 Japan Display Inc. Display device
JP2019194732A (en) * 2019-07-22 2019-11-07 株式会社ジャパンディスプレイ Display

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100718560B1 (en) The liquid crystal display device and the manufacturing method thereof
KR100685949B1 (en) A Liquid Crystal Display Device And The Method For Manufacturing The Same
KR100356603B1 (en) Liquid crystal display device
USRE46146E1 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP4850612B2 (en) Liquid crystal display
WO2010058502A1 (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing same
WO1998016867A1 (en) Liquid crystal apparatus, its manufacture and projection display
JP2004310038A (en) Liquid crystal display device and its manufacturing method
WO2000045360A1 (en) Electrooptic panel, projection display, and method for manufacturing electrooptic panel
JP2009192756A (en) Display device
JPH07159795A (en) Production of liquid crystal display panel
KR100259180B1 (en) Liquid crystal display device
KR100652046B1 (en) A Liquid Crystal Display Device And The Method For Manufacturing The Same
JP2003057661A (en) Liquid crystal device and manufacturing apparatus therefor
JP2003270644A (en) Liquid crystal device, production method thereof and adhesive material therefor
JP2005141199A (en) Liquid crystal display cell and method for manufacturing the same
TW201001028A (en) Manufacturing method of alignment film and manufacturing method of liquid crystal display panel
JP2007047240A (en) Temporarily fixing member and method for manufacturing liquid crystal display device using the same
JP2006078929A (en) Electro-optical device, electronic apparatus and method of manufacturing electro-optical device
JP2003107494A (en) Adhesive and liquid crystal device using the same
KR20040048172A (en) liquid crystal display panel for liquid crystal display device and method for fabricating the same
JP2000019540A (en) Liquid crystal display device
TWI305851B (en) Liquid crystal display panel and liquid crystal injection method thereof
JP2007024923A (en) Optoelectronic apparatus and electronic device
JP3861635B2 (en) Liquid crystal device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050607