JPH07325285A - 電気光学表示装置 - Google Patents
電気光学表示装置Info
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- JPH07325285A JPH07325285A JP11878794A JP11878794A JPH07325285A JP H07325285 A JPH07325285 A JP H07325285A JP 11878794 A JP11878794 A JP 11878794A JP 11878794 A JP11878794 A JP 11878794A JP H07325285 A JPH07325285 A JP H07325285A
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- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】視野角を広げる。
【構成】液晶表示セル1には遮光部22を設ける。液晶
はTNモードで動作する。プラズマセル2では、誘電体
シート3のガラス基板25側の面に垂直方向の各画素部
に対応して水平方向に延びる複数の溝26を形成し、イ
オン化可能なガスを封入して放電チャネル10を形成す
る。各溝26の底部に遮光機能を有するプラズマ電極1
2A,12Kを形成する。放電チャネル10はサンプリ
ングスイッチとして機能し、各画素の液晶層7はサンプ
リングキャパシタとして機能する。各画素部の有効領域
の誘電体シート3の厚さの変化に伴って電気光学的しき
い値Vthも変化する。ライト部31からの光線は遮光部
22等で光路制限され、負の視角方向に出射される光線
ほど液晶層7の電気光学的しきい値Vthの大きな領域を
通過する。垂直方向の各視角における印加電圧と透過率
の関係が近づき、各視角の透過率の差が小さくなること
から視野角が広がる。
はTNモードで動作する。プラズマセル2では、誘電体
シート3のガラス基板25側の面に垂直方向の各画素部
に対応して水平方向に延びる複数の溝26を形成し、イ
オン化可能なガスを封入して放電チャネル10を形成す
る。各溝26の底部に遮光機能を有するプラズマ電極1
2A,12Kを形成する。放電チャネル10はサンプリ
ングスイッチとして機能し、各画素の液晶層7はサンプ
リングキャパシタとして機能する。各画素部の有効領域
の誘電体シート3の厚さの変化に伴って電気光学的しき
い値Vthも変化する。ライト部31からの光線は遮光部
22等で光路制限され、負の視角方向に出射される光線
ほど液晶層7の電気光学的しきい値Vthの大きな領域を
通過する。垂直方向の各視角における印加電圧と透過率
の関係が近づき、各視角の透過率の差が小さくなること
から視野角が広がる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばプラズマアド
レス表示装置、液晶表示装置等に適用して好適な電気光
学表示装置に関する。
レス表示装置、液晶表示装置等に適用して好適な電気光
学表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プラズマセルと電気光学表示セル
とが誘電体シート(誘電体層)を介して積層されてなる
プラズマアドレス表示装置が提案されている。図27お
よび図28は、プラズマアドレス表示装置100の構成
例を示している。
とが誘電体シート(誘電体層)を介して積層されてなる
プラズマアドレス表示装置が提案されている。図27お
よび図28は、プラズマアドレス表示装置100の構成
例を示している。
【0003】同図において、プラズマアドレス表示装置
100は、液晶表示セル1と、プラズマセル2と、それ
ら両者の間に介在する誘電体シート3とを積層したフラ
ットパネル構造とされる。誘電体シート3は薄板ガラス
等で構成される。この誘電体シート3は液晶表示セル1
を駆動するためにできるだけ薄くする必要があり、例え
ば50μm程度の板厚を有するように形成される。
100は、液晶表示セル1と、プラズマセル2と、それ
ら両者の間に介在する誘電体シート3とを積層したフラ
ットパネル構造とされる。誘電体シート3は薄板ガラス
等で構成される。この誘電体シート3は液晶表示セル1
を駆動するためにできるだけ薄くする必要があり、例え
ば50μm程度の板厚を有するように形成される。
【0004】液晶表示セル1は透明基板4を用いて構成
される。透明基板4の内側主面には、透明導電材料から
なると共に行方向に延びる複数本のデータ電極5が所定
の間隔を保持して列方向に並列的に形成される。透明基
板4はスペーサ6によって所定の間隙を保持した状態で
誘電体シート3に接合される。透明基板4および誘電体
シート3の間隙には、電気光学材料としての液晶が充填
されて液晶層7が形成される。ここで、透明基板4およ
び誘電体シート3の間隙の寸法は例えば4〜10μmと
され、表示面全体に亘って均一に保たれる。
される。透明基板4の内側主面には、透明導電材料から
なると共に行方向に延びる複数本のデータ電極5が所定
の間隔を保持して列方向に並列的に形成される。透明基
板4はスペーサ6によって所定の間隙を保持した状態で
誘電体シート3に接合される。透明基板4および誘電体
シート3の間隙には、電気光学材料としての液晶が充填
されて液晶層7が形成される。ここで、透明基板4およ
び誘電体シート3の間隙の寸法は例えば4〜10μmと
され、表示面全体に亘って均一に保たれる。
【0005】一方、プラズマセル2はガラス基板8を用
いて構成される。ガラス基板8の内側主面には列方向に
延びる複数の溝9が行方向に並列的に形成される。各溝
9は誘電体シート3で密閉されており、個々に分離した
放電チャネル(プラズマ室)10が構成される。この密
閉された放電チャネル10には、イオン化可能なガスが
封入される。封入されるガスとしては、例えばヘリウ
ム、ネオン、アルゴンあるいはこれらの混合気体等が使
用される。
いて構成される。ガラス基板8の内側主面には列方向に
延びる複数の溝9が行方向に並列的に形成される。各溝
9は誘電体シート3で密閉されており、個々に分離した
放電チャネル(プラズマ室)10が構成される。この密
閉された放電チャネル10には、イオン化可能なガスが
封入される。封入されるガスとしては、例えばヘリウ
ム、ネオン、アルゴンあるいはこれらの混合気体等が使
用される。
【0006】隣接する溝9を隔てる凸条部11は個々の
放電チャネル10を区分けする隔壁の役割を果たすと共
に、各放電チャネル10のギャップスペーサとしての役
割も果している。各溝9の底部には、プラズマ電極を構
成する互いに平行なアノード電極12Aおよびカソード
電極12Kが溝9に沿って形成される。
放電チャネル10を区分けする隔壁の役割を果たすと共
に、各放電チャネル10のギャップスペーサとしての役
割も果している。各溝9の底部には、プラズマ電極を構
成する互いに平行なアノード電極12Aおよびカソード
電極12Kが溝9に沿って形成される。
【0007】放電チャネル10はデータ電極5と直交す
るように形成される。上述せずも各データ電極5は列駆
動単位となると共に、各放電チャネル12は行駆動単位
となり、両者の交差部にはそれぞれ図29に示すように
画素13が規定される。
るように形成される。上述せずも各データ電極5は列駆
動単位となると共に、各放電チャネル12は行駆動単位
となり、両者の交差部にはそれぞれ図29に示すように
画素13が規定される。
【0008】以上の構成において、所定の放電チャネル
10に対応するアノード電極12Aとカソード電極12
Kとの間に所定電圧が印加されると、その放電チャネル
10の部分のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放
電が発生し、その内部は略アノード電位に維持される。
この状態で、データ電極5にデータ電圧が印加される
と、その放電チャネル10に対応して列方向に並ぶ複数
の画素13の液晶層7に誘電体シート3を介してデータ
電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終了すると、放電
チャネル10は浮遊電位となり、各画素13の液晶層7
に書き込まれたデータ電圧は、次の書き込み期間(例え
ば1フィールド後あるいは1フレーム後)まで保持され
る。この場合、放電チャネル10はサンプリングスイッ
チとして機能すると共に、各画素13の液晶層7はサン
プリングキャパシタとして機能する。
10に対応するアノード電極12Aとカソード電極12
Kとの間に所定電圧が印加されると、その放電チャネル
10の部分のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放
電が発生し、その内部は略アノード電位に維持される。
この状態で、データ電極5にデータ電圧が印加される
と、その放電チャネル10に対応して列方向に並ぶ複数
の画素13の液晶層7に誘電体シート3を介してデータ
電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終了すると、放電
チャネル10は浮遊電位となり、各画素13の液晶層7
に書き込まれたデータ電圧は、次の書き込み期間(例え
ば1フィールド後あるいは1フレーム後)まで保持され
る。この場合、放電チャネル10はサンプリングスイッ
チとして機能すると共に、各画素13の液晶層7はサン
プリングキャパシタとして機能する。
【0009】各画素13の液晶層7に書き込まれたデー
タ電圧によって液晶が動作することから画素単位で表示
が行なわれる。したがって、上述したようにプラズマ放
電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素13の液晶層7
にデータ電圧を書き込む放電チャネル10を行方向に順
次走査していくことで、二次元画像の表示を行うことが
できる。
タ電圧によって液晶が動作することから画素単位で表示
が行なわれる。したがって、上述したようにプラズマ放
電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素13の液晶層7
にデータ電圧を書き込む放電チャネル10を行方向に順
次走査していくことで、二次元画像の表示を行うことが
できる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述したようなプラズ
マアドレス表示装置においては、TNモード(ねじれネ
マチックモード)を使った場合に液晶表示セル1の視野
角の狭さが大きな問題となっており、これは視角によっ
て液晶の電気光学的しきい値(透過率が例えば50%と
なる印加電圧値)が異なることに起因している。すなわ
ち、TNモードを使った場合であって液晶層7を構成す
る液晶の誘電体シート3側の配向方向が図30の矢印Q
a、その透明電極4側の配向方向が同図の矢印Qbで示
される方向であるとき、垂直方向の視角が−30°、0
°(正面)、+30°での印加電圧Vと透過率Tの関係
(V−T特性)は、それぞれ図31の一点鎖線a,実線
b,破線cに示すようになる。そのため、例えば印加電
圧Vが所定値Vaである場合の垂直方向の視角−30
°、0°(正面)、+30°における透過率Tの差が大
きく、これが視野角を狭くしている。
マアドレス表示装置においては、TNモード(ねじれネ
マチックモード)を使った場合に液晶表示セル1の視野
角の狭さが大きな問題となっており、これは視角によっ
て液晶の電気光学的しきい値(透過率が例えば50%と
なる印加電圧値)が異なることに起因している。すなわ
ち、TNモードを使った場合であって液晶層7を構成す
る液晶の誘電体シート3側の配向方向が図30の矢印Q
a、その透明電極4側の配向方向が同図の矢印Qbで示
される方向であるとき、垂直方向の視角が−30°、0
°(正面)、+30°での印加電圧Vと透過率Tの関係
(V−T特性)は、それぞれ図31の一点鎖線a,実線
b,破線cに示すようになる。そのため、例えば印加電
圧Vが所定値Vaである場合の垂直方向の視角−30
°、0°(正面)、+30°における透過率Tの差が大
きく、これが視野角を狭くしている。
【0011】なお、液晶表示セル1以外の電気光学表示
セルを使用する場合であっても、電気光学材料層に視角
による電気光学的しきい値のずれがあるとき、上述した
液晶表示セル1を使用する場合と同様に視野角の狭さが
問題となる。
セルを使用する場合であっても、電気光学材料層に視角
による電気光学的しきい値のずれがあるとき、上述した
液晶表示セル1を使用する場合と同様に視野角の狭さが
問題となる。
【0012】そこで、この発明では、電気光学材料層に
視角による電気光学的しきい値のずれがあっても、視野
角を広げることができる電気光学表示装置を提供するも
のである。
視角による電気光学的しきい値のずれがあっても、視野
角を広げることができる電気光学表示装置を提供するも
のである。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る電
気光学表示装置は、電気光学材料層に印加される電圧を
1画素内で変化させるものである。
気光学表示装置は、電気光学材料層に印加される電圧を
1画素内で変化させるものである。
【0014】請求項2の発明に係る電気光学表示装置
は、電気光学材料層と誘電体層とが積層され、誘電体層
を介して電気光学材料層にデータ電圧の書き込みが行な
われる電気光学表示装置において、誘電体層の厚さを変
化させることで電気光学材料層に印加される電圧を1画
素内で変化させるものである。
は、電気光学材料層と誘電体層とが積層され、誘電体層
を介して電気光学材料層にデータ電圧の書き込みが行な
われる電気光学表示装置において、誘電体層の厚さを変
化させることで電気光学材料層に印加される電圧を1画
素内で変化させるものである。
【0015】請求項3の発明に係る電気光学表示装置
は、電気光学材料層と誘電体層とが積層され、誘電体層
を介して電気光学材料層にデータ電圧の書き込みが行な
われる電気光学表示装置において、電気光学材料層の厚
さを変化させることで電気光学材料層に印加される電圧
を1画素内で変化させるものでる。
は、電気光学材料層と誘電体層とが積層され、誘電体層
を介して電気光学材料層にデータ電圧の書き込みが行な
われる電気光学表示装置において、電気光学材料層の厚
さを変化させることで電気光学材料層に印加される電圧
を1画素内で変化させるものでる。
【0016】請求項4の発明に係る電気光学表示装置
は、誘電体層を介してプラズマセルと電気光学材料層と
が積層され、誘電体層を介して電気光学材料層にデータ
電圧の書き込みが行なわれる電気光学表示装置におい
て、プラズマセルの電極位置を変化させることで電気光
学材料層に印加される電圧を1画素内で変化させるもの
である。
は、誘電体層を介してプラズマセルと電気光学材料層と
が積層され、誘電体層を介して電気光学材料層にデータ
電圧の書き込みが行なわれる電気光学表示装置におい
て、プラズマセルの電極位置を変化させることで電気光
学材料層に印加される電圧を1画素内で変化させるもの
である。
【0017】請求項5の発明に係る電気光学表示装置
は、請求項1〜請求項4のいずれかの発明において、電
気光学材料層を視角によって電気光学的しきい値にずれ
を発生する液晶層としたものである。
は、請求項1〜請求項4のいずれかの発明において、電
気光学材料層を視角によって電気光学的しきい値にずれ
を発生する液晶層としたものである。
【0018】請求項6の発明に係る電気光学表示装置
は、請求項1〜請求項4のいずれかの発明において、画
素毎に視角に応じて光路を制限する遮光手段を備えるも
のである。
は、請求項1〜請求項4のいずれかの発明において、画
素毎に視角に応じて光路を制限する遮光手段を備えるも
のである。
【0019】請求項7の発明に係る電気光学表示装置
は、請求項4の発明において、画素毎に視角に応じて光
路を制限する遮光手段を備えると共に、この遮光手段の
少なくとも一部としてプラズマセルの電極を利用するも
のでる。
は、請求項4の発明において、画素毎に視角に応じて光
路を制限する遮光手段を備えると共に、この遮光手段の
少なくとも一部としてプラズマセルの電極を利用するも
のでる。
【0020】
【作用】請求項1の発明においては、電気光学材料層に
印加される電圧を1画素内で変化させるものであり、例
えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学
的しきい値が異なるものである場合、電気光学材料層に
印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させること
で垂直方向の各視角における印加電圧に対する透過率の
変化がなだらかになり、所定印加電圧値に対する各視角
の透過率の差が縮小されることから視野角を広げること
が可能となる。
印加される電圧を1画素内で変化させるものであり、例
えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学
的しきい値が異なるものである場合、電気光学材料層に
印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させること
で垂直方向の各視角における印加電圧に対する透過率の
変化がなだらかになり、所定印加電圧値に対する各視角
の透過率の差が縮小されることから視野角を広げること
が可能となる。
【0021】請求項2の発明においては、誘電体層の厚
さを変化させることで電気光学材料層に印加される電圧
を1画素内で変化させるものであり、例えば電気光学材
料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい値が異
なるものである場合、電気光学材料層に印加される電圧
を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各
視角における印加電圧に対する透過率の変化がなだらか
になり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が
縮小されることから視野角を広げることが可能となる。
さを変化させることで電気光学材料層に印加される電圧
を1画素内で変化させるものであり、例えば電気光学材
料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい値が異
なるものである場合、電気光学材料層に印加される電圧
を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各
視角における印加電圧に対する透過率の変化がなだらか
になり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が
縮小されることから視野角を広げることが可能となる。
【0022】請求項3の発明においては、電気光学材料
層の厚さを変化させることで電気光学材料層に印加され
る電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電気
光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい
値が異なるものである場合、電気光学材料層に印加され
る電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方
向の各視角における印加電圧に対する透過率の変化がな
だらかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率
の差が縮小されることから視野角を広げることが可能と
なる。
層の厚さを変化させることで電気光学材料層に印加され
る電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電気
光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい
値が異なるものである場合、電気光学材料層に印加され
る電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方
向の各視角における印加電圧に対する透過率の変化がな
だらかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率
の差が縮小されることから視野角を広げることが可能と
なる。
【0023】請求項4の発明においては、プラズマセル
の電極位置を変化させることで電気光学材料層に印加さ
れる電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電
気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しき
い値が異なるものである場合、電気光学材料層に印加さ
れる電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直
方向の各視角における印加電圧に対する透過率の変化が
なだらかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過
率の差が縮小されることから視野角を広げることが可能
となる。
の電極位置を変化させることで電気光学材料層に印加さ
れる電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電
気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しき
い値が異なるものである場合、電気光学材料層に印加さ
れる電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直
方向の各視角における印加電圧に対する透過率の変化が
なだらかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過
率の差が縮小されることから視野角を広げることが可能
となる。
【0024】請求項5の発明においては、電気光学材料
層を視角によって電気光学的しきい値にずれを発生する
液晶層としたものであり、液晶層に印加される電圧を垂
直方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各視角
における印加電圧に対する透過率の変化がなだらかにな
り、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小
されることから視野角を広げることが可能となる。
層を視角によって電気光学的しきい値にずれを発生する
液晶層としたものであり、液晶層に印加される電圧を垂
直方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各視角
における印加電圧に対する透過率の変化がなだらかにな
り、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小
されることから視野角を広げることが可能となる。
【0025】請求項6の発明においては、画素毎に視角
に応じて光路を制限する遮光手段を備えるものであり、
例えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光
学的しきい値が異なるものである場合、電気光学材料層
に印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させると
共に、遮光手段によって垂直方向の視角に応じて1画素
内の光の通過位置を制限することで垂直方向の各視角に
おける印加電圧と透過率の関係を近づけることができ、
所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小され
ることから視野角を広げることが可能となる。
に応じて光路を制限する遮光手段を備えるものであり、
例えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光
学的しきい値が異なるものである場合、電気光学材料層
に印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させると
共に、遮光手段によって垂直方向の視角に応じて1画素
内の光の通過位置を制限することで垂直方向の各視角に
おける印加電圧と透過率の関係を近づけることができ、
所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小され
ることから視野角を広げることが可能となる。
【0026】請求項7の発明においては、画素毎に視角
に応じて光路を制限する遮光手段の少なくとも一部とし
てプラズマセルの電極を利用するため、遮光手段を効率
よく、安価に形成することが可能となる。
に応じて光路を制限する遮光手段の少なくとも一部とし
てプラズマセルの電極を利用するため、遮光手段を効率
よく、安価に形成することが可能となる。
【0027】
【実施例】以下、図1を参照しながら、この発明に係る
電気光学表示装置の第1実施例について説明する。本例
はプラズマアドレス表示装置100に適用した例であ
る。この図1において、図27〜図29と対応する部分
には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。
電気光学表示装置の第1実施例について説明する。本例
はプラズマアドレス表示装置100に適用した例であ
る。この図1において、図27〜図29と対応する部分
には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。
【0028】本例においては、透明基板4の内側主面に
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図1には色フィルタ
21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この場
合、色フィルタ21R,21G,21Bは、図2に示す
ように、垂直方向に関しては斜線図示する遮光部22を
除く有効領域にのみ形成される。
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図1には色フィルタ
21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この場
合、色フィルタ21R,21G,21Bは、図2に示す
ように、垂直方向に関しては斜線図示する遮光部22を
除く有効領域にのみ形成される。
【0029】なお、水平方向に関して各データ電極5の
間には斜線図示するように黒色のブラックマスク21B
Lが形成される。色フィルタ21R,21G,21B、
遮光部22、ブラックマスク21BLは、例えば顔料分
散レジストをスピンコート等で塗布してフォトリソグラ
フィでパターニングして形成される。遮光部22はブラ
ックマスク21BLの形成時に同時に形成される。遮光
部22は、金属をスパッタリングまたは蒸着等で膜付け
した後にフォトリソグラフィでパターニングしてもよ
い。
間には斜線図示するように黒色のブラックマスク21B
Lが形成される。色フィルタ21R,21G,21B、
遮光部22、ブラックマスク21BLは、例えば顔料分
散レジストをスピンコート等で塗布してフォトリソグラ
フィでパターニングして形成される。遮光部22はブラ
ックマスク21BLの形成時に同時に形成される。遮光
部22は、金属をスパッタリングまたは蒸着等で膜付け
した後にフォトリソグラフィでパターニングしてもよ
い。
【0030】また、液晶層7の透明基板4側および誘電
体シート3側にはそれぞれ配向膜23および配向膜24
が配設され、それぞれの配向方向が例えば図30に示す
ように設定されることでTNモードで液晶が動作するよ
うにされる。
体シート3側にはそれぞれ配向膜23および配向膜24
が配設され、それぞれの配向方向が例えば図30に示す
ように設定されることでTNモードで液晶が動作するよ
うにされる。
【0031】また本例において、プラズマセル2はガラ
ス基板25と誘電体シート3を使用して構成される。す
なわち、ガラス等で構成される誘電体シート3は比較的
肉厚に形成され、この誘電体シート3のガラス基板25
側の面には、行方向(垂直方向)の各画素部に対応する
ように列方向(水平方向)に延びる複数の溝26が化学
的エッチング等によって並列的に形成される。この場
合、各画素の例えば有効領域の誘電体シート3の厚みを
エッチングの度合によって任意に調整することができ
る。
ス基板25と誘電体シート3を使用して構成される。す
なわち、ガラス等で構成される誘電体シート3は比較的
肉厚に形成され、この誘電体シート3のガラス基板25
側の面には、行方向(垂直方向)の各画素部に対応する
ように列方向(水平方向)に延びる複数の溝26が化学
的エッチング等によって並列的に形成される。この場
合、各画素の例えば有効領域の誘電体シート3の厚みを
エッチングの度合によって任意に調整することができ
る。
【0032】各溝26はガラス基板25で密閉されてお
り、ここに分離した放電チャネル(プラズマ室)10が
構成される。この密閉された放電チャネル10には、図
27の例と同様にイオン化可能なガスが封入される。隣
接する溝26を隔てる凸条部27は個々の放電チャネル
10を区分けする隔壁の役割を果たすと共に、各放電チ
ャネル10のギャップスペーサとしての役割も果してい
る。
り、ここに分離した放電チャネル(プラズマ室)10が
構成される。この密閉された放電チャネル10には、図
27の例と同様にイオン化可能なガスが封入される。隣
接する溝26を隔てる凸条部27は個々の放電チャネル
10を区分けする隔壁の役割を果たすと共に、各放電チ
ャネル10のギャップスペーサとしての役割も果してい
る。
【0033】各溝26に対応するガラス基板25の内側
主面には、プラズマ電極を構成する互いに平行なアノー
ド電極12Aおよびカソード電極12Kが溝26に沿っ
て形成される。アノード電極12Aおよびカソード電極
12Kは、例えば金属をスパッタリング、蒸着等により
膜付けした後にフォトリソグラフィでパターニングする
ことで形成される。これら電極12A,12Kは後述す
るように遮光部としても機能するようにされる。
主面には、プラズマ電極を構成する互いに平行なアノー
ド電極12Aおよびカソード電極12Kが溝26に沿っ
て形成される。アノード電極12Aおよびカソード電極
12Kは、例えば金属をスパッタリング、蒸着等により
膜付けした後にフォトリソグラフィでパターニングする
ことで形成される。これら電極12A,12Kは後述す
るように遮光部としても機能するようにされる。
【0034】また、本例においては、透明基板4の外側
位置に偏光板29が配設される。この偏光板29の偏光
面方向は上述した液晶膜7の透明基板4側の配向膜23
による配向方向と一致するように設定される。一方、ガ
ラス基板25の外側位置に偏光板30が配設される。こ
の偏光板30の偏光面方向は上述した液晶膜7の誘電体
シート3側の配向膜24による配向方向と一致するよう
に設定される。なお、31は偏光板30側を照射するた
めのバックライト部である。
位置に偏光板29が配設される。この偏光板29の偏光
面方向は上述した液晶膜7の透明基板4側の配向膜23
による配向方向と一致するように設定される。一方、ガ
ラス基板25の外側位置に偏光板30が配設される。こ
の偏光板30の偏光面方向は上述した液晶膜7の誘電体
シート3側の配向膜24による配向方向と一致するよう
に設定される。なお、31は偏光板30側を照射するた
めのバックライト部である。
【0035】以上の構成において、所定の放電チャネル
10に対応するアノード電極12Aとカソード電極12
Kとの間に所定電圧が印加されると、その放電チャネル
10の部分のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放
電が発生し、その内部は略アノード電位に維持される。
この状態で、データ電極5にデータ電圧が印加される
と、その放電チャネル10に対応して列方向に並ぶ複数
の画素13(図29参照)の液晶層7に誘電体シート3
を介してデータ電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終
了すると、放電チャネル10は浮遊電位となり、各画素
13の液晶層7に書き込まれたデータ電圧は、次の書き
込み期間(例えば1フィールド後あるいは1フレーム
後)まで保持される。この場合、放電チャネル10はサ
ンプリングスイッチとして機能すると共に、各画素13
の液晶層7はサンプリングキャパシタとして機能する。
10に対応するアノード電極12Aとカソード電極12
Kとの間に所定電圧が印加されると、その放電チャネル
10の部分のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放
電が発生し、その内部は略アノード電位に維持される。
この状態で、データ電極5にデータ電圧が印加される
と、その放電チャネル10に対応して列方向に並ぶ複数
の画素13(図29参照)の液晶層7に誘電体シート3
を介してデータ電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終
了すると、放電チャネル10は浮遊電位となり、各画素
13の液晶層7に書き込まれたデータ電圧は、次の書き
込み期間(例えば1フィールド後あるいは1フレーム
後)まで保持される。この場合、放電チャネル10はサ
ンプリングスイッチとして機能すると共に、各画素13
の液晶層7はサンプリングキャパシタとして機能する。
【0036】各画素13の液晶層7に書き込まれたデー
タ電圧によって液晶がTNモードで動作することから画
素単位で表示が行なわれる。したがって、上述したよう
にプラズマ放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素1
3の液晶層7にデータ電圧を書き込む放電チャネル10
を行方向に順次走査していくことで、二次元画像の表示
を行うことができる。
タ電圧によって液晶がTNモードで動作することから画
素単位で表示が行なわれる。したがって、上述したよう
にプラズマ放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素1
3の液晶層7にデータ電圧を書き込む放電チャネル10
を行方向に順次走査していくことで、二次元画像の表示
を行うことができる。
【0037】ところで、上述したプラズマアドレス表示
装置100では、誘電体シート3を介して液晶層7にデ
ータ電圧が印加されるため、液晶層7に印加される電圧
は液晶層7の容量CLCと誘電体シート3の容量CMSとの
容量によって決まる。すなわち、誘電体シート3の厚さ
が厚いほど液晶層7に印加される電圧が小さくなる。そ
のため、垂直方向に関しての各画素部の有効領域におけ
る液晶層7の電気光学的しきい値Vthは図3Bに示すよ
うに変化する。
装置100では、誘電体シート3を介して液晶層7にデ
ータ電圧が印加されるため、液晶層7に印加される電圧
は液晶層7の容量CLCと誘電体シート3の容量CMSとの
容量によって決まる。すなわち、誘電体シート3の厚さ
が厚いほど液晶層7に印加される電圧が小さくなる。そ
のため、垂直方向に関しての各画素部の有効領域におけ
る液晶層7の電気光学的しきい値Vthは図3Bに示すよ
うに変化する。
【0038】また、バックライト部31より出射される
光線は遮光部22および電極12A,12Kによって光
路制限が行われ、垂直方向の視角が例えば−30°、0
°(正面)、+30°の方向に出射される光線は、図3
Aに示すようにそれぞれ液晶層7のLa、Lb、Lcの
領域を通過したものとなる。すなわち、負の視角方向に
出射される光線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの
大きな領域を通過し、逆に正の視角方向に出射される光
線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの小さな領域を
通過する。
光線は遮光部22および電極12A,12Kによって光
路制限が行われ、垂直方向の視角が例えば−30°、0
°(正面)、+30°の方向に出射される光線は、図3
Aに示すようにそれぞれ液晶層7のLa、Lb、Lcの
領域を通過したものとなる。すなわち、負の視角方向に
出射される光線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの
大きな領域を通過し、逆に正の視角方向に出射される光
線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの小さな領域を
通過する。
【0039】したがって、垂直方向の各視角における印
加電圧Vと透過率Tの関係(V−T特性)を近づけるこ
とができる。図4の一点鎖線a,実線b,破線cは、そ
れぞれ垂直方向の視角が−30°、0°(正面)、+3
0°での印加電圧Vと透過率Tの関係を示しており、例
えば印加電圧Vが所定値Vaである場合、垂直方向の視
角が−30°、0°(正面)、+30°における透過率
Tの差が従来(図31参照)に比べて縮小される。よっ
て、本例によれば視野角を広げることができる。
加電圧Vと透過率Tの関係(V−T特性)を近づけるこ
とができる。図4の一点鎖線a,実線b,破線cは、そ
れぞれ垂直方向の視角が−30°、0°(正面)、+3
0°での印加電圧Vと透過率Tの関係を示しており、例
えば印加電圧Vが所定値Vaである場合、垂直方向の視
角が−30°、0°(正面)、+30°における透過率
Tの差が従来(図31参照)に比べて縮小される。よっ
て、本例によれば視野角を広げることができる。
【0040】なお、図5は、例えば垂直方向の1画素の
寸法が500μmである場合、各部の寸法の具体例を示
したものでる。図示された寸法を示す数値の単位はμm
である。
寸法が500μmである場合、各部の寸法の具体例を示
したものでる。図示された寸法を示す数値の単位はμm
である。
【0041】次に、図6を参照しながら、この発明に係
る電気光学表示装置の第2実施例について説明する。本
例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例であ
る。この図6において、図1と対応する部分には同一符
号を付し、その詳細説明は省略する。
る電気光学表示装置の第2実施例について説明する。本
例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例であ
る。この図6において、図1と対応する部分には同一符
号を付し、その詳細説明は省略する。
【0042】本例においては、透明基板4の内側主面に
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図6には色フィルタ
21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この場
合、色フィルタ21R,21G,21Bは、図7に示す
ように、垂直方向に関しては斜線図示する遮光部22を
除く有効領域にのみ形成される。なお、水平方向に関し
て各データ電極5の間には斜線図示するように黒色のブ
ラックマスク21BLが形成される。色フィルタ21
R,21G,21B、遮光部22、ブラックマスク21
BLは、上述した図2の例と同様にして形成される。
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図6には色フィルタ
21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この場
合、色フィルタ21R,21G,21Bは、図7に示す
ように、垂直方向に関しては斜線図示する遮光部22を
除く有効領域にのみ形成される。なお、水平方向に関し
て各データ電極5の間には斜線図示するように黒色のブ
ラックマスク21BLが形成される。色フィルタ21
R,21G,21B、遮光部22、ブラックマスク21
BLは、上述した図2の例と同様にして形成される。
【0043】また本例において、プラズマセル2はガラ
ス基板25と誘電体シート3を使用して構成される。す
なわち、ガラス基板25の内側主面には、行方向(垂直
方向)の各画素部に対応するように列方向(水平方向)
に延びる複数の溝32が化学的エッチング等によって並
列的に形成される。各溝32は誘電体シート3で密閉さ
れており、ここに分離した放電チャネル(プラズマ室)
10が構成される。この密閉された放電チャネル10に
は、図1の例と同様にイオン化可能なガスが封入され
る。隣接する溝32を隔てる凸条部33は個々の放電チ
ャネル10を区分けする隔壁の役割を果たすと共に、各
放電チャネル10のギャップスペーサとしての役割も果
している。
ス基板25と誘電体シート3を使用して構成される。す
なわち、ガラス基板25の内側主面には、行方向(垂直
方向)の各画素部に対応するように列方向(水平方向)
に延びる複数の溝32が化学的エッチング等によって並
列的に形成される。各溝32は誘電体シート3で密閉さ
れており、ここに分離した放電チャネル(プラズマ室)
10が構成される。この密閉された放電チャネル10に
は、図1の例と同様にイオン化可能なガスが封入され
る。隣接する溝32を隔てる凸条部33は個々の放電チ
ャネル10を区分けする隔壁の役割を果たすと共に、各
放電チャネル10のギャップスペーサとしての役割も果
している。
【0044】各溝32に底部には、プラズマ電極を構成
する互いに平行なアノード電極12Aおよびカソード電
極12Kが溝32に沿って形成される。アノード電極1
2Aおよびカソード電極12Kは、例えば金属をスパッ
タリング、蒸着等により膜付けした後にフォトリソグラ
フィでパターニングすることで形成される。これら電極
12A,12Kは後述するように遮光部としても機能す
るようにされる。
する互いに平行なアノード電極12Aおよびカソード電
極12Kが溝32に沿って形成される。アノード電極1
2Aおよびカソード電極12Kは、例えば金属をスパッ
タリング、蒸着等により膜付けした後にフォトリソグラ
フィでパターニングすることで形成される。これら電極
12A,12Kは後述するように遮光部としても機能す
るようにされる。
【0045】また、本例においては、各画素部の有効領
域に対応する液晶層7の厚さが、垂直方向の上側になる
ほど厚くなるように形成される。ここで、隔壁(凸条部
33)がある部分とそれ以外の部分では大気圧と設定ガ
ス圧の差に相当する圧力差が生じる。例えば、設定ガス
圧を100Torrに設定すれば、大気圧(760To
rr)と7倍強の圧力差が生じ、隔壁がある部分の液晶
層7はより強い圧迫を受ける。そのため、図示のように
液晶層7の厚さを規定するスペーサ34を隔壁位置に対
して垂直方向の下側に若干ずれた位置に配設すること
で、各画素部の有効領域に対応する液晶層7の厚さを垂
直方向の上側になるほど厚くすることができる。
域に対応する液晶層7の厚さが、垂直方向の上側になる
ほど厚くなるように形成される。ここで、隔壁(凸条部
33)がある部分とそれ以外の部分では大気圧と設定ガ
ス圧の差に相当する圧力差が生じる。例えば、設定ガス
圧を100Torrに設定すれば、大気圧(760To
rr)と7倍強の圧力差が生じ、隔壁がある部分の液晶
層7はより強い圧迫を受ける。そのため、図示のように
液晶層7の厚さを規定するスペーサ34を隔壁位置に対
して垂直方向の下側に若干ずれた位置に配設すること
で、各画素部の有効領域に対応する液晶層7の厚さを垂
直方向の上側になるほど厚くすることができる。
【0046】以上の構成において、所定の放電チャネル
10に対応するアノード電極12Aとカソード電極12
Kとの間に所定電圧が印加されると、その放電チャネル
10の部分のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放
電が発生し、その内部は略アノード電位に維持される。
この状態で、データ電極5にデータ電圧が印加される
と、その放電チャネル10に対応して列方向に並ぶ複数
の画素13(図29参照)の液晶層7に誘電体シート3
を介してデータ電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終
了すると、放電チャネル10は浮遊電位となり、各画素
13の液晶層7に書き込まれたデータ電圧は、次の書き
込み期間(例えば1フィールド後あるいは1フレーム
後)まで保持される。この場合、放電チャネル10はサ
ンプリングスイッチとして機能すると共に、各画素13
の液晶層7はサンプリングキャパシタとして機能する。
10に対応するアノード電極12Aとカソード電極12
Kとの間に所定電圧が印加されると、その放電チャネル
10の部分のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放
電が発生し、その内部は略アノード電位に維持される。
この状態で、データ電極5にデータ電圧が印加される
と、その放電チャネル10に対応して列方向に並ぶ複数
の画素13(図29参照)の液晶層7に誘電体シート3
を介してデータ電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終
了すると、放電チャネル10は浮遊電位となり、各画素
13の液晶層7に書き込まれたデータ電圧は、次の書き
込み期間(例えば1フィールド後あるいは1フレーム
後)まで保持される。この場合、放電チャネル10はサ
ンプリングスイッチとして機能すると共に、各画素13
の液晶層7はサンプリングキャパシタとして機能する。
【0047】各画素13の液晶層7に書き込まれたデー
タ電圧によって液晶がTNモードで動作することから画
素単位で表示が行なわれる。したがって、上述したよう
にプラズマ放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素1
3の液晶層7にデータ電圧を書き込む放電チャネル10
を行方向に順次走査していくことで、二次元画像の表示
を行うことができる。
タ電圧によって液晶がTNモードで動作することから画
素単位で表示が行なわれる。したがって、上述したよう
にプラズマ放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素1
3の液晶層7にデータ電圧を書き込む放電チャネル10
を行方向に順次走査していくことで、二次元画像の表示
を行うことができる。
【0048】ところで、本例のプラズマアドレス表示装
置100では、図1の例と同様に誘電体シート3を介し
て液晶層7にデータ電圧が印加されるため、液晶層7に
印加される電圧は液晶層7の容量CLCと誘電体シート3
の容量CMSとの容量によって決まる。すなわち、液晶層
7の厚さが厚いほど液晶層7に印加される電圧が大きく
なる。そのため、垂直方向に関しての各画素部の有効領
域における液晶層7の電気光学的しきい値Vthは図8B
に示すように変化する。
置100では、図1の例と同様に誘電体シート3を介し
て液晶層7にデータ電圧が印加されるため、液晶層7に
印加される電圧は液晶層7の容量CLCと誘電体シート3
の容量CMSとの容量によって決まる。すなわち、液晶層
7の厚さが厚いほど液晶層7に印加される電圧が大きく
なる。そのため、垂直方向に関しての各画素部の有効領
域における液晶層7の電気光学的しきい値Vthは図8B
に示すように変化する。
【0049】また、バックライト部31より出射される
光線は遮光部22および電極12A,12Kによって光
路制限が行われ、垂直方向の視角が例えば−30°、0
°(正面)、+30°方向に出射される光線は、図8A
に示すようにそれぞれ液晶層7のLa、Lb、Lcの領
域を通過したものとなる。すなわち、負の視角方向に出
射される光線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの大
きな領域を通過し、逆に正の視角方向に出射される光線
は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの小さな領域を通
過する。
光線は遮光部22および電極12A,12Kによって光
路制限が行われ、垂直方向の視角が例えば−30°、0
°(正面)、+30°方向に出射される光線は、図8A
に示すようにそれぞれ液晶層7のLa、Lb、Lcの領
域を通過したものとなる。すなわち、負の視角方向に出
射される光線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの大
きな領域を通過し、逆に正の視角方向に出射される光線
は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの小さな領域を通
過する。
【0050】したがって、垂直方向の各視角における印
加電圧Vと透過率Tの関係を近づけることができる。図
9の一点鎖線a,実線b,破線cは、それぞれ垂直方向
の視角が−30°、0°(正面)、+30°での印加電
圧Vと透過率Tの関係を示しており、例えば印加電圧V
が所定値Vaである場合、垂直方向の視角が−30°、
0°(正面)、+30°における透過率Tの差が従来
(図31参照)に比べて縮小される。よって、本例によ
れば視野角を広げることができる。
加電圧Vと透過率Tの関係を近づけることができる。図
9の一点鎖線a,実線b,破線cは、それぞれ垂直方向
の視角が−30°、0°(正面)、+30°での印加電
圧Vと透過率Tの関係を示しており、例えば印加電圧V
が所定値Vaである場合、垂直方向の視角が−30°、
0°(正面)、+30°における透過率Tの差が従来
(図31参照)に比べて縮小される。よって、本例によ
れば視野角を広げることができる。
【0051】なお、図10は、例えば垂直方向の1画素
の寸法が500μmである場合、各部の寸法の具体例を
示したものでる。図示された寸法を示す数値の単位はμ
mである。
の寸法が500μmである場合、各部の寸法の具体例を
示したものでる。図示された寸法を示す数値の単位はμ
mである。
【0052】次に、図11を参照しながら、この発明に
係る電気光学表示装置の第3実施例について説明する。
本例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例で
ある。この図11において、図6と対応する部分には同
一符号を付し、その詳細説明は省略する。
係る電気光学表示装置の第3実施例について説明する。
本例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例で
ある。この図11において、図6と対応する部分には同
一符号を付し、その詳細説明は省略する。
【0053】本例においても、第2実施例と同様に、各
画素部の有効領域に対応する液晶層7の厚さが垂直方向
の上側になるほど厚くなるように形成される。ただし、
第2実施例では誘電体シート3を変形させて液晶層7の
厚さが変化するようにしたものであったが、本例では透
明基板4の内側主面の形状をほぼ鋸歯状に加工すること
で液晶層7の厚さが制御される。詳細説明は省略する
が、本例においても第2実施例と同様の作用効果を得る
ことができる。
画素部の有効領域に対応する液晶層7の厚さが垂直方向
の上側になるほど厚くなるように形成される。ただし、
第2実施例では誘電体シート3を変形させて液晶層7の
厚さが変化するようにしたものであったが、本例では透
明基板4の内側主面の形状をほぼ鋸歯状に加工すること
で液晶層7の厚さが制御される。詳細説明は省略する
が、本例においても第2実施例と同様の作用効果を得る
ことができる。
【0054】次に、図12を参照しながら、この発明に
係る電気光学表示装置の第4実施例について説明する。
本例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例で
ある。この図12において、図6と対応する部分には同
一符号を付し、その詳細説明は省略する。
係る電気光学表示装置の第4実施例について説明する。
本例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例で
ある。この図12において、図6と対応する部分には同
一符号を付し、その詳細説明は省略する。
【0055】本例においては、透明基板4の内側主面に
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図12には色フィル
タ21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この
場合、色フィルタ21R,21G,21Bは、図13に
示すように、垂直方向に関しては斜線図示する遮光部2
2を除く有効領域にのみ形成される。なお、水平方向に
関して各データ電極5の間には斜線図示するように黒色
のブラックマスク21BLが形成される。
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図12には色フィル
タ21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この
場合、色フィルタ21R,21G,21Bは、図13に
示すように、垂直方向に関しては斜線図示する遮光部2
2を除く有効領域にのみ形成される。なお、水平方向に
関して各データ電極5の間には斜線図示するように黒色
のブラックマスク21BLが形成される。
【0056】また、図6に示す第2実施例では、各画素
部の有効領域に対応する液晶層7の厚さが垂直方向の上
側になるほど厚くなるように形成されるているが、本例
において液晶層7の厚さは一定に形成される。そして本
例においては、ガラス基板25の各溝32の底部には、
垂直方向の下側にプラズマ電極を構成するアノード電極
12A、カソード電極12Kが形成されると共に、上側
に絶縁体でもって遮光部35が形成される。電極12
A,12Kは第2実施例と同様に遮光部としても機能す
るようにされる。
部の有効領域に対応する液晶層7の厚さが垂直方向の上
側になるほど厚くなるように形成されるているが、本例
において液晶層7の厚さは一定に形成される。そして本
例においては、ガラス基板25の各溝32の底部には、
垂直方向の下側にプラズマ電極を構成するアノード電極
12A、カソード電極12Kが形成されると共に、上側
に絶縁体でもって遮光部35が形成される。電極12
A,12Kは第2実施例と同様に遮光部としても機能す
るようにされる。
【0057】本例は以上のように構成され、その他は図
6に示す第2実施例と同様に構成される。したがって本
例においては、第2実施例と同様に、プラズマ放電を発
生させて列方向に並ぶ複数の画素13の液晶層7にデー
タ電圧を書き込む放電チャネル10を行方向に順次走査
していくことで、二次元画像の表示を行うことができ
る。
6に示す第2実施例と同様に構成される。したがって本
例においては、第2実施例と同様に、プラズマ放電を発
生させて列方向に並ぶ複数の画素13の液晶層7にデー
タ電圧を書き込む放電チャネル10を行方向に順次走査
していくことで、二次元画像の表示を行うことができ
る。
【0058】ここで、カソード電極12Kに印加される
カソード電圧およびデータ電極5に印加されるデータ電
圧Vinについて説明する。図14A,Bは、連続するカ
ソード電極12Kn,12Kn+1にそれぞれ印加されるカ
ソード電圧VKn,VKn+1を示しており、同図Cは所定
のデータ電極5に印加されるデータ電圧Vinを示してい
る。カソード電極12Kn,12Kn+1にはそれぞれ1垂
直期間(1V)毎に連続する1水平期間(1H)の前半
でもってアノード電位と所定電位差となるカソード電圧
VKn,VKn+1が印加される。これにより、プラズマ放
電を発生させる放電チャネル10が行方向(垂直方向)
に順次走査される。また、データ電圧Vinは基準電圧と
してのアノード電位に対して、各水平期間の前半および
後半で極性が反転するように制御される。さらに、デー
タ電圧Vinは、1水平期間毎および1垂直期間毎にアノ
ード電位に対して極性が反転され、液晶層7が交流駆動
される。
カソード電圧およびデータ電極5に印加されるデータ電
圧Vinについて説明する。図14A,Bは、連続するカ
ソード電極12Kn,12Kn+1にそれぞれ印加されるカ
ソード電圧VKn,VKn+1を示しており、同図Cは所定
のデータ電極5に印加されるデータ電圧Vinを示してい
る。カソード電極12Kn,12Kn+1にはそれぞれ1垂
直期間(1V)毎に連続する1水平期間(1H)の前半
でもってアノード電位と所定電位差となるカソード電圧
VKn,VKn+1が印加される。これにより、プラズマ放
電を発生させる放電チャネル10が行方向(垂直方向)
に順次走査される。また、データ電圧Vinは基準電圧と
してのアノード電位に対して、各水平期間の前半および
後半で極性が反転するように制御される。さらに、デー
タ電圧Vinは、1水平期間毎および1垂直期間毎にアノ
ード電位に対して極性が反転され、液晶層7が交流駆動
される。
【0059】図15は、プラズマアドレス表示装置の1
本のデータ電極5に係る部分の等価回路を示している。
図において、401,402,・・・,40mはそれぞれ
1画素分の等価回路部であり、CLCは液晶層7の容量、
CMSは誘電体シート3の容量、SWは放電チャネル10
で構成される仮想的スイッチ(サンプリングスイッ
チ)、CSは仮想的スイッチSWと並列的に配されるプ
ラズマ部の容量である。プラズマ放電を発生させる放電
チャネル10が行方向(垂直方向)に順次走査される場
合、等価回路部401,402,・・・,40mの仮想的
スイッチSWが順次オンとなる。
本のデータ電極5に係る部分の等価回路を示している。
図において、401,402,・・・,40mはそれぞれ
1画素分の等価回路部であり、CLCは液晶層7の容量、
CMSは誘電体シート3の容量、SWは放電チャネル10
で構成される仮想的スイッチ(サンプリングスイッ
チ)、CSは仮想的スイッチSWと並列的に配されるプ
ラズマ部の容量である。プラズマ放電を発生させる放電
チャネル10が行方向(垂直方向)に順次走査される場
合、等価回路部401,402,・・・,40mの仮想的
スイッチSWが順次オンとなる。
【0060】ここで、 α=1/CLC+1/CMS β=1/CLC+1/CMS+1/CS=1/CLC+1/COFF ・・・(1) とし、ある画素部の液晶層7に印加される電圧VLCにつ
いて、図16を参照しながら説明する。
いて、図16を参照しながら説明する。
【0061】仮想的スイッチSWのオン期間(選択時)
のデータ電圧VinをVin(t0)とすると、この選択時
に液晶層7に印加される電圧はVin(t0)・(1/CL
C)・(1/α)となる。一方、仮想的スイッチSWの
オフ期間(非選択時)のデータ電圧VinをVin(t)と
すると、この非選択時に液晶層7に印加される電圧はV
in(t)・(1/CLC)・(1/β)となる。したがっ
て、液晶層7に印加される電圧は、次式に示すようにな
る。
のデータ電圧VinをVin(t0)とすると、この選択時
に液晶層7に印加される電圧はVin(t0)・(1/CL
C)・(1/α)となる。一方、仮想的スイッチSWの
オフ期間(非選択時)のデータ電圧VinをVin(t)と
すると、この非選択時に液晶層7に印加される電圧はV
in(t)・(1/CLC)・(1/β)となる。したがっ
て、液晶層7に印加される電圧は、次式に示すようにな
る。
【0062】 VLC=Vin(t0)・(1/CLC)・(1/α−1/β) +Vin(t)・(1/CLC)・(1/β) ・・・(2) この(2)式において、右辺の第2項はクロストーク成
分であり、このクロストーク成分は、上述したようにデ
ータ電圧Vinを各水平期間の前半および後半で極性を反
転する、いわゆるコンプリメンタリドライブ(Conferen
ce Record of the 1988 IDRC 230-234 参照)をするこ
とで解消される。
分であり、このクロストーク成分は、上述したようにデ
ータ電圧Vinを各水平期間の前半および後半で極性を反
転する、いわゆるコンプリメンタリドライブ(Conferen
ce Record of the 1988 IDRC 230-234 参照)をするこ
とで解消される。
【0063】クロストーク成分が解消された場合、液晶
層7に印加される電圧VLCは、(2)式の右辺の第1項
のみとなってβに依存したものとなる。βは非選択時の
データ電極5とプラズマ電極の間の容量で決まるが、1
画素内で容量分布をもつ場合、従って容量が一様でない
ときは液晶層7に印加される電圧も1画素内で一様でな
くなる。
層7に印加される電圧VLCは、(2)式の右辺の第1項
のみとなってβに依存したものとなる。βは非選択時の
データ電極5とプラズマ電極の間の容量で決まるが、1
画素内で容量分布をもつ場合、従って容量が一様でない
ときは液晶層7に印加される電圧も1画素内で一様でな
くなる。
【0064】本例においては、プラズマ電極を構成する
電極12A,12Bが垂直方向の下側に形成されるた
め、各画素部において下側ほど容量が大きくなる容量分
布を持つこととなる。そのため、各画素部の下側ほど液
晶層7に印加される電圧が小さくなり、垂直方向に関し
ての各画素部の有効領域における液晶層7の電気光学的
しきい値Vthは図17Bに示すように変化する。
電極12A,12Bが垂直方向の下側に形成されるた
め、各画素部において下側ほど容量が大きくなる容量分
布を持つこととなる。そのため、各画素部の下側ほど液
晶層7に印加される電圧が小さくなり、垂直方向に関し
ての各画素部の有効領域における液晶層7の電気光学的
しきい値Vthは図17Bに示すように変化する。
【0065】また、バックライト部31より出射される
光線は遮光部22、電極12A,12Kおよび遮光部3
5によって光路制限が行われ、図17Aに示すように垂
直方向の視角が例えば−30°、0°(正面)、+30
°方向に出射される光線は、それぞれ液晶層7のLa、
Lb、Lcの領域を通過したものとなる。すなわち、負
の視角方向に出射される光線は液晶層7の電気光学的し
きい値Vthの大きな領域を通過し、逆に正の視角方向に
出射される光線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの
小さな領域を通過する。
光線は遮光部22、電極12A,12Kおよび遮光部3
5によって光路制限が行われ、図17Aに示すように垂
直方向の視角が例えば−30°、0°(正面)、+30
°方向に出射される光線は、それぞれ液晶層7のLa、
Lb、Lcの領域を通過したものとなる。すなわち、負
の視角方向に出射される光線は液晶層7の電気光学的し
きい値Vthの大きな領域を通過し、逆に正の視角方向に
出射される光線は液晶層7の電気光学的しきい値Vthの
小さな領域を通過する。
【0066】したがって、垂直方向の各視角における印
加電圧と透過率の関係を近づけることができ、印加電圧
が所定値の場合に各視角における透過率の差を従来に比
べて縮小でき、上述した第1〜第3の実施例と同様に視
野角を広げることができる。なお、図18は、例えば垂
直方向の1画素の寸法が500μmである場合、各部の
寸法の具体例を示したものでる。図示された寸法を示す
数値の単位はμmである。
加電圧と透過率の関係を近づけることができ、印加電圧
が所定値の場合に各視角における透過率の差を従来に比
べて縮小でき、上述した第1〜第3の実施例と同様に視
野角を広げることができる。なお、図18は、例えば垂
直方向の1画素の寸法が500μmである場合、各部の
寸法の具体例を示したものでる。図示された寸法を示す
数値の単位はμmである。
【0067】次に、図19を参照しながら、この発明に
係る電気光学表示装置の第5実施例について説明する。
本例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例で
ある。この図19において、図12と対応する部分には
同一符号を付し、その詳細説明は省略する。
係る電気光学表示装置の第5実施例について説明する。
本例もプラズマアドレス表示装置100に適用した例で
ある。この図19において、図12と対応する部分には
同一符号を付し、その詳細説明は省略する。
【0068】本例においては、透明基板4の内側主面に
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図19には色フィル
タ21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この
場合、色フィルタ21R,21G,21Bは、データ電
極5に対応して図20に示すようにストライプ状に形成
される。また、各データ電極5の間には斜線図示するよ
うに黒色のブラックマスク21BLが形成される。ま
た、ガラス基板25の各溝32の底部には、垂直方向の
下側および上側にそれぞれ誘電体シート3に近接してプ
ラズマ電極を構成するアノード電極12A、カソード電
極12Kが形成される。本例は以上のように構成され、
その他は図12の例と同様に構成される。
形成されたデータ電極5に対応して、このデータ電極5
と液晶層7との間に赤(R)、緑(G)、青(B)の色
フィルタ21R,21G,21B(図19には色フィル
タ21G,21Bは図示せず)が順次形成される。この
場合、色フィルタ21R,21G,21Bは、データ電
極5に対応して図20に示すようにストライプ状に形成
される。また、各データ電極5の間には斜線図示するよ
うに黒色のブラックマスク21BLが形成される。ま
た、ガラス基板25の各溝32の底部には、垂直方向の
下側および上側にそれぞれ誘電体シート3に近接してプ
ラズマ電極を構成するアノード電極12A、カソード電
極12Kが形成される。本例は以上のように構成され、
その他は図12の例と同様に構成される。
【0069】ここで、図21に示すような寸法で形成さ
れる場合、非選択時のデータ電極5とプラズマ電極の間
の1画素内での単位面積当たりの容量分布は、チャネル
中央Pから電極12A,12Bの端部までの距離dをパ
ラメータとして、図22に示すように変化する。なお、
図22において、横軸はチャネル中央Pからの距離Dで
あり、縦軸は非選択時の容量である。
れる場合、非選択時のデータ電極5とプラズマ電極の間
の1画素内での単位面積当たりの容量分布は、チャネル
中央Pから電極12A,12Bの端部までの距離dをパ
ラメータとして、図22に示すように変化する。なお、
図22において、横軸はチャネル中央Pからの距離Dで
あり、縦軸は非選択時の容量である。
【0070】図22より明らかなように、本例のように
垂直方向の下側および上側にそれぞれ誘電体シート3に
近接してアノード電極12A、カソード電極12Kを配
設するものによれば、垂直方向の下側および上側では中
央部より非選択時の容量が大幅に大きくなる。そのた
め、液晶層7に印加される電圧は中央部ほど大きくなっ
て1画素内で一様でなくなる。
垂直方向の下側および上側にそれぞれ誘電体シート3に
近接してアノード電極12A、カソード電極12Kを配
設するものによれば、垂直方向の下側および上側では中
央部より非選択時の容量が大幅に大きくなる。そのた
め、液晶層7に印加される電圧は中央部ほど大きくなっ
て1画素内で一様でなくなる。
【0071】例えば、液晶層7の容量CLCを1×10-5
F/m2、誘電体シート3の容量CMSを1.2×10-6
F/m2、A点、B点(図19に図示)の容量COFFをそ
れぞれ4×10-8F/m2、5×10-7F/m2であると
き、A点、B点の液晶層7に印加される電圧VLCA,V
LCBは、印加電圧Vin(t0)に対してそれぞれ次式のよ
うになる。
F/m2、誘電体シート3の容量CMSを1.2×10-6
F/m2、A点、B点(図19に図示)の容量COFFをそ
れぞれ4×10-8F/m2、5×10-7F/m2であると
き、A点、B点の液晶層7に印加される電圧VLCA,V
LCBは、印加電圧Vin(t0)に対してそれぞれ次式のよ
うになる。
【0072】 VLCA=Vin(t0)×0.1 VLCB=Vin(t0)×0.06 ・・・(3) このようにA点、B点で液晶層7に印加される電圧V
LCA,VLCBが異なることから、A点、B点における印加
電圧Vに対する透過率Tの関係(V−T特性)はそれぞ
れ図23a,bの曲線で示すようになり、平均すると同
図cの曲線で示すようになる。
LCA,VLCBが異なることから、A点、B点における印加
電圧Vに対する透過率Tの関係(V−T特性)はそれぞ
れ図23a,bの曲線で示すようになり、平均すると同
図cの曲線で示すようになる。
【0073】以上のことから本例のように各画素内で液
晶層7に印加される電圧が一様でないときは、各視角に
おけるV−T特性がなだらかになるため、所定印加電圧
値に対する各視角の透過率の差が縮小され、視野角を広
げることができる。例えば、垂直方向の視角が−30
°、0°(正面)における印加電圧Vと透過率Tの関係
(V−T特性)は、それぞれ図24の一点鎖線a、実線
bに示すようになる。同図の一点鎖線a0 、実線b
0は、各画素内で液晶層7に印加される電圧が一様な場
合であって視角が−30°、0°(正面)における印加
電圧Vと透過率Tの関係を示している。
晶層7に印加される電圧が一様でないときは、各視角に
おけるV−T特性がなだらかになるため、所定印加電圧
値に対する各視角の透過率の差が縮小され、視野角を広
げることができる。例えば、垂直方向の視角が−30
°、0°(正面)における印加電圧Vと透過率Tの関係
(V−T特性)は、それぞれ図24の一点鎖線a、実線
bに示すようになる。同図の一点鎖線a0 、実線b
0は、各画素内で液晶層7に印加される電圧が一様な場
合であって視角が−30°、0°(正面)における印加
電圧Vと透過率Tの関係を示している。
【0074】図24からも明らかなように、所定印加電
圧値(例えば0°の透過率Tが50%となる電圧値)に
おける透過率Tに着目すると、本例の−30°、0°
(正面)の視角における透過率Tの差△Tは、各画素内
で液晶層7に印加される電圧が一様なときの透過率の差
△T0に比べて小さくなる。なお、説明は省略するが、
例えば0°(正面)、+30°の視角における印加電圧
Vと透過率Tの関係(V−T特性)についても同様とな
る。
圧値(例えば0°の透過率Tが50%となる電圧値)に
おける透過率Tに着目すると、本例の−30°、0°
(正面)の視角における透過率Tの差△Tは、各画素内
で液晶層7に印加される電圧が一様なときの透過率の差
△T0に比べて小さくなる。なお、説明は省略するが、
例えば0°(正面)、+30°の視角における印加電圧
Vと透過率Tの関係(V−T特性)についても同様とな
る。
【0075】図25および図26は、それぞれこの発明
に係る電気光学表示装置の第6実施例および第7実施例
を示している。これら図25および図26において、図
19と対応する部分には同一符号を付して示している。
図25の例は、各溝32の底部の下側および上側に誘電
体シート3に近接してアノード電極12Aが配設される
と共に、中央にカソード電極12Kが配設されたもので
ある。また、図26の例は、各溝32の底部の中央にア
ノード電極12Aが配設されると共に、各溝32の底部
の下側および上側に誘電体シート3に近接して基準電極
36が配設されたものである。基準電極36の電位は例
えばアノード電位と等しくされる。
に係る電気光学表示装置の第6実施例および第7実施例
を示している。これら図25および図26において、図
19と対応する部分には同一符号を付して示している。
図25の例は、各溝32の底部の下側および上側に誘電
体シート3に近接してアノード電極12Aが配設される
と共に、中央にカソード電極12Kが配設されたもので
ある。また、図26の例は、各溝32の底部の中央にア
ノード電極12Aが配設されると共に、各溝32の底部
の下側および上側に誘電体シート3に近接して基準電極
36が配設されたものである。基準電極36の電位は例
えばアノード電位と等しくされる。
【0076】以上のように構成された図25の例および
図26の例においても、図19に示す第5実施例と同様
に、各画素内で液晶層7に印加される電圧が一様でなく
なり、各視角におけるV−T特性がなだらかになるた
め、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差を縮小
でき、視野角を広げることができる。
図26の例においても、図19に示す第5実施例と同様
に、各画素内で液晶層7に印加される電圧が一様でなく
なり、各視角におけるV−T特性がなだらかになるた
め、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差を縮小
でき、視野角を広げることができる。
【0077】なお、図1に示す第1実施例、図6に示す
第2実施例、図11に示す第3実施例、図12に示す第
4実施例においては、遮光部22などでもって視角に応
じた光路制限を行って垂直方向の各視角における印加電
圧と透過率の関係を近づけ、これにより所定印加電圧値
における各視角における透過率の差を縮小して視野角を
広げるものであるが、遮光部22などによる光路制限を
しない場合であっても、各画素内で液晶層7に印加され
る電圧が一様でないことから、図19に示す第5実施例
と同様の作用でもって各視角におけるV−T特性をなだ
らかにでき、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の
差を縮小して視野角を広げることができる。
第2実施例、図11に示す第3実施例、図12に示す第
4実施例においては、遮光部22などでもって視角に応
じた光路制限を行って垂直方向の各視角における印加電
圧と透過率の関係を近づけ、これにより所定印加電圧値
における各視角における透過率の差を縮小して視野角を
広げるものであるが、遮光部22などによる光路制限を
しない場合であっても、各画素内で液晶層7に印加され
る電圧が一様でないことから、図19に示す第5実施例
と同様の作用でもって各視角におけるV−T特性をなだ
らかにでき、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の
差を縮小して視野角を広げることができる。
【0078】また、上述実施例においては、プラズマア
ドレス表示装置に適用したものであるが、この発明は液
晶表示装置などのその他の電気光学表示装置にも同様に
適用できることは勿論である。
ドレス表示装置に適用したものであるが、この発明は液
晶表示装置などのその他の電気光学表示装置にも同様に
適用できることは勿論である。
【0079】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、電気光学材料
層に印加される電圧を1画素内で変化させるものであ
り、例えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電
気光学的しきい値が異なるものである場合、電気光学材
料層に印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させ
ることで垂直方向の各視角における印加電圧に対する透
過率の変化がなだらかになり、所定印加電圧値に対する
各視角の透過率の差が縮小されることから視野角を広げ
ることができる。
層に印加される電圧を1画素内で変化させるものであ
り、例えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電
気光学的しきい値が異なるものである場合、電気光学材
料層に印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させ
ることで垂直方向の各視角における印加電圧に対する透
過率の変化がなだらかになり、所定印加電圧値に対する
各視角の透過率の差が縮小されることから視野角を広げ
ることができる。
【0080】請求項2の発明によれば、誘電体層の厚さ
を変化させることで電気光学材料層に印加される電圧を
1画素内で変化させるものであり、例えば電気光学材料
層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい値が異な
るものである場合、電気光学材料層に印加される電圧を
垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各視
角における印加電圧に対する透過率の変化がなだらかに
なり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮
小されることから視野角を広げることができる。
を変化させることで電気光学材料層に印加される電圧を
1画素内で変化させるものであり、例えば電気光学材料
層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい値が異な
るものである場合、電気光学材料層に印加される電圧を
垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各視
角における印加電圧に対する透過率の変化がなだらかに
なり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮
小されることから視野角を広げることができる。
【0081】請求項3の発明によれば、電気光学材料層
の厚さを変化させることで電気光学材料層に印加される
電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電気光
学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい値
が異なるものである場合、電気光学材料層に印加される
電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方向
の各視角における印加電圧に対する透過率の変化がなだ
らかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の
差が縮小されることから視野角を広げることができる。
の厚さを変化させることで電気光学材料層に印加される
電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電気光
学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい値
が異なるものである場合、電気光学材料層に印加される
電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方向
の各視角における印加電圧に対する透過率の変化がなだ
らかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の
差が縮小されることから視野角を広げることができる。
【0082】請求項4の発明によれば、プラズマセルの
電極位置を変化させることで電気光学材料層に印加され
る電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電気
光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい
値が異なるものである場合、電気光学材料層に印加され
る電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方
向の各視角における印加電圧に対する透過率の変化がな
だらかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率
の差が縮小されることから視野角を広げることができ
る。
電極位置を変化させることで電気光学材料層に印加され
る電圧を1画素内で変化させるものであり、例えば電気
光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学的しきい
値が異なるものである場合、電気光学材料層に印加され
る電圧を垂直方向に1画素内で変化させることで垂直方
向の各視角における印加電圧に対する透過率の変化がな
だらかになり、所定印加電圧値に対する各視角の透過率
の差が縮小されることから視野角を広げることができ
る。
【0083】請求項5の発明によれば、電気光学材料層
を視角によって電気光学的しきい値にずれを発生する液
晶層としたものであり、液晶層に印加される電圧を垂直
方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各視角に
おける印加電圧に対する透過率の変化がなだらかにな
り、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小
されることから視野角を広げることができる。
を視角によって電気光学的しきい値にずれを発生する液
晶層としたものであり、液晶層に印加される電圧を垂直
方向に1画素内で変化させることで垂直方向の各視角に
おける印加電圧に対する透過率の変化がなだらかにな
り、所定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小
されることから視野角を広げることができる。
【0084】請求項6の発明によれば、画素毎に視角に
応じて光路を制限する遮光手段を備えるものであり、例
えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学
的しきい値が異なるものである場合、電気光学材料層に
印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させると共
に、遮光手段によって垂直方向の視角に応じて1画素内
の光の通過位置を制限することで垂直方向の各視角にお
ける印加電圧と透過率の関係を近づけることができ、所
定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小される
ことから視野角を広げることができる。
応じて光路を制限する遮光手段を備えるものであり、例
えば電気光学材料層が垂直方向の視角に応じて電気光学
的しきい値が異なるものである場合、電気光学材料層に
印加される電圧を垂直方向に1画素内で変化させると共
に、遮光手段によって垂直方向の視角に応じて1画素内
の光の通過位置を制限することで垂直方向の各視角にお
ける印加電圧と透過率の関係を近づけることができ、所
定印加電圧値に対する各視角の透過率の差が縮小される
ことから視野角を広げることができる。
【0085】請求項7の発明によれば、画素毎に視角に
応じて光路を制限する遮光手段の少なくとも一部として
プラズマセルの電極を利用するため、遮光手段を効率よ
く、安価に形成することができる。
応じて光路を制限する遮光手段の少なくとも一部として
プラズマセルの電極を利用するため、遮光手段を効率よ
く、安価に形成することができる。
【図1】この発明に係る電気光学表示装置の第1実施例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図2】色フィルタ、ブラックマスク、遮光部などの構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図3】電気光学的しきい値の変化と光路制限を説明す
るための図である。
るための図である。
【図4】各視角における印加電圧と透過率との関係を示
す図である。
す図である。
【図5】第1実施例の各部の寸法の具体例を示す図であ
る。
る。
【図6】この発明に係る電気光学表示装置の第2実施例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図7】色フィルタ、ブラックマスク、遮光部などの構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図8】電気光学的しきい値の変化と光路制限を説明す
るための図である。
るための図である。
【図9】各視角における印加電圧と透過率との関係を示
す図である。
す図である。
【図10】第2実施例の各部の寸法の具体例を示す図で
ある。
ある。
【図11】この発明に係る電気光学表示装置の第3実施
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図12】この発明に係る電気光学表示装置の第4実施
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図13】色フィルタ、ブラックマスク、遮光部などの
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図14】カソード電圧、データ電圧の変化を説明する
ための図である。
ための図である。
【図15】プラズマアドレス表示装置の等価回路を示す
図である。
図である。
【図16】液晶層に印加される電圧を示す図である。
【図17】電気光学的しきい値の変化と光路制限を説明
するための図である。
するための図である。
【図18】第4実施例の各部の寸法の具体例を示す図で
ある。
ある。
【図19】この発明に係る電気光学表示装置の第5実施
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図20】色フィルタ、ブラックマスクなどの構成を示
す図である。
す図である。
【図21】第5実施例の各部の寸法の具体例を示す図で
ある。
ある。
【図22】1画素内での非選択時の容量分布を示す図で
ある。
ある。
【図23】同一画素内での印加電圧と透過率の関係を示
す図である。
す図である。
【図24】第5実施例での印加電圧と透過率との関係を
示す図である。
示す図である。
【図25】この発明に係る電気光学表示装置の第6実施
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図26】この発明に係る電気光学表示装置の第7実施
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図27】プラズマアドレス表示装置の構成例を示す斜
視図である。
視図である。
【図28】プラズマアドレス表示装置の構成例を示す断
面図である。
面図である。
【図29】データ電極、プラズマ電極、放電チャネルの
配列を示す図である。
配列を示す図である。
【図30】液晶の配向方向を示す図である。
【図31】従来例の印加電圧と透過率の関係を示す図で
ある。
ある。
1 液晶表示セル 2 プラズマセル 3 誘電体シート 4 透明電極 5 データ電極 6,34 スペーサ 7 液晶層 8,25 ガラス基板 9,26,32 溝 10 放電チャネル 11,27,33 凸条部 12A アノード電極 12K カソード電極 13 画素 21R,21G,21B 色フィルタ 22,35 遮光部 23,24 配向膜 29,30 偏光板 31 バックライト部 36 基準電極
Claims (7)
- 【請求項1】 電気光学材料層に印加される電圧を1画
素内で変化させることを特徴とする電気光学表示装置。 - 【請求項2】 電気光学材料層と誘電体層とが積層さ
れ、上記誘電体層を介して上記電気光学材料層にデータ
電圧の書き込みが行なわれる電気光学表示装置におい
て、 上記誘電体層の厚さを変化させることで上記電気光学材
料層に印加される電圧を1画素内で変化させることを特
徴とする電気光学表示装置。 - 【請求項3】 電気光学材料層と誘電体層とが積層さ
れ、上記誘電体層を介して上記電気光学材料層にデータ
電圧の書き込みが行なわれる電気光学表示装置におい
て、 上記電気光学材料層の厚さを変化させることで上記電気
光学材料層に印加される電圧を1画素内で変化させるこ
とを特徴とする電気光学表示装置。 - 【請求項4】 誘電体層を介してプラズマセルと電気光
学材料層とが積層され、上記誘電体層を介して上記電気
光学材料層にデータ電圧の書き込みが行なわれる電気光
学表示装置において、 上記プラズマセルの電極位置を変化させることで上記電
気光学材料層に印加される電圧を1画素内で変化させる
ことを特徴とする電気光学表示装置。 - 【請求項5】 上記電気光学材料層は、視角によって電
気光学的しきい値にずれを発生する液晶層であることを
特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の電気
光学表示装置。 - 【請求項6】 画素毎に視角に応じて光路を制限する遮
光手段を備えることを特徴とする請求項1〜請求項4の
いずれかに記載の電気光学表示装置。 - 【請求項7】 画素毎に視角に応じて光路を制限する遮
光手段を備えると共に、上記遮光手段の少なくとも一部
として上記プラズマセルの電極を利用することを特徴と
する請求項4に記載の電気光学表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11878794A JPH07325285A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | 電気光学表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11878794A JPH07325285A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | 電気光学表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07325285A true JPH07325285A (ja) | 1995-12-12 |
Family
ID=14745086
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11878794A Pending JPH07325285A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | 電気光学表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07325285A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5904876A (en) * | 1995-06-23 | 1999-05-18 | Sony Corporation | Nematic liquid-crystal composition |
-
1994
- 1994-05-31 JP JP11878794A patent/JPH07325285A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5904876A (en) * | 1995-06-23 | 1999-05-18 | Sony Corporation | Nematic liquid-crystal composition |
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