JPH07321022A - Illumination optical system - Google Patents
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- JPH07321022A JPH07321022A JP6132395A JP13239594A JPH07321022A JP H07321022 A JPH07321022 A JP H07321022A JP 6132395 A JP6132395 A JP 6132395A JP 13239594 A JP13239594 A JP 13239594A JP H07321022 A JPH07321022 A JP H07321022A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、照明光学系、特に、投
影露光装置のレチクルアライメント光学系等に用いられ
る照明光学系に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an illumination optical system, and more particularly to an illumination optical system used for a reticle alignment optical system of a projection exposure apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】投影露光装置のアライメント光学系にお
いて、アライメントマークを照明する照明光学系とし
て、例えば可動ステージ上の指標板に設けられた透光性
アライメントマークを照明してそこから発光させたい時
など、動きのある目標物を照明するために送光すること
自体に自由度を持たせる必要がある場合、光ファイバか
らなるライトガイドを備えた照明光学系を用いていた。
図１２にこのような従来の光ファイバを用いた照明光学
系を示す。2. Description of the Related Art In an alignment optical system of a projection exposure apparatus, for example, when it is desired to illuminate a light-transmitting alignment mark provided on an index plate on a movable stage to illuminate the alignment mark as an illumination optical system. When it is necessary to give a degree of freedom to sending light to illuminate a moving target, an illumination optical system including a light guide made of an optical fiber is used.
FIG. 12 shows an illumination optical system using such a conventional optical fiber.
【０００３】図１２において、光源の水銀ランプ３００
から放射された光は、楕円鏡３０１での反射によって集
光され、レンズ系３０２を介して光ファイバ３０３に入
射する。この最、光ファイバ３０３の入射端には十分な
ＮＡおよび径をもつ光源像が形成されていて、光ファイ
バ３０３から射出された光は、コンデンサレンズ３０４
を通って適当な径と照明ＮＡをもった照野を形成する。In FIG. 12, a mercury lamp 300 serving as a light source.
The light radiated from the laser beam is condensed by the reflection on the elliptical mirror 301 and is incident on the optical fiber 303 via the lens system 302. At this time, a light source image having a sufficient NA and a diameter is formed at the incident end of the optical fiber 303, and the light emitted from the optical fiber 303 is emitted from the condenser lens 304.
To form an illumination field with an appropriate diameter and illumination NA.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】現在、投影用露光装置
のアライメント装置の光源としても、エキシマレーザが
使用されているが、石英ファイバなど、耐久性において
エキシマレーザに対応できる光ファイバも開発され、エ
キシマレーザを光源に自由度のある光ファイバ光学系か
らなるアライメント用照明光学系も考えられる。At present, an excimer laser is also used as a light source for an alignment device of a projection exposure apparatus, but an optical fiber such as a quartz fiber which is compatible with the excimer laser has been developed. An alignment illumination optical system including an optical fiber optical system having an excimer laser as a light source and having a degree of freedom is also conceivable.
【０００５】しかしながら、エキシマレーザは、指向性
の高い平行光束であり、そのまま照明光として使用する
と、照明ＮＡがほとんど０である。従って、単に上記の
図１２の如き従来の技術の光ファイバ光学系を用いた場
合には、図１３に示すように、レンズ系３１２、光ファ
イバ３１３、コンデンサレンズ３１４を介したレーザ光
では、必要な照度分布が得られないのはもちろんまず照
野自体形成することができず、アライメント装置の照明
光学系として用いることはできない。However, the excimer laser is a parallel light flux with high directivity, and when used as illumination light as it is, the illumination NA is almost zero. Therefore, when the conventional optical fiber optical system as shown in FIG. 12 is simply used, as shown in FIG. 13, laser light passing through the lens system 312, the optical fiber 313, and the condenser lens 314 is necessary. Of course, it is impossible to form the illumination field itself, and it cannot be used as the illumination optical system of the alignment apparatus.
【０００６】そこで、この種の照明光学系では、レーザ
の照度ムラを無くし、かつ照明ＮＡをもたせるため、第
１４図に示すようにフライアイレンズ４０１にレーザ光
を通過させて２次光源を形成し、この２次光源からの光
をコンデンサーレンズ４０２を介してケーラー照明で照
野を形成する方法や、第１５図に示すように拡散板４１
１の拡散作用によりこれの射出面上にレーザ光の２次光
源を形成して、この２時光源からの光をコンデンサーレ
ンズ４１２を介してケーラー照明で照野を形成する方法
を用いた照明光学系が考えられる。Therefore, in this type of illumination optical system, in order to eliminate the unevenness of the illuminance of the laser and to provide the illumination NA, the fly-eye lens 401 is made to pass the laser light to form a secondary light source, as shown in FIG. Then, a method of forming an illumination field by Koehler illumination using the light from the secondary light source through the condenser lens 402, or as shown in FIG.
Illumination optics using a method in which a secondary light source of laser light is formed on the exit surface thereof by the diffusion action of No. 1 and the light from this two o'clock light source is used as a Koehler illumination to form an illumination field through a condenser lens 412. The system is considered.
【０００７】しかしながら、第１４図のフライアイレン
ズ４０１を用いたものに関しては、フライアイレンズ４
０１の各レンズ個数が十分多くない（図１４では４個構
成）と、照度分布に示す如く入射するレーザーの照度ム
ラが十分補正しきれず、一方十分多くするにはコスト的
に不利であった。また、エキシマレーザーのようなそれ
ほどコヒーレンシーの良くないレーザーでさえも、隣り
合う各要素レンズ間の２光束干渉により照野上で干渉縞
が現れ、均一な照明が得られないといった問題があっ
た。However, in the case of using the fly-eye lens 401 shown in FIG. 14, the fly-eye lens 4 is used.
If the number of lenses 01 is not sufficiently large (four lenses in FIG. 14), the illuminance unevenness of the incident laser cannot be corrected sufficiently as shown in the illuminance distribution. Further, even with a laser having poor coherency such as an excimer laser, there is a problem that interference fringes appear on the illumination field due to two-beam interference between adjacent element lenses, and uniform illumination cannot be obtained.
【０００８】さらに、第１５図の拡散板４１１を用いた
ものに関しては照野上の照度ムラ分布が拡散板通過後の
角度特性により正規分布のような形状になってしまい、
通常のコンデンサレンズ４１２では均一な照度分布は得
られず、照明ムラを無視し得る照野中心の限られた領域
しか使用できないため照明効率が悪いという問題があっ
た。さらに加えて、エキシマレーザーのようなそれほど
コヒーレンシーの良くないレーザーでさえも照野上でス
ペックルが発生しランダムな照度ムラが発生するといっ
た問題があった。このような問題を持った照明光学系で
は、アライメント装置に用いた場合にアライメント精度
に問題が生じる。以上のように、エキシマレーザのよう
に角度をもたない光源を用いた照明光学系において、十
分なものはなかった。Further, in the case of using the diffuser plate 411 of FIG. 15, the illuminance unevenness distribution on the illumination field becomes a shape like a normal distribution due to the angle characteristic after passing through the diffuser plate,
The normal condenser lens 412 does not provide a uniform illuminance distribution, and there is a problem that the illumination efficiency is poor because only a limited area of the illumination field center where illumination unevenness can be ignored can be used. In addition, even a laser with poor coherency such as an excimer laser has a problem that speckles are generated on the illumination field and random illuminance unevenness occurs. The illumination optical system having such a problem has a problem in alignment accuracy when used in an alignment apparatus. As described above, there is no sufficient illumination optical system using a light source having no angle such as an excimer laser.
【０００９】本発明は、上記問題点を鑑み、送光自由度
が高く、簡便な構成でありながら、均一な照度分布が得
られる照明光学系をえることを目的とする。また、送光
自由度が高く簡便な構成でありながら、均一な照度分布
でかつ照野内での照明ＮＡが一定の値を示すような照野
が得られる照明光学系を提供することを目的とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide an illumination optical system which has a high degree of freedom in light transmission and a simple structure, but which can obtain a uniform illuminance distribution. Another object of the present invention is to provide an illumination optical system which has a high degree of freedom in light transmission and a simple structure, and which can obtain an illumination field with a uniform illuminance distribution and a constant illumination NA in the illumination field. To do.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明に係る照明光学系では、平行
光束を供給する平行光束供給手段と、該平行光束供給手
段からの平行光束を被照明物体側へ導くライトガイドを
有する照明光学系において、前記平行光束供給手段と前
記ライトガイドの入射端との間に、前記平行光束を拡散
させる拡散手段を設け、前記平行光束が前記拡散手段を
入射する方向と直交する平面に対し前記ライトガイドの
入射端面が所定の角度傾斜するように配置されるもので
ある。In order to achieve the above object, in the illumination optical system according to the first aspect of the present invention, a parallel light flux supplying means for supplying a parallel light flux and a parallel light flux from the parallel light flux supplying means. In the illumination optical system having a light guide for guiding the parallel light flux to the illuminated object side, a diffusing means for diffusing the parallel light flux is provided between the parallel light flux supplying means and the incident end of the light guide. The light guide is arranged such that the incident end face of the light guide is inclined at a predetermined angle with respect to a plane orthogonal to the incident direction.
【００１１】また、請求項２に記載の発明に係る照明光
学系では、請求項１に記載の照明光学系において、前記
平行光束が前記拡散手段を入射する方向と直交する平面
に対する前記ライトガイドの入射端面の傾斜角度をθと
したとき、４°≦θ≦１０°を満足するものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided the illumination optical system according to the first aspect, wherein the parallel light flux is directed to a plane orthogonal to a direction in which the parallel light enters the diffusing means. When the inclination angle of the incident end face is θ, 4 ° ≦ θ ≦ 10 ° is satisfied.
【００１２】[0012]
【作用】請求項１に記載の本発明では、平行光束供給手
段から供給される平行光束をライトガイドによって被照
明物体側へ導く照明光学系であり、平行光束供給手段と
ライトガイドの入射端との間に設けた拡散手段によって
平行光束を拡散させると共に、該平行光束が拡散手段へ
入射する方向と直交する平面に対しライトガイドの入射
端面が所定の角度傾斜するように配置したものである。According to the first aspect of the present invention, there is provided an illumination optical system for guiding the parallel light flux supplied from the parallel light flux supply means to the illuminated object side by the light guide, and the parallel light flux supply means and the incident end of the light guide. The parallel light flux is diffused by a diffusing means provided between the light guide and the light guide, and the incident end surface of the light guide is inclined at a predetermined angle with respect to the plane orthogonal to the direction in which the parallel light enters the diffusing means.
【００１３】ここで用いられるライトガイドは、細いガ
ラスファイバーを束ね、かつ入射側での各単線の配列が
射出側でランダム配列となるようなライトガイド（以
下、ランダムライトガイドと記す）である。以下に、こ
のランダム性の高いランダムライトガイドの光学的性質
について説明する。The light guide used here is a light guide (hereinafter referred to as a random light guide) in which thin glass fibers are bundled and each single line on the incident side becomes a random array on the exit side. The optical properties of the random light guide having high randomness will be described below.
【００１４】図７（ａ）に示すように、完全に整列した
光ファイバーを束にしたライトガイド２００においては
ほぼ入射角θ1 と射出角θ2 は同じとなり、方向はラン
ダムになるため光束断面がドーナツ状になるように広が
る。また、入射端面での光量分布は、射出端面でも維持
される（図７（ｂ））但し、光ファイバを束ねた時に光
を通すのはコアに部分だけなので、クラッドの部分と光
ファイバー間の隙間は光量０となる。As shown in FIG. 7A, in the light guide 200 in which a bundle of perfectly aligned optical fibers are bundled, the incident angle θ 1 and the exit angle θ 2 are almost the same, and the directions are random, so that the cross section of the light flux is changed. Spreads like a donut. Further, the light quantity distribution on the incident end face is maintained also on the exit end face (Fig. 7 (b)). However, when the optical fibers are bundled, only light passes through the core, so the gap between the clad portion and the optical fiber. Is 0.
【００１５】これに対して、ランダムライトガイドにお
いては、図８（ａ）に示すように、内部にて各光ファイ
バがランダムにねじれ合っているため、射出角は入射角
に対して広がりを持った形で維持され、これは、ランダ
ムライトガイドに角度拡散効果があることを意味する。
また、方向もランダムであるためやはり光束断面はドー
ナツ状となり、光量分布は中心対称になる。また、入射
端面での光量分布は射出端面ではほぼ均一と考えること
ができる。On the other hand, in the random light guide, as shown in FIG. 8A, since the optical fibers are randomly twisted inside each other, the exit angle has a spread with respect to the incident angle. Is maintained in a round shape, which means that the random light guide has an angular diffusion effect.
Further, since the directions are also random, the cross section of the light flux also has a donut shape, and the light amount distribution has central symmetry. Further, it can be considered that the light amount distribution on the incident end surface is almost uniform on the exit end surface.
【００１６】このような光学的性質を持つランダムライ
トガイド２１０の入射端面２１１に、輝度が角度によら
ず一定値を示す完全拡散面２２０をおいたような理想的
な場合（図９（ａ））でも、射出側の輝度の角度特性は
一定でなく、図９（ｂ）の実線で示す如く最大入射角度
に向かって低下している。In an ideal case where the incident end surface 211 of the random light guide 210 having such optical properties is provided with a perfect diffusion surface 220 whose brightness shows a constant value regardless of the angle (FIG. 9A). ), The angular characteristic of the luminance on the exit side is not constant and decreases toward the maximum incident angle as shown by the solid line in FIG. 9 (b).
【００１７】なお、ここでは、θ0 （最大入射角度）は
光ファイバのコアの屈折率ｎ1 、クラッドの屈折率ｎ2
としたときの以下の式で決まる開口数から求まるものと
している。ｓｉｎθ0 ＝ＮＡ0 ＝√（ｎ1 2−ｎ2 2）Here, θ 0 (maximum incident angle) is the refractive index n 1 of the core of the optical fiber and the refractive index n 2 of the clad.
And the numerical aperture determined by the following equation. sin θ 0 = NA 0 = √ (n 1 2 −n 2 2 )
【００１８】従って、必要な照野に応じた角度（必要角
度）まで一定の輝度となるような角度特性を得るには、
入射側の輝度の角度特性が、図９（ｂ）の実線で示した
ものに対して相補的な形、即ち図９（ｂ）に点線で示し
たような角度特性になるようにすればよい。本発明にお
いては、拡散手段を用いて平行光束に角度の広がりを持
たせる（輝度の角度特性は図１０（ａ））と共に、ライ
トガイド入射端に角度をつけて入射させることにより、
図９（ｂ）に点線で示した輝度の角度特性に近い図１０
（ｂ）に示した角度特性とすることができる。よって、
射出側では輝度が必要角度までほぼ一定な角度特性（図
１０（ｃ））とすることができる。Therefore, in order to obtain an angle characteristic such that the brightness is constant up to an angle (required angle) according to a required illumination field,
The angle characteristic of the luminance on the incident side may be complementary to that shown by the solid line in FIG. 9B, that is, the angle characteristic shown by the dotted line in FIG. 9B. . In the present invention, the parallel light flux is made to have an angular spread by using the diffusing means (the luminance angle characteristic is shown in FIG. 10A), and at the same time, the light guide is incident at an angle so that the light is incident.
FIG. 10 that is close to the angular characteristic of luminance shown by the dotted line in FIG.
The angle characteristic shown in (b) can be obtained. Therefore,
On the emission side, it is possible to obtain an angle characteristic (FIG. 10C) in which the brightness is substantially constant up to the required angle.
【００１９】即ち、例えば、図６に示すようにレーザ光
束を、拡散手段としての拡散板２１３を介してランダム
ライトガイド２１０の入射端面２１１へ入射させる際、
レーザ光束が拡散板２１１へ入射する方向と直交する平
面に対しランダムライトガイド２１０の入射端面２１１
が角度θだけ傾斜する配置とした場合、射出端面２１２
の光量分布はランダムライトガイドの性質により均一と
考えられるため、ランダムライトガイド２１０射出端に
は必要角度まで完全拡散面と同等な完全拡散性をもつ２
次光源が形成できる。この時、必要角度以上の余分な部
分の光量が小さくできるので、光学系全体のエネルギー
損失もより低減できる。That is, for example, as shown in FIG. 6, when the laser light flux is incident on the incident end face 211 of the random light guide 210 via the diffusion plate 213 as the diffusion means,
The incident end face 211 of the random light guide 210 is arranged with respect to the plane orthogonal to the direction in which the laser light flux enters the diffusion plate 211.
Is inclined by an angle θ, the exit end face 212
Since the light intensity distribution of the random light guide is considered to be uniform due to the nature of the random light guide, the exit end of the random light guide 210 has a perfect diffusivity equivalent to a perfect diffusing surface up to the required angle.
A secondary light source can be formed. At this time, the amount of light in the extra portion of the required angle or more can be reduced, so that the energy loss of the entire optical system can be reduced.
【００２０】なお、本発明の照明光学系は、前述したよ
うな、入射側からある角度をもって一方向から平行光束
を入射すると、射出側での角度は多少拡散されるがほぼ
維持されその方向はまったくランダムに分布するという
ランダムライトガイドの光学的性質が利用されている
が、ここで、入射側レーザー光の径をランダムライトガ
イド入射端面２１１の径に合わせることにより、効率の
高いエネルギー伝送が行える。In the illumination optical system of the present invention, when a parallel light beam is incident from one direction at a certain angle from the incident side as described above, the angle at the exit side is slightly diffused but is maintained substantially. The optical property of a random light guide, which is distributed at random, is used, but by adjusting the diameter of the laser light on the incident side to the diameter of the incident end face 211 of the random light guide, highly efficient energy transmission can be performed. .
【００２１】このようにして形成した２次光源を利用し
て、コンデンサレンズ２１４により、照度分布の均一な
かつ、照明ＮＡも照野内で一定な所望の照野が形成され
ることになる。以上のように、本発明によれば、引き回
しの自由度が高く、簡便な構成でありながら、均一な照
度分布で、且つ照明ＮＡも照野内で一定な照野が得られ
ることになる。By using the secondary light source thus formed, the condenser lens 214 forms a desired illumination field having a uniform illuminance distribution and a constant illumination NA within the illumination field. As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a uniform illumination field with a uniform illuminance distribution and a uniform illumination NA in the illumination field, while having a high degree of freedom in routing and a simple configuration.
【００２２】また、請求項２に記載の本発明は、平行光
束が拡散手段を入射する方向と直交する平面に対するラ
イトガイドの入射端面の傾斜角度θが、４°≦θ≦１０
°を満足するものである。傾斜角度θが４°未満である
場合、前記の、図９（ｂ）に示したように、傾斜不足で
図中実線で示した輝度の角度特性を補うような点線の輝
度の角度特性が入射側で得られず、ライトガイドの射出
端での輝度の角度特性は、図１１（ａ）のように最大入
射角度に向かって急激に低下し、必要角度まで一定の輝
度の角度特性は得られない。According to the present invention, the inclination angle θ of the incident end face of the light guide with respect to the plane orthogonal to the direction in which the parallel light flux enters the diffusing means is 4 ° ≦ θ ≦ 10.
It satisfies °. When the tilt angle θ is less than 4 °, as shown in FIG. 9B, the angle characteristic of the luminance of the dotted line which supplements the angle characteristic of the luminance shown by the solid line in the figure due to insufficient inclination is incident. The angle characteristic of the luminance at the exit end of the light guide sharply decreases toward the maximum incident angle as shown in FIG. 11A, and the angle characteristic of constant luminance is obtained up to the required angle. Absent.
【００２３】また、傾斜角度θが１０°を越えた場合に
は、傾斜過剰であり、必要角度までの範囲において輝度
が低下してしまう。例えばθを１２°とした場合を例に
図１１（ｂ）に示すが、輝度の角度特性は最大入射角度
θ0 付近がピークとなり、必要角度範囲内は輝度が非常
に低くなっている。従って、上記条件式を満足すれば、
ライトガイド射出端において、必要角度まで一定で且つ
高い輝度の角度特性が得られる。If the tilt angle θ exceeds 10 °, the tilt is excessive and the brightness is lowered in the range up to the required angle. For example, FIG. 11B shows the case where θ is 12 °, but the angular characteristic of the luminance has a peak near the maximum incident angle θ 0 , and the luminance is extremely low in the required angle range. Therefore, if the above conditional expression is satisfied,
At the exit end of the light guide, an angle characteristic with a high brightness that is constant up to the required angle can be obtained.
【００２４】[0024]
【実施例】以下、本発明を実施例をもって説明する。 （実施例１）まず、本発明の第１実施例として、投影露
光装置のＩＳＳ（イメージスリットセンサ）系アライメ
ント装置に用いられる照明光学系を図１に示す。この露
光装置において、エキシマレーザ光源１００から出力さ
れた露光光は、ビームエキスパンダ１０１で適当な径の
平行光束に調整された後、フライアイインテグレータ１
１３、リレーレンズ１１４、ミラー１１５、コンデンサ
レンズ１１６からなるメイン照明系を介してレチクル１
１０に入射する。レチクル１１０を透過した露光光は、
投影レンズ１０９を透過してステージ上のウエハテーブ
ルに載置されたウエハ（不図示）に照射され、レチクル
１１０のパターンがウエハ面上に投影される。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. (Embodiment 1) First, as a first embodiment of the present invention, an illumination optical system used in an ISS (image slit sensor) alignment device of a projection exposure apparatus is shown in FIG. In this exposure apparatus, the exposure light output from the excimer laser light source 100 is adjusted by the beam expander 101 into a parallel light flux having an appropriate diameter, and then the fly-eye integrator 1 is used.
Reticle 1 via a main illumination system including a relay lens 114, a mirror lens 115, and a condenser lens 116.
It is incident on 10. The exposure light transmitted through the reticle 110 is
The wafer (not shown) placed on the wafer table on the stage is irradiated with the light through the projection lens 109, and the pattern of the reticle 110 is projected on the wafer surface.
【００２５】本実施例におけるレチクル１１０の位置座
標検出のためのアライメント装置は、露光用のエキシマ
レーザ光源１００を共用する構成とした。また、アライ
メント時には、光源１００側とメイン照明系との間に切
り換えミラー１０２を挿入し、光源からのレーザ光をア
ライメント装置の照明光学系へ導くものとした。照明光
学系は、拡散板１０４とランダムライトガイド１０５と
コンデンサレンズ１０６からなる。The alignment apparatus for detecting the position coordinates of the reticle 110 in this embodiment is configured to share the excimer laser light source 100 for exposure. Further, at the time of alignment, the switching mirror 102 is inserted between the light source 100 side and the main illumination system to guide the laser light from the light source to the illumination optical system of the alignment apparatus. The illumination optical system includes a diffusion plate 104, a random light guide 105, and a condenser lens 106.
【００２６】上記の如き構成において、エキシマレーザ
光源１００からのレーザ光は、ビームエキスパンダ１０
１を介して切り換えミラー１０２で反射され、アライメ
ント用照明光学系へ入射する。照明光学系において、ビ
ームエキスパンダ１０３によって適当なビーム径に調整
された平行光束は、拡散板１０４によって拡散された後
ランダムライトガイド１０５へ入射する。このとき、平
行光束の拡散板１０４への入射方向と直交する平面に対
するランダムライトガイド１０５の入射端面が所定の傾
斜角度θとなるように配置されている。ここでは、平行
光束は拡散板１０４面に対して直交方向に入射させ、ラ
ンダムライトガイド１０５の入射端面を拡散板１０４面
に対してθ＝約７°傾けて配置した。In the above structure, the laser light from the excimer laser light source 100 is emitted from the beam expander 10.
The light is reflected by the switching mirror 102 via 1 and enters the alignment illumination optical system. In the illumination optical system, the parallel light flux adjusted to have an appropriate beam diameter by the beam expander 103 is diffused by the diffuser plate 104 and then enters the random light guide 105. At this time, the incident end face of the random light guide 105 with respect to the plane orthogonal to the incident direction of the parallel light flux on the diffusion plate 104 is arranged at a predetermined inclination angle θ. Here, the parallel light flux is made to enter in the direction orthogonal to the surface of the diffuser plate 104, and the incident end surface of the random light guide 105 is arranged so as to be inclined by θ = about 7 ° with respect to the surface of the diffuser plate 104.
【００２７】これによって、ランダムライトガイド１０
５の入射端では図１０（ａ）に示した輝度の角度特性と
なり、射出端では、図１０（ｃ）のように必要角度まで
一定の輝度の角度特性をもって射出される。ランダムラ
イトガイド１０５を射出した照明光は、２次光源となり
コンデンサレンズ１０６、ミラー１０８を介して均一な
照度分布で適当な照野をもってステージの内側からステ
ージ上のウエハ表面位置と同位置（投影レンズ１０９の
結像面）に設置された指標板１０８のマークＳＭを照明
する。As a result, the random light guide 10
At the incident end of No. 5, the luminance angle characteristic shown in FIG. 10A is obtained, and at the emission end, as shown in FIG. 10C, the light is emitted with a constant luminance angular characteristic up to the required angle. The illumination light emitted from the random light guide 105 serves as a secondary light source and has a uniform illuminance distribution through the condenser lens 106 and the mirror 108 with an appropriate illumination field from the inside of the stage to the same position as the wafer surface position on the stage (projection lens). The mark SM of the index plate 108 installed on the image plane 109) is illuminated.
【００２８】本実施例において、マークＳＭは透光性ス
リットであり、このマークを下から照明することにより
スリットから照明光が発せられる構成となっている。指
標板１０８と両側テレセントリックの投影レンズ１０９
を挟んで共役な位置にあるレチクル１１０にレチクルマ
ークＲＭが設けられているが、このマークも透光性スリ
ットである。In the present embodiment, the mark SM is a translucent slit, and the illumination light is emitted from the slit by illuminating the mark from below. Index plate 108 and telecentric projection lens 109 on both sides
The reticle mark RM is provided on the reticle 110 at a conjugate position with the mark sandwiched therebetween, and this mark is also a light-transmitting slit.
【００２９】ここでは、ステージ上の指標板１０８に対
して投影レンズ１０９を介してレチクル１１０が光学的
に重なっているとき、マークＳＭからの光は投影レンズ
１０９を通ってレチクルマークＲＭを透過し、露光用の
メイン照明系を逆行し、切り換えミラー１１１（アライ
メント時にのみ光路中へ挿入される）で光路を偏向され
て検出光学系へ導かれ、検出器（フォトマル）１１２で
検出されるように設定されている。Here, when the reticle 110 is optically overlapped with the index plate 108 on the stage via the projection lens 109, the light from the mark SM passes through the projection lens 109 and passes through the reticle mark RM. , Reverses the main illumination system for exposure, the optical path is deflected by the switching mirror 111 (inserted into the optical path only during alignment), guided to the detection optical system, and detected by the detector (photomul) 112. Is set to.
【００３０】ステージの移動に伴う、レチクルマークＲ
ＭとマークＳＭとの相対的な移動によって、検出器１１
２で検出される光量は変化する（図１（ｂ））。検出光
量が最大になるよう、即ち、レチクルマークＲＭとマー
クＳＭとが投影レンズ１０９を介して重なるよう駆動系
を制御してステージを移動させ、検出光量が最大となる
位置でのステージ座標を干渉計等によって求めることが
できる。Reticle mark R as the stage moves
By the relative movement of M and the mark SM, the detector 11
The amount of light detected in 2 changes (FIG. 1 (b)). The drive system is controlled so that the detected light amount becomes maximum, that is, the reticle mark RM and the mark SM overlap via the projection lens 109, and the stage is moved to interfere with the stage coordinates at the position where the detected light amount becomes maximum. It can be calculated by a meter or the like.
【００３１】例えば、図１（ｃ）に示すように、レチク
ル１１０上のレチクル中心から予め定められた距離にレ
チクルマークＲＭを複数（ここでは３ケ所）設け、各レ
チクルマークＲＭについてステージ座標を計測すれば、
レチクル中心のステージ換算座標が得られる。なお、投
影レンズ１０９内の光束の広がりを露光時と同様にする
ため、照明光学系による照明ＮＡは、露光用のメイン照
明系のウエハ上に換算したものと同等にすることが精度
上望ましい。For example, as shown in FIG. 1C, a plurality of reticle marks RM (here, three places) are provided at a predetermined distance from the center of the reticle on the reticle 110, and the stage coordinates of each reticle mark RM are measured. if,
The stage-converted coordinates of the reticle center are obtained. In order to make the spread of the light flux in the projection lens 109 similar to that at the time of exposure, it is desirable in terms of accuracy that the illumination NA by the illumination optical system is equivalent to that converted on the wafer of the main illumination system for exposure.
【００３２】（実施例２）次に、本発明の第２実施例と
して、投影露光装置のＲＡ（レチクルアライメント）系
アライメント装置に用いられる照明光学系を図２に示
す。この露光光学系は実施例１と同様のものであり、エ
キシマレーザ光源１２０から出力された露光光は、ビー
ムエキスパンダ１２１で適当な径の平行光束に調整され
た後、フライアイインテグレータ１３４、リレーレンズ
１３５、ミラー１３６、コンデンサレンズ１３７からな
るメイン照明系を介してレチクル１３０に入射する。レ
チクル１３０を透過した露光光は、投影レンズ１２９を
透過してステージ上のウエハテーブルに載置されたウエ
ハ（不図示）に照射され、レチクル１３０のパターンが
ウエハ面上に投影される。(Embodiment 2) Next, as a second embodiment of the present invention, an illumination optical system used in an RA (reticle alignment) system alignment apparatus of a projection exposure apparatus is shown in FIG. This exposure optical system is the same as that of the first embodiment, and the exposure light output from the excimer laser light source 120 is adjusted by the beam expander 121 into a parallel light flux having an appropriate diameter, and then the fly-eye integrator 134 and the relay. The light enters the reticle 130 via a main illumination system including a lens 135, a mirror 136, and a condenser lens 137. The exposure light transmitted through the reticle 130 is transmitted through the projection lens 129 and is applied to a wafer (not shown) mounted on the wafer table on the stage, and the pattern of the reticle 130 is projected onto the wafer surface.
【００３３】本実施例におけるレチクル１３０の位置合
わせのためのアライメント装置は、露光用のエキシマレ
ーザ光源１２０を共用する構成とした。また、アライメ
ント時には、光源１２０側とメイン照明系との間に切り
換えミラー１２２を挿入し、光源からのレーザ光をアラ
イメント装置の照明光学系へ導くものとした。照明光学
系は、拡散板１２４とランダムライトガイド１２５とコ
ンデンサレンズ１２６からなる。The alignment apparatus for aligning the reticle 130 in this embodiment is configured to share the excimer laser light source 120 for exposure. Further, at the time of alignment, the switching mirror 122 is inserted between the light source 120 side and the main illumination system to guide the laser light from the light source to the illumination optical system of the alignment apparatus. The illumination optical system includes a diffusion plate 124, a random light guide 125, and a condenser lens 126.
【００３４】上記の如き構成において、エキシマレーザ
光源１３０からのレーザ光は、ビームエキスパンダ１２
１を介して切り換えミラー１２２で反射され、アライメ
ント用照明光学系へ入射する。照明光学系において、ビ
ームエキスパンダ１２３によって適当なビーム径に調整
された平行光束は、拡散板１２４によって拡散された後
ランダムライトガイド１２５へ入射する。このとき、平
行光束の拡散板１２４への入射方向と直交する平面に対
するランダムライトガイド１２５の入射端面が所定の傾
斜角度θとなるように配置されている。ここでは、ここ
では、平行光束は拡散板１２４面に対して直交方向に入
射させ、ランダムライトガイド１２５の入射端面を拡散
板１２４面に対してθ＝約７°傾けて配置した。In the above structure, the laser light from the excimer laser light source 130 is emitted from the beam expander 12.
The light is reflected by the switching mirror 122 via 1 and enters the illumination optical system for alignment. In the illumination optical system, the parallel light flux adjusted to an appropriate beam diameter by the beam expander 123 is diffused by the diffuser plate 124 and then enters the random light guide 125. At this time, the incident end face of the random light guide 125 with respect to the plane orthogonal to the incident direction of the parallel light flux on the diffusion plate 124 is arranged at a predetermined inclination angle θ. Here, here, the parallel light flux is made to enter in the direction orthogonal to the surface of the diffuser plate 124, and the incident end surface of the random light guide 125 is arranged so as to be inclined by θ = about 7 ° with respect to the surface of the diffuser plate 124.
【００３５】これによって、ランダムライトガイド１２
５の入射端では図１０（ａ）に示した輝度の角度特性と
なり、射出端では、図１０（ｃ）のように必要角度まで
一定の輝度の角度特性をもって射出される。ランダムラ
イトガイド１２５を射出した照明光は、２次光源となり
コンデンサレンズ１２６、ミラー１２８を介して均一な
照度分布で適当な照野をもってステージの内側からステ
ージ上のウエハ表面位置と同位置（投影レンズ１２９の
結像面）に設置された指標板１２８を照明する。As a result, the random light guide 12
At the incident end of No. 5, the luminance angle characteristic shown in FIG. 10A is obtained, and at the emission end, as shown in FIG. 10C, the light is emitted with a constant luminance angular characteristic up to the required angle. The illumination light emitted from the random light guide 125 serves as a secondary light source through the condenser lens 126 and the mirror 128 with a uniform illuminance distribution and an appropriate illumination field from the inside of the stage to the same position as the wafer surface position on the stage (projection lens). The index plate 128 installed on the image plane 129) is illuminated.
【００３６】指標板１２８には透光性マークＳＭが形成
されており、このマークＳＭを下から照明することによ
りここから照明光が発せられる構成となっている。指標
板１２８と両側テレセントリックの投影レンズ１２９を
挟んで共役な位置にあるレチクル１３０には、図２
（ｂ）に示すような十字状の透光性レチクルマークＲＭ
が設けられている。A transparent mark SM is formed on the index plate 128, and the illumination light is emitted from here by illuminating the mark SM from below. The reticle 130 at the conjugate position with the index plate 128 and the telecentric projection lens 129 on both sides sandwiched between
Cross-shaped translucent reticle mark RM as shown in (b)
Is provided.
【００３７】ステージ上の指標板１２８に対してレチク
ル１３０が所定の位置にあるとき、マークＳＭからの光
は投影レンズ１３９を通ってレチクルマークＲＭを透過
した後、４５°ミラー１３１で光路を偏向され、対物レ
ンズ１３２を介してＣＣＤカメラ１３３へ入射し、ここ
でレチクルマークＲＭの画像検出が行われる。この画像
検出結果に基づいて、対物レンズ１３２の光軸中心にレ
チクルマークＲＭ中心が来るようにアライメントするこ
とができる。When the reticle 130 is at a predetermined position with respect to the index plate 128 on the stage, the light from the mark SM passes through the reticle mark RM through the projection lens 139, and then the optical path is deflected by the 45 ° mirror 131. Then, the light is incident on the CCD camera 133 through the objective lens 132, and the image of the reticle mark RM is detected here. Based on this image detection result, it is possible to perform alignment so that the center of the reticle mark RM comes to the center of the optical axis of the objective lens 132.
【００３８】また、例えば、図２（ｃ）に示すように、
本露光装置に用いる各レチクルについて、レチクル中心
に対するレチクルマークを規格化しておけば、レチクル
が交換されても、常にレチクル中心が同じ位置に来るよ
うをレチクル位置を再現できる。なお、レチクルマーク
ＲＭの像がＣＣＤカメラ１３３の受光面上に結像する際
に良好な像強度分布を形成するためには、照明系による
照明ＮＡが適当量必要である。Further, for example, as shown in FIG.
If the reticle mark for the reticle center is standardized for each reticle used in this exposure apparatus, the reticle position can be reproduced so that the reticle center is always at the same position even if the reticle is exchanged. Incidentally, in order to form a good image intensity distribution when the image of the reticle mark RM is formed on the light receiving surface of the CCD camera 133, an appropriate amount of illumination NA by the illumination system is required.
【００３９】上記第１及び第２実施例の照明光学系で
は、平行光束は拡散板面に対して直交方向に入射させ、
ランダムライトガイドの入射端面を拡散板面に対して所
定角度θ傾けて配置したが、平行光束の拡散板への入射
方向と直交する平面に対するランダムライトガイドの入
射端面を所定の傾斜角度θとする他の方法を用いた照明
光学系の変形例を図３に示す。In the illumination optical systems of the first and second embodiments, the parallel light flux is made to enter in the direction orthogonal to the diffuser plate surface,
The incident end face of the random light guide is arranged at a predetermined angle θ with respect to the diffuser plate surface, but the incident end face of the random light guide with respect to the plane orthogonal to the incident direction of the parallel light flux to the diffuser plate has a predetermined inclination angle θ. A modification of the illumination optical system using another method is shown in FIG.
【００４０】これは、拡散板１４２面に対してランダム
ライトガイド１４３の入射端面１４４を平行に配置し、
光源から送光された平行光束をケプラー型リレーレンズ
系１４１を介し、拡散板１４２面に直交する方向に対し
て所定角度傾斜させて入射させるものである。ここで
は、ケプラー型リレーレンズ系１４１の光源側のレンズ
を拡散板１４２側レンズに対して偏心させることによっ
て、ケプラー型リレーレンズ系１４１からの光束の射出
方向を該リレーレンズ系への入射方向に対して傾斜させ
る構成としている。This is because the incident end surface 144 of the random light guide 143 is arranged parallel to the surface of the diffusion plate 142,
The parallel light flux sent from the light source is incident through the Kepler-type relay lens system 141 at a predetermined angle with respect to the direction orthogonal to the surface of the diffusion plate 142. Here, the lens on the light source side of the Keplerian relay lens system 141 is decentered with respect to the lens on the diffuser plate 142 side so that the emission direction of the light flux from the Kepler type relay lens system 141 becomes the incident direction to the relay lens system. It is configured to be inclined with respect to.
【００４１】従って、ランダムライトガイド１４３の射
出端１４５において、照明光は図１０（ｃ）に示すよう
な輝度の角度特性を持ち、コンデンサレンズ１４６を通
って、均一な照度分布を持つ適当な照野を形成する。Therefore, at the exit end 145 of the random light guide 143, the illumination light has an angle characteristic of brightness as shown in FIG. 10C, passes through the condenser lens 146, and is appropriately illuminated with a uniform illuminance distribution. Form a field.
【００４２】また、図４に照明光学系の他の変形例を示
す。これは、図４と同様に拡散板１５２面に対してラン
ダムライトガイド１５３の入射端面１５４を平行に配置
したものであるが、図４の光源側の偏心レンズの代わり
にフライアイレンズ１５０（４個構成）を用いて、レン
ズ１５１からの光束の射出方向をフライアイレンズ１５
０への入射方向に対して傾斜させる、即ち拡散板１５４
への入射方向を拡散板１５４と直交する方向に対して傾
斜させた光学系である。この照明光学系は、ランダムラ
イトガイド１５４入射端面１５４での光量ムラを均一化
させる効果があるため、入射するレーザー光の照度ムラ
に対してより強い系といえる。FIG. 4 shows another modification of the illumination optical system. This is the one in which the incident end surface 154 of the random light guide 153 is arranged in parallel to the surface of the diffuser plate 152 as in FIG. 4, but instead of the decentering lens on the light source side in FIG. (The individual configuration) is used to determine the emission direction of the light flux from the lens 151.
Tilted with respect to the incident direction to 0, that is, the diffusion plate 154
Is an optical system in which the direction of incidence on is inclined with respect to the direction orthogonal to the diffusion plate 154. Since this illumination optical system has the effect of making the light amount unevenness on the incident end face 154 of the random light guide 154 uniform, it can be said that it is a system stronger against the unevenness of illuminance of the incident laser light.
【００４３】なお、以上のような照明光学系にて形成さ
れた照野においては、拡散板の拡散効果およびランダム
ライトガイドによる角度の拡散効果、さらにランダムラ
イトガイドの光ファイバ配列がランダムなことによる入
射側の位置関係が保存されない、ことの相乗効果にてス
ペックルや干渉縞といった問題は、特にコヒーレンシー
のあまりよくないエキシマレーザーなどでは問題になら
ないことが見出された。In the illumination field formed by the illumination optical system as described above, the diffusion effect of the diffuser plate and the angle diffusion effect of the random light guide, and the optical fiber arrangement of the random light guide are random. It was found that the problems such as speckles and interference fringes are not a problem particularly with an excimer laser with poor coherency due to the synergistic effect that the positional relationship on the incident side is not preserved.
【００４４】次に、参考として主にランダムライトガイ
ド１６３の角度拡散効果のみから所望の照野を得ようと
した照明光学系を図５に示す。ここでは入射側にフライ
アイレンズ１６１を一つの拡散手段として用いている
が、上記の実施例のように拡散板による角度特性の広が
りがないため、図１０（ｃ）に示すような必要角度まで
の一定な輝度の角度特性は得られず、照野の照明ムラに
関して多少劣る。このような照明光学系は、一定な輝度
の角度特性の必要ない場合に用いることができる。この
場合、フライアイレンズ１６１系は単なるリレーレンズ
系でもよい。Next, FIG. 5 shows an illumination optical system for the purpose of obtaining a desired illumination field mainly from the angle diffusion effect of the random light guide 163 as a reference. Here, the fly-eye lens 161 is used as one diffusing means on the incident side, but since there is no spread of the angular characteristics due to the diffusing plate as in the above embodiment, the necessary angle up to the required angle as shown in FIG. The angle characteristic of constant brightness of is not obtained, and the illumination unevenness of the illumination field is slightly inferior. Such an illumination optical system can be used when the angular characteristic of constant brightness is not required. In this case, the fly-eye lens 161 system may be a simple relay lens system.
【００４５】なお、上記実施例では、拡散手段として拡
散板を用いたが、本発明はこれに限られるものではな
く、例えば位相型グレーティングやディフュザー等、拡
散効果を有するものであれば使用可能である。また、上
記実施例では、投影露光装置のアライメント装置用の照
明光学系について説明したが、本発明による照明光学系
は、それ以外の光学系、特に、エキシマレーザのような
照明ＮＡ、角度のない光源を用いた送光自由度の必要な
光学系などに使用できる。Although the diffuser plate is used as the diffusing means in the above embodiment, the present invention is not limited to this, and any diffuser having a diffusing effect such as a phase grating or a diffuser can be used. is there. Further, although the illumination optical system for the alignment device of the projection exposure apparatus has been described in the above embodiment, the illumination optical system according to the present invention has other optical systems, in particular, an illumination NA such as an excimer laser and no angle. It can be used in an optical system using a light source and requiring a degree of freedom in light transmission.
【００４６】[0046]
【発明の効果】本発明の照明光学系によれば、エキシマ
レーザーのような指向性の高い平行光束であるレーザ光
源を用いた場合でも、送光自由度が高く、簡便な構成で
ありながら照度ムラがなく、且つ照明ＮＡも照野内で一
定な照野が得られるという効果がある。According to the illumination optical system of the present invention, even when a laser light source such as an excimer laser, which is a parallel light flux having a high directivity, is used, the degree of freedom in light transmission is high and the illuminance is high even though the structure is simple. There is an effect that there is no unevenness and the illumination NA is constant within the illumination field.
【００４７】また、平行光束が拡散手段を入射する方向
と直交する平面に対するライトガイドの入射端面の傾斜
角度θを特定の範囲内に設定することによって、常に、
ライトガイド射出端に必要角度まで一定の輝度を得るこ
とが可能となる。Further, by setting the inclination angle θ of the incident end face of the light guide with respect to the plane orthogonal to the direction in which the parallel light flux enters the diffusing means within a specific range,
It is possible to obtain a constant brightness up to the required angle at the exit end of the light guide.
【図１】本発明の第１実施例による照明光学系をアライ
メント光学系に用いたＩＳＳ系投影露光装置の概略構成
図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an ISS projection exposure apparatus using an illumination optical system as an alignment optical system according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２実施例による照明光学系をアライ
メント光学系に用いたＲＡ系投影露光装置の概略構成図
である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an RA projection exposure apparatus using an illumination optical system according to a second embodiment of the present invention as an alignment optical system.
【図３】実施例１、２に示した照明光学系の変形例を示
す概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a modified example of the illumination optical system shown in Examples 1 and 2.
【図４】実施例１、２に示した照明光学系の他の変形例
を示す概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing another modification of the illumination optical system shown in Examples 1 and 2.
【図５】本発明の一部を応用した照明光学系の概略構成
図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an illumination optical system to which a part of the present invention is applied.
【図６】本発明の作用の説明に用いた照明光学系の概略
構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an illumination optical system used to describe the operation of the present invention.
【図７】ライトガイド（整列した光ファイバの束からな
る）の光学特性を示す説明図で、（ａ）光路図、（ｂ）
はライトガイド射出光の輝度の角度特性を示す線図であ
る。7A and 7B are explanatory diagrams showing optical characteristics of a light guide (consisting of aligned optical fiber bundles), (a) optical path diagram, (b).
FIG. 6 is a diagram showing the angle characteristic of the brightness of light emitted from a light guide.
【図８】ランダムライトガイドの光学特性を示す説明図
で、（ａ）光路図、（ｂ）はライトガイド射出光の輝度
の角度特性を示す線図である。8A and 8B are explanatory diagrams showing optical characteristics of a random light guide, in which FIG. 8A is an optical path diagram and FIG. 8B is a diagram showing angular characteristics of luminance of light emitted from the light guide.
【図９】ランダムライトガイドの入射面を完全拡散面と
した場合の光学特性を示す説明図で、（ａ）は光路図、
（ｂ）はライトガイド射出光の輝度の角度特性を示す線
図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing optical characteristics when the incident surface of the random light guide is a perfect diffusing surface, (a) is an optical path diagram,
(B) is a diagram showing the angular characteristic of the brightness of the light emitted from the light guide.
【図１０】本発明の作用を説明するための線図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the operation of the present invention.
【図１１】本発明の作用を説明するための線図で、
（ａ）は傾斜角度θが４°未満の場合のライトガイド射
出光の輝度の角度特性、（ｂ）傾斜角度θが１２°の場
合のライトガイド射出光の輝度の角度特性を示すもので
ある。FIG. 11 is a diagram for explaining the operation of the present invention,
(A) shows the angular characteristic of the brightness of the light guide emitted light when the inclination angle θ is less than 4 °, and (b) shows the angular characteristic of the brightness of the light guide emission light when the inclination angle θ is 12 °. .
【図１２】従来技術による照明光学系を示す概略構成図
である。FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing an illumination optical system according to a conventional technique.
【図１３】従来技術の照明光学系にエキシマレーザ光源
を用いた場合の概略構成図である。FIG. 13 is a schematic configuration diagram when an excimer laser light source is used in a conventional illumination optical system.
【図１４】フライアイレンズを用いた照明光学系を示す
概略構成図である。FIG. 14 is a schematic configuration diagram showing an illumination optical system using a fly-eye lens.
【図１５】拡散板を用いた照明光学系を示す概略構成図
である。FIG. 15 is a schematic configuration diagram showing an illumination optical system using a diffusion plate.
１００，１２０：エキシマレーザ光源 １０１，１０３，１２１，１２３：ビームエキスパンダ １０２，１１１，１２２：切り換えミラー １０４，１２４，１４２，１５２，２１３：拡散板 １０５，１２５，１４３，１５３，１６３，２１０：ラ
ンダムライトガイド １０６，１２６，１４６，１５６，１６６，２１４：コ
ンデンサレンズ １０７，１２７：ミラー １０８，１２８：指標板 １０９，１２９：投影レンズ １１０，１３０：レチクル １１２：検出器 １３２：対物レンズ １３３：ＣＣＤカメラ ２２０：完全拡散面 ＳＭ：（指標板）マーク ＲＭ：レチクルマーク100, 120: Excimer laser light source 101, 103, 121, 123: Beam expander 102, 111, 122: Switching mirror 104, 124, 142, 152, 213: Diffusing plate 105, 125, 143, 153, 163, 210: Random light guide 106, 126, 146, 156, 166, 214: Condenser lens 107, 127: Mirror 108, 128: Index plate 109, 129: Projection lens 110, 130: Reticle 112: Detector 132: Objective lens 133: CCD Camera 220: Perfect diffusion surface SM: (Index plate) mark RM: Reticle mark
Claims (2)
と、該平行光束供給手段からの平行光束を被照明物体側
へ導くライトガイドを有する照明光学系において、 前記平行光束供給手段と前記ライトガイドの入射端との
間に、前記平行光束を拡散させる拡散手段を設け、 前記平行光束が前記拡散手段を入射する方向と直交する
平面に対し前記ライトガイドの入射端面が所定の角度傾
斜するように配置されることを特徴とする照明光学系。1. An illumination optical system having a parallel light flux supply means for supplying a parallel light flux and a light guide for guiding the parallel light flux from the parallel light flux supply means to an illuminated object side, wherein the parallel light flux supply means and the light guide are provided. And a diffusing means for diffusing the parallel light flux, so that the incident end surface of the light guide is inclined at a predetermined angle with respect to a plane orthogonal to the direction in which the parallel light flux enters the diffusing means. An illumination optical system characterized by being arranged.
方向と直交する平面に対する前記ライトガイドの入射端
面の傾斜角度をθとしたとき、以下の範囲を満足するこ
とを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。 ４°≦θ≦１０°2. The following range is satisfied when the inclination angle of the incident end face of the light guide with respect to a plane orthogonal to the direction in which the parallel light flux enters the diffusing means is θ. The illumination optical system described in. 4 ° ≦ θ ≦ 10 °
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13239594A JP3584277B2 (en) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | Illumination optical system, alignment optical system, and projection exposure apparatus |
| US08/446,346 US5552892A (en) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same |
| KR1019950012743A KR950034479A (en) | 1994-05-24 | 1995-05-22 | Illumination optical system |
| US08/620,683 US5797674A (en) | 1994-05-24 | 1996-03-19 | Illumination optical system, alignment apparatus, and projection exposure apparatus using the same |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH07321022A true JPH07321022A (en) | 1995-12-08 |
| JP3584277B2 JP3584277B2 (en) | 2004-11-04 |
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ID=15080394
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| JP13239594A Expired - Lifetime JP3584277B2 (en) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | Illumination optical system, alignment optical system, and projection exposure apparatus |
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1994
- 1994-05-24 JP JP13239594A patent/JP3584277B2/en not_active Expired - Lifetime
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