JPH07302420A - Structure of wire bonding pad forming surface of floating magnetic head - Google Patents

Structure of wire bonding pad forming surface of floating magnetic head

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JPH07302420A
JPH07302420A JP6119596A JP11959694A JPH07302420A JP H07302420 A JPH07302420 A JP H07302420A JP 6119596 A JP6119596 A JP 6119596A JP 11959694 A JP11959694 A JP 11959694A JP H07302420 A JPH07302420 A JP H07302420A
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JP
Japan
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wire bonding
magnetic head
pad
adhesive
rail
Prior art date
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JP6119596A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Shoji
司 茂 庄
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Yamaha Corp
Original Assignee
Yamaha Corp
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Abstract

PURPOSE:To prevent an adhesive from flowing to rail surfaces by exposing the surfaces of plural wire bonding pads from a protective film in the central part toward the transverse direction of the end face of a slider substrate and forming these surfaces approximately flush with this protective film. CONSTITUTION:The surfaces 22a to 25a of the wire bonding pads 22 to 25 are exposed from the protective film 20 at the end face 12b of the slider substrate 12 and are composed in this state on the same plane as the surface 20a of the film 20. These pads 22 to 25 are connected by coil conductors 26 to 29 of thin-film magnetic head elements 16, 17. The one element judged to have good characteristics as a result of inspection is selected. Conductors for transmitting recording and reproducing signals to and from external circuits are bonded to the pads 22, 24 or 23, 25 connected to the selected element 16 or 17. At this time, the respective pads do not bulge and, therefore, the smaller amt. of the adhesive for increasing the joining strength is necessitated and the adhesive hardly flows out to the peripheries. As a result, the flowing-in of the adhesive to the rail 14 surfaces is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、浮上型磁気ヘッドの
ワイヤボンディングパッド形成面の構造に関し、磁気ヘ
ッド素子と外部導線とをワイヤボンディングパッドでワ
イヤボンディングして接続するものにおいて、ワイヤボ
ンディングの接合強度を高めるためにボンディング箇所
に接着剤を塗布する場合に、接着剤がレール面に流れ出
して製品が不良となるのを防止したものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a wire bonding pad forming surface of a floating magnetic head, in which a magnetic head element and an external conductor wire are connected by wire bonding with a wire bonding pad. This is to prevent the adhesive from flowing out to the rail surface and causing the product to be defective when the adhesive is applied to the bonding portion to increase the strength.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハードディスク装置用磁気ヘッドとして
用いられている従来の薄膜磁気ヘッドの一例を図2に斜
め下面から見た状態で示す。この薄膜磁気ヘッド10は
いわゆるスライダと呼ばれる浮上型磁気ヘッドを構成す
るもので、そのスライダ基板12の下面12aはレール
14が形成されて、レール面を構成している。このレー
ル14の端部位置に相当するスライダ基板12の端面1
2bには、左右両側にインダクティブ型等の薄膜磁気ヘ
ッド素子16,17が薄膜形成技術を利用して構成され
ている。薄膜磁気ヘッド素子16,17は、スライダ基
板端面12b全体にアルミナ等を成膜して構成された保
護膜20によって全体が被覆され、ポール先端部16
a,17aだけがレール面12aに露出している。
2. Description of the Related Art An example of a conventional thin film magnetic head used as a magnetic head for a hard disk device is shown in FIG. The thin-film magnetic head 10 constitutes a so-called flying type magnetic head called a slider, and a rail 14 is formed on a lower surface 12a of the slider substrate 12 to form a rail surface. The end surface 1 of the slider substrate 12 corresponding to the end position of the rail 14
The thin film magnetic head elements 16 and 17 of the inductive type or the like are formed on the left and right sides of 2b using a thin film forming technique. The thin film magnetic head elements 16 and 17 are entirely covered with a protective film 20 formed by depositing alumina or the like on the entire slider substrate end surface 12b, and the pole tip portion 16 is provided.
Only a and 17a are exposed on the rail surface 12a.

【0003】スライダ基板端面12bの幅方向中央部に
は、ワイヤボンディングパッド22,23,24,25
がその表面を保護膜20から露出させた状態で構成され
ている。ワイヤボンディングパッド22,23,24,
25は、形成された2個の薄膜磁気ヘッド素子16,1
7のコイル導線に対しリード線26,27,28,29
によって接続されている。検査の結果特性が良好と判断
された一方の薄膜磁気ヘッド素子または任意に選択され
た一方の薄膜磁気ヘッド素子16(または17)と接続
されたワイヤボンディングパッド22,24(または、
23,25)にはワイヤ(導線)がそれぞれボンディン
グされて、このワイヤを通して記録信号、再生信号が外
部回路と薄膜磁気ヘッド素子16(または17)との間
で伝送されて、ディスクに対する情報の記録、再生が行
なわれる。
Wire bonding pads 22, 23, 24, 25 are provided at the center of the slider substrate end face 12b in the width direction.
Is formed with its surface exposed from the protective film 20. Wire bonding pads 22, 23, 24,
25 is the formed two thin film magnetic head elements 16 and 1
Lead wires 26, 27, 28, 29 with respect to the coil conductor wire of 7.
Connected by. As a result of the inspection, one thin film magnetic head element whose characteristics are determined to be good or one thin film magnetic head element 16 (or 17) arbitrarily selected is connected to the wire bonding pads 22, 24 (or,
Wires (conductor wires) are respectively bonded to the wires 23, 25), and the recording signal and the reproducing signal are transmitted between the external circuit and the thin film magnetic head element 16 (or 17) through the wires to record the information on the disk. , Playback is performed.

【0004】図2の薄膜磁気ヘッド10のワイヤボンデ
ィングパッド22,24の作製工程を図3を参照して説
明する。尚、ワイヤボンディングパッド23,25の作
製工程も同時に進むが、ここではパッド22,24側の
み示す。
A manufacturing process of the wire bonding pads 22 and 24 of the thin film magnetic head 10 of FIG. 2 will be described with reference to FIG. Although the manufacturing steps of the wire bonding pads 23 and 25 proceed at the same time, only the pads 22 and 24 are shown here.

【0005】(1) パッドリード部形成 スライダ基板端面12bの幅方向中央部のワイヤボンデ
ィングパッド形成箇所には、予め下地金属膜30,32
が成膜されている。この下地金属膜30,32はコイル
用下地と同時に同素材で作られる。そして、薄膜磁気ヘ
ッド素子16,17のコイル導体層およびコア層等の成
膜と同時に同素材(Cu、パーマロイ等)でパッド部2
2′,24′およびリード線26,28が成膜される。
(1) Pad lead portion formation Underlayer metal films 30 and 32 are previously formed at the wire bonding pad formation location in the widthwise central portion of the slider substrate end surface 12b.
Is deposited. The base metal films 30 and 32 are made of the same material as the coil base. Then, simultaneously with the film formation of the coil conductor layers and the core layers of the thin film magnetic head elements 16 and 17, the pad portion 2 is made of the same material (Cu, permalloy, etc.).
2 ', 24' and lead wires 26, 28 are deposited.

【0006】(2) パッド部嵩上げ 上記(1)の工程だけでは、パッド部22′,24′は
薄膜磁気ヘッド素子16,17よりも低い位置にあり、
その上に保護膜20をそのまま成膜するとパッド部2
2′,24′が外部に露出しなくなるので、パッド部2
2′,24′をCuメッキなどで嵩上げする。この嵩上
げ34,36の高さは、図4に示すように、薄膜磁気ヘ
ッド素子16,17の最高部よりも高く形成して、保護
膜20形成後のパッド出し研磨(下記工程(4))の際
に薄膜磁気ヘッド素子16,17が保護膜20から露出
しないようにする。
(2) Pad section padding Only in the above step (1), the pad sections 22 'and 24' are located lower than the thin film magnetic head elements 16 and 17,
If the protective film 20 is directly formed on it, the pad portion 2 is formed.
Since the 2'and 24 'are not exposed to the outside, the pad portion 2
2'and 24 'are raised by Cu plating or the like. As shown in FIG. 4, the heights of the raised pads 34 and 36 are formed higher than the highest portions of the thin film magnetic head elements 16 and 17, and padding polishing is performed after the protection film 20 is formed (step (4) below). At this time, the thin film magnetic head elements 16 and 17 are prevented from being exposed from the protective film 20.

【0007】(3) 保護膜形成 嵩上げされたパッド部22′,24′上に保護膜20を
スパッタ等の方法で形成する。
(3) Protective film formation The protective film 20 is formed on the raised pad portions 22 ', 24' by a method such as sputtering.

【0008】(4) パッド出し研磨 保護膜20の表面を研磨し、パッド部22′,24′を
露出させる。
(4) Pad Out Polishing The surface of the protective film 20 is polished to expose the pad portions 22 'and 24'.

【0009】(5) ワイヤボンディング圧着材形成 パッド部22′,24′にNi−Auなどのワイヤボン
ディング圧着材38,40をメッキ等の方法で形成して
(Ni,Auの順で形成)、ワイヤボンディングパッド
22,24が完成する。
(5) Wire Bonding Crimping Material Forming The wire bonding crimping material 38, 40 such as Ni-Au is formed on the pad portions 22 ', 24' by a method such as plating (Ni and Au are formed in this order). The wire bonding pads 22 and 24 are completed.

【0010】このようにして作成されたワイヤボンディ
ングパッド22,24にワイヤをボンディングする状態
を図5に示す。図5において、(a)はワイヤボンディ
ングパッド22,24にワイヤ42,44を超音波ボン
ダー等でボンディングした状態である。通常、ワイヤボ
ンディングの接合強度はそのままでは弱いので、(b)
のようにボンディング箇所に保護接着剤46を塗布して
固め、その後の組立て作業等におけるワイヤ引き回し時
の剥離を防止する。
FIG. 5 shows a state in which a wire is bonded to the wire bonding pads 22 and 24 thus created. In FIG. 5, (a) shows a state in which the wires 42, 44 are bonded to the wire bonding pads 22, 24 with an ultrasonic bonder or the like. Usually, the bonding strength of wire bonding is weak as it is, so (b)
As described above, the protective adhesive 46 is applied to the bonding portion and hardened to prevent peeling at the time of wire routing in the subsequent assembly work and the like.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】浮上型磁気ヘッドは、
スライダの小型化とともに膜面(スライダ基板端面)1
2bの面積が減少する傾向にあり、保護接着剤46の塗
布量のばらつきにより、図6に示すように、保護接着剤
46がレール面12aに流れ込むことがあった。レール
面12aは鏡面に仕上げられ、記録媒体(ディスク)と
の対向面として非常に大切な部分であり、わずかの汚れ
に対しても不良の原因となるため、保護接着剤46がレ
ール面12aに流れ出した製品は不良となっていた。
The floating magnetic head is
Along with the miniaturization of the slider, the film surface (slider substrate end surface) 1
The area of 2b tends to decrease, and the protective adhesive 46 may flow into the rail surface 12a due to variations in the amount of the protective adhesive 46 applied, as shown in FIG. The rail surface 12a is mirror-finished and is a very important part as a surface facing the recording medium (disk), and even a small amount of dirt causes a defect. Therefore, the protective adhesive 46 is applied to the rail surface 12a. The product that flowed out was defective.

【0012】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、ワイヤボンディングの接合強度を高める
ための接着剤がレール面に流れ込むのを防止した浮上型
磁気ヘッドのワイヤボンディングパッド形成面の構造を
提供しようとするものである。
The present invention solves the above problems in the prior art and prevents the adhesive for increasing the bonding strength of wire bonding from flowing into the rail surface. It is intended to provide structure.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
スライダ基板の下面にレールが形成され、このレールの
端部位置に相当するスライダ基板の端面に磁気ヘッド素
子が形成され、当該端面には前記磁気ヘッド素子を被覆
する被覆膜が成膜され、かつ当該端面には前記磁気ヘッ
ド素子に導通するボンディングパッドが前記被覆膜から
露出して形成されてなり、前記ボンディングパッドには
導線がボンディングされ、かつこのボンディングされた
部分に接着剤が塗布される浮上型磁気ヘッドにおいて、
前記ワイヤボンディングパッドの表面が、前記被覆膜の
表面と略々同一の高さかまたは当該被覆膜の表面よりも
低い位置に形成されてなるものである。
The invention according to claim 1 is
A rail is formed on the lower surface of the slider substrate, a magnetic head element is formed on the end surface of the slider substrate corresponding to the end position of the rail, and a coating film that covers the magnetic head element is formed on the end surface. Further, a bonding pad electrically connected to the magnetic head element is formed on the end face so as to be exposed from the coating film, a conductive wire is bonded to the bonding pad, and an adhesive is applied to the bonded portion. In a floating magnetic head
The surface of the wire bonding pad is formed at substantially the same height as the surface of the coating film or at a position lower than the surface of the coating film.

【0014】請求項2記載の発明は、スライダ基板の下
面にレールが形成され、このレールの端部位置に相当す
るスライダ基板の端面に磁気ヘッド素子が形成され、当
該端面には前記磁気ヘッド素子を被覆する被覆膜が成膜
され、かつ当該端面には前記磁気ヘッド素子に導通する
ボンディングパッドが前記被覆膜から露出して形成され
てなり、前記ボンディングパッドには導線がボンディン
グされ、かつこのボンディングされた部分に接着剤が塗
布される浮上型磁気ヘッドにおいて、前記ワイヤボンデ
ィングパッドが、導電材料で構成されたパッド本体の上
に別の導電材料で構成されるワイヤボンディング圧着材
を積層して構成され、当該ワイヤボンディング圧着材は
前記被覆膜の表面よりも低い位置から形成されてなるも
のである。
According to a second aspect of the present invention, a rail is formed on the lower surface of the slider substrate, a magnetic head element is formed on the end surface of the slider substrate corresponding to the end position of the rail, and the magnetic head element is formed on the end surface. A coating film for coating the coating film is formed, and a bonding pad that is electrically connected to the magnetic head element is formed on the end face so as to be exposed from the coating film, and a conductive wire is bonded to the bonding pad, and In the floating magnetic head in which an adhesive is applied to the bonded portion, the wire bonding pad is formed by laminating a wire bonding crimping material made of another conductive material on a pad body made of a conductive material. The wire bonding crimping material is formed at a position lower than the surface of the coating film.

【0015】請求項3記載の発明は、スライダ基板の下
面にレールが形成され、このレールの端部位置に相当す
るスライダ基板の端面に磁気ヘッド素子が形成され、当
該端面には前記磁気ヘッド素子を被覆する被覆膜が成膜
され、かつ当該端面には前記磁気ヘッド素子に導通する
ボンディングパッドが前記被覆膜から露出して形成され
てなり、前記ボンディングパッドには導線がボンディン
グされ、かつこのボンディングされた部分に接着剤が塗
布される浮上型磁気ヘッドにおいて、前記ワイヤボンデ
ィングパッドの露出位置から前記レールが形成されたス
ライダ基板下面に至る途中の前記被覆膜面に障壁あるい
は溝が形成されてなるものである。
According to a third aspect of the present invention, a rail is formed on the lower surface of the slider substrate, a magnetic head element is formed on the end surface of the slider substrate corresponding to the end position of the rail, and the magnetic head element is formed on the end surface. A coating film for coating the coating film is formed, and a bonding pad that is electrically connected to the magnetic head element is formed on the end face so as to be exposed from the coating film, and a conductive wire is bonded to the bonding pad, and In the floating magnetic head in which an adhesive is applied to the bonded portion, a barrier or groove is formed on the coating film surface on the way from the exposed position of the wire bonding pad to the lower surface of the slider substrate on which the rail is formed. It has been done.

【0016】[0016]

【作用】前記図6に示す従来の浮上型磁気ヘッド10に
おいて、保護接着剤46がレール面12aに流れ込みや
すいのは、保護膜20の表面に対してワイヤボンディン
グパッド22,24の高さが高いことと、ワイヤボンデ
ィングパッド22,24からレール面12aに至る部分
に保護用接着剤46がレール面12aに流れ込むのを阻
止するものがないことが原因しているものと思われる。
すなわち、ワイヤボンディングパッド22,24の高さ
が高いと、ボンディング箇所全体を覆うのに必要な保護
用接着剤46の量が増え、しかも全体に出張るため、接
着剤が周辺に流れ出しやすくなる。しかも、周辺に流れ
出した接着剤をせき止めるものもないので、そのままレ
ール面12aに流れ込んでしまう。
In the conventional floating magnetic head 10 shown in FIG. 6, the protective adhesive 46 easily flows into the rail surface 12a because the wire bonding pads 22 and 24 are higher than the surface of the protective film 20. It is believed that this is because there is nothing that prevents the protective adhesive 46 from flowing into the rail surface 12a from the wire bonding pads 22 and 24 to the rail surface 12a.
That is, if the height of the wire bonding pads 22 and 24 is high, the amount of the protective adhesive 46 required to cover the entire bonding portion increases, and since the entire business travels, the adhesive easily flows out to the periphery. Moreover, since there is no means for stopping the adhesive that has flowed out to the periphery, it flows into the rail surface 12a as it is.

【0017】したがって、接着剤のレール面への流れ込
みを防止するには、ワイヤボンディングパッドの高さを
低くするかあるいは被覆膜(磁気ヘッド素子の上に被覆
された膜)面を接着剤がレール面に流れ込みにくい構造
にすることが有効と思われる。
Therefore, in order to prevent the adhesive from flowing into the rail surface, the height of the wire bonding pad is lowered or the surface of the coating film (the film coated on the magnetic head element) is coated with the adhesive. It seems that it is effective to have a structure that does not easily flow into the rail surface.

【0018】この発明は、このような考えに基づきなさ
れたものである。すなわち、請求項1記載の発明によれ
ば、ワイヤボンディングパッドの表面を被覆膜の表面と
略々同一の高さかまたは被覆膜の表面よりも低い位置に
形成したので、ワイヤボンディングパッドの出張りがな
くなり、これによりボンディング箇所全体を覆うのに必
要な接着剤の量自体が少なくてすみ、しかも出張りがな
いので周辺に流れ出しにくくなり、レール面に対し接着
剤が流れ込みにくくなる。
The present invention has been made based on such an idea. That is, according to the first aspect of the invention, the surface of the wire bonding pad is formed at substantially the same height as the surface of the coating film or at a position lower than the surface of the coating film. Since there is no tension, the amount of adhesive itself required to cover the entire bonding site is small, and since there is no protrusion, it is difficult for it to flow out to the periphery, and it becomes difficult for the adhesive to flow into the rail surface.

【0019】請求項2記載の発明によれば、ワイヤボン
ディングパッドがパッド本体(ワイヤボンディングパッ
ドのうちワイヤボンディング圧着材を除く部分をいう)
とワイヤボンディング圧着材を積層して構成される場合
に、ワイヤボンディング圧着材を被覆膜の表面よりも低
い位置から形成するようにしたので、被覆膜の厚さが同
じとすれば、被覆膜の表面の高さからワイヤボンディン
グ圧着材が形成されている前記従来のものに比べてワイ
ヤボンディングパッドの出張りが少なくなり、これによ
り接着剤の使用量が少なくてすむとともに周辺に流れ出
しにくくなり、レール面に対し接着剤が流れ込みにくく
なる。
According to the second aspect of the present invention, the wire bonding pad is the pad body (refers to a portion of the wire bonding pad excluding the wire bonding crimping material).
When the wire bonding crimping material is laminated, the wire bonding crimping material is formed at a position lower than the surface of the coating film. Compared to the conventional one in which the wire bonding crimping material is formed due to the height of the surface of the covering film, the protruding amount of the wire bonding pad is reduced, so that the amount of adhesive used is small and it is difficult to flow out to the periphery. Therefore, it becomes difficult for the adhesive to flow into the rail surface.

【0020】請求項3記載の発明によれば、ワイヤボン
ディングパッドの露出位置からレール面に至る途中の被
覆膜面に障壁あるいは溝を形成したので、接着剤が流れ
出してもそこでせき止めて、レール面に流れ込みにくく
することができる。
According to the third aspect of the present invention, since the barrier or groove is formed on the surface of the coating film on the way from the exposed position of the wire bonding pad to the rail surface, even if the adhesive flows out, the barrier is stopped and the rail is stopped. It can be made difficult to flow into the surface.

【0021】[0021]

【実施例】この発明をインダクティブ型薄膜磁気ヘッド
に適用した実施例を以下説明する。 (実施例1)この発明の第1実施例を図1に示す。前記
従来の磁気ヘッドと共通する部分には同一の符号を用い
る。薄膜磁気ヘッド50は、そのスライダ基板12の下
面12aにレール14が形成されて、レール面を構成し
ている。このレール14の端部位置に相当するスライダ
基板12の端面12bには、左右両側にインダクティブ
型等の薄膜磁気ヘッド素子16,17が薄膜形成技術を
利用して構成されている。薄膜磁気ヘッド素子16,1
7は、スライダ基板端面12b全体にアルミナ等を成膜
して構成された保護膜20によって全体が被覆され、ポ
ール先端部16a,17aだけがレール面12aに露出
している。
EXAMPLE An example in which the present invention is applied to an inductive thin film magnetic head will be described below. (Embodiment 1) A first embodiment of the present invention is shown in FIG. The same reference numerals are used for the portions common to the conventional magnetic head. The thin-film magnetic head 50 has rails 14 formed on the lower surface 12a of the slider substrate 12 to form a rail surface. On the end surface 12b of the slider substrate 12 corresponding to the end position of the rail 14, thin film magnetic head elements 16 and 17 of inductive type or the like are formed on the left and right sides by using a thin film forming technique. Thin film magnetic head element 16, 1
7 is entirely covered with a protective film 20 formed by depositing alumina or the like on the entire slider substrate end surface 12b, and only the pole tips 16a and 17a are exposed on the rail surface 12a.

【0022】スライダ基板端面12bの幅方向中央部に
は、ワイヤボンディングパッド22,23,24,25
がその表面を保護膜20から露出させた状態で構成され
ている。ワイヤボンディングパッド22,23,24,
25の表面22a,(23a),24a,(25a)
は、保護膜20の表面20aと同一平面上に構成されて
いる。ワイヤボンディングパッド22,23,24,2
5は、形成された2個の薄膜磁気ヘッド素子16,17
のコイル導線に対しリード線26,27,28,29に
よって接続されている。検査の結果特性が良好と判断さ
れた一方の薄膜磁気ヘッド素子または任意に選択された
一方の薄膜磁気ヘッド素子16(または17)と接続さ
れたワイヤボンディングパッド22,24(または、2
3,25)にはワイヤ(導線)がそれぞれボンディング
されて、このワイヤを通して記録信号、再生信号が外部
回路と薄膜磁気ヘッド素子16(または17)との間で
伝送されて、ディスクに対する情報の記録、再生が行な
われる。
Wire bonding pads 22, 23, 24, 25 are provided at the center of the slider substrate end face 12b in the width direction.
Is formed with its surface exposed from the protective film 20. Wire bonding pads 22, 23, 24,
25 surfaces 22a, (23a), 24a, (25a)
Are formed on the same plane as the surface 20a of the protective film 20. Wire bonding pads 22, 23, 24, 2
5 is the formed two thin film magnetic head elements 16 and 17
Are connected to the coil conductors of the above by lead wires 26, 27, 28 and 29. Wire bonding pads 22, 24 (or 2) connected to one thin film magnetic head element 16 (or 17) arbitrarily selected, which is judged to have good characteristics as a result of the inspection.
3, 25) are respectively bonded with wires (conductor wires), and a recording signal and a reproducing signal are transmitted between the external circuit and the thin film magnetic head element 16 (or 17) through the wires to record information on the disk. , Playback is performed.

【0023】図1の薄膜磁気ヘッド50のワイヤボンデ
ィングパッド22,24の作製工程を図7を参照して説
明する。尚、ワイヤボンディングパッド23,25の作
製工程も同時に進むが、ここではパッド22,24側の
み示す。
A process of manufacturing the wire bonding pads 22 and 24 of the thin film magnetic head 50 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. Although the manufacturing steps of the wire bonding pads 23 and 25 proceed at the same time, only the pads 22 and 24 are shown here.

【0024】(1) パッドリード部形成 スライダ基板端面12bの幅方向中央部のワイヤボンデ
ィングパッド形成箇所には、予め下地金属膜30,32
が成膜されている。この下地金属膜30,32はコイル
用下地と同時に同素材で作られる。そして、薄膜磁気ヘ
ッド素子16,17のコイル導体層およびコア層等の成
膜と同時に同素材(Cu、パーマロイ等)でパッド部2
2′,24′およびリード線26,28が成膜される。
(1) Pad lead portion formation Underlayer metal films 30 and 32 are previously formed at the wire bonding pad formation portion in the widthwise central portion of the slider substrate end surface 12b.
Is deposited. The base metal films 30 and 32 are made of the same material as the coil base. Then, simultaneously with the film formation of the coil conductor layers and the core layers of the thin film magnetic head elements 16 and 17, the pad portion 2 is made of the same material (Cu, permalloy, etc.).
2 ', 24' and lead wires 26, 28 are deposited.

【0025】(2) パッド部嵩上げ 上記(1)の工程だけでは、パッド部22′,24′は
薄膜磁気ヘッド素子16,17よりも低い位置にあり、
その上に保護膜20をそのまま成膜するとパッド部2
2′,24′が外部に露出しなくなるので、パッド部2
2′,24′をCuメッキなどで嵩上げする。
(2) Pad section padding Only in the above step (1), the pad sections 22 'and 24' are located lower than the thin film magnetic head elements 16 and 17,
If the protective film 20 is directly formed on it, the pad portion 2 is formed.
Since the 2'and 24 'are not exposed to the outside, the pad portion 2
2'and 24 'are raised by Cu plating or the like.

【0026】(3) ワイヤボンディング圧着材形成 嵩上げした上にNi−Auなどのワイヤボンディング圧
着材38,40をメッキ等の方法で形成する。ワイヤボ
ンディング圧着材38,40を形成した後のパッド部2
2′,24′の全体の高さは、図8に示すように、薄膜
磁気ヘッド素子16,17の最高部よりも高く形成し
て、保護膜20形成後のパッド出し研磨(下記工程
(5))の際に薄膜磁気ヘッド素子16,17が保護膜
20から露出しないようにする。
(3) Formation of Wire Bonding Crimping Material The wire bonding crimping materials 38 and 40 such as Ni-Au are formed by plating and the like after being raised. The pad portion 2 after the wire bonding crimping materials 38 and 40 are formed
As shown in FIG. 8, the entire height of 2'and 24 'is formed higher than the highest portions of the thin film magnetic head elements 16 and 17, and padding polishing after forming the protective film 20 (see the step (5 In the case of)), the thin film magnetic head elements 16 and 17 are prevented from being exposed from the protective film 20.

【0027】(4) 保護膜形成 嵩上げされたパッド部22′,24′上にアルミナ等の
保護膜20をスパッタ等の方法で形成する。
(4) Protective film formation A protective film 20 of alumina or the like is formed on the raised pad portions 22 ', 24' by a method such as sputtering.

【0028】(5) パッド出し研磨 保護膜20の表面を研磨し、パッド部22′,24′の
ボンディング圧着材38,40を露出させる。
(5) Polishing of Pads The surface of the protective film 20 is polished to expose the bonding pressure-bonding materials 38, 40 of the pad portions 22 ', 24'.

【0029】このようにして作成されたワイヤボンディ
ングパッド22,24にワイヤをボンディングする状態
を図9に示す。図9において、(a)はワイヤボンディ
ングパッド22,24にワイヤ42,44を超音波ボン
ダー等でボンディングした状態である。また、(b)は
ボンディングした上に保護接着剤46を塗布した状態で
ある。ワイヤボンディングパッド22,24の表面は保
護膜20の表面と同一平面にあり、出張っていないの
で、同じ接着強度を持たせるのに(c)に示す従来の構
造に比べて保護接着剤46の使用量が少なくてすむ。ま
た、出張っていないので、保護接着剤46は周辺に流れ
出しにくい。したがって、保護接着剤46は図10に示
すように、レール面12aに流れ込みにくくなり、不良
品の発生を防止することができる。
FIG. 9 shows a state in which a wire is bonded to the wire bonding pads 22 and 24 thus created. In FIG. 9, (a) shows a state in which the wires 42, 44 are bonded to the wire bonding pads 22, 24 with an ultrasonic bonder or the like. Further, (b) shows a state in which the protective adhesive 46 is applied after bonding. Since the surfaces of the wire bonding pads 22 and 24 are flush with the surface of the protective film 20 and have not traveled, the protective adhesive 46 is used to have the same adhesive strength as compared with the conventional structure shown in (c). The amount is small. Further, since he has not been on a business trip, the protective adhesive 46 is unlikely to flow out to the periphery. Therefore, as shown in FIG. 10, the protective adhesive 46 is less likely to flow into the rail surface 12a, and it is possible to prevent defective products from being generated.

【0030】(実施例2)この発明の第2実施例を図1
1に示す。これは、保護膜面に凹部を形成して、その内
部にワイヤボンディングパッドを形成したものである。
すなわち、薄膜磁気ヘッド52は保護膜20に凹部54
が形成され、その中にワイヤボンディングパッド22,
24が形成されている(23,25も同じ)。ワイヤボ
ンディングパッド22,24は、図12に示すように、
ワイヤボンディング圧着材38,40が保護膜20の表
面20aよりも低い位置から形成されている。そして、
ワイヤボンディングパッド22,24の表面すなわちワ
イヤボンディング圧着材38,40の表面38a,40
aは、図12(a)に示すように保護膜20の表面20
aよりも低い位置に形成され、あるいは同(b)に示す
ように保護膜20の表面20aと同じ高さ位置に形成さ
れ、または同(c)に示すように保護膜20の表面20
aよりも高い位置に形成されている。ワイヤボンディン
グパッド22,24には、ワイヤがボンディングされ
る。
(Second Embodiment) A second embodiment of the present invention is shown in FIG.
Shown in 1. In this, a concave portion is formed on the surface of the protective film, and a wire bonding pad is formed inside the concave portion.
That is, the thin-film magnetic head 52 has the concave portion 54 in the protective film 20.
Is formed in the wire bonding pad 22,
24 is formed (the same applies to 23 and 25). The wire bonding pads 22 and 24 are, as shown in FIG.
The wire bonding pressure bonding materials 38 and 40 are formed at a position lower than the surface 20 a of the protective film 20. And
Surfaces of the wire bonding pads 22 and 24, that is, surfaces 38a and 40 of the wire bonding crimping materials 38 and 40.
a is the surface 20 of the protective film 20 as shown in FIG.
It is formed at a position lower than a, is formed at the same height as the surface 20a of the protective film 20 as shown in (b), or is formed at the surface 20 of the protective film 20 as shown in (c).
It is formed at a position higher than a. Wires are bonded to the wire bonding pads 22 and 24.

【0031】図11の薄膜磁気ヘッド52のワイヤボン
ディングパッド22,24の作製工程(23,25も同
じ)を図13を参照して説明する。 (1) パッドリード部形成 スライダ基板端面12bの幅方向中央部のワイヤボンデ
ィングパッド形成箇所には、予め下地金属膜30,32
が成膜されている。この下地金属膜30,32はコイル
用下地と同時に同素材で作られる。そして、薄膜磁気ヘ
ッド素子16,17のコイル導体層およびコア層等の成
膜と同時に同素材(Cu、パーマロイ等)でパッド部2
2′,24′およびリード線26,28が成膜される。
The manufacturing process (the same applies to 23 and 25) of the wire bonding pads 22 and 24 of the thin film magnetic head 52 of FIG. 11 will be described with reference to FIG. (1) Pad lead part formation Underlying metal films 30 and 32 are previously formed at the wire bonding pad formation part in the widthwise central part of the slider substrate end face 12b.
Is deposited. The base metal films 30 and 32 are made of the same material as the coil base. Then, simultaneously with the film formation of the coil conductor layers and the core layers of the thin film magnetic head elements 16 and 17, the pad portion 2 is made of the same material (Cu, permalloy, etc.).
2 ', 24' and lead wires 26, 28 are deposited.

【0032】(2) パッド部嵩上げ パッド部22′,24′をCuメッキなどで嵩上げし
て、薄膜磁気ヘッド素子16,17の最高部よりも高く
形成する。
(2) Pad section padding The pad sections 22 'and 24' are padded by Cu plating or the like to be formed higher than the highest portions of the thin film magnetic head elements 16 and 17.

【0033】(3) 保護膜形成 嵩上げされたパッド部22′,24′上にアルミナ等の
保護膜20をスパッタ等の方法で形成する。
(3) Protective film formation A protective film 20 of alumina or the like is formed on the raised pad portions 22 ', 24' by a method such as sputtering.

【0034】(4) パッド出し研磨 保護膜20の表面を研磨し、パッド部22′,24′を
露出させる。
(4) Pad Out Polishing The surface of the protective film 20 is polished to expose the pad portions 22 'and 24'.

【0035】(5) パッド部掘込み パッド部22′,24′をその周囲まで含めてレーザ加
工等で掘込みする。
(5) Pad portion digging The pad portions 22 'and 24' are dug by laser processing including their peripheries.

【0036】(6) ワイヤボンディング圧着材形成 パッド部22′,24′にNi−Auなどのワイヤボン
ディング圧着材38,40をメッキ等の方法で形成し
て、ワイヤボンディングパッド22,24が完成する。
(6) Wire Bonding Crimping Material Formation Wire bonding bonding materials 38, 40 such as Ni-Au are formed on the pad portions 22 ', 24' by a method such as plating to complete the wire bonding pads 22, 24. .

【0037】このようにして作成されたワイヤボンディ
ングパッド22,24にワイヤをボンディングする状態
を図14に示す。図14では、ワイヤボンディングパッ
ド22,24の高さが図12(a)〜(c)の各場合に
ついて示している。ワイヤボンディングは、ワイヤボン
ディングパッド22,24にワイヤ42,44を超音波
ボンダ等でボンディングした後、ボンディング箇所に保
護接着剤46を塗布することにより行なわれる。
FIG. 14 shows a state in which a wire is bonded to the wire bonding pads 22 and 24 thus created. In FIG. 14, the height of the wire bonding pads 22 and 24 is shown in each case of FIGS. The wire bonding is performed by bonding the wires 42 and 44 to the wire bonding pads 22 and 24 with an ultrasonic bonder or the like, and then applying a protective adhesive 46 to the bonding portions.

【0038】図14(a)〜(b)のいずれの場合に
も、保護接着剤46は凹部54に保持されて(言い換え
れば凹部54の内壁面54aが障壁となり、あるいは内
壁面54aとワイヤボンディングパッド22,24との
間の溝56に保持されて)、外部に出にくくなり、ある
いは外部に出るにしてもその量は少なくてすむので、レ
ール面12aには流れ込みにくくなる。また、(c)の
場合は、ワイヤボンディングパッド22,24の表面2
2a,24aが保護膜20の表面20aよりも上に出る
ので、ボンディング作業がしやすくなる。
14A and 14B, the protective adhesive 46 is held in the recess 54 (in other words, the inner wall surface 54a of the recess 54 serves as a barrier, or the inner wall surface 54a and the wire bonding are performed. (It is held in the groove 56 between the pads 22 and 24) so that it does not easily go out, or even if it goes out, the amount thereof is small, so that it does not easily flow into the rail surface 12a. Further, in the case of (c), the surface 2 of the wire bonding pads 22 and 24
Since 2a and 24a are exposed above the surface 20a of the protective film 20, the bonding work is facilitated.

【0039】(実施例3)この発明の第3実施例を図1
5に示す。これは、前記実施例2と同様に保護膜面に凹
部を形成して、その内部にワイヤボンディングパッドを
形成したものであるが、製法が第2実施例と相違する。
すなわち、薄膜磁気ヘッド58は保護膜20に凹部6
0,62が形成され、その中にワイヤボンディングパッ
ド22,24が形成されている(23,25も同じ)。
ワイヤボンディングパッド22,24は、図16に示す
ように、ワイヤボンディング圧着材38,40が保護膜
20の表面20aよりも低い位置から形成されている。
そして、ワイヤボンディングパッド22,24の表面す
なわちワイヤボンディング圧着材38,40の表面38
a,40aは、図16(a)に示すように保護膜20の
表面20aよりも低い位置に形成され、あるいは同
(b)に示すように保護膜20の表面20aと同じ高さ
位置に形成され、または同(c)に示すように保護膜2
0の表面20aよりも高い位置に形成されている。ワイ
ヤボンディングパッド22,24には、ワイヤがボンデ
ィングされる。
(Embodiment 3) A third embodiment of the present invention is shown in FIG.
5 shows. This is a method in which a concave portion is formed on the surface of the protective film and a wire bonding pad is formed inside the concave portion as in the second embodiment, but the manufacturing method is different from that of the second embodiment.
That is, the thin-film magnetic head 58 has the concave portion 6 in the protective film 20.
0 and 62 are formed, and wire bonding pads 22 and 24 are formed therein (the same applies to 23 and 25).
As shown in FIG. 16, the wire bonding pads 22 and 24 are formed from positions where the wire bonding pressure bonding materials 38 and 40 are lower than the surface 20 a of the protective film 20.
The surface of the wire bonding pads 22 and 24, that is, the surface 38 of the wire bonding crimping material 38 and 40.
16a is formed at a position lower than the surface 20a of the protective film 20 as shown in FIG. 16A, or is formed at the same height as the surface 20a of the protective film 20 as shown in FIG. 16B. Or the protective film 2 as shown in FIG.
It is formed at a position higher than the zero surface 20a. Wires are bonded to the wire bonding pads 22 and 24.

【0040】図15の薄膜磁気ヘッド58のワイヤボン
ディングパッド22,24の作製工程(23,25も同
じ)を図17を参照して説明する。
The manufacturing process (the same applies to 23 and 25) of the wire bonding pads 22 and 24 of the thin film magnetic head 58 of FIG. 15 will be described with reference to FIG.

【0041】(1) パッドリード部形成 スライダ基板端面12bの幅方向中央部のワイヤボンデ
ィングパッド形成箇所には、予め下地金属膜30,32
が成膜されている。この下地金属膜30,32はコイル
用下地と同時に同素材で作られる。そして、薄膜磁気ヘ
ッド素子16,17のコイル導体層およびコア層等の成
膜と同時に同素材(Cu、パーマロイ等)でパッド部2
2′,24′およびリード線26,28が成膜される。
(1) Pad Lead Forming Underlying metal films 30, 32 are formed in advance at the wire bonding pad forming location in the widthwise center of the slider substrate end face 12b.
Is deposited. The base metal films 30 and 32 are made of the same material as the coil base. Then, simultaneously with the film formation of the coil conductor layers and the core layers of the thin film magnetic head elements 16 and 17, the pad portion 2 is made of the same material (Cu, permalloy, etc.).
2 ', 24' and lead wires 26, 28 are deposited.

【0042】(2) 保護膜形成 アルミナ等の保護膜20をスパッタ等の方法で薄膜磁気
ヘッド素子16,17全体を覆う厚さに形成する。
(2) Formation of Protective Film A protective film 20 of alumina or the like is formed by a method such as sputtering so as to cover the entire thin film magnetic head elements 16 and 17.

【0043】(3) 穴掘込み パッド部22′,24′の位置ごとにレーザ加工等でリ
ード部が露出する深さまで穴を掘込み、凹部60,62
を形成する。
(3) Hole digging Holes are dug to the depth of exposing the lead portion by laser processing or the like at each position of the pad portions 22 'and 24', and the recess portions 60 and 62 are formed.
To form.

【0044】(4) パッド部嵩上げ パッド部22′,24′をCuメッキなどで嵩上げす
る。この嵩上げ34,36の高さは、保護膜20の表面
20aよりも低くする。
(4) Pad section padding The pad sections 22 'and 24' are padded by Cu plating or the like. The height of the raised portions 34, 36 is made lower than that of the surface 20a of the protective film 20.

【0045】(5) ワイヤボンディング圧着材形成 パッド部22′,24′にNi−Auなどのワイヤボン
ディング圧着材38,40をメッキ等の方法で形成し
て、ワイヤボンディングパッド22,24が完成する。
(5) Wire Bonding Crimping Material Formation Wire bonding bonding materials 38, 40 such as Ni-Au are formed on the pad portions 22 ', 24' by a method such as plating to complete the wire bonding pads 22, 24. .

【0046】このようにして作成されたワイヤボンディ
ングパッド22,24にワイヤをボンディングする状態
を図18に示す。図18では、ワイヤボンディングパッ
ド22,24の高さが図16(a)〜(c)の各場合に
ついて示している。ワイヤボンディングは、ワイヤボン
ディングパッド22,24にワイヤ42,44を超音波
ボンダ等でボンディングした後、ボンディング箇所に保
護接着剤46を塗布することにより行なわれる。
FIG. 18 shows a state in which wires are bonded to the wire bonding pads 22 and 24 thus created. In FIG. 18, the height of the wire bonding pads 22 and 24 is shown in each case of FIGS. 16 (a) to 16 (c). The wire bonding is performed by bonding the wires 42 and 44 to the wire bonding pads 22 and 24 with an ultrasonic bonder or the like, and then applying a protective adhesive 46 to the bonding portions.

【0047】図18(a)の場合には、保護接着剤46
は凹部60,62に保持されて(言い換えれば凹部6
0,62の内壁面60a,62aが障壁となり、外部に
出にくくなり、あるいは外部に出るにしてもその量は少
なくてすむので、レール面12aには流れ込みにくくな
る。また、(b),(c)の場合もワイヤボンディング
パッド22,24の出張りが少ないため、保護接着剤4
6はレール面12aに流れ込みにくくなる。また、
(c)の場合は、ワイヤボンディングパッド22,24
の表面が保護膜20の表面よりも上に出るので、ボンデ
ィング作業がしやすくなる。
In the case of FIG. 18A, the protective adhesive 46
Is held in the recesses 60 and 62 (in other words, the recess 6
The inner wall surfaces 60a and 62a of 0 and 62 serve as barriers, making it difficult to go out, or even if it goes out, the amount thereof is small, so that it becomes difficult to flow into the rail surface 12a. In addition, also in the cases of (b) and (c), since the wire bonding pads 22 and 24 are little protruding, the protective adhesive 4
6 does not easily flow into the rail surface 12a. Also,
In the case of (c), the wire bonding pads 22 and 24
Since the surface of the is exposed above the surface of the protective film 20, the bonding work is facilitated.

【0048】(実施例4)この発明の第4実施例を図1
9に示す。この薄膜磁気ヘッド64は前記図2の従来の
薄膜磁気ヘッド10のワイヤボンディングパッド24,
25とレール面12aとの間の保護膜20に溝66を形
成したものである。これによれば、図19(b)に示す
ように、流れ出した保護接着剤46は、溝66でせき止
められるので、レール面12aに流れ込むのが防止され
る。この場合、ワイヤボンディングパッド22,23,
24,25を前記実施例1〜3で示したように低く形成
すれば、より効果的である。
(Embodiment 4) A fourth embodiment of the present invention is shown in FIG.
9 shows. The thin film magnetic head 64 is the same as the wire bonding pad 24 of the conventional thin film magnetic head 10 shown in FIG.
The groove 66 is formed in the protective film 20 between the rail 25 and the rail surface 12a. According to this, as shown in FIG. 19B, the protective adhesive 46 that has flowed out is dammed by the groove 66, so that it is prevented from flowing into the rail surface 12a. In this case, the wire bonding pads 22, 23,
It is more effective if 24 and 25 are formed low as shown in the first to third embodiments.

【0049】(実施例5)この発明の第5実施例を図2
0に示す。この薄膜磁気ヘッド68は前記図2の従来の
薄膜磁気ヘッド10のワイヤボンディングパッド24,
25とレール面12aとの間の保護膜20に障壁70を
形成したものである。これによれば、図20(b)に示
すように、流れ出した保護用接着剤46は、障壁70で
せき止められるので、レール面12aに流れ込むのが防
止される。この場合、ワイヤボンディングパッド22,
23,24,25を前記実施例1〜3で示したように低
く形成すれば、より効果的である。
(Embodiment 5) A fifth embodiment of the present invention is shown in FIG.
It shows in 0. This thin film magnetic head 68 is the same as the wire bonding pad 24 of the conventional thin film magnetic head 10 shown in FIG.
The barrier 70 is formed on the protective film 20 between the rail 25 and the rail surface 12a. According to this, as shown in FIG. 20 (b), the protective adhesive 46 that has flowed out is dammed by the barrier 70, so that it is prevented from flowing into the rail surface 12 a. In this case, the wire bonding pad 22,
It is more effective if 23, 24 and 25 are formed low as shown in the first to third embodiments.

【0050】なお、前記実施例ではワイヤボンディング
パッドが、パッド本体の上に別途別材料でボンディング
パッド圧着材が構成されているものに適用した場合につ
いて示したが、ボンディングパッド圧着材が別途構成さ
れていないワイヤボンディングパッドにも適用できる。
また、この発明は、インダクティブ以外の薄膜磁気ヘッ
ドその他各種の浮上型磁気ヘッドに適用することができ
る。
In the above-mentioned embodiment, the wire bonding pad is applied to the pad body in which the bonding pad crimping material is separately constituted by another material. However, the bonding pad crimping material is separately constituted. Not applicable to wire bonding pad.
Further, the present invention can be applied to thin-film magnetic heads other than inductive, and various other floating magnetic heads.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、ワイヤボンディングパッドの表面を被覆膜
の表面と略々同一の高さかまたは被覆膜の表面よりも低
い位置に形成したので、ワイヤボンディングパッドの出
張りがなくなり、これによりボンディング箇所全体を覆
うのに必要な接着剤の量自体が少なくてすみ、しかも出
張りがないので周辺に流れ出しにくくなり、レール面に
対し接着剤が流れ込みにくくなる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the surface of the wire bonding pad is located at substantially the same height as the surface of the coating film or at a position lower than the surface of the coating film. Since it is formed, there is no protrusion of the wire bonding pad, which reduces the amount of adhesive required to cover the entire bonding area itself, and since there is no protrusion, it does not easily flow out to the periphery and The adhesive does not flow easily.

【0052】請求項2記載の発明によれば、ワイヤボン
ディングパッドがパッド本体(ワイヤボンディングパッ
ドのうちワイヤボンディング圧着材を除く部分をいう)
とワイヤボンディング圧着材を積層して構成される場合
に、ワイヤボンディング圧着材を被覆膜の表面よりも低
い位置から形成するようにしたので、被覆膜の厚さが同
じとすれば、被覆膜の表面の高さからワイヤボンディン
グ圧着材が形成されている前記従来のものに比べてワイ
ヤボンディングパッドの出張りが少なくなり、これによ
り接着剤の使用量が少なくてすむとともに周辺に流れ出
しにくくなり、レール面に対し接着剤が流れ込みにくく
なる。
According to the second aspect of the invention, the wire bonding pad is the pad body (refers to the portion of the wire bonding pad excluding the wire bonding crimping material).
When the wire bonding crimping material is laminated, the wire bonding crimping material is formed at a position lower than the surface of the coating film. Compared to the conventional one in which the wire bonding crimping material is formed due to the height of the surface of the covering film, the protruding amount of the wire bonding pad is reduced, so that the amount of adhesive used is small and it is difficult to flow out to the periphery. Therefore, it becomes difficult for the adhesive to flow into the rail surface.

【0053】請求項3記載の発明によれば、ワイヤボン
ディングパッドの露出位置からレール面に至る途中の被
覆膜面に障壁あるいは溝を形成したので、接着剤が流れ
出してもそこでせき止めて、レール面に流れ込みにくく
することができる。
According to the third aspect of the present invention, since the barrier or groove is formed on the surface of the coating film on the way from the exposed position of the wire bonding pad to the rail surface, even if the adhesive flows out, the barrier is stopped and the rail is stopped. It can be made difficult to flow into the surface.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の第1実施例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】 従来の薄膜磁気ヘッドを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a conventional thin film magnetic head.

【図3】 図2の薄膜磁気ヘッドのワイヤボンディング
パッドの製作工程を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a process of manufacturing a wire bonding pad of the thin film magnetic head of FIG.

【図4】 図3の工程(2)のパッド部嵩上げにおける
嵩上げ高さの説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view of a raised height in a raised pad portion in step (2) of FIG.

【図5】 図2のワイヤボンディングパッドに対してワ
イヤボンディングする状態を示した図である。
5 is a diagram showing a state in which wire bonding is performed on the wire bonding pad of FIG.

【図6】 図5(b)の保護接着剤の塗布により、接着
剤がレール面12aに流れ込んだ状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 6 is a perspective view showing a state where the adhesive has flowed into the rail surface 12a by applying the protective adhesive of FIG. 5 (b).

【図7】 図1の薄膜磁気ヘッドのワイヤボンディング
パッドの製作工程を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a process of manufacturing a wire bonding pad of the thin film magnetic head of FIG.

【図8】 図7の工程(2),(3)によるパッド部高
さの説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of a pad portion height according to steps (2) and (3) of FIG. 7.

【図9】 図1のワイヤボンディングパッドに対してワ
イヤボンディングする状態を示した図である。
9 is a diagram showing a state in which wire bonding is performed on the wire bonding pad of FIG.

【図10】 図9(b)の保護接着剤を塗布した状態を
示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a state in which the protective adhesive of FIG. 9 (b) is applied.

【図11】 この発明の第2実施例を示す斜視図であ
る。
FIG. 11 is a perspective view showing a second embodiment of the present invention.

【図12】 図11におけるワイヤボンディングパッド
の高さの各種構成例を示す図である。
12 is a diagram showing various examples of the height of the wire bonding pad in FIG.

【図13】 図11の薄膜磁気ヘッドのワイヤボンディ
ングパッドの製作工程を示す図である。
13 is a diagram showing a process of manufacturing a wire bonding pad of the thin film magnetic head of FIG.

【図14】 図12の各場合についてワイヤボンディン
グした状態を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a state of wire bonding in each case of FIG. 12;

【図15】 この発明の第3実施例を示す斜視図であ
る。
FIG. 15 is a perspective view showing a third embodiment of the present invention.

【図16】 図15におけるワイヤボンディングパッド
の高さの各種構成例を示す図である。
16 is a diagram showing various configuration examples of the height of the wire bonding pad in FIG.

【図17】 図15の薄膜磁気ヘッドのワイヤボンディ
ングパッドの製作工程を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a process of manufacturing a wire bonding pad of the thin film magnetic head of FIG.

【図18】 図16の各場合についてワイヤボンディン
グした状態を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a state of wire bonding in each case of FIG. 16;

【図19】 この発明の第4実施例を示す斜視図であ
る。
FIG. 19 is a perspective view showing a fourth embodiment of the present invention.

【図20】 この発明の第5実施例を示す斜視図であ
る。
FIG. 20 is a perspective view showing a fifth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 スライダ基板 12a レール面 14 レール 16,17 薄膜磁気ヘッド素子(磁気ヘッド素子) 20 保護膜(被覆膜) 22,23,24,25 ワイヤボンディングパッド 38,40 ワイヤボンディング圧着材 42,44 ワイヤ(導線) 46 保護接着剤(接着剤) 50,52,58,64,68 薄膜磁気ヘッド(磁気
ヘッド) 54a,62a,70 障壁 56,66 溝
12 slider substrate 12a rail surface 14 rails 16 and 17 thin film magnetic head element (magnetic head element) 20 protective film (covering film) 22, 23, 24, 25 wire bonding pad 38, 40 wire bonding crimping material 42, 44 wire ( Conductive wire 46 Protective adhesive (adhesive) 50, 52, 58, 64, 68 Thin film magnetic head (magnetic head) 54a, 62a, 70 Barrier 56, 66 Groove

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】スライダ基板の下面にレールが形成され、
このレールの端部位置に相当するスライダ基板の端面に
磁気ヘッド素子が形成され、当該端面には前記磁気ヘッ
ド素子を被覆する被覆膜が成膜され、かつ当該端面には
前記磁気ヘッド素子に導通するボンディングパッドが前
記被覆膜から露出して形成されてなり、前記ボンディン
グパッドには導線がボンディングされ、かつこのボンデ
ィングされた部分に接着剤が塗布される浮上型磁気ヘッ
ドにおいて、 前記ワイヤボンディングパッドの表面が、前記被覆膜の
表面と略々同一の高さかまたは当該被覆膜の表面よりも
低い位置に形成されてなる浮上型磁気ヘッドのワイヤボ
ンディングパッド形成面の構造。
1. A rail is formed on a lower surface of a slider substrate,
A magnetic head element is formed on the end surface of the slider substrate corresponding to the end position of the rail, a coating film for coating the magnetic head element is formed on the end surface, and the magnetic head element is formed on the end surface. In the floating magnetic head, a conductive bonding pad is formed so as to be exposed from the coating film, a conductive wire is bonded to the bonding pad, and an adhesive is applied to the bonded portion. A structure of a wire bonding pad formation surface of a floating magnetic head in which a surface of a pad is formed at a height substantially the same as a surface of the coating film or lower than a surface of the coating film.
【請求項2】スライダ基板の下面にレールが形成され、
このレールの端部位置に相当するスライダ基板の端面に
磁気ヘッド素子が形成され、当該端面には前記磁気ヘッ
ド素子を被覆する被覆膜が成膜され、かつ当該端面には
前記磁気ヘッド素子に導通するボンディングパッドが前
記被覆膜から露出して形成されてなり、前記ボンディン
グパッドには導線がボンディングされ、かつこのボンデ
ィングされた部分に接着剤が塗布される浮上型磁気ヘッ
ドにおいて、 前記ワイヤボンディングパッドが、導電材料で構成され
たパッド本体の上に別の導電材料で構成されるワイヤボ
ンディング圧着材を積層して構成され、当該ワイヤボン
ディング圧着材は前記被覆膜の表面よりも低い位置から
形成されてなる浮上型磁気ヘッドのワイヤボンディング
パッド形成面の構造。
2. A rail is formed on the lower surface of the slider substrate,
A magnetic head element is formed on the end surface of the slider substrate corresponding to the end position of the rail, a coating film for coating the magnetic head element is formed on the end surface, and the magnetic head element is formed on the end surface. In the floating magnetic head, a conductive bonding pad is formed so as to be exposed from the coating film, a conductive wire is bonded to the bonding pad, and an adhesive is applied to the bonded portion. The pad is formed by laminating a wire bonding crimping material made of another conductive material on a pad body made of a conductive material, and the wire bonding crimping material is formed from a position lower than the surface of the coating film. Structure of the wire bonding pad formation surface of the floating magnetic head formed.
【請求項3】スライダ基板の下面にレールが形成され、
このレールの端部位置に相当するスライダ基板の端面に
磁気ヘッド素子が形成され、当該端面には前記磁気ヘッ
ド素子を被覆する被覆膜が成膜され、かつ当該端面には
前記磁気ヘッド素子に導通するボンディングパッドが前
記被覆膜から露出して形成されてなり、前記ボンディン
グパッドには導線がボンディングされ、かつこのボンデ
ィングされた部分に接着剤が塗布される浮上型磁気ヘッ
ドにおいて、 前記ワイヤボンディングパッドの露出位置から前記レー
ルが形成されたスライダ基板下面に至る途中の前記被覆
膜面に障壁あるいは溝が形成されてなる浮上型磁気ヘッ
ドのワイヤボンディングパッド形成面の構造。
3. A rail is formed on the lower surface of the slider substrate,
A magnetic head element is formed on the end surface of the slider substrate corresponding to the end position of the rail, a coating film for coating the magnetic head element is formed on the end surface, and the magnetic head element is formed on the end surface. In the floating magnetic head, a conductive bonding pad is formed so as to be exposed from the coating film, a conductive wire is bonded to the bonding pad, and an adhesive is applied to the bonded portion. A structure of a wire bonding pad formation surface of a floating magnetic head in which a barrier or groove is formed on the surface of the coating film on the way from the exposed position of the pad to the lower surface of the slider substrate on which the rail is formed.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6667854B2 (en) 1999-09-16 2003-12-23 Alps Electric Co., Ltd. Magnetic head having head element protected from electrostatic damage, and production method therefor

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US6667854B2 (en) 1999-09-16 2003-12-23 Alps Electric Co., Ltd. Magnetic head having head element protected from electrostatic damage, and production method therefor

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