JPH07295197A - シャドウマスク用パターン版製造装置及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シャドウマスク用パターン版の製造作業を軽
減し、製造コストを低減し、しかも精度の高いシャドウ
マスク用パターン版の製造を可能とする。 【構成】 シャドウマスク用パターン版製造装置は、シ
ャドウマスクパターンを感光板１４のシャドウマスク有
効領域２６に焼き付ける装置であって、載置台と露光光
学系とを備えている。ここでは、シャドウマスクパター
ンに応じて、感光板１４上に多数の所定形状孔パターン
２７を形成するように、露光光学系が制御される。ま
た、感光板１４のシャドウマスク有効領域２６の端縁部
において、所定形状孔パターン２７ではその一部がシャ
ドウマスク有効領域２６外になる場合には、所定形状孔
パターン２７に代えて、所定形状孔パターン２７のシャ
ドウマスク有効領域２６内の位置に修正形状孔パターン
２８Ａ，２８Ｂを形成するように、露光光学系が制御さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シャドウマスク用パタ
ーン版製造装置及び製造方法に関し、特に、シャドウマ
スクパターンを、感光膜が形成された感光板の有効領域
に焼き付けるシャドウマスク用パターン版製造装置及び
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、カラーブラウン管に用いられる
シャドウマスクは、金属板の両面にレジスト膜を塗布
し、これらレジスト膜に多数の孔パターンが形成された
２枚のパターン版をそれぞれ密着させて露光及び現像
し、次いでレジスト膜の未露光部分を除去してレジスト
パターンを形成し、このレジストパターンをマスクとし
て金属板を両面からエッチングすることにより製造され
る。

【０００３】このようなシャドウマスクの製造に用いら
れるパターン版は、パターン版製造装置によって製造さ
れる。この製造装置は、一般的に、感光板を載置する載
置台と、前記載置台上の感光板に光を照射する露光光学
系とを備えている。露光光学系は一定形状のアパーチャ
を有するレチクルを備えており、これにより、シャドウ
マスクパターンに応じて、感光板上に多数の所定形状孔
パターンを形成するようになっている。

【０００４】パターン版の製造方法の一例が、特公昭６
３−１９８６０号公報に開示されている。この製造方法
は、パターン版製造装置において前記レチクルを用
い、所定形状孔パターンで感光板を露光するパターン工
程と、別の装置により、シャドウマスクの有効部に対
応する部分を遮光し、その周囲を露光して、遮光部で覆
われた領域以外にある不要な孔パターンを消去する消去
工程とを含んでいる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来技術で
は、一旦、感光板上の不要部分にまでパターンを形成
し、その後に不要部分のパターンを消去する構成となっ
ており、しかも両工程が別の装置で行われる構成となっ
ている。したがって、従来の技術では、製造工数が多く
なり、作業が煩雑となる。また、製造コストが高くなら
ざるを得ない。

【０００６】また、消去工程において、シャドウマスク
の有効部に対応する部分を遮光する際の版合わせ時に位
置ずれが生じるので、不良パターン版が製造され易い。
本発明の目的は、シャドウマスク用パターン版の製造作
業を軽減し、製造コストを低減し、しかも精度の高いシ
ャドウマスク用パターン版の製造を可能とすることにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

（１）本発明に係るシャドウマスク用パターン版製造装
置は、シャドウマスクパターンを感光板のシャドウマス
ク有効領域に焼き付ける装置であって、載置台と、露光
光学系と、第１照射制御手段と、第２照射制御手段とを
備えている。載置台は、感光板を載置するためのもので
ある。露光光学系は、載置台上の感光板に光を照射する
ためのものである。第１照射制御手段は、シャドウマス
クパターンに応じて、感光板上に多数の所定形状孔パタ
ーンを形成するように露光光学系を制御する。第２照射
制御手段は、感光板のシャドウマスク有効領域端縁部に
おいて、所定形状孔パターンではその一部がシャドウマ
スク有効領域外になる場合に、所定形状孔パターンに代
えて、所定形状孔パターンのシャドウマスク有効領域内
の位置に修正形状孔パターンを形成するように露光光学
系を制御する。

【０００８】なお、基台と、前記基台に対して水平のＸ
軸方向に移動可能なＸ軸スライドと、前記基台に対して
前記Ｘ軸方向に直交しかつ水平のＹ軸方向に移動可能な
Ｙ軸スライドとをさらに備え、前記露光光学系が前記Ｘ
軸スライドに設けられ、前記載置台が前記Ｙ軸スライド
に設けられているのが好ましい。また、前記露光光学系
は開口面積が可変であるバリアブルアパーチャを備え、
前記第２照射制御手段は前記バリアブルアパーチャを制
御するのが好ましい。そして、前記バリアブルアパーチ
ャは矩形の修正形状孔パターンを形成するのが好まし
い。さらに、前記露光光学系が、一定形状のアパーチャ
を有するレチクルを備えているのが好ましい。 （２）本発明に係るシャドウマスク用パターン版製造方
法は、シャドウマスクパターンを感光板のシャドウマス
ク有効領域に焼き付ける方法であって、第１露光工程と
第２露光工程とを含む。第１露光工程では、シャドウマ
スクパターンに応じて、感光板上に多数の所定形状孔パ
ターンを形成する。第２露光工程では、感光板のシャド
ウマスク有効領域端縁部において、所定形状孔パターン
ではその一部がシャドウマスク有効領域外になる場合
に、所定形状孔パターンに代えて、所定形状孔パターン
のシャドウマスク有効領域内の位置に修正形状孔パター
ンを形成する。

【０００９】なお、前記第２露光工程は、バリブルアパ
ーチャを用いて行われるのが好ましい。また、前記バリ
アブルアパーチャは矩形の修正形状孔パターンを形成す
るのが好ましい。さらに、前記第１露光工程は、一定形
状のアパーチャを有するレチクルを用いて行われるのが
好ましい。

【００１０】

【作用】

（１）本発明に係るシャドウマスク用パターン版製造装
置では、第１照射制御手段が露光光学系を制御し、感光
板上のシャドウマスク有効領域内に多数の所定形状孔パ
ターンを形成する。また、所定形状孔パターンではその
一部がシャドウマスク有効領域外になる場合には、第２
照射制御手段が露光光学系を制御し、修正形状孔パター
ンをシャドウマスク有効領域内に形成する。したがっ
て、シャドウマスク有効領域外にはみ出した所定形状孔
パターンを削除するためのマスク版を準備する必要がな
くなり、また当該マスク版を用いた削除工程を実行する
必要がなくなる。これにより、製造作業が軽減され、製
造コストが低減する。しかも精度の高いシャドウマスク
用パターン版の製造が可能となる。

【００１１】なお、基台と、前記基台に対して水平のＸ
軸方向に移動可能なＸ軸スライドと、前記基台に対して
前記Ｘ軸方向に直交しかつ水平のＹ軸方向に移動可能な
Ｙ軸スライドとをさらに備え、前記露光光学系が前記Ｘ
軸スライドに設けられ、前記載置台が前記Ｙ軸スライド
に設けられている場合には、位置精度が向上するので、
より精度の高いシャドウマスク用パターン版の製造が可
能となる。

【００１２】また、前記露光光学系が開口面積が可変で
あるバリアブルアパーチャを備え、前記第２照射制御手
段は前記バリアブルアパーチャを制御する場合には、ア
パーチャ面積を適宜に変更できるので、より精度の高い
シャドウマスク用パターン版の製造が可能となる。そし
て、前記バリアブルアパーチャが矩形の修正形状孔パタ
ーンを形成する場合には、アパーチャ面積の変更が容易
になり、より精度の高いシャドウマスク用パターン版の
製造が可能となる。さらに、前記露光光学系が、一定形
状のアパーチャを有するレチクルを備えている場合に
は、必要に応じてレチクルとバリアブルアパーチャを適
宜に選択使用できるので、より精度の高いシャドウマス
ク用パターン版の製造が可能となる。 （２）本発明に係るシャドウマスク用パターン版製造方
法においては、第１露光工程において、感光板のシャド
ウマスク有効領域内に多数の所定形状孔パターンを形成
する。また、所定形状孔パターンではその一部がシャド
ウマスク有効領域外になる場合には、第２露光工程によ
って、修正形状孔パターンをシャドウマスク有効領域内
に形成する。したがって、シャドウマスク有効領域外に
はみ出した所定形状孔パターンを削除するためのマスク
版を準備する必要がなくなり、また当該マスク版を用い
た削除工程を実行する必要がなくなる。これにより、製
造作業が軽減され、製造コストが低減する。しかも精度
の高いシャドウマスク用パターン版の製造が可能とな
る。

【００１３】なお、前記第２露光工程が、バリブルアパ
ーチャを用いて行われる場合には、アパーチャ面積を適
宜に変更できるので、より精度の高いシャドウマスク用
パターン版の製造が可能となる。また、前記バリアブル
アパーチャが矩形の修正形状孔パターンを形成する場合
には、アパーチャ面積の変更が容易になり、より精度の
高いシャドウマスク用パターン版の製造が可能となる。
さらに、前記第１露光工程が、一定形状のアパーチャを
有するレチクルを用いて行われる場合には、必要に応じ
てレチクルとバリアブルアパーチャを適宜に選択使用で
きるので、より精度の高いシャドウマスク用パターン版
の製造が可能となる。

【００１４】

【実施例】本発明の一実施例としてのシャドウマスク用
パターン版製造装置を示す図１において、基台１上に
は、Ｘ軸方向（紙面と直交する方向）に移動可能に載置
されるＸ軸スライド２が設けられている。Ｘ軸スライド
２の上端中央には、露光光学系３が取り付けられてお
り、Ｘ軸方向駆動装置４によってＸ軸方向に移動する。
また、基台１上には、Ｙ軸方向（図の左右方向）に移動
可能にＹ軸スライド５が設けられている。Ｙ軸スライド
５は、Ｙ軸方向駆動装置６によってＹ軸方向に移動す
る。Ｙ軸スライド５上には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に微
動可能な磁気微動ステージ７が設けられている。磁気微
動ステージ７は微動ステージ駆動装置８によって駆動さ
れ、Ｙ軸スライド５に対して微動可能である。磁気微動
ステージ７上にはさらに、自動焦点用のＺ軸ステージ９
が設けられている。Ｚ軸ステージ９は、Ｚ軸方向駆動装
置１０によってＺ軸方向（図の上下方向）に駆動され
る。

【００１５】基台１には、レーザ測長器１１が設けられ
ている。レーザ測長器１１はＺ軸ステージ９のＸＹ軸方
向の変位を計測するものである。露光光学系３の下端部
には、焦点検出用のエアマイクロ１２がＺ軸ステージ９
に対向して設けられている。エアマイクロ１２はエア駆
動装置１３によって高圧エアが供給され、Ｚ軸ステージ
９の上面に載置される感光板１４との間隙に発生する空
気圧を測定することで、感光板１４のＺ軸方向の位置を
検出する。

【００１６】露光光学系３の上部には、露光用の照射光
を発射する光源１５が設けられている。光源１５はＸｅ
ランプ等で構成され、光源駆動装置１６によって駆動さ
れる。光源１５の下方には、アパーチャ１７を有するレ
チクル１８が配置されている。レチクル１８の下方には
ズームレンズ１９が配置されており、レチクル１８のア
パーチャ１７を通過した光源１５からの照射光は、この
ズームレンズ１９によって感光板１４上にアパーチャ１
７と相似形の孔パターンを結像させる。

【００１７】露光光学系３の中間部には内方に突出する
バリアブルアパーチャ２０が設けられている。このバリ
アブルアパーチャ２０は、１辺の長さが可変の矩形アパ
ーチャを構成するためのものであり、バリアブルアパー
チャ駆動装置２１によってアパーチャの大きさ（面積）
が調整される。このシャドウマスク用パターン版製造装
置は、図２に示すような制御部２２を有している。制御
部２２には、情報入力装置２３及び記憶手段２４が接続
されている。シャドウマスクパターンの位置及び形状寸
法は、情報入力装置２３から入力されて、記憶手段２４
に格納される。制御部２２にはさらに、Ｘ軸方向駆動装
置４及びＹ軸方向駆動装置６が接続されており、情報入
力装置２１から入力された情報のうち位置情報に基づい
て、これらＸ軸方向駆動装置４及びＹ軸方向駆動装置６
がそれぞれＸ軸スライド２及びＹ軸スライド５を所定位
置に移動させる。また制御部２２にはレーザ測長器１１
が接続されており、Ｚ軸ステージ９のＸＹ軸方向変位量
が制御部２２に入力される。制御部２２は、レーザ測長
器１１からの信号に基づいて、Ｘ軸方向駆動装置４及び
Ｙ軸方向駆動装置６の制御量を補正する。

【００１８】また、制御部２２に接続されているＺ軸方
向駆動装置１０は、制御部２２の制御に基づいて感光板
１４に形成される孔パターン像が正確に結像するように
Ｚ軸ステージ９をＺ軸方向に移動する。さらに、エアマ
イクロ１２からの検出信号は制御部２２に入力される。
このエアマイクロ１２からの信号に基づいて、孔パター
ンが感光板１４上に結像するようにＺ軸方向駆動装置１
０を制御して、露光光学系３とＺ軸ステージ９との間隙
を調整する。

【００１９】また、制御部２２には光源駆動装置１６が
接続されており、Ｘ軸方向駆動装置４，Ｙ軸方向駆動装
置６及びＺ軸方向駆動装置１０によって感光板１４の位
置決めを行った後、光源１５を駆動して所定の孔パター
ンの形成を行う。制御部２２にはさらに、バリアブルア
パーチャ駆動装置２１が接続されている。感光板１４の
シャドウマスク有効領域内に形成される孔パターンは、
基本的に、レチクル１８のアパーチャ１７の形状に対応
したものとなる。しかし、感光板１４のシャドウマスク
有効領域端縁部において、この所定形状の孔パターンで
はその一部がシャドウマスク有効領域外になる場合に
は、制御部２２はバリアブルアパーチャ駆動装置２１を
制御し、所定形状の孔パターンに代えて矩形の修正形状
孔パターンをシャドウマスク有効領域内に形成する。

【００２０】たとえば、図３において、感光板１４上の
シャドウマスク有効領域２６の境界を有効沿線２５とす
る。このときレチクル１８を用いて感光板１４上に形成
される孔パターン２７のうち有効領域２６内に完全に含
まれるものは、所定形状孔パターンであるレチクル１８
のアパーチャ１７に対応する形状で露光が行われる。所
定形状の孔パターンではその一部がシャドウマスク有効
領域２６外になってしまう孔パターン２７Ａ，２７Ｂの
場合には、バリアブルアパーチャ２４によって面積が変
更され得る矩形の修正形状孔パターン２８Ａ，２８Ｂが
有効領域２６内のみに形成される。

【００２１】この実施例の動作を図４に示す制御フロー
チャートに基づいて説明する。ステップＳ１において
は、各種パラメータ及びその他装置の初期化を行う。ス
テップＳ２では、情報入力装置２３から入力されるシャ
ドウマスクパターンの位置及び形状の情報を記憶手段２
４に格納する。ステップＳ３においては、記憶手段２４
に格納されているシャドウマスクパターンの位置及び形
状の情報を読み出す。ステップＳ４においては、記憶手
段２４に格納されているシャドウマスクパターンの情報
をすべて処理したか否かを判断する。データが終了した
と判断した場合には、この処理を終了する。

【００２２】ステップＳ５においては、ステップＳ３で
読み出した孔パターンの位置情報に基づいて所定形状孔
パターン２７を形成したときに、その全部がシャドウマ
スク有効領域２６内であるか否かを判断する。形成する
孔パターン２７がシャドウマスク有効領域２６内である
場合には、ステップＳ６に移行する。ステップＳ６で
は、孔パターン２７の位置情報に基づいてＸ軸方向駆動
装置４及びＹ軸方向駆動装置６を制御し、Ｚ軸ステージ
９のＸＹ軸方向の位置決めを行う。ステップＳ７におい
ては、装着されているレチクル１８の形状及び情報入力
装置２３から入力されたシャドウマスクパターンの形状
寸法データ及びエアマイクロ１２からの検出信号等に基
づいて、Ｚ軸方向駆動装置１０を制御し、Ｚ軸ステージ
９をＺ軸方向に位置決めする。ステップＳ８では、必要
に応じ、感光板１４のＸＹ軸方向の位置調整を、微動ス
テージ駆動装置８により磁気微動ステージ７を駆動して
行う。ステップＳ９においては、光源駆動装置１６によ
って光源１５を点灯し、Ｚ軸ステージ９上に載置された
感光板１４上のシャドウマスク有効領域２６内にアパー
チャ１７の像を結像させる。

【００２３】ステップＳ５において、アパーチャ１７に
よる孔パターン２７を感光板１４上に形成したとき、そ
れがシャドウマスク有効領域外になると判断した場合に
は、ステップＳ１０に移行する。ステップＳ１０におい
ては、所定形状孔パターン２７を形成したときにシャド
ウマスク有効領域２６内に位置する部分の面積及びその
中心位置等に鑑みて、シャドウマスク有効領域２６内に
形成すべき矩形の修正孔パターン（２８Ａ，２８Ｂ）の
位置及び大きさを算出する。

【００２４】ステップＳ１１では、ステップＳ１０にお
いて算出した修正孔パターンの位置情報に基づいてＸ軸
方向駆動装置４及びＹ軸方向駆動装置６を制御し、Ｚ軸
ステージ９のＸＹ軸方向の位置決めを行う。ステップＳ
１２では、ステップＳ１０で算出した修正孔パターンの
形状情報に基づいて、バリアブルアパーチャ駆動装置２
１を制御し、バリアブルアパーチャ２０を修正孔パター
ンに対応した形状とする。ステップＳ１３においては、
バリアブルアパーチャ２０の形状及びエアマイクロ１２
からの検出信号等に基づいて、Ｚ軸方向駆動装置１０を
制御し、Ｚ軸ステージ９をＺ軸方向に位置決めする。ス
テップＳ１４においては、必要に応じ、感光板１４のＸ
Ｙ軸方向の微調整を、微動ステージ駆動装置８により磁
気微動ステージ７を駆動して行う。

【００２５】ステップＳ１５では、光源駆動装置１６に
よって光源１５を点灯し、Ｚ軸ステージ９上に載置され
た感光板１４上に、バリアブルアパーチャ２０によって
形成される修正孔パターンを露光する。ステップＳ９及
びステップＳ１５において露光が完了すると、ステップ
Ｓ３に移行して次のデータの読み出しを行う。

【００２６】〔他の実施例〕上述の実施例において、シ
ャドウマスク有効領域内の所定形状孔パターンはレチク
ル１８に形成されたアパーチャ１７を利用したものであ
るが、バリアブルアパーチャ２０を利用して所定形状孔
パターンを形成することも可能である。また、所定形状
の孔パターンがシャドウマスクのスカート部分に構成さ
れるハーフエッチング部外にはみ出す場合にも、修正形
状孔パターンを形成するように構成することもできる。

【００２７】

【発明の効果】

（１）本発明に係るシャドウマスク用パターン版製造装
置では、所定形状孔パターンではその一部がシャドウマ
スク有効領域外になる場合に、修正形状孔パターンをシ
ャドウマスク有効領域内に形成するので、製造作業が軽
減され、製造コストが低減する。しかも精度の高いシャ
ドウマスク用パターン版の製造が可能となる。

【００２８】なお、基台と、前記基台に対して水平のＸ
軸方向に移動可能なＸ軸スライドと、前記基台に対して
前記Ｘ軸方向に直交しかつ水平のＹ軸方向に移動可能な
Ｙ軸スライドとをさらに備え、前記露光光学系が前記Ｘ
軸スライドに設けられ、前記載置台が前記Ｙ軸スライド
に設けられている場合には、位置精度が向上するので、
より精度の高いシャドウマスク用パターン版の製造が可
能となる。

【００２９】また、前記露光光学系が開口面積が可変で
あるバリアブルアパーチャを備え、前記第２照射制御手
段は前記バリアブルアパーチャを制御する場合には、前
記効果がより顕著になる。そして、前記バリアブルアパ
ーチャが矩形の修正形状孔パターンを形成する場合に
は、アパーチャ面積の変更が容易になり、より精度の高
いシャドウマスク用パターン版の製造が可能となる。さ
らに、前記露光光学系が、一定形状のアパーチャを有す
るレチクルを備えている場合には、必要に応じてレチク
ルとバリアブルアパーチャを適宜に選択使用できるの
で、より精度の高いシャドウマスク用パターン版の製造
が可能となる。 （２）本発明に係るシャドウマスク用パターン版製造方
法では、所定形状孔パターンではその一部がシャドウマ
スク有効領域外になる場合に、修正形状孔パターンをシ
ャドウマスク有効領域内に形成するので、製造作業が軽
減され、製造コストが低減する。しかも精度の高いシャ
ドウマスク用パターン版の製造が可能となる。

【００３０】なお、前記第２露光工程が、バリアブルア
パーチャを用いて行われる場合には、アパーチャ面積を
適宜に変更できるので、より精度の高いシャドウマスク
用パターン版の製造が可能となる。また、前記バリアブ
ルアパーチャが矩形の修正形状孔パターンを形成する場
合には、アパーチャ面積の変更が容易になり、より精度
の高いシャドウマスク用パターン版の製造が可能とな
る。さらに、前記第１露光工程が、一定形状のアパーチ
ャを有するレチクルを用いて行われる場合には、必要に
応じてレチクルとバリアブルアパーチャを適宜に選択使
用できるので、より精度の高いシャドウマスク用パター
ン版の製造が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例が採用されるシャドウマスク
用パターン版製造装置の構成図。

【図２】その制御ブロック図。

【図３】感光板上に形成される孔パターンの説明図。

【図４】実施例の制御フローチャート。

【符号の説明】

１ 基台 ２ Ｘ軸スライド ３ 露光光学系 ６ Ｙ軸スライド ９ Ｚ軸ステージ １４ 感光板 １７ アパーチャ １８ レチクル ２０ バリアブルアパーチャ ２２ 制御部 ２６ 有効領域 ２７ 所定形状孔パターン ２８Ａ，２８Ｂ 修正形状孔パターン

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】シャドウマスクパターンを感光板のシャド
   ウマスク有効領域に焼き付けるシャドウマスク用パター
   ン版製造装置であって、 前記感光板を載置する載置台と、 前記載置台上の感光板に光を照射する露光光学系と、 前記シャドウマスクパターンに応じて、前記感光板上に
   多数の所定形状孔パターンを形成するように、前記露光
   光学系を制御する第１照射制御手段と、 前記感光板のシャドウマスク有効領域端縁部において、
   前記所定形状孔パターンではその一部がシャドウマスク
   有効領域外になる場合に、前記所定形状孔パターンに代
   えて、前記所定形状孔パターンのシャドウマスク有効領
   域内の位置に修正形状孔パターンを形成するように前記
   露光光学系を制御する第２照射制御手段と、を備えたシ
   ャドウマスク用パターン版製造装置。
2. 【請求項２】基台と、前記基台に対して水平のＸ軸方向
   に移動可能なＸ軸スライドと、前記基台に対して前記Ｘ
   軸方向に直交しかつ水平のＹ軸方向に移動可能なＹ軸ス
   ライドとをさらに備え、前記露光光学系が前記Ｘ軸スラ
   イドに設けられ、前記載置台が前記Ｙ軸スライドに設け
   られている、請求項１に記載のシャドウマスク用パター
   ン版製造装置。
3. 【請求項３】前記露光光学系は開口面積が可変であるバ
   リアブルアパーチャを備え、前記第２照射制御手段は前
   記バリアブルアパーチャを制御する、請求項１または２
   に記載のシャドウマスク用パターン版製造装置。
4. 【請求項４】前記バリアブルアパーチャは矩形の修正形
   状孔パターンを形成する、請求項３に記載のシャドウマ
   スク用パターン版製造装置。
5. 【請求項５】前記露光光学系は、一定形状のアパーチャ
   を有するレチクルを備えている、請求項１ないし４のい
   ずれかに記載のシャドウマスク用パターン版製造装置。
6. 【請求項６】シャドウマスクパターンを感光板のシャド
   ウマスク有効領域に焼き付けるシャドウマスク用パター
   ン版製造方法であって、 前記シャドウマスクパターンに応じて、前記感光板上に
   多数の所定形状孔パターンを形成する第１露光工程と、 前記感光板のシャドウマスク有効領域端縁部において、
   前記所定形状孔パターンではその一部がシャドウマスク
   有効領域外になる場合に、前記所定形状孔パターンに代
   えて、前記所定形状孔パターンのシャドウマスク有効領
   域内の位置に修正形状孔パターンを形成する第２露光工
   程と、を含むシャドウマスク用パターン版製造方法。
7. 【請求項７】前記第２露光工程はバリアブルアパーチャ
   を用いて行われる、請求項６に記載のシャドウマスク用
   パターン版製造方法。
8. 【請求項８】前記バリアブルアパーチャは矩形の修正形
   状孔パターンを形成する、請求項７に記載のシャドウマ
   スク用パターン版製造装置。
9. 【請求項９】前記第１露光工程は、一定形状のアパーチ
   ャを有するレチクルを用いて行われる、請求項６ないし
   ８のいずれかに記載のシャドウマスク用パターン版製造
   方法。