JPH07281434A - Photopolymerizable composition - Google Patents
Photopolymerizable compositionInfo
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- JPH07281434A JPH07281434A JP7474394A JP7474394A JPH07281434A JP H07281434 A JPH07281434 A JP H07281434A JP 7474394 A JP7474394 A JP 7474394A JP 7474394 A JP7474394 A JP 7474394A JP H07281434 A JPH07281434 A JP H07281434A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光重合性組成物に関する
ものである。特に可視領域の光線に対して極めて高感度
を示し、現像可視画性に優れた光重合性組成物に関する
ものである。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a photopolymerizable composition. In particular, the present invention relates to a photopolymerizable composition which exhibits extremely high sensitivity to light rays in the visible region and is excellent in visible image development.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、光重合系を利用した画像形成法は
多数知られている。例えば、付加重合可能なエチレン性
二重結合を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望によ
り用いられる有機高分子結合剤等からなる光重合性組成
物を調製し、この光重合性組成物を支持体上に塗布して
光重合性組成物の層を設けた感光材料を作成し、所望画
像を像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分を
溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方
法、上述感光材料の少なくとも一方が透明である2枚の
支持体間に光重合性組成物の層を設けたものであり、透
明支持体側より像露光し光による接着強度の変化を惹起
させた後、支持体を剥離することにより画像を形成する
方法、その他光重合性組成物層の光によるトナー付着性
の変化を利用した画像作成方法等がある。これらの方法
に応用される光重合性組成物の光重合開始剤としては従
来、ベンゾイル、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジ
ルケタール、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンジ
ル、あるいはミヒラーケトンなどが用いられてきた。し
かしながら、これらの光重合開始剤は400nm以下の
紫外線領域の光線に対する光重合開始能力に比較し、4
00nm以上の可視光線領域の光線に対するそれは顕著
に低く、従ってそれらを含む光重合性組成物の応用範囲
を限定してきた。2. Description of the Related Art Conventionally, many image forming methods utilizing a photopolymerization system are known. For example, a photopolymerizable composition comprising a compound containing an addition-polymerizable ethylenic double bond, a photopolymerization initiator, and an organic polymer binder optionally used is prepared, and the photopolymerizable composition is supported. A photosensitive material having a layer of the photopolymerizable composition applied on the body is prepared, and the desired image is imagewise exposed to polymerize and cure the exposed portion, and the unexposed portion is dissolved and removed to form a cured relief image. And a layer of a photopolymerizable composition is provided between two supports in which at least one of the above-mentioned light-sensitive materials is transparent, and the transparent support side is imagewise exposed to cause a change in adhesive strength due to light. After that, there is a method of forming an image by peeling the support, and an image forming method utilizing the change of toner adhesion of the photopolymerizable composition layer due to light. Conventionally, benzoyl, benzoin alkyl ether, benzyl ketal, benzophenone, anthraquinone, benzyl, Michler's ketone, etc. have been used as the photopolymerization initiator of the photopolymerizable composition applied to these methods. However, these photopolymerization initiators have a photopolymerization initiation ability of 4 nm or less in the ultraviolet region of 400 nm or less.
It is significantly lower for light in the visible region above 00 nm and thus has limited the range of applications of photopolymerizable compositions containing them.
【0003】近年、画像形成技術の発展に伴ない可視領
域の光線に対し高度な適応性を有するフォトポリマーが
強く要請される様になってきた。それは、例えば、非接
触型の投影露光製版や可視光レーザーによるレーザー製
版等に適合した感光材料である。これら技術の中で、特
にアルゴンイオンレーザーの可視光の発振ビームを用い
た製版方式は最も将来有望視された技法の一つと考えら
れている。In recent years, with the development of image forming technology, there has been a strong demand for a photopolymer having a high adaptability to light rays in the visible region. For example, it is a light-sensitive material suitable for non-contact type projection exposure plate making, laser plate making by visible light laser, and the like. Among these techniques, the plate making method using an oscillation beam of visible light of an argon ion laser is considered to be one of the most promising techniques in the future.
【0004】可視光領域の光線に感応し得る光重合開始
系を含有する光重合性組成物に関しては、従来、いくつ
かの提案がなされてきた。例えば、ヘキサアリールビイ
ミダゾールとラジカル発生剤および染料の系(特公昭4
5−37377号公報)、ヘキサアリールビイミダゾー
ルと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトンの系
(特開昭47−2528号、特開昭54−155292
号各公報)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料
の系(特開昭48−84183号公報)、置換トリアジ
ンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024
号公報)、ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−1
12681号、特開昭58−15503号、特開昭60
−88005号各公報)、置換トリアジンと増感剤の系
(特開昭58−29803号、特開昭58−40302
号各公報)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオー
ルの系(特開昭59−56403号公報)、有機過酸化
物と色素の系(特開昭59−140203号、特開昭5
9−189340号各公報)、チタノセンを光重合開始
系に使用する系(特開昭59−152396号、特開昭
61−151197号、特開昭63−10602号、特
開昭63−41484号、特開平2−291号、特開平
3−12403号、特開平3−20293号、特開平3
−27393号、特開平3−52050号各公報)、チ
タノセンとキサンテン色素さらにアミノ基或いはウレタ
ン基を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含
有化合物を組合せた系(特開平4−221958号、特
開平4−219756号各公報)、チタノセンと3−ケ
トクマリン色素の系(特開昭63−221110号公
報)等が挙げられる。Several proposals have hitherto been made for a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiation system which is sensitive to light rays in the visible light region. For example, a system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No.
5-37377), a system of hexaarylbiimidazole and (p-dialkylaminobenzylidene) ketone (JP-A-47-2528, JP-A-54-155292).
Each of the above publications), a system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (JP-A-48-84183), a system of a substituted triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-151024).
No.), a system of ketocoumarin and an activator (JP-A-52-1).
12681, JP-A-58-15503, JP-A-60
-88005), a system of substituted triazine and a sensitizer (JP-A-58-29803, JP-A-58-40302).
Each of the above publications), biimidazole, a styrene derivative, a thiol system (JP-A-59-56403), an organic peroxide-dye system (JP-A-59-140203, JP-A-59-140203).
No. 9-189340), systems using titanocene as a photopolymerization initiation system (JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-10602, JP-A-63-41484). JP-A-2-291, JP-A-3-12403, JP-A-3-20293, and JP-A-3
No. 27393, JP-A-3-52050), a system in which a titanocene, a xanthene dye, and an addition-polymerizable ethylenic saturated double bond-containing compound having an amino group or a urethane group are combined (JP-A-4-221958, JP-A-4-219756), systems of titanocene and 3-ketocoumarin dyes (JP-A-63-221110), and the like.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来の技術は確かに可視光線に対し有効であるが、感
度があまり高くなく実用的見地からはなお不充分である
という従来技術の難点があった。However, although these prior arts are certainly effective for visible light, they have the drawback that they are not very sensitive and still inadequate from a practical point of view. It was
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる難
点を克服して、優れた光重合性組成物を得るべく鋭意検
討の結果、少なくとも付加重合可能な化合物および光重
合開始系を含む光重合性組成物であって、該付加重合可
能な化合物が1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有
しているものにおいて該光重合開始系が、特定の骨格を
有する増感剤および該増感剤との共存下で光照射時に活
性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物を少なくとも
一種含有することにより、高感度で実用性が高くなるこ
とを見出し、本発明に到達した。Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations by the present inventors to overcome such difficulties and obtain an excellent photopolymerizable composition, the present inventors have found that at least a compound capable of addition polymerization and a photopolymerization initiation system are included. A photopolymerizable composition, wherein the addition-polymerizable compound has at least one ethylenically unsaturated double bond, and the photopolymerization initiation system has a sensitizer having a specific skeleton; The present inventors have found that the presence of at least one titanocene compound capable of generating an active radical upon irradiation with light in the coexistence with the sensitizer enhances sensitivity and practicality, and has reached the present invention.
【0007】即ち、本発明の目的は、可視光線のような
長波長光線に対し、より高感度な光重合性組成物を提供
することにある。本発明の他の目的は、例えばYAGレ
ーザー或いは、アルゴンイオンレーザーによるレーザー
製版の場合、より低出力なレーザー、例えば半導体レー
ザーを用いたYAGレーザー或いは空冷アルゴンレーザ
ーを用いてより高速度な製版作業を可能にする光重合性
組成物を提供することにある。That is, it is an object of the present invention to provide a photopolymerizable composition which is more sensitive to long wavelength light such as visible light. Another object of the present invention is, for example, in the case of laser plate making with a YAG laser or an argon ion laser, a higher speed plate making operation using a laser having a lower output, for example, a YAG laser using a semiconductor laser or an air-cooled argon laser. It is to provide a photopolymerizable composition that enables it.
【0008】本発明の別の目的は、コスト的、時間的に
極めて有利な製版作業を可能にする光重合性組成物を提
供することにある。しかして、かかる本発明の目的は、
少なくとも付加重合可能な化合物および光重合開始系を
含む光重合性組成物であって、該付加重合可能な化合物
が1個以上のエチレン性不飽和二重結合を有しており、
かつ該光重合開始系が(a)下記一般式〔I〕で表わさ
れる増感剤およびAnother object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition which enables a plate making operation which is extremely advantageous in terms of cost and time. Therefore, the object of the present invention is to
A photopolymerizable composition comprising at least an addition-polymerizable compound and a photopolymerization initiation system, wherein the addition-polymerizable compound has at least one ethylenically unsaturated double bond,
The photopolymerization initiation system is (a) a sensitizer represented by the following general formula [I] and
【0009】[0009]
【化2】 [Chemical 2]
【0010】(式中、R1 〜R3 は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、置換又は非
置換の炭化水素環残基、置換又は非置換の複素環残基も
しくは−SO3 −R5 を表わし、R4 は、水素原子、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、シアノ基、置換
又は非置換の炭化水素環残基もしくは置換又は非置換の
複素環残基を表わし、R5は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アルカリ金属原子または4級
アンモニウム基を表わし、環Aは、置換又は非置換の1
〜2核の炭化水素環もしくは置換又は非置換の複素環を
表わし、X1 およびX2 は、それぞれハロゲン原子、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、置換又は非置換
の炭化水素環残基もしくは置換又は非置換の複素環残基
を表わす。)(In the formula, R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue, Represents an unsubstituted heterocyclic residue or —SO 3 —R 5 , and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue or a substituted or unsubstituted Represents a substituted heterocyclic residue, R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkali metal atom or a quaternary ammonium group, and ring A represents a substituted or unsubstituted 1
To a dinuclear hydrocarbon ring or a substituted or unsubstituted heterocycle, wherein X 1 and X 2 are each a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue or a substituted group. Or represents an unsubstituted heterocyclic residue. )
【0011】(b)該増感剤との共存下で光照射時に活
性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物を含有するこ
とを特徴とする光重合性組成物によって容易に達成され
る。以下本発明について詳細に説明する。本発明の光重
合性組成物において第一の必須成分として含まれるエチ
レン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する付加重合
可能な化合物(以下、「エチレン性化合物」と略す)と
は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた場合、第
二の必須成分である光重合開始系の作用により付加重合
し、硬化するようなエチレン性不飽和二重結合を有する
化合物であって、例えば前記の二重結合を有する単量
体、または、側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重
結合を有する重合体である。なお、本発明における単量
体の意味するところは、所謂高分子物質に相対する概念
であって、従って、狭義の単量体以外に二量体、三量
体、オリゴマーをも包含するものである。(B) A photopolymerizable composition characterized by containing a titanocene compound capable of generating an active radical upon irradiation with light in the presence of the sensitizer. The present invention will be described in detail below. The addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond (hereinafter abbreviated as “ethylenic compound”) contained as the first essential component in the photopolymerizable composition of the present invention means photopolymerization. When the photosensitive composition is irradiated with actinic rays, it is a compound having an ethylenically unsaturated double bond that undergoes addition polymerization by the action of a photopolymerization initiation system that is a second essential component and is cured, for example, It is a monomer having the above double bond, or a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in the side chain or main chain. Incidentally, the meaning of the monomer in the present invention is a concept facing a so-called polymer substance, and therefore includes not only a narrowly defined monomer but also a dimer, a trimer and an oligomer. is there.
【0012】エチレン性不飽和結合を有する単量体とし
ては例えば不飽和カルボン酸、脂肪族ポリヒドロキシ化
合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポリヒド
ロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;不飽和
カルボン酸と多価カルボン酸および前述の脂肪族ポリヒ
ドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価
ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエ
ステル等が挙げられる。Examples of the monomer having an ethylenically unsaturated bond include unsaturated carboxylic acid, ester of aliphatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid; ester of aromatic polyhydroxy compound and unsaturated carboxylic acid; Examples thereof include esters obtained by an esterification reaction of a saturated carboxylic acid with a polyvalent carboxylic acid and the above-mentioned aliphatic polyhydroxy compound, polyvalent hydroxy compound such as aromatic polyhydroxy compound, and the like.
【0013】前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステルは限定はされないが、具体例と
しては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グ
リセロールアクリレート等のアクリル酸エステル、これ
ら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えた
メタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイ
タコン酸エステル、クロトネートに代えたクロトン酸エ
ステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル
等がある。The ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid is not limited, but specific examples thereof include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate. Acrylic esters such as pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate. Methacrylic acid ester replaced, Itaconic acid ester similarly replaced with itaconate Crotonate is maleic acid ester, and was replaced with crotonic acid ester or maleate was replaced.
【0014】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボ
ン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物とのエ
ステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも
単一物では無いが代表的な具体例を挙げれば、アクリル
酸、フタル酸およびエチレングリコールの縮合物、アク
リル酸、マレイン酸およびジエチレングリコールの縮合
物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペンタエリスリ
トールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオ
ールおよびグリセリンの縮合物等がある。Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. The ester obtained by the esterification reaction of an unsaturated carboxylic acid with a polyvalent carboxylic acid or a polyvalent hydroxy compound is not necessarily a single substance, but representative specific examples include acrylic acid, phthalic acid and ethylene glycol. Examples thereof include condensates, condensates of acrylic acid, maleic acid and diethylene glycol, condensates of methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, condensates of acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin.
【0015】その他本発明に用いられるエチレン性化合
物の例としては、エチレンビスアクリルアミド等のアク
リルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル
類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物などが
有用である。前記した主鎖にエチレン性不飽和結合を有
する重合体は、例えば、不飽和二価カルボン酸とジヒド
ロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエステ
ル、不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応に
より得られるポリアミド等がある。側鎖にエチレン性不
飽和結合を有する重合体は側鎖に不飽和結合をもつ二価
カルボン酸例えばイタコン酸、プロピリデンコハク酸、
エチリデンマロン酸等とジヒドロキシまたはジアミン化
合物との縮合重合体がある。また側鎖にヒドロキシ基や
ハロゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基をも
つ重合体、例えばポリビニルアルコール、ポリ(2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート)、ポリエピクロルヒド
リン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不
飽和カルボン酸との高分子反応により得られるポリマー
も好適に使用し得る。Other examples of the ethylenic compound used in the present invention include acrylamides such as ethylenebisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; and vinyl group-containing compounds such as divinylphthalate. The above-mentioned polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain is, for example, polyester obtained by polycondensation reaction of unsaturated divalent carboxylic acid and dihydroxy compound, polycondensation reaction of unsaturated divalent carboxylic acid and diamine. And the like. The polymer having an ethylenically unsaturated bond in the side chain is a divalent carboxylic acid having an unsaturated bond in the side chain, for example itaconic acid, propylidene succinic acid,
There is a condensation polymer of ethylidene malonic acid and the like and a dihydroxy or diamine compound. Further, a polymer having a functional group having a reactive activity such as a hydroxy group or a methyl halide group in its side chain, for example, polyvinyl alcohol, poly (2-hydroxyethyl methacrylate), polyepichlorohydrin, etc. and acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, etc. Polymers obtained by the macromolecular reaction with the unsaturated carboxylic acid can also be suitably used.
【0016】以上記載したエチレン性化合物の内、アク
リル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単量体が
特に好適に使用できる。次に本発明の光重合組成物の第
二の必須成分である光重合開始系について説明する。本
発明の光重合開始系は、2種成分の組合せから構成され
ており、その第1成分は、本願発明において(a)とし
て表わされる前記した一般式〔I〕で示される化合物で
ある。これらの増感剤は、限定はされないが例えば下記
の反応式(1)〜(3)に示すような、相当とするイミ
ダゾール誘導体と、ピロール誘導体を縮合させた後、Among the above-mentioned ethylenic compounds, acrylic acid ester or methacrylic acid ester monomers can be particularly preferably used. Next, the photopolymerization initiation system which is the second essential component of the photopolymerization composition of the present invention will be described. The photopolymerization initiation system of the present invention is composed of a combination of two kinds of components, and the first component thereof is the compound represented by the above general formula [I] represented as (a) in the present invention. These sensitizers include, but are not limited to, for example, after condensation of a corresponding imidazole derivative and a pyrrole derivative as shown in the following reaction formulas (1) to (3),
【0017】[0017]
【化3】 米国特許4774339号明細書,J.H.Boyer
et al,Hetroatom Chemistr
y,Vol.1,5,389(1990)に記載の方法
によりホウ素化〔式(4)〕し合成される。[Chemical 3] U.S. Pat. No. 4,774,339, J. H. Boyer
et al, Heroatom Chemistr
y, Vol. 1,5,389 (1990) and borated [formula (4)] and synthesized.
【0018】R1 〜R5 、X1 およびX2 がアルキル基
を表わす場合、炭素数1〜6であることが好ましく、炭
素数1〜3であることが特に好ましく、直鎖であっても
側鎖を有していてもよい。R1 〜R3 がアラルキル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基を表わす場合並びに
R4 およびR5 がアラルキル基を表わす場合、その炭素
鎖側の炭素数は1〜3であることが特に好ましい。R1
〜R3 、X1 およびX 2 がハロゲン原子を表わす場合、
一般に臭素原子または塩素原子であることが好ましく、
R5 がアルカリ金属原子を表わす場合には、一般に、リ
チウム原子、ナトリウム原子またはカリウム原子である
ことが好ましい。R1 〜R4 、X1 およびX2 が炭化水
素環残基を表わす場合、炭化水素環は一核または二核で
あることが好ましく、置換基としては炭素数1〜3のア
ルキル基であることが特に好ましい。また、複素環基に
含まれるヘテロ原子としては、一般に窒素原子、酸素原
子または硫黄原子であることが好ましい。R1~ RFive, X1And X2Is an alkyl group
When it represents, it preferably has 1 to 6 carbon atoms, and
It is particularly preferable that the prime number is 1 to 3, and even if it is a straight chain
It may have a side chain. R1~ R3Is an aralkyl group,
When representing an acyl group or an alkoxycarbonyl group, and
RFourAnd RFiveRepresents a aralkyl group, the carbon
The number of carbon atoms on the chain side is particularly preferably 1 to 3. R1
~ R3, X1And X 2Is a halogen atom,
Generally, it is preferably a bromine atom or a chlorine atom,
RFiveWhen represents an alkali metal atom, it is generally
Is a thium atom, sodium atom or potassium atom
It is preferable. R1~ RFour, X1And X2Carbonized water
A hydrocarbon ring is mononuclear or dinuclear when it represents a radical residue.
It is preferable that the substituent has 1 to 3 carbon atoms.
Particularly preferred is a rukyl group. Also, for heterocyclic groups
The hetero atom contained is generally a nitrogen atom or an oxygen source.
It is preferably a child or a sulfur atom.
【0019】なお、本発明において環Aと表現するの
は、正確にはイミダゾール環の4位と5位の炭素原子を
含んで構成された環を意味するものであるが、この環A
は、置換又は非置換の1〜2核の炭化水素環もしくは置
換又は非置換の複素環を表わすが、より好ましくは、ベ
ンゼン環、ナフタレン環である。又これらの環の置換基
としては炭素数1〜3のアルキル基であることが好まし
い。また複素環に含まれるヘテロ原子としては、一般に
窒素原子、酸素原子または硫黄原子であることが好まし
い。In the present invention, the expression "ring A" means, to be exact, a ring composed of carbon atoms at the 4- and 5-positions of the imidazole ring.
Represents a substituted or unsubstituted 1- to 2-nuclear hydrocarbon ring or a substituted or unsubstituted heterocycle, and more preferably a benzene ring or a naphthalene ring. The substituents on these rings are preferably alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms. The hetero atom contained in the heterocycle is generally preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
【0020】以下に、一般式〔I〕で表わされる増感剤
についてその代表例をあげるが、本発明に用いる一般式
〔I〕で表わされる増感剤はこれら具体例に限定される
ものではない。なお、下記例示において、記載のない限
り、R1 ,R3 はメチル基を表わし、環Aはベンゼン環
を表わし、X1 およびX2 はフッ素原子を表わすものと
する。 化合物例Typical examples of the sensitizer represented by the general formula [I] are shown below, but the sensitizer represented by the general formula [I] used in the present invention is not limited to these specific examples. Absent. In the following examples, R 1 and R 3 represent a methyl group, ring A represents a benzene ring, and X 1 and X 2 represent a fluorine atom, unless otherwise specified. Compound example
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】本発明では上記の如き増感剤の内少なくと
も一種以上を選択して使用に供する。本発明の光開始系
を構成する第2の成分は、本願発明において(b)とし
て表わされる前記した増感剤との共存下で光照射した場
合、活性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物であ
る。該チタノセン化合物は、特に限定はされないが例え
ば特開昭59−152396号、特開昭61−1511
97号各公報に記載されている各種チタノセン化合物か
ら適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,
6−ペンタフルオロフェニ−1−イル(以下B−1と表
わす)、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフ
ルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−
フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフル
オロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェ
ニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ
−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル(以下B
−2と表わす)等を挙げることができる。In the present invention, at least one of the sensitizers described above is selected and used. The second component constituting the photoinitiating system of the present invention is a titanocene compound capable of generating an active radical when irradiated with light in the coexistence with the sensitizer represented by (b) in the present invention. The titanocene compound is not particularly limited, but for example, JP-A-59-152396 and JP-A-61-1511.
It can be appropriately selected and used from various titanocene compounds described in JP-A-97. More specifically,
Di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-
Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,
6-pentafluorophen-1-yl (hereinafter referred to as B-1), dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,
3,5,6-Tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-
Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-yl,
Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-
Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2 , 3,5,6-Tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti
-Bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl) -phen-1-yl (hereinafter B
-2) and the like.
【0023】以上述べた本発明の光重合性組成物に用い
られる光重合開始系を構成する増感剤およびチタノセン
化合物の好適な使用量は特に限定されないが、エチレン
性化合物100重量部に対し、増感剤は0.05〜20
重量部の範囲から選択されることが一般的で、好ましく
は0.2〜10重量部、チタノセン化合物は0.5〜2
0重量部の範囲から選択されることが一般的で、好まし
くは0.5〜10重量部である。The suitable amounts of the sensitizer and the titanocene compound constituting the photopolymerization initiation system used in the above-described photopolymerizable composition of the present invention are not particularly limited, but 100 parts by weight of the ethylenic compound is used. Sensitizer is 0.05 to 20
It is generally selected from the range of parts by weight, preferably 0.2 to 10 parts by weight, the titanocene compound is 0.5 to 2 parts by weight.
It is generally selected from the range of 0 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight.
【0024】本発明の光重合性組成物には、必要に応じ
て、感度の向上、または、保存安定性などを改善する目
的で、特開昭59−56403号、特開昭58−298
03号各公報に記載のチタノセン以外のラジカルを発生
しうる活性剤や、アミン化合物をエチレン性化合物10
0重量部に対し、0.1〜30重量部、好ましくは0.
5〜20重量部の割合でさらに添加することが出来る。In the photopolymerizable composition of the present invention, for the purpose of improving sensitivity or improving storage stability, if necessary, JP-A-59-56403 and JP-A-58-298.
The activator capable of generating radicals other than titanocene described in JP-A No. 03 and an amine compound are ethylenic compounds 10
0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.
It can be further added in a proportion of 5 to 20 parts by weight.
【0025】特に好ましい添加剤としては、ジアルキル
アミン誘導体が挙げられ、ミヒラーズケトン、p−ジエ
チルアミノ安息香酸エチル等が挙げられる。本発明の光
重合性組成物は前記の核構成成分の他に本組成物の改
質、光硬化後の物性改善の為に結合剤として有機高分子
物質を更に添加することが好ましい。結合剤は相溶性、
皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的に応じて適宜選
択すればよい。具体的には例えば水系現像性改善にはア
クリル酸共重合体、メタクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、側鎖に
カルボキシル基を有する酸性セルロース変性物、ポリエ
チレンオキシド、ポリビニルピロリドン等がある。Particularly preferred additives include dialkylamine derivatives such as Michler's ketone and ethyl p-diethylaminobenzoate. In the photopolymerizable composition of the present invention, in addition to the above-mentioned core constituents, it is preferable to further add an organic polymer substance as a binder in order to modify the composition and improve physical properties after photocuring. Binders are compatible,
It may be appropriately selected depending on the purpose of improving the film forming property, the developing property, the adhesive property and the like. Specifically, for example, to improve the water-based developability, acrylic acid copolymer, methacrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, acidic cellulose modified product having a carboxyl group in the side chain, Examples include polyethylene oxide and polyvinylpyrrolidone.
【0026】皮膜強度、接着性の改善にはエピクロロヒ
ドリンとビスフェノールAとのポリエーテル;可溶性ナ
イロン;ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル
酸アルキルやポリアクリル酸アルキル;メタクリル酸ア
ルキルとアクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル
酸、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重
合体;アクリロニトリルと塩化ビニル、塩化ビニリデン
との共重合体;塩化ビニリデン、塩素化ポリオレフィ
ン、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体;ポリ酢酸ビ
ニル;アクリロニトリルとスチレンとの共重合体;アク
リロニトリルとブタジエン、スチレンとの共重合体;ポ
リビニルアルキルエーテル;ポリビニルアルキルケト
ン;ポリスチレン;ポリアミド;ポリウレタン;ポリエ
チレンテレフタレートイソフタレート;アセチルセルロ
ースおよびポリビニルブチラール等を挙げることができ
る。これらの結合剤は前記エチレン性化合物に対し重量
比率で一般的には500%以下、好ましくは200%以
下の範囲で添加混合することができる。To improve the film strength and adhesion, a polyether of epichlorohydrin and bisphenol A; soluble nylon; polyalkyl methacrylate such as polymethylmethacrylate or alkyl polyacrylate; alkyl methacrylate and acrylonitrile, acrylic acid , Copolymers with methacrylic acid, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, etc .; copolymers of acrylonitrile with vinyl chloride, vinylidene chloride; vinylidene chloride, chlorinated polyolefins, copolymers of vinyl chloride with vinyl acetate; poly Vinyl acetate; Acrylonitrile / styrene copolymer; Acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer; Polyvinyl alkyl ether; Polyvinyl alkyl ketone; Polystyrene; Polyamide; Polyurethane; Polyethylene terephthalate Phthalate; acetyl cellulose and polyvinyl butyral, and the like. These binders can be added and mixed in a weight ratio of generally 500% or less, preferably 200% or less with respect to the ethylenic compound.
【0027】本発明の光重合性組成物は必要に応じ更に
熱重合防止剤、着色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑剤、
塗布助剤その他の添加剤を添加することができる。熱重
合防止剤としては例えばハイドロキノン、p−メトキシ
フェノール、ピロガロール、カテコール、2,6−ジ−
t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトールなどがあ
り、着色剤としては例えばフタロシアニン系顔料、アゾ
系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エ
チルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染
料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。こ
れら熱重合防止剤や着色剤の添加量は前記結合剤を使用
した場合、エチレン性化合物と結合剤との合計重量に対
し熱重合防止剤が0.01〜3%、着色剤が0.1〜2
0%が好ましい。The photopolymerizable composition of the present invention may further contain a thermal polymerization inhibitor, a coloring agent, a plasticizer, a surface protective agent, a smoothing agent, if necessary.
Coating aids and other additives can be added. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, pyrogallol, catechol, 2,6-di-
There are t-butyl-p-cresol, β-naphthol, and the like. Examples of the colorant include phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes. , There are cyanine dyes. When the binder is used, the thermal polymerization inhibitor and the colorant are added in an amount of 0.01 to 3% of the thermal polymerization inhibitor and 0.1 of the colorant with respect to the total weight of the ethylenic compound and the binder. ~ 2
0% is preferable.
【0028】また、前記可塑剤としては例えばジオクチ
ルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレング
リコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレー
ト、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペー
ト、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が
あり、結合剤を使用した場合、エチレン性化合物と結合
剤との合計重量に対し10%以下添加することができ
る。Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and the like. When used, 10% or less of the total weight of the ethylenic compound and the binder can be added.
【0029】本発明の光重合性組成物を使用する際は、
無溶剤にて感光材料を形成するかまたは適当な溶剤に溶
解して溶液となしこれを支持体上に塗布、乾燥して感光
材料を調製することができる。溶剤としては例えばメチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、酢酸
アミル、プロピオン酸エチル、トルエン、キシレン、モ
ノクロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、
トリクロロエタン、ジメチルホルムアミド、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、ベン
トキソン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等
があり、一種または二種以上を併用して用いることがで
きる。When using the photopolymerizable composition of the present invention,
The light-sensitive material can be prepared by forming the light-sensitive material without a solvent or dissolving it in a suitable solvent to form a solution, which is applied on a support and dried. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, butyl acetate, amyl acetate, ethyl propionate, toluene, xylene, monochlorobenzene, carbon tetrachloride, trichloroethylene,
There are trichloroethane, dimethylformamide, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, bentoxone, propylene glycol monomethyl ether, and the like, and one kind or a combination of two or more kinds can be used.
【0030】本発明の光重合性組成物を用いて感光材料
を調製する際に適用される支持体は通常用いられるもの
はいずれでも良い。例えばアルミニウム、マグネシウ
ム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属またはそ
れらを主成分とした合金のシート;上質紙、アート紙、
剥離紙等の紙類;ガラス、セラミックス等の無機シー
ト;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
メチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−ナイロ
ン、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
ブチレート等のポリマーシート等がある。The support applied when preparing a light-sensitive material using the photopolymerizable composition of the present invention may be any of those usually used. For example, a sheet of metal such as aluminum, magnesium, copper, zinc, chromium, nickel, iron or an alloy containing them as a main component; high-quality paper, art paper,
Papers such as release paper; inorganic sheets such as glass and ceramics; polyethylene terephthalate, polyethylene, polymethylmethacrylate, polyvinyl chloride, vinyl chloride-
Polymer sheets such as vinylidene chloride copolymer, polystyrene, 6-nylon, cellulose triacetate, and cellulose acetate butyrate are available.
【0031】また本発明の光重合性組成物はさらに酸素
による感度低下や保存安定性の劣化等の悪影響を防止す
る為の公知技術、例えば、感光層上に剥離可能な透明カ
バーシートを設けたり酸素透過性の小さいロウ状物質、
水溶性ポリマー等による被覆層を設けることもできる。
本発明の組成物に適用し得る露光光源としては特に限定
されないがカーボンアーク、高圧水銀燈、キセノンラン
プ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステン
ランプ、ヘリウムカドミニウムレーザー、アルゴンイオ
ンレーザー等400nm以上の可視光線を含む汎用の光
源がより好適に使用し得る。Further, the photopolymerizable composition of the present invention is further provided with a known technique for preventing adverse effects such as sensitivity decrease and storage stability deterioration due to oxygen, for example, providing a peelable transparent cover sheet on the photosensitive layer. Wax-like substance with low oxygen permeability,
It is also possible to provide a coating layer made of a water-soluble polymer or the like.
The exposure light source that can be applied to the composition of the present invention is not particularly limited, but includes carbon arc, high pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, helium cadmium laser, argon ion laser, etc. visible light of 400 nm or more. A general-purpose light source can be used more suitably.
【0032】[0032]
【実施例】以下、本発明を実施例、および比較例により
更に具体的に説明するが、本発明は、その要旨を越えな
い限りこれらの実施例に限定されるものではない。 (I−3の合成)2−シアノメチルベンズイミダゾール
(0.1モル)と2,4−ジメチル−3−エチル−ピロ
ール(0.1モル)をジクロルメタン溶媒150mlに
溶解し、濃塩酸水溶液1mlを添加した後、40℃で1
時間撹拌し、室温にもどした後、1.5lの石油エーテ
ルを加え、12時間放置し、析出した、2−シアノメチ
ルベンズイミダゾールと2,4−ジメチル−3−エチル
−ピロールの縮合化合物の塩酸塩をろ過抽出した。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples unless it exceeds the gist. (Synthesis of I-3) 2-Cyanomethylbenzimidazole (0.1 mol) and 2,4-dimethyl-3-ethyl-pyrrole (0.1 mol) were dissolved in 150 ml of a dichloromethane solvent, and 1 ml of concentrated hydrochloric acid aqueous solution was dissolved. 1 at 40 ° C after addition
After stirring for 1 hour and returning to room temperature, 1.5 l of petroleum ether was added, and the mixture was allowed to stand for 12 hours and precipitated, hydrochloric acid of a condensation compound of 2-cyanomethylbenzimidazole and 2,4-dimethyl-3-ethyl-pyrrole. The salt was filtered and extracted.
【0033】次に、該塩酸塩(0.024モル)を60
0mlトルエンに分散撹拌させながら、トリエチルアミ
ン(0.113モル)を添加した後、室温で15分間撹
拌、さらにボロントリフロリドエーテライト(0.16
3モル)を添加し、80℃で15分間撹拌、40℃に冷
した後、該反応溶液を100mlの熱水で3回洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥、エバポレーションで濃縮した
後、シリカゲルカラム(100mesh,酢酸エチル−
n−ヘキサン1:9溶媒)でI−3を分離精製した。I
−3の赤外吸収スペクトルを図1として、吸収スペクト
ルを図2として示す。Next, the hydrochloride (0.024 mol) was added to 60
Triethylamine (0.113 mol) was added to 0 ml of toluene while stirring with dispersion, and then the mixture was stirred at room temperature for 15 minutes, and further boron trifluoride etherite (0.16 mol) was added.
3 mol), stirred at 80 ° C. for 15 minutes, cooled to 40 ° C., and washed the reaction solution with 100 ml of hot water three times,
After drying over magnesium sulfate and concentration by evaporation, a silica gel column (100 mesh, ethyl acetate-
I-3 was separated and purified with n-hexane 1: 9 solvent). I
The infrared absorption spectrum of -3 is shown in FIG. 1, and the absorption spectrum is shown in FIG.
【0034】実施例1〜4及び比較例1〜2 砂目立てかつ陽極酸化を施したアルミニウムシート上
に、ホワラーを用い、下記組成の感光性組成物塗布液を
乾燥膜厚2μmになるように塗布し、更に、その表面に
ポリビニルアルコール水溶液を、乾燥膜厚が3μmにな
るように塗布して感光材試料を作成した。Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 Using a whirler, a photosensitive composition coating solution having the following composition was coated on a grained and anodized aluminum sheet to a dry film thickness of 2 μm. Then, a polyvinyl alcohol aqueous solution was applied on the surface so that the dry film thickness was 3 μm to prepare a photosensitive material sample.
【0035】次に、この感光材試料に、ウシオ電気社製
キセノンランプ;UI−501Cを用い、ナルミ社製分
光感度測定装置により横軸が波長、縦軸が対数的に光強
度が弱くなる様に10秒間照射した。露光試料は、ブチ
ルセロソルブ2重量%、ケイ酸ナトリウム1重量%を含
む水溶液により現像を行ない、得られた硬化画像の高さ
より、光硬化画像形成に必要な最も少ない露光量を算出
し、その感光組成の感度とした。また、現像可視画性を
通常用いられるイエローライト下で目視により評価し
た。その結果を表−1に示す。Next, a xenon lamp; UI-501C manufactured by USHIO INC. Was used as a sample of this photosensitive material, and the abscissa axis represents wavelength and the ordinate axis decreased logarithmically the light intensity by a spectral sensitivity measurement apparatus manufactured by Narumi. For 10 seconds. The exposed sample was developed with an aqueous solution containing 2% by weight of butyl cellosolve and 1% by weight of sodium silicate, and the minimum exposure amount required for forming a photocured image was calculated from the height of the obtained cured image. And the sensitivity. Further, the development visual image quality was visually evaluated under a commonly used yellow light. The results are shown in Table-1.
【0036】[0036]
【表2】 〔感光性組成物塗布液〕 メタクリル酸メチル/メタクリル酸共重合体 …50部 (重量平均分子量45,000、共重合比85/15) トリメチロールプロパントリアクリレート …50部 メチルセロソルブ …800部 テトラハイドロフラン …50部 増感剤 …(表−1に記載) チタノセン化合物 …(表−1に記載)[Table 2] [Photosensitive composition coating liquid] Methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer: 50 parts (weight average molecular weight: 45,000, copolymerization ratio: 85/15) Trimethylolpropane triacrylate: 50 parts Methyl cellosolve: 800 parts Tetrahydrofuran ... 50 parts Sensitizer (listed in Table-1) Titanocene compound (listed in Table-1)
【0037】[0037]
【表3】 表−1中、〔S−1〕,〔S−2〕はそれぞれ、〔S−
1〕エオシンイエローイッシュ、〔S−2〕[Table 3] In Table-1, [S-1] and [S-2] are respectively [S-
1] Eosin yellowish, [S-2]
【0038】[0038]
【化4】 を表わす。[Chemical 4] Represents
【0039】[0039]
【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、可視光線、
特に長波長光線に対して極めて高感度なものであり、且
つ現像可視画性に優れたものである。従って、該組成物
は広範囲な応用分野に有用であって例えば平版、凹版、
凸版等印刷版の作成、プリント配線やICの作成の為の
フォトレジスト、ドライフィルム、レリーフ像や画像複
製などの画像形成、光硬化性のインク、塗料、接着剤等
に利用できるので工業的に極めて有用である。The photopolymerizable composition of the present invention is
In particular, it has extremely high sensitivity to long-wavelength light and has excellent visual development visibility. Therefore, the composition is useful in a wide range of applications, such as lithographic, intaglio,
It can be used industrially because it can be used for making printing plates such as letterpress, photoresist for making printed wiring and IC, dry film, image formation such as relief image and image duplication, photocurable ink, paint, adhesive, etc. Extremely useful.
【図1】KBr法によるI−3の赤外吸収スペクトルを
示す。FIG. 1 shows an infrared absorption spectrum of I-3 by a KBr method.
【図2】テトラハイドロフラン中のI−3の吸収スペク
トルを示す。FIG. 2 shows an absorption spectrum of I-3 in tetrahydrofuran.
Claims (1)
1個有する付加重合可能な化合物および光重合開始系を
含有する光重合性組成物において、該光重合開始系が、 (a)下記一般式〔I〕で表わされる増感剤および 【化1】 (式中、R1 〜R3 は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、置換又は非置換の炭化水
素環残基、置換又は非置換の複素環残基もしくは−SO
3 −R5 を表わし、R4 は、水素原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、シアノ基、置換又は非置換の
炭化水素環残基もしくは置換又は非置換の複素環残基を
表わし、R5は水素原子、アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、アルカリ金属原子または4級アンモニウム
基を表わし、環Aは、置換又は非置換の1〜2核の炭化
水素環もしくは置換又は非置換の複素環を表わし、X1
およびX2 は、それぞれハロゲン原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、置換又は非置換の炭化水素環
残基もしくは置換又は非置換の複素環残基を表わす。) (b)該増感剤との共存下で光照射時に活性ラジカルを
発生し得るチタノセン化合物を含有することを特徴とす
る光重合性組成物。1. A photopolymerizable composition comprising an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiation system, wherein the photopolymerization initiation system comprises (a) the following general formula: A sensitizer represented by [I] and (In the formula, R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue, Heterocyclic residue or -SO
3 represents a -R 5, R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue or a substituted or unsubstituted heterocyclic residue, R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkali metal atom or a quaternary ammonium group, and ring A is a substituted or unsubstituted 1 to 2 nucleus hydrocarbon ring or a substituted or unsubstituted heterocycle. Represents X 1
And X 2 each represent a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a substituted or unsubstituted hydrocarbon ring residue or a substituted or unsubstituted heterocyclic residue. (B) A photopolymerizable composition containing a titanocene compound capable of generating an active radical upon irradiation with light in the presence of the sensitizer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7474394A JPH07281434A (en) | 1994-04-13 | 1994-04-13 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7474394A JPH07281434A (en) | 1994-04-13 | 1994-04-13 | Photopolymerizable composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07281434A true JPH07281434A (en) | 1995-10-27 |
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ID=13556040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7474394A Pending JPH07281434A (en) | 1994-04-13 | 1994-04-13 | Photopolymerizable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH07281434A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112010000772T5 (en) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive lithographic printing plate material |
DE112011101165T5 (en) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material |
-
1994
- 1994-04-13 JP JP7474394A patent/JPH07281434A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE112010000772T5 (en) | 2009-02-13 | 2012-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive lithographic printing plate material |
DE112011101165T5 (en) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material |
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