JPH0727443Y2 - シリカをもととした単一モード光ファイバ導波路 - Google Patents
シリカをもととした単一モード光ファイバ導波路Info
- Publication number
- JPH0727443Y2 JPH0727443Y2 JP1990110461U JP11046190U JPH0727443Y2 JP H0727443 Y2 JPH0727443 Y2 JP H0727443Y2 JP 1990110461 U JP1990110461 U JP 1990110461U JP 11046190 U JP11046190 U JP 11046190U JP H0727443 Y2 JPH0727443 Y2 JP H0727443Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fiber waveguide
- core
- effective
- refractive index
- fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims description 13
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims description 8
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 110
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 85
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 54
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02214—Optical fibres with cladding with or without a coating tailored to obtain the desired dispersion, e.g. dispersion shifted, dispersion flattened
- G02B6/02219—Characterised by the wavelength dispersion properties in the silica low loss window around 1550 nm, i.e. S, C, L and U bands from 1460-1675 nm
- G02B6/02223—Dual window fibres, i.e. characterised by dispersion properties around 1550 nm and in at least another wavelength window, e.g. 1310 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
- G02B6/03622—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 2 layers only
- G02B6/03627—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 2 layers only arranged - +
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
- G02B6/03638—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 3 layers only
- G02B6/03644—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 3 layers only arranged - + -
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
- G02B6/03638—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 3 layers only
- G02B6/03655—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 3 layers only arranged - + +
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03605—Highest refractive index not on central axis
- G02B6/03611—Highest index adjacent to central axis region, e.g. annular core, coaxial ring, centreline depression affecting waveguiding
Description
【考案の詳細な説明】 本考案はクラッドを備えた光ファイバ導波路に関し、特
に少なくとも２つの同心円状クラッド領域を有する導波
路、および斯かる導波路から成り立つ通信システムに関
する。
に少なくとも２つの同心円状クラッド領域を有する導波
路、および斯かる導波路から成り立つ通信システムに関
する。
単一モードの光ファイバ導波路が低損失であることと散
乱を起こすこととはリピータ間隔が長く、帯域幅が広い
光通信システムにとって魅力的である。斯かるシステム
においては、最大データ伝送速度は材料と導波路との効
果による光散乱により制限されている。
乱を起こすこととはリピータ間隔が長く、帯域幅が広い
光通信システムにとって魅力的である。斯かるシステム
においては、最大データ伝送速度は材料と導波路との効
果による光散乱により制限されている。
光ファイバ導波路の製造に現在使用されている様な不純
物を添加したシリカ（silica）と同様に、純粋なシリカ
においては、波長の関数として表わした材料分散の係数
が、例えば約0.8μｍ〜1.6μｍの光通信システムに対し
て現在考えられている波長範囲に対して正であることは
よく知られている。さらに、約1.3μｍの波長において
材料分散の値は零である。対照的に、典型的な導波路分
散の値は、単一モードのファイバ導波路において同一波
長範囲を考えるならば小さな負の値の係数を有する。斯
くして、最適近似に対して全体の色分散の値は材料分散
と導波路分散との代数和で与えられるものであり、典型
的には材料分散が零である波長とは異なった波長におい
て零の値を有する。例えば、ダブリュー・エー・ガムブ
リングらにより1979年に電子工学小論文集、第15巻、第
474-476頁に掲載されている論文を参照されたい。（W.
A.Gambing et.al.,Electronics Letters,Vol.（15）,p
p.474-476,1979）シリカを基体としたファイバ導波路の
損失のスペクトルは典型的に、ほぼ1.3μｍにおいて相
対的な最低値を有し、ほぼ1.55μｍにおいて絶対値な最
低値（ここでは考えている波長領域に対する）を有する
ものであることもよく認識されている。また、最低損失
波長において零の値の色分散を有する単一モード、ステ
ップインデクス（step-index）型ファイバ導波路を設計
することが可能であることも計算から判っている。これ
に関しては、シー・ピー・チャングにより1979年に電子
工学小論文集，第15巻（第23号）,765頁〜767頁を参照
されたい。（C.P.Chang,Electronics Letters,Vol.15
（23）,pp.765-767,1979） 1.55μｍの近傍の最低損失波長において色分散が最低値
をとるような単一モードのファイバ導波路はその波長で
帯域幅が広いにもかかわらず、典型的には斯かるファイ
バ導波路は非常に小直径のコアを有するもの、例えばほ
ぼ５μｍより小さな値の直径を有するものでなければな
らず、その結果、困難なスプライスの問題（splicing p
roblem）が発生する。さらに、斯かるファイバ導波路を
使用した通信システムにおいては、最低分散波長からの
信号キャリア波長がきわめてわずかに偏移していたとし
ても、事実上、システムの帯域幅の低下を招く。例え
ば、最低分散波長から±0.05μｍのキャリア偏移があっ
ても、ほぼ２桁だけ最大データ伝送速度の減少を招く。
本議論から、1.3μｍで動作させる様に設計された標準
形ステップインデクス形単一モード式ファイバ導波路は
1.55μｍの近傍では動作させるのに適さず、その逆も成
り立つと共に、斯かるファイバ導波路は典型的には波長
分割の多重化をさせることができない。
物を添加したシリカ（silica）と同様に、純粋なシリカ
においては、波長の関数として表わした材料分散の係数
が、例えば約0.8μｍ〜1.6μｍの光通信システムに対し
て現在考えられている波長範囲に対して正であることは
よく知られている。さらに、約1.3μｍの波長において
材料分散の値は零である。対照的に、典型的な導波路分
散の値は、単一モードのファイバ導波路において同一波
長範囲を考えるならば小さな負の値の係数を有する。斯
くして、最適近似に対して全体の色分散の値は材料分散
と導波路分散との代数和で与えられるものであり、典型
的には材料分散が零である波長とは異なった波長におい
て零の値を有する。例えば、ダブリュー・エー・ガムブ
リングらにより1979年に電子工学小論文集、第15巻、第
474-476頁に掲載されている論文を参照されたい。（W.
A.Gambing et.al.,Electronics Letters,Vol.（15）,p
p.474-476,1979）シリカを基体としたファイバ導波路の
損失のスペクトルは典型的に、ほぼ1.3μｍにおいて相
対的な最低値を有し、ほぼ1.55μｍにおいて絶対値な最
低値（ここでは考えている波長領域に対する）を有する
ものであることもよく認識されている。また、最低損失
波長において零の値の色分散を有する単一モード、ステ
ップインデクス（step-index）型ファイバ導波路を設計
することが可能であることも計算から判っている。これ
に関しては、シー・ピー・チャングにより1979年に電子
工学小論文集，第15巻（第23号）,765頁〜767頁を参照
されたい。（C.P.Chang,Electronics Letters,Vol.15
（23）,pp.765-767,1979） 1.55μｍの近傍の最低損失波長において色分散が最低値
をとるような単一モードのファイバ導波路はその波長で
帯域幅が広いにもかかわらず、典型的には斯かるファイ
バ導波路は非常に小直径のコアを有するもの、例えばほ
ぼ５μｍより小さな値の直径を有するものでなければな
らず、その結果、困難なスプライスの問題（splicing p
roblem）が発生する。さらに、斯かるファイバ導波路を
使用した通信システムにおいては、最低分散波長からの
信号キャリア波長がきわめてわずかに偏移していたとし
ても、事実上、システムの帯域幅の低下を招く。例え
ば、最低分散波長から±0.05μｍのキャリア偏移があっ
ても、ほぼ２桁だけ最大データ伝送速度の減少を招く。
本議論から、1.3μｍで動作させる様に設計された標準
形ステップインデクス形単一モード式ファイバ導波路は
1.55μｍの近傍では動作させるのに適さず、その逆も成
り立つと共に、斯かるファイバ導波路は典型的には波長
分割の多重化をさせることができない。
二重クラッド形の単一モード式ファイバ導波路はＷ字形
プロファイル（Ｗ−profile）を有する導波路とも言わ
れるが、このファイバ導波路は事実上従来方式の単一ク
ラッド形導波路より本質的に有利であることが最近認め
られた。例えば、従来の単一モード式のステップインデ
クス形導波路よりも大口径が可能であり、しかもＷ字形
プロファイルのファイバ導波路は単一モードで動作でき
ることが指摘されている。詳細は川上、および西田によ
って1974年に米合衆国電子通信学会，量子電子工学論文
誌，第QE-10巻（第12号）,879〜887頁に発表された論文
を参照されたい。（S.Kawakami and S.Nishida,IEEE Jo
urnal of Quantum Electronics,QE-10（第12号）,pp.87
9〜887,1974）ごく最近になって、単一モード式Ｗ字形
プロファイルを有するファイバ導波路は関係波長領域で
全色分散に対して２つの零点を有し、これらの２つの零
点の間の波長領域で、有限ではあるが小さな分散を有す
る様に設計できることも実現化されている。例えば、岡
本らにより1979年に電子工学小論文集、第15巻（第22
号）,729〜731頁に発表された論文を参照されたい。
（K.Okamoto et.al.,Electronics Letters,Vol.15（2
2）,pp.729-731,1979） しかしながら、これらの値は好ましくないパラメータ値
を有するファイバ導波路に対して得られた結果である。
特に、関連ファイバ領域間での屈折率の相違はきわめて
大きく、１％のオーダであり、コア直径はきわめて小さ
くほぼ７μｍである。大きな屈折率の値は濃度の高い不
純物添加を意味し、典型的には事実上レイレイの散乱損
失を招き、小直径コアは典型的には事実上スプライス損
失を招く。勿論、これらの損失メカニズムは両方とも可
能なリピータ間隔を減ずる傾向にある。
プロファイル（Ｗ−profile）を有する導波路とも言わ
れるが、このファイバ導波路は事実上従来方式の単一ク
ラッド形導波路より本質的に有利であることが最近認め
られた。例えば、従来の単一モード式のステップインデ
クス形導波路よりも大口径が可能であり、しかもＷ字形
プロファイルのファイバ導波路は単一モードで動作でき
ることが指摘されている。詳細は川上、および西田によ
って1974年に米合衆国電子通信学会，量子電子工学論文
誌，第QE-10巻（第12号）,879〜887頁に発表された論文
を参照されたい。（S.Kawakami and S.Nishida,IEEE Jo
urnal of Quantum Electronics,QE-10（第12号）,pp.87
9〜887,1974）ごく最近になって、単一モード式Ｗ字形
プロファイルを有するファイバ導波路は関係波長領域で
全色分散に対して２つの零点を有し、これらの２つの零
点の間の波長領域で、有限ではあるが小さな分散を有す
る様に設計できることも実現化されている。例えば、岡
本らにより1979年に電子工学小論文集、第15巻（第22
号）,729〜731頁に発表された論文を参照されたい。
（K.Okamoto et.al.,Electronics Letters,Vol.15（2
2）,pp.729-731,1979） しかしながら、これらの値は好ましくないパラメータ値
を有するファイバ導波路に対して得られた結果である。
特に、関連ファイバ領域間での屈折率の相違はきわめて
大きく、１％のオーダであり、コア直径はきわめて小さ
くほぼ７μｍである。大きな屈折率の値は濃度の高い不
純物添加を意味し、典型的には事実上レイレイの散乱損
失を招き、小直径コアは典型的には事実上スプライス損
失を招く。勿論、これらの損失メカニズムは両方とも可
能なリピータ間隔を減ずる傾向にある。
最近、すなわち1981年にミヤらは米国電子通信学会、量
子電子工学論文誌，第QE-17巻（第６号）の858-861頁に
おいて、前出の岡本らにより議論されたファイバ導波路
より屈折率の差が小さくコア寸法の大きい二重クラッド
を採用したＷ字形プロファイルを有するファイバ導波路
について報告した。（Miya et.ai.,IEEE Journal of Qu
antum Electronics,Vol.QE-17（６）,pp.858-861（198
1）特に、コアと外側クラッド層との間の屈折率差が0.5
2％、外側クラッド層と内側クラッド層との間の屈折率
差が−0.31％、コア直径がほぼ７〜８μｍ、内側クラッ
ド層の厚さがほぼコア半径に近い値を有する単一モード
式Ｗ字形プロファイルのファイバ導波路に関してミヤら
は報告している。これらのファイバにおいては、コアは
ゲルマニアでアップドープ（up-deped）したものであ
り、内側クラッド層は弗素でダウンドープ（down-depe
d）したものである。使用した添加物が多数であるた
め、斯かるファイバの製造は典型的には比較的に複雑で
ある。さらに、比較的高濃度に不純物添加したコア領域
は比較的高いレイレイ散乱（Ray leigh scattering）を
招き、不純物の添加はほぼ1.3μｍより上の波長に対し
てコアの材料分散の零点の波長を偏移させ、典型的には
色分散の短波長側最低値を1.3μｍより上の波長で発生
させている。これらの理由、ならびに他の理由により、
大きなコアと小さなレイレイ散乱とを有するファイバ導
波路を実現し、色分散スペクトラムの形成において大き
な自由度を与えるようなパラメータ範囲を見出すことが
望ましい。
子電子工学論文誌，第QE-17巻（第６号）の858-861頁に
おいて、前出の岡本らにより議論されたファイバ導波路
より屈折率の差が小さくコア寸法の大きい二重クラッド
を採用したＷ字形プロファイルを有するファイバ導波路
について報告した。（Miya et.ai.,IEEE Journal of Qu
antum Electronics,Vol.QE-17（６）,pp.858-861（198
1）特に、コアと外側クラッド層との間の屈折率差が0.5
2％、外側クラッド層と内側クラッド層との間の屈折率
差が−0.31％、コア直径がほぼ７〜８μｍ、内側クラッ
ド層の厚さがほぼコア半径に近い値を有する単一モード
式Ｗ字形プロファイルのファイバ導波路に関してミヤら
は報告している。これらのファイバにおいては、コアは
ゲルマニアでアップドープ（up-deped）したものであ
り、内側クラッド層は弗素でダウンドープ（down-depe
d）したものである。使用した添加物が多数であるた
め、斯かるファイバの製造は典型的には比較的に複雑で
ある。さらに、比較的高濃度に不純物添加したコア領域
は比較的高いレイレイ散乱（Ray leigh scattering）を
招き、不純物の添加はほぼ1.3μｍより上の波長に対し
てコアの材料分散の零点の波長を偏移させ、典型的には
色分散の短波長側最低値を1.3μｍより上の波長で発生
させている。これらの理由、ならびに他の理由により、
大きなコアと小さなレイレイ散乱とを有するファイバ導
波路を実現し、色分散スペクトラムの形成において大き
な自由度を与えるようなパラメータ範囲を見出すことが
望ましい。
本考案は少なくとも２つのクラッド層を有するシリカベ
ース形（Silica-based）単一モードの光ファイバ導波
路、典型的には二重クラッド形ファイバ導波路に関し、
特に斯かるファイバ導波路より成る通信システムに関す
る。斯かるファイバ導波路は同じ円上の３つの領域から
成る。これらの領域は第１の屈折率nc（１＋Δ）と半径
aR1とを有するコア領域と、第２の屈折率nc（１＋Ｈ
Δ）と外径ａとを有するように定義された第１の内側ク
ラッド領域と、第３の屈折率ncと厚さｔとを有するよう
に定義された第２すなわち外側クラッド領域とである。
（R1はコア半径のａに対する比を表わし、Ｈは第１の屈
折率が第３の屈折率を越える程度を表わし、Ｈは第３の
屈折率が第２の屈折率を越える程度を表わす。）この構
造体はさらに、例えば（典型的にはプレフォーム出発チ
ューブから得られ、純粋溶融（pure fused）SiO2から成
り立っているグラッド領域により取り囲むことができ
る。取り囲むことができる。しかしながら、本発明の目
的に対して、さらにこのクラッド層は通常無視できる。
上記照合された領域に加えて、斯かるファイバ導波路は
例えばOH基（OH radicals）のコア領域へのマイグレー
ション（migration）を防止するために設計された障壁
層の様な、別の領域から成り立たせることができる。Ｗ
字型プロファイルのファイバ導波路においては、第１の
屈折率が第３の屈折率より大きくなければならず、第３
の屈折率が第２の屈折率より大きくなければならないと
言う要求を屈折率が満足させなければならない。
ース形（Silica-based）単一モードの光ファイバ導波
路、典型的には二重クラッド形ファイバ導波路に関し、
特に斯かるファイバ導波路より成る通信システムに関す
る。斯かるファイバ導波路は同じ円上の３つの領域から
成る。これらの領域は第１の屈折率nc（１＋Δ）と半径
aR1とを有するコア領域と、第２の屈折率nc（１＋Ｈ
Δ）と外径ａとを有するように定義された第１の内側ク
ラッド領域と、第３の屈折率ncと厚さｔとを有するよう
に定義された第２すなわち外側クラッド領域とである。
（R1はコア半径のａに対する比を表わし、Ｈは第１の屈
折率が第３の屈折率を越える程度を表わし、Ｈは第３の
屈折率が第２の屈折率を越える程度を表わす。）この構
造体はさらに、例えば（典型的にはプレフォーム出発チ
ューブから得られ、純粋溶融（pure fused）SiO2から成
り立っているグラッド領域により取り囲むことができ
る。取り囲むことができる。しかしながら、本発明の目
的に対して、さらにこのクラッド層は通常無視できる。
上記照合された領域に加えて、斯かるファイバ導波路は
例えばOH基（OH radicals）のコア領域へのマイグレー
ション（migration）を防止するために設計された障壁
層の様な、別の領域から成り立たせることができる。Ｗ
字型プロファイルのファイバ導波路においては、第１の
屈折率が第３の屈折率より大きくなければならず、第３
の屈折率が第２の屈折率より大きくなければならないと
言う要求を屈折率が満足させなければならない。
本考案によりファイバ導波路は比較的大きなコアを有
し、第１のクラッド層は厚さが典型的にはコア半径より
小さく、コアと外側クラッド層との間の屈折率差は比較
的小さく、また、例えば内側クラッド層の屈折率のよう
な“屈折率の井戸（Tudex well）”は比較的深くて狭
い。特に、斯かるファイバ導波路は好ましくはほぼ５μ
ｍよりも大きい半径ａと、好ましくは少なくともほぼ４
μｍのコア半径aR1を有して、ほぼ0.5と0.8との間の値
を有するR1と、ほぼ0.001とほぼ0.004との間であって、
好ましくはほぼ0.0015とほぼ0.003との間の値を有する
Δと、ほぼ１とほぼ３との間であって、好ましくはほぼ
1.5とほぼ2.5との間の値を有するＨを有するものであ
る。コアの半径はほぼ10μｍを越えないものであり、好
ましくはほぼ８μｍより小さいものである。実施例とし
て挙げたファイバ導波路は大きな（従来の3.5〜４μｍ
に対して４μｍよりも大きな）コアを有し、コアと外側
クラッド層との屈折率の差が小さく（従来の例えば0.52
％に対して0.1％〜0.4％）、典型的には内側クラッド層
と外側クラッド層との差が小さく（従来の例えば0.31％
に対して0.1％〜0.6％）、ミヤら（前出）により記載さ
れたファイバ導波路よりも内側クラッド層が狭い（コア
半径のほぼ１倍に対してコア半径のほぼ1/4倍〜１
倍）。本発明による範囲内のパラメータによれば、低レ
イレイ散乱と低スプライス損失などの好ましい特質を有
するファイバ導波路をもたらすことが可能である。さら
に、本発明によるファイバ導波路は広い波長領域、例え
ばＴ度1.3μｍの下からほぼ1.55μｍまでの領域で、或
る程度独立に調整しうる色分散の零点の２つの波長で低
い分散値を有するように容易に形成しうる。これは極限
的に改善された特性、例えば低損失が得られる両波長に
おいて広帯域を有するような通信システムをもたらすこ
とになる。本発明によるファイバ導波路の付加的利点に
は、典型的には製造が比較的単純であること、ならびに
比較的許容パラメータ偏差が大きいことである。
し、第１のクラッド層は厚さが典型的にはコア半径より
小さく、コアと外側クラッド層との間の屈折率差は比較
的小さく、また、例えば内側クラッド層の屈折率のよう
な“屈折率の井戸（Tudex well）”は比較的深くて狭
い。特に、斯かるファイバ導波路は好ましくはほぼ５μ
ｍよりも大きい半径ａと、好ましくは少なくともほぼ４
μｍのコア半径aR1を有して、ほぼ0.5と0.8との間の値
を有するR1と、ほぼ0.001とほぼ0.004との間であって、
好ましくはほぼ0.0015とほぼ0.003との間の値を有する
Δと、ほぼ１とほぼ３との間であって、好ましくはほぼ
1.5とほぼ2.5との間の値を有するＨを有するものであ
る。コアの半径はほぼ10μｍを越えないものであり、好
ましくはほぼ８μｍより小さいものである。実施例とし
て挙げたファイバ導波路は大きな（従来の3.5〜４μｍ
に対して４μｍよりも大きな）コアを有し、コアと外側
クラッド層との屈折率の差が小さく（従来の例えば0.52
％に対して0.1％〜0.4％）、典型的には内側クラッド層
と外側クラッド層との差が小さく（従来の例えば0.31％
に対して0.1％〜0.6％）、ミヤら（前出）により記載さ
れたファイバ導波路よりも内側クラッド層が狭い（コア
半径のほぼ１倍に対してコア半径のほぼ1/4倍〜１
倍）。本発明による範囲内のパラメータによれば、低レ
イレイ散乱と低スプライス損失などの好ましい特質を有
するファイバ導波路をもたらすことが可能である。さら
に、本発明によるファイバ導波路は広い波長領域、例え
ばＴ度1.3μｍの下からほぼ1.55μｍまでの領域で、或
る程度独立に調整しうる色分散の零点の２つの波長で低
い分散値を有するように容易に形成しうる。これは極限
的に改善された特性、例えば低損失が得られる両波長に
おいて広帯域を有するような通信システムをもたらすこ
とになる。本発明によるファイバ導波路の付加的利点に
は、典型的には製造が比較的単純であること、ならびに
比較的許容パラメータ偏差が大きいことである。
本考案によるファイバは通常の方法でSiO2過多のプレフ
ォームから製造でき、典型的にはプレフォームは適切な
技術、例えばMCVD（改良化学的気相堆積法：Modified c
henical vapor deposition）、あるいはVAD（気相軸方
向堆積法：Vapor axial deposition）により製造でき
る。適当な屈折率をさげる添加剤、あるいは屈折率をあ
げる添加剤、または両者の混合を使うことができる。実
例としては、添加物には弗素（Ｆ）、ゲルマニウム（G
e）、ならびに燐（Ｐ）などがある。実施例において
は、コアは本質的にシリカ（SiO2）から成り立つか、あ
るいはわずかにゲルマニアを添加したシリカから成り立
ち、内側クラッド層領域と外側クラッド層領域とには、
それらの屈折率を低下させるようにＦを添加してあり、
ファイバ導波路において通常の低い方の分散範囲を短波
長側、例えば1.3μｍより下に延ばすような事象を招く
ことは可能である。
ォームから製造でき、典型的にはプレフォームは適切な
技術、例えばMCVD（改良化学的気相堆積法：Modified c
henical vapor deposition）、あるいはVAD（気相軸方
向堆積法：Vapor axial deposition）により製造でき
る。適当な屈折率をさげる添加剤、あるいは屈折率をあ
げる添加剤、または両者の混合を使うことができる。実
例としては、添加物には弗素（Ｆ）、ゲルマニウム（G
e）、ならびに燐（Ｐ）などがある。実施例において
は、コアは本質的にシリカ（SiO2）から成り立つか、あ
るいはわずかにゲルマニアを添加したシリカから成り立
ち、内側クラッド層領域と外側クラッド層領域とには、
それらの屈折率を低下させるようにＦを添加してあり、
ファイバ導波路において通常の低い方の分散範囲を短波
長側、例えば1.3μｍより下に延ばすような事象を招く
ことは可能である。
第１図は、例えばGeを添加したシリカにより生産するこ
とができるような、典型的な“アップドープ”を行なっ
たステップインデクス式Ｗ字形プロファイルを有するフ
ァイバ導波路にする、半径方向の距離の関数としての屈
折率を系統的に示したものである。記述を容易にするた
め、第１および第２の屈折率は第３の屈折率、すなわち
外側クラッド層の屈折率ncの関数として表わされてい
る。これはパラメータＨとパラメータΔとによってなさ
れている。パラメータΔは第１の屈折率が第３の屈折率
を越える程度を表わすものである。パラメータＨは屈折
率の井戸の深さを表わすものであり、すなわち、第３の
屈折率が第２の屈折率を越える程度を表わすものであ
る。またも記述を容易にするため、コア半径のａに対す
る比を表わすパラメータR1により、内側クラッド層の外
側半径ａの関数としてコア半径aR1が表わされている。
斯くして、不等式0.5＜R1＜１は内側クラッド層の厚さ
がコアの半径よりも小さなファイバ導波路を意味する。
とができるような、典型的な“アップドープ”を行なっ
たステップインデクス式Ｗ字形プロファイルを有するフ
ァイバ導波路にする、半径方向の距離の関数としての屈
折率を系統的に示したものである。記述を容易にするた
め、第１および第２の屈折率は第３の屈折率、すなわち
外側クラッド層の屈折率ncの関数として表わされてい
る。これはパラメータＨとパラメータΔとによってなさ
れている。パラメータΔは第１の屈折率が第３の屈折率
を越える程度を表わすものである。パラメータＨは屈折
率の井戸の深さを表わすものであり、すなわち、第３の
屈折率が第２の屈折率を越える程度を表わすものであ
る。またも記述を容易にするため、コア半径のａに対す
る比を表わすパラメータR1により、内側クラッド層の外
側半径ａの関数としてコア半径aR1が表わされている。
斯くして、不等式0.5＜R1＜１は内側クラッド層の厚さ
がコアの半径よりも小さなファイバ導波路を意味する。
本議論に関係した３つの領域、すなわちコア領域10、ク
ラッド層11、ならびに外側のクラッド層12のうちで、コ
ア領域10が最も高い屈折率を有する。半径aR1を有する
コアは屈折率nc（１＋Δ）を有する。
ラッド層11、ならびに外側のクラッド層12のうちで、コ
ア領域10が最も高い屈折率を有する。半径aR1を有する
コアは屈折率nc（１＋Δ）を有する。
プレフォームコラプス（preform collapse）の間で添加
物の熱離脱（burn−off）により一般にGeを添加した導
波路において観察されるような、軸方向に落込みを有す
るような屈折率をコアが示している。しかしながら、斯
かる落込みを有するファイバ導波路は、ファイバ断面の
少なくともほぼ90％にわたって所望のプロファイルを有
するものである。例えば、ステップインデクス形ファイ
バにおいては、断面の少なくともほぼ90％にわたって典
型的にはコアの屈折率は実質的に一定である。内側クラ
ッド層11は３つの領域のうちで最も屈折率を有するもの
であり、nc（１−ΔＨ）の値を有するものである。内側
クラッド領域11の厚さはａ（１−R1）である。外側クラ
ッド領域12の屈折率ｎはコアの屈折率と内側クラッド層
の屈折率との丁度中間の値であるncを有する。外側クラ
ッド層の厚さは厳密なものではない。しかしながら、典
型的には外側クラッド層の厚さは本質的に不定であるよ
うにして取扱うことができ、ファイバ内部を伝播するエ
ネルギの無視しうる部分が領域10,11,12の内部に含まれ
ないように、外側クラッド層の厚さは比較的大きいもの
でなければならない。もし外側クラッド領域の厚さがコ
ア半径よりも少なくとも数倍大きく、少なくともコア半
径のほぼ６倍であることが好ましいならば、この条件は
満足されるわかである。領域13は、例えば溶融シリカプ
レフォーム出発チューブから得られたような可能な別の
クラッド領域に相当する。斯かる場合には、領域13の屈
折率は不純物を添加しない溶融シリカの屈折率である。
領域13がファイバ導波路内部の信号伝播に与える影響は
無視できるものと仮定されるので、原理的にはクラッド
層13の屈折率は隣接クラッド層12よりも大きいか、等し
いか、あるいは小さくすることができる。
物の熱離脱（burn−off）により一般にGeを添加した導
波路において観察されるような、軸方向に落込みを有す
るような屈折率をコアが示している。しかしながら、斯
かる落込みを有するファイバ導波路は、ファイバ断面の
少なくともほぼ90％にわたって所望のプロファイルを有
するものである。例えば、ステップインデクス形ファイ
バにおいては、断面の少なくともほぼ90％にわたって典
型的にはコアの屈折率は実質的に一定である。内側クラ
ッド層11は３つの領域のうちで最も屈折率を有するもの
であり、nc（１−ΔＨ）の値を有するものである。内側
クラッド領域11の厚さはａ（１−R1）である。外側クラ
ッド領域12の屈折率ｎはコアの屈折率と内側クラッド層
の屈折率との丁度中間の値であるncを有する。外側クラ
ッド層の厚さは厳密なものではない。しかしながら、典
型的には外側クラッド層の厚さは本質的に不定であるよ
うにして取扱うことができ、ファイバ内部を伝播するエ
ネルギの無視しうる部分が領域10,11,12の内部に含まれ
ないように、外側クラッド層の厚さは比較的大きいもの
でなければならない。もし外側クラッド領域の厚さがコ
ア半径よりも少なくとも数倍大きく、少なくともコア半
径のほぼ６倍であることが好ましいならば、この条件は
満足されるわかである。領域13は、例えば溶融シリカプ
レフォーム出発チューブから得られたような可能な別の
クラッド領域に相当する。斯かる場合には、領域13の屈
折率は不純物を添加しない溶融シリカの屈折率である。
領域13がファイバ導波路内部の信号伝播に与える影響は
無視できるものと仮定されるので、原理的にはクラッド
層13の屈折率は隣接クラッド層12よりも大きいか、等し
いか、あるいは小さくすることができる。
例えば、Ｆを添加したシリカによって達成することがで
きたような、“ダウンドープ（down doped）”したステ
ップインデックス式Ｗ字形プロファイルのファイバ導波
路に対して、半径方向の座標を関数として屈折率プロフ
ァイルを系統的に示したものが第２図である。コア領域
20、内側クラッド領域21、外側クラッド領域22、ならび
にクラッド層23は、それぞれ第１図の領域10,11,12,13
と直接的に相似したものであり、各屈折率間にも同様な
関係があり、半径方向の寸法と屈折率とに対しては同様
な記号が使用してある。第２図のプロファイルは、本質
的に純粋なシリカから成り立つコアを有するＦ添加形フ
ァイバに適用できる。この場合、添加剤の熱離脱（burn
−off）はプレフォームコプラスの間に生ずることが不
可能であるため、典型的には屈折率の落込みが現われな
い。比較的高濃度のＦを添加した内側、ならびに外側ク
ラッド層を有するファイバ導波路においては、伝播信号
モードのろうえいを避けるために、外側クラッド層の厚
さは少なくともコアの半径の８倍でなければならない。
きたような、“ダウンドープ（down doped）”したステ
ップインデックス式Ｗ字形プロファイルのファイバ導波
路に対して、半径方向の座標を関数として屈折率プロフ
ァイルを系統的に示したものが第２図である。コア領域
20、内側クラッド領域21、外側クラッド領域22、ならび
にクラッド層23は、それぞれ第１図の領域10,11,12,13
と直接的に相似したものであり、各屈折率間にも同様な
関係があり、半径方向の寸法と屈折率とに対しては同様
な記号が使用してある。第２図のプロファイルは、本質
的に純粋なシリカから成り立つコアを有するＦ添加形フ
ァイバに適用できる。この場合、添加剤の熱離脱（burn
−off）はプレフォームコプラスの間に生ずることが不
可能であるため、典型的には屈折率の落込みが現われな
い。比較的高濃度のＦを添加した内側、ならびに外側ク
ラッド層を有するファイバ導波路においては、伝播信号
モードのろうえいを避けるために、外側クラッド層の厚
さは少なくともコアの半径の８倍でなければならない。
勿論、多重添加物形のファイバ導波路でもって本発明を
実現することも可能である。例えば、本発明の特定実施
例においては、コアは軽くアップドープ（例えば、Ge添
加）したものであり、クラッド層はダウンドープ（例え
ばＦ添加）したものである。実例的なパラメータ値はΔ
＝0.2％（アップドープにより典型的にはこの一部分の
みが有効）、Ｈ＝２、ａ＝７μｍ、ならびにR1＝0.7で
ある。この結果によれば、コアを低濃度にドープしたこ
とにより低い値のレイレイ散乱を有し、純粋なSiO2の値
に近い零材料分散波長を有するファイバが得られる。
実現することも可能である。例えば、本発明の特定実施
例においては、コアは軽くアップドープ（例えば、Ge添
加）したものであり、クラッド層はダウンドープ（例え
ばＦ添加）したものである。実例的なパラメータ値はΔ
＝0.2％（アップドープにより典型的にはこの一部分の
みが有効）、Ｈ＝２、ａ＝７μｍ、ならびにR1＝0.7で
ある。この結果によれば、コアを低濃度にドープしたこ
とにより低い値のレイレイ散乱を有し、純粋なSiO2の値
に近い零材料分散波長を有するファイバが得られる。
第１図および第２図においては本質的にステップ状の屈
折率プロファイルを示すものであるとは言え、本発明に
よるファイバは典型的には斯かるプロファイルを有する
必要はない。もしプロファイルが有意性をもって、ある
いは有意性なくステップ状プロファイルとは異なったも
のであり、例えばグレードインデックス形ファイバ導波
路であれば、“有効（effective）”屈折率（indices）
と“有効”半径（radii）とが定義できる。例えば、エ
ー・ダブリュー・スナイダにより1981年に米国電気電子
学会誌，第69巻、第１号,6−13ページに発表されている
論文を参照されたい。（A.W.Snyder,Proceedings of th
e IEEE,Vol.69（１）,pp.6−13,（1981））本明細書で
論じたファイバ導波路の各領域に適用する場合、詳細な
説明の容易さゆえに“屈折率",“半径”、ならびに“厚
さ”と言う術語は一般に“有効”値としておきたい。実
質的に一定の屈折率ａ値を有する領域においては領域間
で屈折率がステップ状に変化し、“有効”値はこれらの
量の“公称”値と同一であり、例えば第１図および第２
図において示したもの自身である。斯くして、後者の
“公称”値はより一般的な“有効”値の特殊な場合とし
てみることができる。
折率プロファイルを示すものであるとは言え、本発明に
よるファイバは典型的には斯かるプロファイルを有する
必要はない。もしプロファイルが有意性をもって、ある
いは有意性なくステップ状プロファイルとは異なったも
のであり、例えばグレードインデックス形ファイバ導波
路であれば、“有効（effective）”屈折率（indices）
と“有効”半径（radii）とが定義できる。例えば、エ
ー・ダブリュー・スナイダにより1981年に米国電気電子
学会誌，第69巻、第１号,6−13ページに発表されている
論文を参照されたい。（A.W.Snyder,Proceedings of th
e IEEE,Vol.69（１）,pp.6−13,（1981））本明細書で
論じたファイバ導波路の各領域に適用する場合、詳細な
説明の容易さゆえに“屈折率",“半径”、ならびに“厚
さ”と言う術語は一般に“有効”値としておきたい。実
質的に一定の屈折率ａ値を有する領域においては領域間
で屈折率がステップ状に変化し、“有効”値はこれらの
量の“公称”値と同一であり、例えば第１図および第２
図において示したもの自身である。斯くして、後者の
“公称”値はより一般的な“有効”値の特殊な場合とし
てみることができる。
本考案によるファイバ導波路において斯かる領域の存在
の可能性が考えられるとは言え、第１図および第２図は
例えば障壁層のような他の可能なファイバ導波路領域を
示すものではない。
の可能性が考えられるとは言え、第１図および第２図は
例えば障壁層のような他の可能なファイバ導波路領域を
示すものではない。
第３図においては、波長の関数として典型的な単一クラ
ッド31と典型的な二重クラッド32とのファイバ導波路に
対する導波路分散と共に、材料分散30をも系統的に示し
てある。さらに、第３図は材料分散と導波路分散との
和、すなわち全体の色分散を波長の関数として示したも
のであり、曲線33は典型的には単一クラッド式ファイバ
に対する色分散を表わし、曲線34は二重クラッド式ファ
イバに対する色分散を表わす。第３図から判明するよう
に、単一クラッド式導波路は零色分散波長をたった１つ
しか有しないのに対し、二重クラッド式導波路は斯かる
波長を２つ有することができる。
ッド31と典型的な二重クラッド32とのファイバ導波路に
対する導波路分散と共に、材料分散30をも系統的に示し
てある。さらに、第３図は材料分散と導波路分散との
和、すなわち全体の色分散を波長の関数として示したも
のであり、曲線33は典型的には単一クラッド式ファイバ
に対する色分散を表わし、曲線34は二重クラッド式ファ
イバに対する色分散を表わす。第３図から判明するよう
に、単一クラッド式導波路は零色分散波長をたった１つ
しか有しないのに対し、二重クラッド式導波路は斯かる
波長を２つ有することができる。
次に、パラメータＨとR1との変化の導波路分散スペクト
ラムの形に対する影響を図示する。もしΔを一定に保っ
ておいてＨを増加させるならば、コアと内側クラッド層
との間の全屈折率変化量は大きくなり、その結果、典型
的には導波路分散が増加する。これはＨの増加と共に導
波路分散スペクトラムが“時計方向へ回転”するものと
して観察でき、典型的には零導波路分散の波長の増加を
招く。第１に、パラメータＨは正の分散値を有する導波
路分散の一部に影響を与えると言う事実は、全体で２つ
の零色分散波長の短い方の位置を制御するのに使用する
ことができる。
ラムの形に対する影響を図示する。もしΔを一定に保っ
ておいてＨを増加させるならば、コアと内側クラッド層
との間の全屈折率変化量は大きくなり、その結果、典型
的には導波路分散が増加する。これはＨの増加と共に導
波路分散スペクトラムが“時計方向へ回転”するものと
して観察でき、典型的には零導波路分散の波長の増加を
招く。第１に、パラメータＨは正の分散値を有する導波
路分散の一部に影響を与えると言う事実は、全体で２つ
の零色分散波長の短い方の位置を制御するのに使用する
ことができる。
いま別の有用な制御パラメータはR1であり、これは典型
的には第１に長波長における導波路分散曲線の曲率に影
響を与える。もしR1が小さいならば、典型的には内側ク
ラッド層は最低伝播モードのカットオフに明らかな影響
を与える。R1が増加するにつれて、モードカットオフは
よりなだらかになり、導波路分数曲線の曲率は減少す
る。例えば、Ｈ＝２とＲ＝0.7とを選択すればほぼ1.3μ
ｍの波長とほぼ1.55μｍの波長において全体の零色分散
を生じさせることができ、これらの波長ではシリカ基体
のファイバ導波路において典型的には損失の最低値が生
ずる。
的には第１に長波長における導波路分散曲線の曲率に影
響を与える。もしR1が小さいならば、典型的には内側ク
ラッド層は最低伝播モードのカットオフに明らかな影響
を与える。R1が増加するにつれて、モードカットオフは
よりなだらかになり、導波路分数曲線の曲率は減少す
る。例えば、Ｈ＝２とＲ＝0.7とを選択すればほぼ1.3μ
ｍの波長とほぼ1.55μｍの波長において全体の零色分散
を生じさせることができ、これらの波長ではシリカ基体
のファイバ導波路において典型的には損失の最低値が生
ずる。
ＨとR1との分散に対するこれらの影響は第４図と第５図
とによって例示されている。第４図は３つの実例による
理想的屈折率プロファイルを示したものであり、第５図
はこれら３つのプロファイルに対する導波路分散曲率を
材料分散53の典形的曲線と共に示したものである。３つ
のプロファイルはすべて同一のａとΔとを有するもので
ある。第４図の屈折率プロファイルは40,41により記号
付けしてあり、同一のR1の値を有するが、41のパラメー
タＨは40のパラメータＨよりも大きな値を有している点
が異なっている。プロファイル42はプロファイル40と同
一のパラメータＨを有するが、R1の値はプロファイル4
0,41のものよりも大きい。
とによって例示されている。第４図は３つの実例による
理想的屈折率プロファイルを示したものであり、第５図
はこれら３つのプロファイルに対する導波路分散曲率を
材料分散53の典形的曲線と共に示したものである。３つ
のプロファイルはすべて同一のａとΔとを有するもので
ある。第４図の屈折率プロファイルは40,41により記号
付けしてあり、同一のR1の値を有するが、41のパラメー
タＨは40のパラメータＨよりも大きな値を有している点
が異なっている。プロファイル42はプロファイル40と同
一のパラメータＨを有するが、R1の値はプロファイル4
0,41のものよりも大きい。
第４図の屈折率プロファイル41を用いている曲線51は、
第４図の屈折率プロファイル40を使った曲線50の値より
も大きな正の導波路分散値（Waveguide dispersion）
と、曲線50の分散値よりもより負の導波路分散値とを有
するものであることを第５図を示している。斯かる関係
は“時計方向の回転”として上に言及されたものであ
る。曲線51は曲線50よりもわずかに大きな零導波路分散
波長を有するものであることも第５図は示している。一
方、第４図の屈折率プロファイル42を使った曲線52は実
質的に、短波長に対して曲線50と同一であり、長波長、
すなわちスペクトルの負導波路分散部分において上記の
値から偏移している。
第４図の屈折率プロファイル40を使った曲線50の値より
も大きな正の導波路分散値（Waveguide dispersion）
と、曲線50の分散値よりもより負の導波路分散値とを有
するものであることを第５図を示している。斯かる関係
は“時計方向の回転”として上に言及されたものであ
る。曲線51は曲線50よりもわずかに大きな零導波路分散
波長を有するものであることも第５図は示している。一
方、第４図の屈折率プロファイル42を使った曲線52は実
質的に、短波長に対して曲線50と同一であり、長波長、
すなわちスペクトルの負導波路分散部分において上記の
値から偏移している。
波長分散スペクトラム、すなわち結果的には色分散スペ
クトラムのパラメータＨの値への依存性を第５図が示し
ている。曲線60は材料分散63,62,61とＨ＝1,2,ならびに
Ｈ＞２に対する導波路分散とを含むものであり、曲線6
6,65,64はそれぞれΔ〜0.2％とR1〜0.7とを有するファ
イバ導波路に対してＨ＝1,2,H＞２における色分散を示
したものである。これらの曲線は零分散波長の制御に対
してパラメータＨの有用性を示したものである。
クトラムのパラメータＨの値への依存性を第５図が示し
ている。曲線60は材料分散63,62,61とＨ＝1,2,ならびに
Ｈ＞２に対する導波路分散とを含むものであり、曲線6
6,65,64はそれぞれΔ〜0.2％とR1〜0.7とを有するファ
イバ導波路に対してＨ＝1,2,H＞２における色分散を示
したものである。これらの曲線は零分散波長の制御に対
してパラメータＨの有用性を示したものである。
第７図は純粋なシリカのコアとＦを添加したクラッド層
とを備えた二重クラッド形ファイバ導波路の実例に対す
る分散スペクトラムを示す図である。斯かるファイバは
有利な特質を有する本考案の一実施例である。特に、光
パワーは大部分コアの内部へ閉じ込められており、しか
もコアには不純物を添加してないため、典形的にはレイ
レイの散乱は小さい。また、コアの内部にGeが存在しな
いので、1.3μｍ、あるいはわずかに1.3μｍより下の波
長で色分散が零であるようなファイバ導波路を設計する
ことができ、1.3μｍより短い波長の方向へ材料分散の
零点を偏移させることができる。コアの内部には添加剤
が存在しないため、中央に落込みがなく、軸方向に一様
性が大きくスムーズな屈折率プロファイルが得られる。
ａ＝７μｍと、R1＝0.7と、Ｈ＝２と、Δ＝1.9,0.20,0.
21％とを備えたファイバは第７図において考察されてい
る。曲線70は材料分散であり、曲線71のファミリは指示
された値のΔを有するファイバの導波路分散である。こ
れらのファイバから得られる全体の色分散は曲線72のフ
ァミリとして示している。各色分散は1.3μｍ領域でひ
とつのゼロクロシングを有し、1.5μｍ領域でいまひと
つのゼロクロシング（Zero crossing）を有する。Δを
減少させると導波路分散が減少するため、色分散曲線は
下方に移動し、最低分散値が生ずる２つの波長はΔの値
を減ずるに従って相互に近くへ移動する。もし、色分散
曲線が本議論の種類のファイバにおいてΔ〜0.185％で
生ずるような零分散軸の正接になるならば、最低分散波
長で生ずる２つの帯電幅のピークは単一の広がったピー
クに統合される。Δの値が低い場合でさえも、色分散曲
線は完全に零分散軸より下に移動する。
とを備えた二重クラッド形ファイバ導波路の実例に対す
る分散スペクトラムを示す図である。斯かるファイバは
有利な特質を有する本考案の一実施例である。特に、光
パワーは大部分コアの内部へ閉じ込められており、しか
もコアには不純物を添加してないため、典形的にはレイ
レイの散乱は小さい。また、コアの内部にGeが存在しな
いので、1.3μｍ、あるいはわずかに1.3μｍより下の波
長で色分散が零であるようなファイバ導波路を設計する
ことができ、1.3μｍより短い波長の方向へ材料分散の
零点を偏移させることができる。コアの内部には添加剤
が存在しないため、中央に落込みがなく、軸方向に一様
性が大きくスムーズな屈折率プロファイルが得られる。
ａ＝７μｍと、R1＝0.7と、Ｈ＝２と、Δ＝1.9,0.20,0.
21％とを備えたファイバは第７図において考察されてい
る。曲線70は材料分散であり、曲線71のファミリは指示
された値のΔを有するファイバの導波路分散である。こ
れらのファイバから得られる全体の色分散は曲線72のフ
ァミリとして示している。各色分散は1.3μｍ領域でひ
とつのゼロクロシングを有し、1.5μｍ領域でいまひと
つのゼロクロシング（Zero crossing）を有する。Δを
減少させると導波路分散が減少するため、色分散曲線は
下方に移動し、最低分散値が生ずる２つの波長はΔの値
を減ずるに従って相互に近くへ移動する。もし、色分散
曲線が本議論の種類のファイバにおいてΔ〜0.185％で
生ずるような零分散軸の正接になるならば、最低分散波
長で生ずる２つの帯電幅のピークは単一の広がったピー
クに統合される。Δの値が低い場合でさえも、色分散曲
線は完全に零分散軸より下に移動する。
ａ＝6.5μｍ、R1＝0.7、Ｈ＝２、Δ＝0.21,0.22,0.23％
に選べ、Geを添加したファイバ導波路に対して第７図の
曲線と同様な分散曲線を描いたものが第８図である。曲
線80は材料分散を表わし、曲線81のファミリは導波路分
散を表わし、曲線82は全体の色分散を表わす。Δ＝0.21
％の値では零分散軸に対して正接の分散曲線が得られ
る。軽くアップドープ（例えばGeを不純物として添加）
したコアとダウンドープ（例えばＦを不純物として添
加）したクラッドとを具備するファイバ導波路について
同様な分散曲線が得られているが、これらの曲線はわず
かに短波長で色分散の零点が生ずる場合を除外したもの
である。実例としては、上に論じたファイバに対してこ
の偏移はほぼ３％である。
に選べ、Geを添加したファイバ導波路に対して第７図の
曲線と同様な分散曲線を描いたものが第８図である。曲
線80は材料分散を表わし、曲線81のファミリは導波路分
散を表わし、曲線82は全体の色分散を表わす。Δ＝0.21
％の値では零分散軸に対して正接の分散曲線が得られ
る。軽くアップドープ（例えばGeを不純物として添加）
したコアとダウンドープ（例えばＦを不純物として添
加）したクラッドとを具備するファイバ導波路について
同様な分散曲線が得られているが、これらの曲線はわず
かに短波長で色分散の零点が生ずる場合を除外したもの
である。実例としては、上に論じたファイバに対してこ
の偏移はほぼ３％である。
第７図に示した分散スペクトルに相当する帯電幅スペク
トル曲線を描いたものが第９図である。GHz・kmで表わ
した帯電幅はほぼ4nm線幅のレーザ光源に適用するため
のものである。線90は250GHz・km帯域幅レベルを示すも
のである。本明細書において考察したパラメータを有す
るファイバは、0.18〜0.20％の間のΔでほぼ1.3μｍと
ほぼ1.52μｍとの間のすべての波長において、ほぼ25GH
z・kmよりも大きな帯域幅を有することが実例として挙
げた曲線には示してある。
トル曲線を描いたものが第９図である。GHz・kmで表わ
した帯電幅はほぼ4nm線幅のレーザ光源に適用するため
のものである。線90は250GHz・km帯域幅レベルを示すも
のである。本明細書において考察したパラメータを有す
るファイバは、0.18〜0.20％の間のΔでほぼ1.3μｍと
ほぼ1.52μｍとの間のすべての波長において、ほぼ25GH
z・kmよりも大きな帯域幅を有することが実例として挙
げた曲線には示してある。
第８図に示した分散スペクトルに相当する実例として挙
げた帯域幅スペクトルを第10図に示す。曲線100は25GHz
・kmのレベルを示す。再び、軽くアップドープしたコア
と、わずかに低い波長に移動した曲線で上に議論したよ
うなダウンドープされたクラッドとを備えたファイバ導
波路に対して同様なスペクトラムが得られている。例え
ば、前に論じた実例としてのファイバにおいては、偏移
量はほぼ３％である。
げた帯域幅スペクトルを第10図に示す。曲線100は25GHz
・kmのレベルを示す。再び、軽くアップドープしたコア
と、わずかに低い波長に移動した曲線で上に議論したよ
うなダウンドープされたクラッドとを備えたファイバ導
波路に対して同様なスペクトラムが得られている。例え
ば、前に論じた実例としてのファイバにおいては、偏移
量はほぼ３％である。
本考案によるファイバ導波路はMCVD、あるいはVADなど
のような適切な方法により製造することができる。斯か
る方法は当業者によってよく知られた方法である。（例
えばエス・イー・ミラーに対して1976年６月29日付で出
された米合衆国特許第3,966,446号、藤川らに対して197
9年１月23日付で出された米合衆国特許第4,135,901号、
ならびにジェー・ビー・マクチェスニとピー・ビー・オ
コーナとに対して1980年８月12日付で出された米合衆国
特許第4,217,027号などを参照されたい。）（U.S.Paten
t 3,966,446 issued June 29,1976 to S.E.Miller,
U.S.Patent 4,135,901 issued January 23,1979 to
K.Fujikawa et.al.,and U.S.Patent 4,217,027 issu
ed August 12,1980 to J.B.Mac Chesney and P.B.Oco
nnor）光ファイバ導波路の製造においてシリカの屈折率
を変化させるのに有用な添加剤、例えば弗素、ゲルマニ
ウム、硼素、ならびに燐などは単独、あるいは組合わせ
て本発明によるファイバ導波路に使用できる。適切な添
加剤の選択は当業者にとって明白である。
のような適切な方法により製造することができる。斯か
る方法は当業者によってよく知られた方法である。（例
えばエス・イー・ミラーに対して1976年６月29日付で出
された米合衆国特許第3,966,446号、藤川らに対して197
9年１月23日付で出された米合衆国特許第4,135,901号、
ならびにジェー・ビー・マクチェスニとピー・ビー・オ
コーナとに対して1980年８月12日付で出された米合衆国
特許第4,217,027号などを参照されたい。）（U.S.Paten
t 3,966,446 issued June 29,1976 to S.E.Miller,
U.S.Patent 4,135,901 issued January 23,1979 to
K.Fujikawa et.al.,and U.S.Patent 4,217,027 issu
ed August 12,1980 to J.B.Mac Chesney and P.B.Oco
nnor）光ファイバ導波路の製造においてシリカの屈折率
を変化させるのに有用な添加剤、例えば弗素、ゲルマニ
ウム、硼素、ならびに燐などは単独、あるいは組合わせ
て本発明によるファイバ導波路に使用できる。適切な添
加剤の選択は当業者にとって明白である。
重要な設計上の考察点はファイバのパラメータ変化に対
する帯域幅のような、ファイバ特性の感度に関してであ
る。ファイバは有限の許容偏差をもってのみ製造できる
ものであるため、受け容れられるファイバが得られる範
囲を与えるパラメータ値の限界が比較的広いことが望ま
しいことは明白である。
する帯域幅のような、ファイバ特性の感度に関してであ
る。ファイバは有限の許容偏差をもってのみ製造できる
ものであるため、受け容れられるファイバが得られる範
囲を与えるパラメータ値の限界が比較的広いことが望ま
しいことは明白である。
本考案によるファイバは典型的には小さなパラメータ変
化に対して比較的感度が悪い。この模様をそれぞれＦを
添加したファイバとGeを添加したファイバとに関して第
11図、ならびに第12図に示してある。図では、Ｈ＝2,R1
＝0.7の値を有するファイバに対して、第１のクラッド
層の外側半径ａの関数としてプロットした屈折率の差Δ
を示してある。曲線間のすべての点では、1.3μｍ〜1.5
5μｍの波長範囲内で少なくとも25GHz・kmの帯域幅を有
するファイバが得られるものである。下側の曲線はλ＝
1.4μｍの近傍で単一の広帯域幅のピークが得られれる
ようなΔとａとの値を表わすものであり、上側の曲線は
ひとつのピークが1.3μｍの近傍、他のピークが1.6μｍ
の近傍で２つのピークを有する帯域幅スペクトラムが得
られるようなΔとａとの値を表わすものである。クロス
ハッチを入れた箇所は2aに対して±0.2μｍの許容偏
差、Δに対して±0.1％の許容偏差を示すものである。
上に定義した制限曲線間領域はａが増加すると共に広が
り、許容偏差に対する要求は典型的には比較的大直径の
ファイバに対して厳しくなくなっていることが判明し
た。光通信システムに組込んだ場合には、本発明による
ファイバは当業者においてよく知られた方法で適切な光
源や検出器などと共に使用できるものである。
化に対して比較的感度が悪い。この模様をそれぞれＦを
添加したファイバとGeを添加したファイバとに関して第
11図、ならびに第12図に示してある。図では、Ｈ＝2,R1
＝0.7の値を有するファイバに対して、第１のクラッド
層の外側半径ａの関数としてプロットした屈折率の差Δ
を示してある。曲線間のすべての点では、1.3μｍ〜1.5
5μｍの波長範囲内で少なくとも25GHz・kmの帯域幅を有
するファイバが得られるものである。下側の曲線はλ＝
1.4μｍの近傍で単一の広帯域幅のピークが得られれる
ようなΔとａとの値を表わすものであり、上側の曲線は
ひとつのピークが1.3μｍの近傍、他のピークが1.6μｍ
の近傍で２つのピークを有する帯域幅スペクトラムが得
られるようなΔとａとの値を表わすものである。クロス
ハッチを入れた箇所は2aに対して±0.2μｍの許容偏
差、Δに対して±0.1％の許容偏差を示すものである。
上に定義した制限曲線間領域はａが増加すると共に広が
り、許容偏差に対する要求は典型的には比較的大直径の
ファイバに対して厳しくなくなっていることが判明し
た。光通信システムに組込んだ場合には、本発明による
ファイバは当業者においてよく知られた方法で適切な光
源や検出器などと共に使用できるものである。
第１図は典型的なGeを添加したシリカから得られるよう
な典型的な「アップドープ」Ｗ字形プロファイルのファ
イバ導波路の屈折率プロファイルの系統図； 第２図はシリカへＦを添加して得られたような、典型的
ダウンドープ形プロファイルを示す図； 第３図は波長対色分散の関係を系統的にプロットしたも
のであり、特に、典型的なファイバ導波路材料の材料分
散、典型的な単一クラッド形と二重クラッド形との導波
路分散、ならびにそれら全体の色分散を示す図； 第４図は第５図に示す結果を得るために使用した３つの
理想的屈折率プロファイルを示す図； 第５図は波長対色分散の関係をプロットしたものであ
り、ファイバ導波路分散に関するパラメータＨとΔとを
変えた効果を示した図； 第６図は波長対色分散の関係をプロットしたものであ
り、パラメータＨの変化の効果を示した図； 第７図および第８図は不純物添加パラメータΔに対して
それぞれ３つの異なった値を有するファイバ導波路に対
する波長対色分散のプロットした図；第７図はＦを添加
したファイバ導波路に対する波長対色分散のプロット、 第８図はGeを添加したものをそれぞれ示す図； 第９図および第10図は異なったΔの値を有するファイバ
導波路に対する波長対帯域幅のプロットした図；第９図
はＦを添加した導波路に有する波長対帯域幅のプロッ
ト、第10図はGeを添加したものをそれぞれ示す図； 第11図ならびに第12図は、それぞれＦならびにGeを添加
したファイバ導波路に対する不純物添加パラメータΔと
半径ａとにおける典型的な許容範囲の実例を示す図であ
る。 ［主要部分の符号の説明］ 10,20……コア領域 11,21……内側クラッド領域 12,22……外側クラッド領域 13,23……溶融シリカ領域
な典型的な「アップドープ」Ｗ字形プロファイルのファ
イバ導波路の屈折率プロファイルの系統図； 第２図はシリカへＦを添加して得られたような、典型的
ダウンドープ形プロファイルを示す図； 第３図は波長対色分散の関係を系統的にプロットしたも
のであり、特に、典型的なファイバ導波路材料の材料分
散、典型的な単一クラッド形と二重クラッド形との導波
路分散、ならびにそれら全体の色分散を示す図； 第４図は第５図に示す結果を得るために使用した３つの
理想的屈折率プロファイルを示す図； 第５図は波長対色分散の関係をプロットしたものであ
り、ファイバ導波路分散に関するパラメータＨとΔとを
変えた効果を示した図； 第６図は波長対色分散の関係をプロットしたものであ
り、パラメータＨの変化の効果を示した図； 第７図および第８図は不純物添加パラメータΔに対して
それぞれ３つの異なった値を有するファイバ導波路に対
する波長対色分散のプロットした図；第７図はＦを添加
したファイバ導波路に対する波長対色分散のプロット、 第８図はGeを添加したものをそれぞれ示す図； 第９図および第10図は異なったΔの値を有するファイバ
導波路に対する波長対帯域幅のプロットした図；第９図
はＦを添加した導波路に有する波長対帯域幅のプロッ
ト、第10図はGeを添加したものをそれぞれ示す図； 第11図ならびに第12図は、それぞれＦならびにGeを添加
したファイバ導波路に対する不純物添加パラメータΔと
半径ａとにおける典型的な許容範囲の実例を示す図であ
る。 ［主要部分の符号の説明］ 10,20……コア領域 11,21……内側クラッド領域 12,22……外側クラッド領域 13,23……溶融シリカ領域
フロントページの続き (72)考案者 ワンダ リー，マンメル アメリカ合衆国 07733 ニュージャーシ イ，モンマウス ホルムデル，パークウェ イ プレイス 17 (56)参考文献 特開 昭56−52706（ＪＰ，Ａ) 特公 昭54−31380（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (13)
- 【請求項１】約0.8μｍ乃至約1.6μｍの波長範囲に渡っ
て低色分散の、シリカ基体単一モード光ファイバ導波路
であって、 有効半径と第１の有効屈折率とを有するコア領域と、 前記コア領域を同心円的に取巻き、且つ有効外側半径と
第２の有効屈折率とを有する内側クラッド領域と、 前記内側クラッド領域を同心円的に取巻き、且つ有効厚
さと第３の有効屈折率とを有する外側クラッド領域とを
含むシリカ基体単一モード光ファイバ導波路において、 前記第１の屈折率が前記第３の屈折率よりも大きく、前
記第１及び前記第３の屈折率の間の差が前記第３の屈折
率の値の0.1〜0.4％であり、 前記第３の屈折率が前記第２の屈折率よりも大きく、前
記第３及び前記第２の屈折率の間の差が前記第１及び前
記第３の屈折率の差の１〜３倍であり、 有効コア半径が前記内側クラッド領域の有効外側半径の
0.5〜0.8倍であり、 前記内側クラッド領域の有効外側半径が少なくとも５μ
ｍであることを特徴とするファイバ導波路。 - 【請求項２】実用新案登録請求の範囲第１項に記載のフ
ァイバ導波路において、 前記コア領域の屈折率がコア断面の90％を越える範囲に
渡って実質的に一定であることを特徴とするファイバ導
波路。 - 【請求項３】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項
に記載のファイバ導波路において、 前記第１及び前記第３の有効屈折率の間の差が前記第３
の有効屈折率の値の0.15〜0.3％の間にあることを特徴
とするファイバ導波路。 - 【請求項４】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項
に記載のファイバ導波路において、 前記第３及び前記第２の有効屈折率の間の差が前記第１
及び前記第３の有効屈折率の間の差の1.5〜2.5倍である
ことを特徴とするファイバ導波路。 - 【請求項５】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項
に記載のファイバ導波路において、 少なくともファイバ導波路の前記内側クラッド領域がフ
ッ素を含むことを特徴とするファイバ導波路。 - 【請求項６】実用新案登録請求の範囲第５項に記載のフ
ァイバ導波路において、 前記ファイバ導波路の前記外側クラッド領域もフッ素を
含むことを特徴とするファイバ導波路。 - 【請求項７】実用新案登録請求の範囲第６項に記載のフ
ァイバ導波路において、 前記コアが、実質的にSiO2からなることを特徴とするフ
ァイバ導波路。 - 【請求項８】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項
に記載のファイバ導波路において、 少なくともファイバ導波路の前記コア領域がゲルマニア
を含むことを特徴とするファイバ導波路。 - 【請求項９】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項
に記載のファイバ導波路において、 ファイバ導波路の前記クラッド領域の少なくとも一つが
燐を含むことを特徴とするファイバ導波路。 - 【請求項１０】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２
項に記載のファイバ導波路において、 前記外側クラッド領域の有効厚さはコア半径の少なくと
も６倍であることを特徴とするファイバ導波路。 - 【請求項１１】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２
項に記載のファイバ導波路において、 前記有効コア半径が少なくとも４μｍであることを特徴
とするファイバ導波路。 - 【請求項１２】実用新案登録請求の範囲第１項又は第２
項に記載のファイバ導波路において、 前記コア領域が少なくとも４μｍの半径を有し、 前記内側クラッド領域が５μｍより大きな外側半径を有
し、 前記外側クラッド領域がコア半径の少なくとも８倍の厚
さを有し、 前記第１及び前記第３の有効屈折率の間の差が前記第３
の有効屈折率の0.15〜0.3％であり、 前記第３及び前記第２の有効屈折率の間の差が前記第１
及び前記第３の有効屈折率の間の差の1.5〜2.5倍であ
り、 前記コアが実質的にSiO2からなることを特徴とするファ
イバ導波路。 - 【請求項１３】実用新案登録請求の範囲第12項に記載の
ファイバ導波路において、 前記内側及び前記外側クラッド領域がフッ素を含むこと
を特徴とするファイバ導波路。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/299,213 US4435040A (en) | 1981-09-03 | 1981-09-03 | Double-clad optical fiberguide |
| US299,213 | 1981-09-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100804U JPH03100804U (ja) | 1991-10-22 |
| JPH0727443Y2 true JPH0727443Y2 (ja) | 1995-06-21 |
Family
ID=23153811
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57152821A Pending JPS5852603A (ja) | 1981-09-03 | 1982-09-03 | シリカをもととした単一モ−ド光フアイバ導波路 |
| JP1990110461U Expired - Lifetime JPH0727443Y2 (ja) | 1981-09-03 | 1990-10-22 | シリカをもととした単一モード光ファイバ導波路 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57152821A Pending JPS5852603A (ja) | 1981-09-03 | 1982-09-03 | シリカをもととした単一モ−ド光フアイバ導波路 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4435040A (ja) |
| JP (2) | JPS5852603A (ja) |
| CA (1) | CA1170090A (ja) |
| DE (1) | DE3232194A1 (ja) |
| FR (1) | FR2512215B1 (ja) |
| GB (1) | GB2105488B (ja) |
| NL (1) | NL192010C (ja) |
Families Citing this family (57)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59202401A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバおよびその製造方法 |
| US4691990A (en) * | 1984-11-13 | 1987-09-08 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Optical fiber with depressed index outer cladding |
| DE3446816A1 (de) * | 1984-12-21 | 1986-07-10 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Optischer koppler |
| US4641917A (en) * | 1985-02-08 | 1987-02-10 | At&T Bell Laboratories | Single mode optical fiber |
| JPS61250605A (ja) * | 1985-04-27 | 1986-11-07 | Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp | 導光路付きイメ−ジフアイバ |
| JPS6252508A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ |
| CA1298110C (en) * | 1985-11-04 | 1992-03-31 | William E. Dennis | Optical fiber with a high refractive index edge which refracts errant signals from core cladding |
| US4700339A (en) * | 1986-01-28 | 1987-10-13 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Wavelength division multiplexed soliton optical fiber telecommunication system |
| US5028246A (en) * | 1986-02-03 | 1991-07-02 | Ensign-Bickford Optical Technologies, Inc. | Methods of making optical waveguides |
| US4770494A (en) * | 1986-02-12 | 1988-09-13 | American Telephone & Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Low-loss silica optical waveguides |
| US4836640A (en) * | 1986-06-27 | 1989-06-06 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Depressed cladding optical fiber cable |
| US4852968A (en) * | 1986-08-08 | 1989-08-01 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | Optical fiber comprising a refractive index trench |
| US4770492A (en) * | 1986-10-28 | 1988-09-13 | Spectran Corporation | Pressure or strain sensitive optical fiber |
| JPS63208003A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-08-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ |
| US4893896A (en) * | 1987-07-10 | 1990-01-16 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | Energy transmission optical fiber |
| JPS6419191A (en) * | 1987-07-14 | 1989-01-23 | Nagano Keiki Seisakusho Kk | Vacuum pump |
| US4820018A (en) * | 1987-10-30 | 1989-04-11 | Gte Laboratories Incorporated | Optical fiber for light amplification |
| US4838643A (en) * | 1988-03-23 | 1989-06-13 | Alcatel Na, Inc. | Single mode bend insensitive fiber for use in fiber optic guidance applications |
| US4893895A (en) * | 1988-04-05 | 1990-01-16 | The Babcock & Wilcox Company | An improved encased high temperature optical fiber |
| DE3812140A1 (de) * | 1988-04-12 | 1989-11-02 | Schott Glaswerke | Monomode-lichtleitfaser |
| CA2007533A1 (en) * | 1989-01-13 | 1990-07-13 | Bruce Lee Booth | Optical waveguide devices, elements for making the devices and methods for making the device and elements |
| AU629648B2 (en) * | 1989-06-13 | 1992-10-08 | Nippon Telegraph & Telephone Corporation | Hermetically coated optical fiber and production of the same |
| US5235666A (en) * | 1989-06-13 | 1993-08-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Production of a hermetically coated optical fiber |
| FR2650584B1 (fr) * | 1989-08-02 | 1993-12-17 | Cie Generale D Electricite | Procede de fabrication d'une fibre optique a gaine dopee |
| US5032001A (en) * | 1990-03-09 | 1991-07-16 | At&T Bell Laboratories | Optical fiber having enhanced bend resistance |
| DE4104268A1 (de) * | 1991-02-13 | 1992-08-20 | Standard Elektrik Lorenz Ag | Faseroptischer verstaerker |
| US5361319A (en) * | 1992-02-04 | 1994-11-01 | Corning Incorporated | Dispersion compensating devices and systems |
| US5318611A (en) * | 1992-03-13 | 1994-06-07 | Ensign-Bickford Optical Technologies, Inc. | Methods of making optical waveguides and waveguides made thereby |
| US5448674A (en) * | 1992-11-18 | 1995-09-05 | At&T Corp. | Article comprising a dispersion-compensating optical waveguide |
| JPH1033549A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-02-10 | Shinji Kokubu | レーザプローブ |
| US5781673A (en) * | 1997-02-05 | 1998-07-14 | Lucent Technologies Inc. | WDM optical fiber communication system with improved dispersion compensation |
| EP0862069B1 (en) * | 1997-02-26 | 2007-04-11 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical fiber |
| US5878182A (en) * | 1997-06-05 | 1999-03-02 | Lucent Technologies Inc. | Optical fiber having a low-dispersion slope in the erbium amplifier region |
| KR19990038607A (ko) | 1997-11-06 | 1999-06-05 | 윤종용 | 다단계 코아 구조를 가지는 단일모드 광섬유 |
| US5905838A (en) * | 1998-02-18 | 1999-05-18 | Lucent Technologies Inc. | Dual window WDM optical fiber communication |
| KR100333897B1 (ko) | 1998-06-24 | 2002-07-31 | 광주과학기술원 | 스트레스이완된장주기광섬유격자 |
| GB9814526D0 (en) | 1998-07-03 | 1998-09-02 | Univ Southampton | Optical fibre and optical fibre device |
| FR2784198B1 (fr) * | 1998-10-05 | 2002-08-30 | Cit Alcatel | Fibre optique utilisable pour systeme de transmissions a multiplexage en longueur d'onde |
| DE19852704A1 (de) * | 1998-11-16 | 2000-05-18 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Substratrohr |
| FR2788138B1 (fr) * | 1999-01-04 | 2001-03-30 | Cit Alcatel | Fibre optique a faible pente de dispersion chromatique |
| EP1154294B1 (en) * | 1999-01-18 | 2012-08-29 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber and method of manufacture thereof |
| US6418256B1 (en) | 1999-02-23 | 2002-07-09 | Lasercomm, Inc. | High order spatial mode optical fiber |
| KR100339041B1 (ko) * | 1999-06-14 | 2002-05-31 | 김효근 | 광섬유 클래딩 모드의 분산특성을 조절하는 방법 |
| CN1206551C (zh) | 1999-09-27 | 2005-06-15 | 住友电气工业株式会社 | 色散管理光纤、其制造方法、包含它的光通信系统及光纤母材 |
| JP2001166173A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ |
| EP1111414A3 (en) * | 1999-12-13 | 2007-08-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber and optical transmission system |
| US6570702B2 (en) * | 2000-04-14 | 2003-05-27 | The Regents Of The University Of California | Antiguided fiber ribbon laser |
| US6587623B1 (en) * | 2000-08-14 | 2003-07-01 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Method for reducing stimulated brillouin scattering in waveguide systems and devices |
| US6801700B2 (en) * | 2001-05-10 | 2004-10-05 | Fitel Usa Corp | Optical fiber design for secure tap proof transmission |
| US20030024276A1 (en) * | 2001-05-30 | 2003-02-06 | 3M Innovative Properties Company | Method of manufacture of an optical waveguide article including a fluorine-containing zone |
| US20030200771A1 (en) * | 2002-04-30 | 2003-10-30 | Burke Gerald E. | Method of manufacturing phosphosilicate optical fibers and optical fibers formed therefrom |
| US20070140634A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Robert Scott Windeler | Gain-producing, large-mode-area, multimode, hybrid optical fibers and devices using same |
| US7455460B2 (en) * | 2007-03-08 | 2008-11-25 | Panduit Corp. | Fiber optic connector with double-clad stub fiber |
| US8842957B2 (en) * | 2011-06-30 | 2014-09-23 | Corning Incorporated | Multimode optical fiber and system incorporating such |
| BR112014015902A8 (pt) | 2011-12-30 | 2017-07-04 | Dalton Bell James | guia de onda óptico, e material opticamente transmissivo |
| US9915819B2 (en) * | 2015-06-02 | 2018-03-13 | The Johns Hopkins University | Fiber-optic methods and devices enabling multiphoton imaging with improved signal to-noise ratio |
| CN110780379B (zh) * | 2019-10-29 | 2021-08-10 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 低色散单模光纤 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3997241A (en) * | 1973-06-07 | 1976-12-14 | Hitachi, Ltd. | Optical waveguide transmitting light wave energy in single mode |
| US4206967A (en) * | 1975-06-06 | 1980-06-10 | Hitachi, Ltd. | Optical fiber |
| JPS5431380A (en) * | 1977-08-10 | 1979-03-08 | Hirohama Kinzoku Kogyo Kk | Method of fitting handle to can |
| JPS583206B2 (ja) * | 1979-10-08 | 1983-01-20 | 日本電信電話株式会社 | 中間層付単一モ−ド光フアイバ |
| CA1124119A (en) * | 1979-10-08 | 1982-05-25 | Katsunari Okamoto | Single mode optical fibers |
-
1981
- 1981-09-03 US US06/299,213 patent/US4435040A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-08-27 CA CA000410323A patent/CA1170090A/en not_active Expired
- 1982-08-27 FR FR8214712A patent/FR2512215B1/fr not_active Expired
- 1982-08-30 DE DE19823232194 patent/DE3232194A1/de active Granted
- 1982-09-01 GB GB08224867A patent/GB2105488B/en not_active Expired
- 1982-09-02 NL NL8203434A patent/NL192010C/xx not_active IP Right Cessation
- 1982-09-03 JP JP57152821A patent/JPS5852603A/ja active Pending
-
1990
- 1990-10-22 JP JP1990110461U patent/JPH0727443Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL192010C (nl) | 1996-12-03 |
| JPS5852603A (ja) | 1983-03-28 |
| NL8203434A (nl) | 1983-04-05 |
| US4435040A (en) | 1984-03-06 |
| DE3232194A1 (de) | 1983-03-10 |
| NL192010B (nl) | 1996-08-01 |
| JPH03100804U (ja) | 1991-10-22 |
| CA1170090A (en) | 1984-07-03 |
| FR2512215B1 (fr) | 1986-06-27 |
| GB2105488A (en) | 1983-03-23 |
| FR2512215A1 (fr) | 1983-03-04 |
| DE3232194C2 (ja) | 1992-01-30 |
| GB2105488B (en) | 1985-01-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0727443Y2 (ja) | シリカをもととした単一モード光ファイバ導波路 | |
| JP2618400B2 (ja) | 光ファイバ | |
| US4447127A (en) | Low loss single mode fiber | |
| KR101908735B1 (ko) | 단일 모드 광 섬유 | |
| US7689093B2 (en) | Fluorine-doped optical fiber | |
| EP1515169B1 (en) | Graded-index multimode fiber and manufacturing method therefor | |
| US10571628B2 (en) | Low loss optical fiber with core codoped with two or more halogens | |
| CA2565879C (en) | Long wavelength, pure silica core single mode fiber and method of forming the same | |
| EP3715923B1 (en) | Single-mode optical fiber with ultralow loss and large effective area and manufacturing method therefor | |
| US10775558B2 (en) | Low loss wide bandwidth optical fiber | |
| GB2116744A (en) | Optical fiberguide | |
| EP0126304A2 (en) | A single mode lightguide fiber having a trapezoidal refractive index profile | |
| WO1996030788A1 (en) | Optical waveguide | |
| CA2360918A1 (en) | Optical fiber preform having oh barrier and fabrication method thereof | |
| US11531156B2 (en) | Multicore optical fiber with depressed index common cladding | |
| US11579355B2 (en) | Low cross-talk multicore optical fiber for single mode operation | |
| US6904213B2 (en) | Step index optical fiber with doped cladding and core, a preform, and a method of fabricating such a fiber | |
| EP0083843A2 (en) | Low dispersion, low-loss single-mode optical waveguide | |
| US7046890B2 (en) | Optical fiber with low taper induced loss | |
| WO1998000739A1 (en) | Optical fiber with tantalum doped clad | |
| GB2046239A (en) | Optical fibres | |
| JPS638707A (ja) | 分散シフト光フアイバ | |
| JPS62116902A (ja) | 広帯域低分散光フアイバ | |
| JPS6127721B2 (ja) | ||
| KR19990015863A (ko) | 웨지(wedge)구조를 갖는 분산 천이 단일 모드 광섬유 |