JPH07270477A - Defect detection method and defect detection device for linear electrode - Google Patents

Defect detection method and defect detection device for linear electrode

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JPH07270477A
JPH07270477A JP6082346A JP8234694A JPH07270477A JP H07270477 A JPH07270477 A JP H07270477A JP 6082346 A JP6082346 A JP 6082346A JP 8234694 A JP8234694 A JP 8234694A JP H07270477 A JPH07270477 A JP H07270477A
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electrodes
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芳男 湊
Yasuyuki Omukai
康之 大向
Hisao Tanabe
尚雄 田辺
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Abstract

PURPOSE:To efficiently detect the break of a liner electrode. CONSTITUTION:Probe electrodes P1 to P4 are arranged to cross each other separatedly in grade, in order to examine the wire break of liner electrodes E1 to E5. Also, capacitive coupling is applied to each crossing point of the electrodes E1 to E5, and P1 to P5. For inspecting the center hatching section of the electrode E3, a voltage feed selector circuit 40 is selected to apply the same AC voltage to the electrodes P2 and P3 mutually inverted phase. In this case, a voltage detecting selector circuit 50 is selected to connect the left end of the electrode E3 to a detection circuit 100, while the left ends of other liner electrodes are grounded. The circuit 100 judges that no wire break exists, if no voltage fluctuation is observed at the left end of the electrode E3, and that a wire break exists, if the voltage fluctuation is observed. According to this construction, a wire break can be detected for all zones of the electrodes E1 to E5 on the operation of the circuits 40 and 50.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は線状電極の欠陥検出方法
および欠陥検出装置、特に、プラズマディスプレイ装置
などの平面表示装置の基板上に形成される表示用線状電
極の欠陥を検出する欠陥検出方法および欠陥検出装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect detecting method for a linear electrode and a defect detecting device, and more particularly to a defect for detecting a defect in a display linear electrode formed on a substrate of a flat display device such as a plasma display device. The present invention relates to a detection method and a defect detection device.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイ装置、液晶ディス
プレイ装置、イメージセンサ、などの画像を取り扱う装
置では、多数の線状電極が形成された基板が用いられ
る。たとえば、プラズマディスプレイ装置では、第1の
基板上に横方向に多数の線状電極を配置し、第2の基板
上に縦方向に多数の線状電極を配置し、これら両基板を
対向させることにより、多数の線状電極による格子状パ
ターンが形成されるようにする。そして、第1の基板上
の任意の1本の線状電極と、これに対向して配置された
第2の基板上の任意の1本の線状電極と、の間に所定の
電圧を印加すれば、電圧が印加された2本の線状電極の
交差部分において放電が起こる。両基板間にプラズマ発
光物質を充填しておけば、2本の線状電極が交差した微
小部分に生じた放電によりプラズマ発光が起こり、1画
素分の表示が行われることになる。
2. Description of the Related Art In a device for handling an image, such as a plasma display device, a liquid crystal display device, an image sensor, etc., a substrate on which a large number of linear electrodes are formed is used. For example, in a plasma display device, a large number of linear electrodes are arranged in a horizontal direction on a first substrate, a large number of linear electrodes are arranged in a vertical direction on a second substrate, and these two substrates are opposed to each other. Thus, a grid pattern is formed by a large number of linear electrodes. Then, a predetermined voltage is applied between an arbitrary one linear electrode on the first substrate and an arbitrary one linear electrode on the second substrate arranged so as to face the linear electrode. Then, discharge occurs at the intersection of the two linear electrodes to which the voltage is applied. If a plasma light emitting material is filled between both substrates, plasma light emission occurs due to discharge generated in a minute portion where two linear electrodes intersect, and display for one pixel is performed.

【0003】一般に、ディスプレイ装置の性能を向上さ
せるためには、解像度を高める必要がある。解像度を高
めるためには、線状電極の幅やピッチを益々微細化しな
ければならない。しかも、大型のディスプレイ装置に対
する需要が年々高まってきている。このため、非常に細
く、しかも長い線状電極を、微細なピッチで配置した基
板が必要になってくる。たとえば、現在製造されている
大型のプラズマディスプレイ装置では、幅100μm、
長さ1mという、非常に細くて長い線状電極を、平均ピ
ッチ0.65mmという微細な間隔で多数配列した基板
が用いられている。
Generally, in order to improve the performance of a display device, it is necessary to increase the resolution. In order to improve the resolution, the width and pitch of the linear electrodes must be made finer and finer. Moreover, the demand for large display devices is increasing year by year. Therefore, it is necessary to provide a substrate in which very thin and long linear electrodes are arranged at a fine pitch. For example, in a large-sized plasma display device currently manufactured, a width of 100 μm,
A substrate in which a large number of very thin and long linear electrodes having a length of 1 m are arranged at a fine interval of an average pitch of 0.65 mm is used.

【0004】このような微細な線状電極を多数配置した
基板を製造した場合、個々の線状電極に断線などの欠陥
が生じていないかを検出することが非常に重要になる。
1か所でも断線が生じていると、画面上の画素が一列に
渡って発光しなくなり、ディスプレイ装置として正しい
機能を果たすことができなくなる。このため、従来は、
線状電極1本1本について、その両端にプローブ電極を
接触させて導通試験を行っていた。
When manufacturing a substrate in which a large number of such fine linear electrodes are arranged, it is very important to detect whether or not a defect such as disconnection has occurred in each linear electrode.
If the disconnection occurs even at one place, the pixels on the screen do not emit light in a row, and the display device cannot perform the correct function. Therefore, conventionally,
For each of the linear electrodes, a probe electrode was brought into contact with both ends of the linear electrode to conduct a continuity test.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、多数の
線状電極について、1本ずつ導通試験を行う作業は、多
大な労力と時間を必要とする。上述のように、今後は、
解像度が高く、しかも大型のディスプレイ装置の需要が
益々高まってくると思われ、1枚の基板上に形成される
線状電極の数は益々多くなってくる。したがって、これ
までのように、手作業で各線状電極1本1本についての
導通試験を行うことは、実用上、極めて効率の悪い作業
となる。しかも、線状電極の両端にプローブ電極を接触
させ、両プローブ電極間の導通試験を行うという従来の
検出方法では、欠陥の存在が発見されたとしても、その
位置を特定することはできない。すなわち、両プローブ
電極間が導通していないという結果が得られた場合、現
在検出対象となっている線状電極のうちのいずれかの箇
所が断線しているということは認識できるが、その断線
箇所がどこであるかを知ることはできない。いまのとこ
ろ、プラズマディスプレイ装置用の線状電極基板は、製
造コストが高いため、最終的な検査工程において、数箇
所の欠陥が発見されたからと言って、基板全部を廃棄処
分にすることは経済的な理由からできない。したがっ
て、欠陥の存在が認識された場合、その欠陥を修理する
作業を行う必要がある。ところが、従来の欠陥検出方法
では、欠陥の位置を知ることができないため、別な方法
で欠陥の位置を特定する必要がある。従来は、このよう
な欠陥の位置を特定する場合、顕微鏡などを使って検査
を行ったり、線状電極パターンの画像をコンピュータに
取り込み、コンピュータ内の演算処理により欠陥箇所を
特定したりしていた。しかしながら、顕微鏡を使って欠
陥位置を特定する作業は、多大な労力を必要とする作業
になり、一方、コンピュータによる画像処理により欠陥
位置を特定する方法は、演算処理負担が大きく、また、
実用的に機能する画像処理プログラムを完成させるまで
に多大な労力が必要になる。
However, the work of conducting the continuity test one by one for a large number of linear electrodes requires a great deal of labor and time. As mentioned above,
The demand for large-sized display devices with high resolution is expected to increase more and more, and the number of linear electrodes formed on one substrate will increase more and more. Therefore, manually conducting the continuity test for each of the linear electrodes as described above is extremely inefficient in practical use. Moreover, in the conventional detection method in which the probe electrodes are brought into contact with both ends of the linear electrode and the continuity test between the probe electrodes is performed, even if a defect is found, its position cannot be specified. In other words, if the result that there is no electrical connection between both probe electrodes is obtained, it can be recognized that any part of the linear electrode currently being detected is open, but You cannot know where the place is. At present, linear electrode substrates for plasma display devices are expensive to manufacture, so it is economical to discard the entire substrate just because some defects were found in the final inspection process. I can't do it for some reason. Therefore, when the presence of a defect is recognized, it is necessary to perform work to repair the defect. However, since the conventional defect detection method cannot know the position of the defect, it is necessary to specify the position of the defect by another method. Conventionally, in order to specify the position of such a defect, an inspection is performed using a microscope or the like, or an image of the linear electrode pattern is taken into a computer, and the defective part is specified by calculation processing in the computer. . However, the task of identifying a defect position using a microscope requires a great deal of labor, while the method of identifying a defect position by image processing by a computer has a heavy calculation processing load.
A great deal of labor is required to complete an image processing program that functions practically.

【0006】そこで本発明は、線状電極の欠陥を効率的
に検出することができる線状電極の欠陥検出方法および
欠陥検出装置を提供することを目的とする。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a defect detecting method and a defect detecting device for a linear electrode capable of efficiently detecting a defect in the linear electrode.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

(1) 本発明の第1の態様は、所定方向に伸びた線状電
極についての欠陥を検出する方法において、線状電極の
検出対象区間の両側位置に、第1のプローブ電極および
第2のプローブ電極を、それぞれ線状電極との間に所定
間隔をあけて配置し、周波数および振幅が等しく、互い
に位相が反転した関係にある第1の交流電圧および第2
の交流電圧を用意し、第1のプローブ電極に第1の交流
電圧を印加するとともに、第2のプローブ電極に第2の
交流電圧を印加したときに、線状電極の一端に誘起され
る電圧変動を測定し、この電圧変動の振幅に基づいて検
出対象区間における欠陥の有無を検出するようにしたも
のである。
(1) A first aspect of the present invention is a method for detecting a defect in a linear electrode extending in a predetermined direction, wherein the first probe electrode and the second probe electrode are provided at positions on both sides of a detection target section of the linear electrode. The probe electrodes are arranged at a predetermined interval from the linear electrodes, respectively, and the first AC voltage and the second AC voltage having the same frequency and amplitude and having the phases inverted from each other.
Voltage that is induced at one end of the linear electrode when the first AC voltage is applied to the first probe electrode and the second AC voltage is applied to the second probe electrode. The fluctuation is measured, and the presence or absence of a defect in the detection target section is detected based on the amplitude of the voltage fluctuation.

【0008】(2) 本発明の第2の態様は、上述の第1
の態様に係る検出方法において、第1のプローブ電極お
よび第2のプローブ電極として、それぞれ細長い電極を
用い、各プローブ電極の一端を終端抵抗を介して所定の
基準電位に固定し、各プローブ電極の他端にそれぞれ交
流電圧を印加し、線状電極の電圧変動検出端を抵抗素子
を介して所定の基準電位に固定し、電圧変動検出端を増
幅器に接続し、この増幅器の出力電圧に基づいて欠陥の
有無を検出するようにしたものである。
(2) A second aspect of the present invention is the above-mentioned first aspect.
In the detection method according to the aspect (1), elongated electrodes are used as the first probe electrode and the second probe electrode, and one end of each probe electrode is fixed to a predetermined reference potential via a terminating resistor. An AC voltage is applied to each of the other ends, the voltage fluctuation detection end of the linear electrode is fixed to a predetermined reference potential via a resistance element, the voltage fluctuation detection end is connected to an amplifier, and based on the output voltage of this amplifier. The presence or absence of defects is detected.

【0009】(3) 本発明の第3の態様は、第1の平面
内において、第1の方向に沿って伸び、互いにほぼ平行
に配置された複数の線状電極についての欠陥を検出する
方法において、第1の平面に対して平行な第2の平面内
において、第1の方向に対してほぼ垂直な第2の方向に
沿って伸び、互いにほぼ平行に配置された複数の細長い
プローブ電極を、複数の線状電極に向かい合わせ、周波
数および振幅が等しく、互いに位相が反転した関係にあ
る第1の交流電圧および第2の交流電圧を用意し、複数
の線状電極のうちの1本を検出対象として定め、この検
出対象となる1本の線状電極の検出対象区間の両側に位
置する一対のプローブ電極のうちの一方を第1のプロー
ブ電極、他方を第2のプローブ電極として定め、第1の
プローブ電極に第1の交流電圧を印加するとともに、第
2のプローブ電極に第2の交流電圧を印加したときに、
検出対象となる線状電極の一端に誘起される電圧変動を
測定し、この電圧変動の振幅に基づいて検出対象区間に
おける欠陥の有無を検出するようにしたものである。
(3) A third aspect of the present invention is a method for detecting a defect in a plurality of linear electrodes extending along a first direction in a first plane and arranged substantially parallel to each other. In a second plane parallel to the first plane, a plurality of elongated probe electrodes that extend along a second direction substantially perpendicular to the first direction and are arranged substantially parallel to each other are provided. , A first AC voltage and a second AC voltage having a frequency and an amplitude that are equal to each other and are in a phase-inverted relationship with each other are provided, and one of the plurality of linear electrodes is One of the pair of probe electrodes located on both sides of the detection target section of the one linear electrode to be detected is defined as the first probe electrode and the other is defined as the second probe electrode. The first probe electrode While applying an alternating voltage and applying a second alternating voltage to the second probe electrode,
The voltage fluctuation induced at one end of the linear electrode to be detected is measured, and the presence or absence of a defect in the detection target section is detected based on the amplitude of this voltage fluctuation.

【0010】(4) 本発明の第4の態様は、上述の第3
の態様に係る検出方法において、各プローブ電極の一端
を終端抵抗を介して所定の基準電位に固定し、第1のプ
ローブ電極および第2のプローブ電極の他端にそれぞれ
交流電圧を印加し、検出対象となる線状電極の電圧変動
検出端を抵抗素子を介して所定の基準電位に固定し、電
圧変動検出端を増幅器に接続し、この増幅器の出力電圧
に基づいて欠陥の有無を検出するようにしたものであ
る。
(4) The fourth aspect of the present invention is the above-mentioned third aspect.
In the detection method according to the second aspect, one end of each probe electrode is fixed to a predetermined reference potential via a terminating resistor, and an AC voltage is applied to the other ends of the first probe electrode and the second probe electrode, respectively, and detection is performed. The voltage fluctuation detection end of the target linear electrode is fixed to a predetermined reference potential via a resistance element, the voltage fluctuation detection end is connected to an amplifier, and the presence or absence of a defect is detected based on the output voltage of this amplifier. It is the one.

【0011】(5) 本発明の第5の態様は、所定の平面
内において、所定の方向に沿って伸び、互いにほぼ平行
に配置された複数の線状電極についての欠陥を検出する
装置において、平板状の支持基板と、この支持基板上に
おいて所定の方向に沿って伸び、互いにほぼ平行に配置
された複数の細長いプローブ電極と、このプローブ電極
を覆うように形成された絶縁膜と、を有するプローブ基
板と、周波数および振幅が等しく、互いに位相が反転し
た関係にある第1の交流電圧および第2の交流電圧を供
給する電圧供給回路と、複数のプローブ電極のうちから
一対のプローブ電極を選択し、選択されたプローブ電極
の一方に第1の交流電圧を供給し、他方に第2の交流電
圧を供給する電圧供給用選択回路と、複数の線状電極の
うちから1本の線状電極を選択し、選択された線状電極
の一端に誘起される電圧変動を取り出す電圧検出用選択
回路と、この取り出された電圧変動に基づいて、選択さ
れた線状電極における選択された一対のプローブ電極間
に対応する部分の欠陥の有無を検出する検出回路と、を
設けたものである。
(5) A fifth aspect of the present invention is an apparatus for detecting a defect in a plurality of linear electrodes extending along a predetermined direction in a predetermined plane and arranged substantially parallel to each other, It has a flat support substrate, a plurality of elongated probe electrodes extending along a predetermined direction on the support substrate and arranged substantially parallel to each other, and an insulating film formed so as to cover the probe electrodes. A probe substrate, a voltage supply circuit that supplies a first AC voltage and a second AC voltage that have the same frequency and amplitude, and are in a phase-inverted relationship with each other, and a pair of probe electrodes are selected from a plurality of probe electrodes. Then, a voltage supply selection circuit that supplies a first AC voltage to one of the selected probe electrodes and a second AC voltage to the other, and one linear electrode from the plurality of linear electrodes. A voltage detection selection circuit that selects a pole and extracts a voltage fluctuation induced at one end of the selected linear electrode, and a pair of selected pairs of the selected linear electrodes based on the extracted voltage fluctuation. And a detection circuit for detecting the presence / absence of a defect in the corresponding portion between the probe electrodes.

【0012】(6) 本発明の第6の態様は、上述の第5
の態様に係る検出装置において、電圧供給回路から得ら
れる交流信号の位相を所定の遅延時間だけ遅らせる位相
遅延器と、電圧検出用選択回路から取り出された電圧変
動のうち、位相遅延器からの信号に基づいて正の成分の
みを抽出して出力する第1の濾波器と、電圧検出用選択
回路から取り出された電圧変動のうち、位相遅延器から
の信号に基づいて負の成分のみを抽出してこれを反転し
て出力する第2の濾波器と、第1の濾波器の出力と第2
の濾波器の出力とを加算する加算器と、により検出回路
を構成し、加算器の出力に基づいて欠陥の有無を検出す
ることを特徴とする線状電極の欠陥検出装置。
(6) The sixth aspect of the present invention is the above-mentioned fifth aspect.
In the detection device according to the aspect, a phase delayer that delays the phase of the AC signal obtained from the voltage supply circuit by a predetermined delay time and a signal from the phase delayer among the voltage fluctuations extracted from the voltage detection selection circuit. Based on the signal from the phase delay device, only the negative component is extracted from the first filter that extracts and outputs only the positive component based on A second filter for inverting and outputting the second filter, an output of the first filter and a second filter
An adder for adding the output of the filter and the detector, and a defect detection device for a linear electrode, characterized in that the presence or absence of a defect is detected based on the output of the adder.

【0013】[0013]

【作 用】検出対象となる1本の線状電極の上方に、1
つのプローブ電極を配置すると、両電極の平面的に重な
り合う部分において、容量素子が形成されることにな
る。そこで、互いに間隔をあけて一対のプローブ電極を
配置すると、各プローブ電極と線状電極との重なり合う
部分において、それぞれ容量素子が形成される。一般
に、容量素子では、一方の電極に交流電圧を与えると、
この交流成分は容量結合された他方の電極に伝達され、
他方の電極にも交流電圧が誘起されることになる。そこ
で、一対のプローブ電極に交流電圧を印加したとする
と、これらに対して容量結合された線状電極の各対応部
分に交流電圧が誘起されることになる。このとき、一対
のプローブ電極に印加する交流電圧の位相が互いに反転
した関係になるようにすると、線状電極側の各対応部分
に誘起される電圧の極性は相互に反対のものとなる。す
なわち、第1のプローブ電極に対応する部分に正の電荷
が誘起されたとすると、第2のプローブ電極に対応する
部分には負の電荷が誘起されることになる。
[Operation] 1 above the linear electrode to be detected
When one probe electrode is arranged, a capacitive element will be formed in a portion where both electrodes overlap in a plane. Therefore, when a pair of probe electrodes are arranged at a distance from each other, a capacitive element is formed in each overlapping portion of each probe electrode and the linear electrode. Generally, in a capacitive element, if an AC voltage is applied to one electrode,
This AC component is transmitted to the other electrode that is capacitively coupled,
An AC voltage is also induced in the other electrode. Therefore, if an AC voltage is applied to the pair of probe electrodes, an AC voltage will be induced in each corresponding portion of the linear electrodes capacitively coupled to them. At this time, if the phases of the AC voltages applied to the pair of probe electrodes are set to be in a mutually inverted relationship, the polarities of the voltages induced in the corresponding portions on the linear electrode side are opposite to each other. That is, if positive charge is induced in the portion corresponding to the first probe electrode, negative charge is induced in the portion corresponding to the second probe electrode.

【0014】いま、一対のプローブ電極に印加する交流
電圧の周波数および振幅を等しくし、位相のみが異なる
(反転する)ようにする。すると、各瞬間においては、
線状電極側の各対応部分に誘起される正の電荷量と負の
電荷量とは等しくなる。そこで、線状電極に断線欠陥が
ない正常の場合には、誘起された両電荷は互いに相殺さ
れ、線状電極にはトータルで見ると、電荷は発生してい
ないことになる。ところが、一対のプローブ電極で挟ま
れた区間において、線状電極に断線欠陥があると、正の
電荷が誘起された部分と、負の電荷が誘起された部分
と、が電気的に分離されることになり、両電荷は相殺さ
れない。このため、線状電極の一端には、プローブ電極
に印加した交流電圧と同一周波数の電圧変動が観測され
ることになる。そこで、この電圧変動に基づいて、線状
電極の所定箇所(一対のプローブ電極で挟まれた区間)
についての欠陥の有無を検出することができる。
Now, the frequencies and the amplitudes of the AC voltages applied to the pair of probe electrodes are made equal, and only the phases are different (inverted). Then, at each moment,
The positive charge amount and the negative charge amount induced in each corresponding portion on the linear electrode side are equal. Therefore, in the normal case where there is no disconnection defect in the linear electrode, the induced charges cancel each other out, and the charge is not generated in the linear electrode in total. However, if there is a disconnection defect in the linear electrode in the section sandwiched by the pair of probe electrodes, the positive charge-induced portion and the negative charge-induced portion are electrically separated. Therefore, both charges are not canceled out. Therefore, a voltage fluctuation having the same frequency as the AC voltage applied to the probe electrode is observed at one end of the linear electrode. Therefore, based on this voltage fluctuation, a predetermined portion of the linear electrode (section sandwiched by a pair of probe electrodes)
The presence or absence of defects can be detected.

【0015】プラズマディスプレイ装置などに用いられ
る基板上には、多数の線状電極が配置されることになる
が、このような多数の線状電極に対する検出を行う場合
には、この線状電極の長手方向に対して直交する方向に
伸びるような多数のプローブ電極を配置すればよい。こ
の場合、多数の線状電極のうち、検出対象となる1本を
選択し、この1本の線状電極の一端に発生する電圧変動
を観測するようにすれば、上述の原理に基づく検出を1
本ずつ順次行うことができる。また、多数のプローブ電
極のうち、一対を選択して交流電圧の印加を行うように
すれば、この選択した一対のプローブ電極で挟まれた各
区間ごとに欠陥の有無を判定することができ、欠陥が存
在した場合にその位置を特定することができるようにな
る。
A large number of linear electrodes are arranged on a substrate used for a plasma display device or the like. When detection is performed on such a large number of linear electrodes, the linear electrodes are A large number of probe electrodes may be arranged so as to extend in the direction orthogonal to the longitudinal direction. In this case, if one of the many linear electrodes to be detected is selected and the voltage fluctuation occurring at one end of this one linear electrode is observed, detection based on the above-described principle is performed. 1
It can be done sequentially book by book. Further, among a large number of probe electrodes, by selecting a pair and applying an alternating voltage, it is possible to determine the presence or absence of a defect for each section sandwiched by the selected pair of probe electrodes, If there is a defect, its position can be specified.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明を図示する実施例に基づいて説
明する。
The present invention will be described below based on illustrated embodiments.

【0017】<本発明の基本原理>はじめに、本発明に
係る線状電極の欠陥検出方法の基本原理を説明する。い
ま、図1に示すように、左端aから右端bまで横方向に
線状に伸びた検出対象電極Eについての欠陥検出を行う
場合を考える。本発明の検出方法では、一対のプローブ
電極が用いられる。ここでは、図における下端cから上
端dまで縦方向に線状に伸びたプローブ電極1と、下端
eから上端fまで縦方向に線状に伸びたプローブ電極2
と、を用いた例を考えてみる。図では平面的に示されて
いるが、プローブ電極1,2は、検出対象電極Eの上方
(すなわち、紙面に垂直な方向)に配置されている。別
言すれば、平面的には検出対象電極Eとプローブ電極
1,2は点g,hにおいて交差しているが、実際には、
プローブ電極1,2は検出対象電極Eに対して所定の距
離を保って浮いた状態になっている。一対のプローブ電
極1,2は、同一形状・同一寸法のものであり、検出対
象電極Eに対して同じ距離を保って同じ角度(この例で
は直角)で配置されている。
<Basic Principle of the Present Invention> First, the basic principle of the linear electrode defect detection method according to the present invention will be described. Now, as shown in FIG. 1, consider a case where defect detection is performed on a detection target electrode E that extends linearly in the lateral direction from the left end a to the right end b. The detection method of the present invention uses a pair of probe electrodes. Here, a probe electrode 1 that extends linearly in the vertical direction from a lower end c to an upper end d in the figure, and a probe electrode 2 that extends linearly in the vertical direction from a lower end e to an upper end f.
Consider an example using and. Although shown in plan in the figure, the probe electrodes 1 and 2 are arranged above the detection target electrode E (that is, in the direction perpendicular to the paper surface). In other words, the detection target electrode E and the probe electrodes 1 and 2 intersect at the points g and h in a plane, but in reality,
The probe electrodes 1 and 2 are in a state of floating with a predetermined distance from the detection target electrode E. The pair of probe electrodes 1 and 2 have the same shape and the same size, and are arranged at the same angle (right angle in this example) with respect to the detection target electrode E while keeping the same distance.

【0018】また、プローブ電極1,2の一端d,f
は、それぞれ終端抵抗R1,R2を介して接地されてい
る。一方、プローブ電極1,2の他端c,eには、交流
電源Gによって発生された交流電圧が、それぞれバッフ
ァ3および反転バッファ4を介して印加されている。す
なわち、プローブ電極1および2に印加される交流電圧
は、同一周波数・同一振幅のものとなり、位相だけが反
転(180°の位相差をもつ)したものになる。一方、
検出対象電極Eの左端aは、抵抗素子R0を介して接地
されるとともに、この左端aの電位は増幅器5によって
増幅して出力される。
Further, one ends d and f of the probe electrodes 1 and 2
Are grounded via terminating resistors R1 and R2, respectively. On the other hand, the AC voltage generated by the AC power supply G is applied to the other ends c and e of the probe electrodes 1 and 2 via the buffer 3 and the inverting buffer 4, respectively. That is, the AC voltages applied to the probe electrodes 1 and 2 have the same frequency and the same amplitude, and only the phases are inverted (having a phase difference of 180 °). on the other hand,
The left end a of the detection target electrode E is grounded via the resistance element R0, and the potential of the left end a is amplified by the amplifier 5 and output.

【0019】ここで、点g,hの交差点の部分の構造に
着目すると、検出対象電極Eの部分領域と、プローブ電
極1,2の部分領域と、が三次元空間において向かい合
っていることになる。すなわち、ある面積をもった導電
性の領域が、所定間隔をもって対向して配置されている
ことになり、電気的には容量素子が形成されていること
になる。したがって、プローブ電極1,2に交流電圧を
印加すると、この容量素子に基づく容量結合により、検
出対象電極Eの各部分領域には、電圧変動が誘起される
ことになる。そこで、このような検出系において、電気
的にはどのような現象が起こるのかを詳しく考えてみ
る。
Here, paying attention to the structure at the intersection of the points g and h, it means that the partial area of the detection target electrode E and the partial areas of the probe electrodes 1 and 2 face each other in the three-dimensional space. . That is, the conductive regions having a certain area are arranged to face each other with a predetermined interval, and the capacitive element is electrically formed. Therefore, when an AC voltage is applied to the probe electrodes 1 and 2, a voltage variation is induced in each partial region of the detection target electrode E due to capacitive coupling based on this capacitive element. Therefore, let us consider in detail what kind of phenomenon occurs electrically in such a detection system.

【0020】図2は、図1に示す検出系の等価回路であ
る。上述のように、検出対象電極Eとプローブ電極1,
2との交差点g,hには、容量素子が形成されている
が、この等価回路では、これらの容量素子をC1,C2
で表わしている。前述のように、交流電源Gによって発
生された交流電圧は、それぞれバッファ3および反転バ
ッファ4を介してプローブ電極1,2に印加される。こ
れは図2における等価回路において、容量素子C1,C
2の上方の電極に交流電圧が印加されることを意味す
る。ここでは、説明の便宜上、瞬時の状態を考えてみ
る。いま、図2に示すように、容量素子C1の上方の電
極(プローブ電極1)に正の電荷が与えられ、容量素子
C2の上方の電極(プローブ電極2)に負の電荷が与え
られた状態を考えると、検出対象電極Eの点gの部分に
は負の電荷が誘起され、点hの部分には正の電荷が誘起
されることになる。プローブ電極1および2に印加され
る交流電圧は、同一周波数・同一振幅のものであるか
ら、ある一瞬において、点gの部分に誘起される負の電
荷量と、点hの部分に誘起される正の電荷量と、は等し
くなる。したがって、図2に示すように、検出対象電極
Eに欠陥が全くなかったとすると、点ab間は導通状態
となっているため、点gにおいて発生した負の電荷と、
点hにおいて発生した正の電荷と、は相殺され、検出対
象電極E全体としては、何ら電位変動は生じないことに
なる。プローブ電極1,2には、交流電圧が印加されて
いるが、各瞬時瞬時の状態では、検出対象電極E上にお
いて正負の電荷が相殺されるため、経時的な変化をみた
としても、検出対象電極E全体としては、電圧変動は生
じないのである。したがって、増幅器5からは何ら信号
出力は得られない(実際には、ノイズ成分により、いく
らかの電圧が出力されることになる)。
FIG. 2 is an equivalent circuit of the detection system shown in FIG. As described above, the detection target electrode E and the probe electrode 1,
Capacitance elements are formed at the intersections g and h with the two points. In this equivalent circuit, these capacitance elements are C1 and C2.
It is represented by. As described above, the AC voltage generated by the AC power supply G is applied to the probe electrodes 1 and 2 via the buffer 3 and the inverting buffer 4, respectively. This is equivalent to the capacitive elements C1 and C in the equivalent circuit of FIG.
2 means that an alternating voltage is applied to the upper electrode. Here, for convenience of explanation, consider an instantaneous state. Now, as shown in FIG. 2, a state in which a positive charge is applied to the electrode (probe electrode 1) above the capacitive element C1 and a negative charge is applied to the electrode (probe electrode 2) above the capacitive element C2. Considering the above, a negative charge is induced at the point g of the detection target electrode E, and a positive charge is induced at the point h. Since the alternating voltage applied to the probe electrodes 1 and 2 has the same frequency and the same amplitude, the negative charge amount induced at the point g and the point h at a certain moment. The amount of positive charge is equal to. Therefore, as shown in FIG. 2, assuming that there is no defect in the detection target electrode E, since the point ab is in the conductive state, the negative charge generated at the point g and
The positive charges generated at the point h are offset by each other, and no potential fluctuation occurs in the detection target electrode E as a whole. Although an AC voltage is applied to the probe electrodes 1 and 2, in each instantaneous state, positive and negative charges are canceled on the detection target electrode E, so that even if a change over time is observed, the detection target The voltage fluctuation does not occur in the electrode E as a whole. Therefore, no signal output is obtained from the amplifier 5 (actually, some voltage is output due to the noise component).

【0021】それでは、検出対象電極Eの一部に欠陥が
生じていた場合はどうであろうか。ここでは、まず、図
3に示すように、点ag間の所定位置x1において断線
が生じていた場合を考えてみる。この場合、点gh間は
電気的に接続された状態になっているので、やはり誘起
された正負の電荷は相殺される。したがって、増幅器5
からは電位変動は検出されない。同様に、図4に示すよ
うに、点hb間の所定位置x2において断線が生じてい
た場合を考えてみる。この場合も点gh間は電気的に接
続された状態になっているので、やはり誘起された正負
の電荷は相殺される。したがって、増幅器5からは電位
変動は検出されない。
Then, what if the defect occurs in a part of the electrode E to be detected? Here, first, let us consider a case where a disconnection occurs at a predetermined position x1 between points ag as shown in FIG. In this case, since the points gh are electrically connected to each other, the induced positive and negative charges are canceled out. Therefore, the amplifier 5
No potential fluctuation is detected from. Similarly, as shown in FIG. 4, consider a case where a disconnection occurs at a predetermined position x2 between points hb. In this case as well, the points gh are electrically connected to each other, so that the induced positive and negative charges are canceled out. Therefore, no potential fluctuation is detected from the amplifier 5.

【0022】ところが、図5に示すように、点gh間の
所定位置x3において断線が生じていた場合はどうであ
ろうか。この場合、点gと点hとは電気的に接続されて
いないので、点gにおいて発生した負の電荷と、点hに
おいて発生した正の電荷と、が相殺されることはない。
このため、点gにおいて発生した負の電荷は、増幅器5
から負の電圧として出力されることになる。この図5の
状態は瞬時の現象であるが、実際には、プローブ電極
1,2には所定の周波数をもった交流電圧が供給されて
いるため、点gにおいて発生する電荷は、正負交番した
ものになる。したがって、増幅器5からは、交流電源G
と同一周波数(位相はやや遅れる)の交流信号が出力さ
れることになる。
However, what will happen if a disconnection occurs at a predetermined position x3 between the points gh as shown in FIG. In this case, since the point g and the point h are not electrically connected, the negative charge generated at the point g and the positive charge generated at the point h are not canceled.
Therefore, the negative charge generated at the point g is
Will be output as a negative voltage. The state of FIG. 5 is an instantaneous phenomenon, but in reality, since an alternating voltage having a predetermined frequency is supplied to the probe electrodes 1 and 2, the charges generated at the point g are alternately positive and negative. It becomes a thing. Therefore, from the amplifier 5, the AC power supply G
An AC signal of the same frequency (phase is slightly delayed) will be output.

【0023】以上をまとめると、図2に示すように断線
が全くない場合、および図3,図4に示すように断線が
区間gh以外の箇所に生じていた場合には、増幅器5は
一定の基準電圧値を出力し続けるが、図5に示すように
断線が区間gh内の箇所に生じていた場合には、増幅器
5からは交流電源Gと同一周波数の交流電圧が出力され
ることがわかる。逆に言えば、増幅器5の出力が基準電
圧値のときには、少なくとも、一対のプローブ電極1,
2で挟まれた区間gh内には断線はないということが認
識でき、増幅器5から交流電源Gと同一周波数の交流信
号が出力されたときには、一対のプローブ電極1,2で
挟まれた区間gh内に断線が発生していることが認識で
きる。
In summary, when there is no disconnection as shown in FIG. 2 and as shown in FIGS. 3 and 4 when the disconnection occurs in a portion other than the section gh, the amplifier 5 is constant. Although the reference voltage value continues to be output, it can be seen that the AC voltage having the same frequency as that of the AC power supply G is output from the amplifier 5 when the disconnection occurs in the section gh as shown in FIG. . Conversely, when the output of the amplifier 5 is the reference voltage value, at least the pair of probe electrodes 1,
It can be recognized that there is no disconnection in the section gh sandwiched by 2 and when the AC signal of the same frequency as the AC power supply G is output from the amplifier 5, the section gh sandwiched by the pair of probe electrodes 1, 2. It can be recognized that there is a disconnection inside.

【0024】このように、増幅器5の出力に基づいて、
一対のプローブ電極1,2で挟まれた区間gh内の断線
の有無を判定することができるので、図1において、一
対のプローブ電極1,2を図の左右に順次移動させなが
ら、増幅器5の出力を観測すれば、左端aから右端bに
至るまでの全長にわたって、検出対象電極Eの断線検出
を行うことが可能になる。
Thus, based on the output of the amplifier 5,
Since it is possible to determine the presence / absence of a wire break in the section gh sandwiched between the pair of probe electrodes 1 and 2, in FIG. By observing the output, it becomes possible to detect disconnection of the detection target electrode E over the entire length from the left end a to the right end b.

【0025】なお、プローブ電極1,2の一端に接続さ
れた終端抵抗R1,R2は、原理的には必ずしも必要な
ものではない。すなわち、図2〜図5の等価回路図にお
いて、終端抵抗R1,R2を省略しても、上述の原理に
基づく検出は可能である。しかしながら、終端抵抗R
1,R2を省略すると、プローブ電極1,2の電位が外
乱によって変動を受けやすい不安定な状態になる。この
ため、実用上は、終端抵抗R1,R2を介して、プロー
ブ電極1,2の一端を所定の基準電位(この例では接地
電位)に固定するのが好ましい。
The terminating resistors R1 and R2 connected to one ends of the probe electrodes 1 and 2 are not necessarily required in principle. That is, in the equivalent circuit diagrams of FIGS. 2 to 5, even if the terminating resistors R1 and R2 are omitted, the detection based on the above principle is possible. However, the termination resistance R
If 1 and R2 are omitted, the potentials of the probe electrodes 1 and 2 become unstable due to disturbance. Therefore, in practice, it is preferable to fix one end of the probe electrodes 1 and 2 to a predetermined reference potential (ground potential in this example) via the terminating resistors R1 and R2.

【0026】<具体的な検出装置の構造>続いて、上述
の基本原理を用いて線状電極の欠陥検出を効率的に行う
ことができる具体的な検出装置の構造を説明する。もと
もと本発明は、プラズマディスプレイ装置、液晶ディス
プレイ装置、イメージセンサ、などの装置に用いる基板
に形成された多数の線状電極についての欠陥検出を行う
ことを目的として考え出されたものである。そこで、実
用上は、基板上に形成された多数の線状電極に対しての
検出を行うことができる検出装置を構成するのが好まし
い。以下に述べる具体的な検出装置は、このような多数
の線状電極に対する検出を行うのに適した装置である。
<Specific Structure of Detecting Device> Next, the structure of a specific detecting device capable of efficiently detecting the defect of the linear electrode by using the above-mentioned basic principle will be described. The present invention was originally conceived for the purpose of detecting defects in a large number of linear electrodes formed on a substrate used in a device such as a plasma display device, a liquid crystal display device, and an image sensor. Therefore, in practice, it is preferable to configure a detection device that can detect a large number of linear electrodes formed on the substrate. The specific detection device described below is a device suitable for performing detection on such a large number of linear electrodes.

【0027】ここでは、説明の便宜上、図6に示すよう
な検出対象基板10を考えることにする。この検出対象
基板10は、絶縁性の支持基板11(たとえば、ガラス
基板)上に、5本の線状電極E1〜E5が形成されてい
るものである。これら線状電極E1〜E5は、いずれも
図の横方向に伸び、互いに平行になるように所定間隔を
おいて配置されている。実際のプラズマディスプレイ装
置用の基板上に形成される線状電極は、たとえば、幅1
00μm、長さ1m、といった非常に細長い形状を有
し、これらが平均ピッチ0.65mm程度で数百本ほど
平行に配置されることになる。ただ、本願の図面上で
は、実際の寸法比を無視し、5本の線状電極E1〜E5
だけが配置された単純なモデルについて以下の説明を行
うことにする。
Here, for convenience of explanation, a detection target substrate 10 as shown in FIG. 6 is considered. The detection target substrate 10 is one in which five linear electrodes E1 to E5 are formed on an insulating support substrate 11 (for example, a glass substrate). All of these linear electrodes E1 to E5 extend in the lateral direction of the drawing and are arranged at a predetermined interval so as to be parallel to each other. A linear electrode formed on a substrate for an actual plasma display device has, for example, a width of 1
It has a very elongated shape of 00 μm and a length of 1 m, and several hundred of these are arranged in parallel with an average pitch of about 0.65 mm. However, in the drawings of the present application, ignoring the actual dimensional ratio, the five linear electrodes E1 to E5 are ignored.
The following description will be given for a simple model in which only the

【0028】さて、図6に示すような検出対象基板10
についての欠陥検出を行うために、図7に示すようなプ
ローブ基板20を用意する。このプローブ基板20は、
絶縁性の支持基板21(たとえば、ガラス基板)上に、
4本の細長いプローブ電極P1〜P4と、シールド線S
と、を形成し、更にその上面を絶縁膜で覆ったものであ
る。シールド線Sは、各プローブ電極P1〜P4の間隙
に配置された導電線であり、検出精度を向上させるため
のものである。すなわち、実際のプローブ電極P1〜P
4は、幅500μm、長さ50〜100cm、といった
非常に細長い電極をピッチ1.0mm程度で配したもの
であるため、アンテナとして機能してしまうことにな
る。このようにアンテナとして機能すると、外界からの
電波による信号成分が混入して検出精度を低下させる原
因になる。そこで、シールド線Sを設け、外乱の受信を
できるだけ低減させるようにしている。後述するよう
に、このシールド線Sは、検出時には接地される。
Now, the detection target substrate 10 as shown in FIG.
In order to perform the defect detection of the probe substrate 20, a probe substrate 20 as shown in FIG. 7 is prepared. This probe substrate 20 is
On an insulating support substrate 21 (for example, a glass substrate),
The four elongated probe electrodes P1 to P4 and the shield wire S
Are formed and the upper surface thereof is further covered with an insulating film. The shield wire S is a conductive wire arranged in the gap between the probe electrodes P1 to P4 and is for improving the detection accuracy. That is, the actual probe electrodes P1 to P
Since 4 is a very long and narrow electrode having a width of 500 μm and a length of 50 to 100 cm and arranged at a pitch of about 1.0 mm, it will function as an antenna. When functioning as an antenna in this way, signal components due to radio waves from the external world are mixed in and cause detection accuracy to deteriorate. Therefore, the shield line S is provided to reduce the reception of disturbance as much as possible. As will be described later, this shield line S is grounded at the time of detection.

【0029】図8は、図6に示す検出対象基板10を切
断線8−8に沿って切った断面図である。支持基板11
上に、検出対象となる線状電極E3が形成されている状
態が明瞭に示されている。一方、図9は、図7に示すプ
ローブ基板20を切断線9−9に沿って切った断面図で
ある。支持基板21上に、プローブ電極P1〜P4が形
成され、その上を絶縁膜22によって覆った構造が明瞭
に示されている。支持基板21としては、このプローブ
基板20全体が容易に撓んだり、反り返ったりしないよ
うに、支持基板としての機能を果たすことができる絶縁
性の基板であれば、どのような材質を用いてもかまわな
い。また、絶縁膜22も、十分な絶縁性をもった材質で
あれば、どのような材質でもかまわない。ただ、絶縁膜
22は、後述する検出過程において、容量素子を構成す
る誘電体として機能するため、できるだけ誘電率の高い
材質を用いる方が、検出感度を高める上では好ましい。
具体的には、支持基板21としてガラス基板を用い、プ
ローブ電極P1〜P4として、銅やアルミニウムによる
パターンを用い、絶縁膜22としてシリコン酸化膜など
を用いるようにすれば、ごく一般的な半導体製造プロセ
スによって、プローブ基板20を用意することができ
る。また、支持基板21および絶縁膜22としてポリイ
ミドを用い、プローブ電極P1〜P4として銅のプリン
ト配線層を用いることもできる。
FIG. 8 is a sectional view of the detection target substrate 10 shown in FIG. 6 taken along the section line 8-8. Support substrate 11
The state where the linear electrode E3 to be detected is formed is clearly shown above. On the other hand, FIG. 9 is a cross-sectional view of the probe substrate 20 shown in FIG. 7 taken along the section line 9-9. The structure in which the probe electrodes P1 to P4 are formed on the support substrate 21 and covered with the insulating film 22 is clearly shown. As the supporting substrate 21, any material may be used as long as it is an insulating substrate that can function as a supporting substrate so that the entire probe substrate 20 does not easily bend or warp. I don't care. Further, the insulating film 22 may be made of any material as long as it has a sufficient insulating property. However, since the insulating film 22 functions as a dielectric that constitutes a capacitive element in a detection process described later, it is preferable to use a material having a dielectric constant as high as possible in order to improve detection sensitivity.
Specifically, if a glass substrate is used as the supporting substrate 21, a pattern made of copper or aluminum is used as the probe electrodes P1 to P4, and a silicon oxide film or the like is used as the insulating film 22, a general semiconductor manufacturing is performed. The probe substrate 20 can be prepared depending on the process. Alternatively, polyimide may be used as the support substrate 21 and the insulating film 22, and a copper printed wiring layer may be used as the probe electrodes P1 to P4.

【0030】検出を行う際には、こうして用意したプロ
ーブ基板20を、上下逆さにして、検出対象基板10の
上に重ねることになる。このとき、検出対象となる線状
電極E1〜E5の配列方向と、プローブ基板20内のプ
ローブ電極P1〜P4の配列方向とが直交するようにす
る。図10は、プローブ基板20を検出対象基板10上
に重ねた状態を示す断面図である。図6に示すように、
線状電極E1〜E5はいずれも横方向に伸びており、図
7に示すように、プローブ電極P1〜P4はいずれも縦
方向に伸びているため、これらを重ねると、平面的にみ
れば格子状のパターンが形成されることになる。そし
て、各交差点位置において、それぞれ容量素子が形成さ
れる。たとえば、図10に示す断面図において、線状電
極E3とプローブ電極P1,P2,P3,P4のそれぞ
れとの交差点において、容量素子が形成されていること
になる。
At the time of detection, the probe substrate 20 thus prepared is turned upside down and is stacked on the detection target substrate 10. At this time, the arrangement direction of the linear electrodes E1 to E5 to be detected and the arrangement direction of the probe electrodes P1 to P4 in the probe substrate 20 are set to be orthogonal to each other. FIG. 10 is a cross-sectional view showing a state in which the probe substrate 20 is stacked on the detection target substrate 10. As shown in FIG.
The linear electrodes E1 to E5 all extend in the horizontal direction, and as shown in FIG. 7, all the probe electrodes P1 to P4 extend in the vertical direction. Pattern is formed. Then, a capacitive element is formed at each intersection position. For example, in the cross-sectional view shown in FIG. 10, the capacitive element is formed at the intersections of the linear electrode E3 and the probe electrodes P1, P2, P3 and P4.

【0031】図11は、本検出装置の全体構成を示す斜
視図である。検出対象基板10の上にプローブ基板20
が重ねられている点は、既に述べたとおりである。この
他に、本検出装置は、電圧供給用選択回路40、電圧検
出用選択回路50、検出回路100、交流電源G、バッ
ファ3、反転バッファ4、といった構成要素からなる。
電圧供給用選択回路40は、プローブ電極P1〜P4の
うちから一対のプローブ電極を選択し、選択されたプロ
ーブ電極の一方には、バッファ3からの交流電圧を供給
し、他方には、反転バッファ4からの交流電圧を供給す
る機能を有する回路である。また、電圧検出用選択回路
50は、線状電極E1〜E5のうちから1本の線状電極
を選択し、選択された線状電極の一端を、検出回路10
0に接続する機能を有する回路である。検出回路100
は、この接続された線状電極の一端に誘起される電圧変
動に基づいて、欠陥の有無を検出する機能を有する。な
お、電圧供給用選択回路40、電圧検出用選択回路50
および検出回路100の内部の詳細な構成については、
以下の回路構成において述べる。
FIG. 11 is a perspective view showing the overall construction of this detection apparatus. The probe substrate 20 is provided on the detection target substrate 10.
The point where is overlapped is as described above. In addition to this, the present detection device includes components such as a voltage supply selection circuit 40, a voltage detection selection circuit 50, a detection circuit 100, an AC power supply G, a buffer 3, and an inversion buffer 4.
The voltage supply selection circuit 40 selects a pair of probe electrodes from the probe electrodes P1 to P4, supplies the alternating voltage from the buffer 3 to one of the selected probe electrodes, and the inverting buffer to the other. 4 is a circuit having a function of supplying an AC voltage from 4. The voltage detection selection circuit 50 selects one linear electrode from the linear electrodes E1 to E5, and detects one end of the selected linear electrode from the detection circuit 10
It is a circuit having a function of connecting to 0. Detection circuit 100
Has a function of detecting the presence / absence of a defect based on the voltage fluctuation induced at one end of the connected linear electrode. The voltage supply selection circuit 40 and the voltage detection selection circuit 50
And for the detailed configuration inside the detection circuit 100,
The circuit configuration will be described below.

【0032】<この検出装置の回路構成>続いて、上述
した構成からなる検出装置についての回路構成を説明す
る。図12は、上述した検出装置における電気的な動作
に関連する部分だけを抽出して示した回路図である。検
出対象基板10については、5本の線状電極E1〜E5
が示されており、プローブ基板20については、4本の
プローブ電極P1〜P4およびシールド線Sが示されて
いる。線状電極E1〜E5と、プローブ電極P1〜P4
とは、相互に立体交差する位置関係に配置されており、
個々の交差点(この例では、4×5=20箇所の交差
点)において容量素子が形成されていることは既に述べ
たとおりである。シールド線Sは、接地されており、プ
ローブ電極P1〜P4がアンテナとして機能し、検出結
果に外乱が混入するのを防ぐ機能を果たす。また、プロ
ーブ電極P1〜P4の一端は、終端抵抗R1〜R4によ
り接地されている。前述のように、これら終端抵抗を介
しての接地は、原理的には必ずしも必要なものではない
が、安定な検出を行う上では、実用上設けることが好ま
しい。これらの終端抵抗は、プローブ基板20上に予め
設けておいてもよいし、検出を行うときに接続するよう
にしてもよい。
<Circuit Configuration of This Detection Device> Next, the circuit configuration of the detection device having the above-described configuration will be described. FIG. 12 is a circuit diagram showing only the portion related to the electrical operation of the above-described detection device. The detection target substrate 10 includes five linear electrodes E1 to E5.
And four probe electrodes P1 to P4 and a shield line S are shown for the probe substrate 20. Linear electrodes E1 to E5 and probe electrodes P1 to P4
And are placed in a positional relationship where they cross over each other,
As described above, the capacitive element is formed at each intersection (in this example, 4 × 5 = 20 intersections). The shielded wire S is grounded, and the probe electrodes P1 to P4 function as an antenna to fulfill the function of preventing disturbance from being mixed into the detection result. Further, one ends of the probe electrodes P1 to P4 are grounded by the terminating resistors R1 to R4. As described above, grounding via these terminating resistors is not always necessary in principle, but it is preferable to provide it in practice for stable detection. These terminating resistors may be provided in advance on the probe substrate 20 or may be connected when performing detection.

【0033】各プローブ電極P1〜P4の下端には、電
圧供給用選択回路40が接続されている。この実施例で
は、電圧供給用選択回路40は、8組のアナログスイッ
チ(あるいはリレーでもよい)により構成されている。
このアナログスイッチは、各プローブ電極P1〜P4の
下端を、バッファ3の出力端子に接続するか、反転バッ
ファ4の出力端子に接続するか、あるいは、いずれにも
接続しないか、を切り替えることができる。すなわち、
図12において、電圧供給用選択回路40内に上下2列
に示されたアナログスイッチのうち、上側に示された4
組のアナログスイッチをONにすると、各プローブ電極
P1〜P4の下端はバッファ3の出力に接続され、下側
に示された4組のアナログスイッチをONにすると、各
プローブ電極P1〜P4の下端は反転バッファ4の出力
に接続されることになる。バッファ3および反転バッフ
ァ4の入力端子には、交流電源Gからの交流電圧が与え
られており、バッファ3および反転バッファ4は、同一
周波数・同一振幅で互いに位相が反転した交流電圧を出
力する。
A selection circuit 40 for voltage supply is connected to the lower ends of the probe electrodes P1 to P4. In this embodiment, the voltage supply selection circuit 40 is composed of eight sets of analog switches (or relays).
This analog switch can switch whether the lower ends of the probe electrodes P1 to P4 are connected to the output terminal of the buffer 3, the output terminal of the inverting buffer 4, or neither. . That is,
In FIG. 12, among the analog switches shown in the upper and lower two columns in the voltage supply selection circuit 40, the four switches shown on the upper side are selected.
When the pair of analog switches is turned on, the lower ends of the probe electrodes P1 to P4 are connected to the output of the buffer 3. When the four sets of analog switches shown on the lower side are turned on, the lower ends of the probe electrodes P1 to P4 are turned on. Will be connected to the output of the inverting buffer 4. The AC voltage from the AC power supply G is applied to the input terminals of the buffer 3 and the inverting buffer 4, and the buffer 3 and the inverting buffer 4 output AC voltages having the same frequency and the same amplitude but opposite phases.

【0034】一方、各線状電極E1〜E5の左端には、
電圧検出用選択回路50が接続されている。この実施例
では、電圧検出用選択回路50は、10組のアナログス
イッチ(あるいはリレーでもよい)により構成されてい
る。このアナログスイッチは、各線状電極E1〜E5の
右端を、接地状態にするか、あるいは検出回路100の
入力端子に接続するか、切り替えることができる。すな
わち、図12において、電圧検出用選択回路50内に左
右2列に示されたアナログスイッチのうち、左側に示さ
れた5組のアナログスイッチをONにすると、各線状電
極E1〜E5の左端が検出回路100の入力端子に接続
され、右側に示された5組のアナログスイッチをONに
すると、各線状電極E1〜E5の左端は接地されること
になる。
On the other hand, at the left end of each of the linear electrodes E1 to E5,
The voltage detection selection circuit 50 is connected. In this embodiment, the voltage detection selection circuit 50 is composed of 10 sets of analog switches (or may be relays). This analog switch can switch whether the right end of each of the linear electrodes E1 to E5 is grounded or connected to the input terminal of the detection circuit 100. That is, in FIG. 12, among the analog switches shown in the left and right two columns in the voltage detection selection circuit 50, when 5 sets of analog switches shown on the left side are turned on, the left ends of the linear electrodes E1 to E5 are moved. When the five analog switches connected to the input terminals of the detection circuit 100 and shown on the right side are turned on, the left ends of the linear electrodes E1 to E5 are grounded.

【0035】検出回路100は、こうして電圧検出用選
択回路50によって選択された線状電極の左端に誘起さ
れた電圧変動に基づいて、欠陥検出の処理を行う回路で
ある。図13は、図12に示す回路において、5本の線
状電極E1〜E5のうちの特定の検出対象区間の断線検
出を行う場合の各アナログスイッチの切り替え状態を示
す図である。ここでは、図にハッチングを施して示した
部分(線状電極E3上のプローブ電極P2とP3とで挟
まれた部分)を検出対象区間として選択する場合のアナ
ログスイッチの状態が示されている。すなわち、電圧供
給用選択回路40を構成する8組のアナログスイッチの
うち、図13に黒丸で示したスイッチをONの状態と
し、それ以外のスイッチをOFFの状態にすれば、プロ
ーブ電極P2の下端には、バッファ3からの交流電圧が
印加され、プローブ電極P3の下端には、反転バッファ
4からの交流電圧が印加される状態になる。一方、電圧
検出用選択回路50を構成する10組のアナログスイッ
チのうち、図13に黒丸で示したスイッチをONの状態
とし、それ以外のスイッチをOFFの状態にすれば、線
状電極E3の左端だけが検出回路100に接続され、残
りの線状電極E1,E2,E4,E5の左端は接地され
た状態になる。したがって、検出回路100には、線状
電極E3の左端に誘起された電圧変動が入力されること
になる。
The detection circuit 100 is a circuit for performing defect detection processing based on the voltage fluctuation induced at the left end of the linear electrode selected by the voltage detection selection circuit 50 in this way. FIG. 13 is a diagram showing a switching state of each analog switch in the circuit shown in FIG. 12 when disconnection detection of a specific detection target section of the five linear electrodes E1 to E5 is performed. Here, the state of the analog switch is shown in the case where the hatched portion in the drawing (the portion sandwiched between the probe electrodes P2 and P3 on the linear electrode E3) is selected as the detection target section. That is, among the eight sets of analog switches forming the voltage supply selection circuit 40, if the switches indicated by black circles in FIG. 13 are turned on and the other switches are turned off, the lower end of the probe electrode P2 is turned on. Is applied with the AC voltage from the buffer 3, and the AC voltage from the inversion buffer 4 is applied to the lower end of the probe electrode P3. On the other hand, among the 10 sets of analog switches forming the voltage detection selection circuit 50, if the switches indicated by black circles in FIG. 13 are turned on and the other switches are turned off, the linear electrode E3 is turned off. Only the left end is connected to the detection circuit 100, and the left ends of the remaining linear electrodes E1, E2, E4, E5 are grounded. Therefore, the voltage fluctuation induced at the left end of the linear electrode E3 is input to the detection circuit 100.

【0036】ところで、電圧供給用選択回路40および
電圧検出用選択回路50を構成する各アナログスイッチ
を上述のように切り替えると、図1に基本原理として示
した検出系がそのまま適用できることが理解できよう。
すなわち、図13の例における一対のプローブ電極P
2,P3が、図1における一対のプローブ電極1,2に
対応し、ここに、同一周波数・同一振幅で互いに逆位相
の交流電圧が印加される。また、図13の例における線
状電極E3が、図1における検出対象電極Eに対応し、
その左端に誘起された電圧変動により断線検出が行われ
ることになる。すなわち、所定のレベル以上の電圧変動
が観測できれば、図にハッチングを施した検出対象区間
に断線が生じていると認識することができ、電圧変動が
観測できなければ、断線は生じていないと認識すること
ができる。これがこの検出装置における検出原理であ
る。
By the way, it can be understood that the detection system shown as the basic principle in FIG. 1 can be applied as it is by switching the respective analog switches constituting the voltage supply selection circuit 40 and the voltage detection selection circuit 50 as described above. .
That is, the pair of probe electrodes P in the example of FIG.
Reference numerals 2 and P3 correspond to the pair of probe electrodes 1 and 2 in FIG. 1, and alternating voltages having the same frequency and the same amplitude but opposite phases are applied to the probe electrodes 1 and 2. Further, the linear electrode E3 in the example of FIG. 13 corresponds to the detection target electrode E in FIG.
The disconnection is detected by the voltage fluctuation induced at the left end. That is, if voltage fluctuations above a predetermined level can be observed, it can be recognized that there is a disconnection in the detection target section hatched in the figure, and if voltage fluctuations cannot be observed, it is recognized that there is no disconnection. can do. This is the detection principle of this detection device.

【0037】検出回路100は、このような断線検出を
効率的に行う回路であり、その一例を図14に示す。こ
の図14に示す検出回路100では、電圧検出用選択回
路50からの出力線(選択されたいずれか1本の線状電
極の左端)は、入力バッファ60に接続されるととも
に、抵抗素子R0を介して接地される。一方、交流電源
Gが発生した交流信号も、この検出回路100内に入力
される。すなわち、この交流信号は、位相遅延器61に
よって所定の遅延時間だけ遅らされ、スイッチドライバ
62および63に与えられる。
The detection circuit 100 is a circuit for efficiently detecting such disconnection, and an example thereof is shown in FIG. In the detection circuit 100 shown in FIG. 14, the output line from the voltage detection selection circuit 50 (the left end of any one of the selected linear electrodes) is connected to the input buffer 60 and the resistance element R0 is connected. Grounded through. On the other hand, the AC signal generated by the AC power supply G is also input into the detection circuit 100. That is, this AC signal is delayed by a predetermined delay time by the phase delay device 61 and given to the switch drivers 62 and 63.

【0038】入力バッファ60の出力は帯域フィルタ6
4を通して、一対のアナログスイッチ65,66に与え
られる。アナログスイッチ65に与えられた信号は反転
バッファ67により極性が反転され、アナログスイッチ
66に与えられた信号はバッファ68を通ってそのまま
の極性で、それぞれ加算器69に与えられる。加算器6
9によって加算された信号は、低域フィルタ70を介し
て増幅器71に与えられ、増幅器71で増幅された信号
は、A/D変換器72によってデジタル信号として出力
される。このデジタル信号は、プロセッサ73に与えら
れ、プロセッサ73は与えられたデジタル信号の値に基
づいて、検出結果を表示部74に表示する。
The output of the input buffer 60 is the bandpass filter 6
4 to a pair of analog switches 65 and 66. The polarity of the signal supplied to the analog switch 65 is inverted by the inversion buffer 67, and the signal supplied to the analog switch 66 passes through the buffer 68 and is supplied to the adder 69 with the same polarity. Adder 6
The signal added by 9 is given to the amplifier 71 through the low pass filter 70, and the signal amplified by the amplifier 71 is output as a digital signal by the A / D converter 72. This digital signal is given to the processor 73, and the processor 73 displays the detection result on the display unit 74 based on the value of the given digital signal.

【0039】スイッチドライバ62は、与えられた交流
信号が正の半周期をとるときにアナログスイッチ66を
ONにし、負の半周期をとるときにOFFにする。一
方、スイッチドライバ63は、与えられた交流信号が正
の半周期をとるときにアナログスイッチ65をOFFに
し、負の半周期をとるときにONにする。したがって、
アナログスイッチ65,66は、交流電源Gが発生する
交流信号の半周期ごとに交互にONになる。ここで、位
相遅延器61による遅延時間は、交流電源Gが発生する
交流信号が、プローブ電極P1〜P4から容量結合を介
して線状電極E1〜E5に伝達され、更に、電圧検出用
選択回路50、入力バッファ60、そして帯域フィルタ
64を通って、アナログスイッチ65,66に伝達され
るまでにかかる遅延時間に等しく設定されている。した
がって、アナログスイッチ65,66に伝達される交流
信号と、スイッチドライバ62,63に与えられる交流
信号とは、位相が一致したものとなる。結局、スイッチ
ドライバ62とアナログスイッチ66との組み合わせ
は、位相遅延器61からの信号に基づいて、入力バッフ
ァ60が出力する交流電圧のうちの正の成分のみを抽出
して出力する濾波器を構成することになり、スイッチド
ライバ63とアナログスイッチ65との組み合わせは、
位相遅延器61からの信号に基づいて、入力バッファ6
0が出力する交流電圧のうちの負の成分のみを抽出し、
これを反転して出力する濾波器を構成することになる。
The switch driver 62 turns on the analog switch 66 when the given AC signal takes a positive half cycle, and turns it off when it takes a negative half cycle. On the other hand, the switch driver 63 turns off the analog switch 65 when the given AC signal takes a positive half cycle, and turns it on when it takes a negative half cycle. Therefore,
The analog switches 65 and 66 are alternately turned on every half cycle of the AC signal generated by the AC power supply G. Here, regarding the delay time by the phase delay device 61, the AC signal generated by the AC power supply G is transmitted from the probe electrodes P1 to P4 to the linear electrodes E1 to E5 via capacitive coupling, and further, the voltage detection selection circuit. It is set to be equal to the delay time required to be transmitted to the analog switches 65 and 66 through the 50, the input buffer 60, and the bandpass filter 64. Therefore, the AC signals transmitted to the analog switches 65 and 66 and the AC signals supplied to the switch drivers 62 and 63 are in phase with each other. After all, the combination of the switch driver 62 and the analog switch 66 constitutes a filter that extracts and outputs only the positive component of the AC voltage output from the input buffer 60 based on the signal from the phase delay device 61. Therefore, the combination of the switch driver 63 and the analog switch 65 is
Based on the signal from the phase delay device 61, the input buffer 6
Only the negative component of the AC voltage output by 0 is extracted,
A filter which inverts this and outputs it is constructed.

【0040】<この検出装置の回路動作>次に、上述し
た構成を有する検出装置を用いた検出動作を、図13お
よび図14の回路図を参照しながら説明する。ここで
は、5本の線状電極E1〜E5のうち、3番目の線状電
極E3を検出対象として選択し、しかも、この線状電極
E3における図13にハッチングを施して示した中央部
分(プローブ電極P2とP3とで挟まれた部分)を検出
対象区間とした検出を行う場合について説明する。すな
わち、以下の検出動作は、このハッチングを施した検出
対象区間に断線があるか否かを確認する動作ということ
になる。
<Circuit Operation of This Detection Device> Next, the detection operation using the detection device having the above-mentioned configuration will be described with reference to the circuit diagrams of FIGS. 13 and 14. Here, of the five linear electrodes E1 to E5, the third linear electrode E3 is selected as a detection target, and moreover, the central portion of the linear electrode E3 shown in FIG. A case will be described in which detection is performed with a portion sandwiched between the electrodes P2 and P3) as a detection target section. That is, the following detection operation is an operation of checking whether or not there is a disconnection in the hatched detection target section.

【0041】このような検出対象区間についての検出を
行う場合、各アナログスイッチを、図13に示すような
状態(黒丸で示したスイッチをON、それ以外のスイッ
チをOFF)に切り替えればよいことは既に述べた。い
ま、このような状態において、交流電源Gから、図15
に示すような波形の交流電圧を供給した場合を考える。
このとき、図2〜図4に示すモデルのように、検出対象
区間内に断線箇所が存在しない場合には、理論的には、
線状電極E3の左端には電圧変動は生じないため、検出
回路100に入力される電圧は0になる。しかしなが
ら、実際には、図16に示すように、種々のノイズ成分
が電圧として現れることになる。これに対し、図5に示
すモデルのように、検出対象区間内に断線箇所があった
場合には、理論的には、交流電源Gの発生する交流信号
に対応する電圧変動が、多少の位相差をもって(前述し
たように、交流信号が検出回路100に伝達されるまで
には時間遅れが生じる)そのままの形で検出回路100
に与えられるはずであるが、実際には、この電圧変動に
も、図17に示すようにノイズ成分が混入してくること
になる。そこで、実用上は、図16に示すような電圧変
動が観測された場合には、「検出対象区間には断線な
し」との検出結果が得られ、図17に示すような電圧変
動が観測された場合には、「検出対象区間に断線あり」
との検出結果が得られるようにする必要がある。検出回
路100は、このような正しい検出結果を得るための回
路である。
When detecting such a detection target section, it is sufficient to switch each analog switch to a state as shown in FIG. 13 (switches indicated by black circles are ON, and other switches are OFF). Already mentioned. Now, in such a state, as shown in FIG.
Consider a case where an AC voltage having a waveform as shown in is supplied.
At this time, theoretically, when there is no disconnection point in the detection target section as in the models shown in FIGS. 2 to 4,
Since no voltage fluctuation occurs at the left end of the linear electrode E3, the voltage input to the detection circuit 100 becomes zero. However, actually, as shown in FIG. 16, various noise components appear as a voltage. On the other hand, in the case where there is a disconnection point in the detection target section as in the model shown in FIG. 5, theoretically, the voltage fluctuation corresponding to the AC signal generated by the AC power supply G is somewhat small. With the phase difference (as described above, there is a time delay until the AC signal is transmitted to the detection circuit 100), the detection circuit 100 is kept as it is.
However, in reality, a noise component is also mixed in this voltage fluctuation as shown in FIG. Therefore, in practice, when the voltage fluctuation as shown in FIG. 16 is observed, the detection result “no disconnection in the detection target section” is obtained, and the voltage fluctuation as shown in FIG. 17 is observed. If there is a disconnection, there is a disconnection in the detection target section.
It is necessary to obtain the detection result of The detection circuit 100 is a circuit for obtaining such a correct detection result.

【0042】まず、入力バッファ60から出力された信
号は、帯域フィルタ64を通され、ノイズ成分の除去が
行われる。この実施例では、交流電源Gとして1MHz
の周波数の交流電圧を発生する装置を用いているので、
帯域フィルタ64としては、この1MHzの周波数帯域
を通過させるフィルタを用意している。この帯域フィル
タ64を通すことにより、図17に示す波形のうち、正
弦波として示されている成分だけを抽出することができ
る。こうして帯域フィルタ64を通過した信号は、アナ
ログスイッチ65,66およびバッファ67,68によ
って構成される濾波器を通過する。前述したように、ア
ナログスイッチ65,66は、交流電源Gの発生する交
流信号を、位相遅延器61によって位相が合致するよう
に遅延させ、この遅延信号に同期してON/OFF動作
されることになる。したがって、帯域フィルタ64を通
過した信号の正の半周期分は、アナログスイッチ66か
らバッファ68を通って加算器69に与えられ、負の半
周期分は、アナログスイッチ65から反転バッファ67
を通って反転された後に加算器69に与えられる。結
局、加算器69では、正の半周期分と負の半周期分とが
絶対値として合計されることになり、加算器69の出力
は、正弦波信号を整流した形の信号となる。この信号は
低域フィルタ70を通ることにより平滑化され、増幅器
71によって増幅され、A/D変換器72でデジタル信
号に変換される。結局、図16に示すような電圧変動が
観測された場合には、A/D変換器72からは比較的小
さなデジタル値が得られることになり、図17に示すよ
うな電圧変動が観測された場合には、A/D変換器72
からは比較的大きなデジタル値が得られることになる。
したがって、プロセッサ73においては、所定のしきい
値を定めておき、A/D変換器72から与えられるデジ
タル値がこのしきい値を越えた場合に、現在の検出対象
区間に断線がある旨の表示を表示部74に対して行うよ
うにすればよい。
First, the signal output from the input buffer 60 is passed through a bandpass filter 64 to remove noise components. In this embodiment, the AC power source G is 1 MHz.
Since it uses a device that generates an AC voltage with a frequency of
As the bandpass filter 64, a filter that passes this 1 MHz frequency band is prepared. By passing through the bandpass filter 64, only the component shown as a sine wave can be extracted from the waveform shown in FIG. The signal thus passed through the band pass filter 64 passes through a filter constituted by analog switches 65 and 66 and buffers 67 and 68. As described above, the analog switches 65 and 66 delay the AC signal generated by the AC power supply G so that the phases are matched by the phase delay device 61, and are turned ON / OFF in synchronization with the delay signal. become. Therefore, a positive half cycle of the signal that has passed through the band-pass filter 64 is supplied from the analog switch 66 to the adder 69 through the buffer 68, and a negative half cycle is supplied from the analog switch 65 to the inverting buffer 67.
It is supplied to the adder 69 after being inverted through. After all, in the adder 69, the positive half-cycle portion and the negative half-cycle portion are summed as absolute values, and the output of the adder 69 becomes a signal obtained by rectifying the sine wave signal. This signal is smoothed by passing through the low-pass filter 70, amplified by the amplifier 71, and converted into a digital signal by the A / D converter 72. After all, when the voltage fluctuation as shown in FIG. 16 is observed, a relatively small digital value is obtained from the A / D converter 72, and the voltage fluctuation as shown in FIG. 17 is observed. In this case, the A / D converter 72
Will give a relatively large digital value.
Therefore, in the processor 73, a predetermined threshold value is set, and when the digital value given from the A / D converter 72 exceeds this threshold value, it is determined that there is a disconnection in the current detection target section. The display may be displayed on the display unit 74.

【0043】<検出対象に対する全検出工程>以上、図
13にハッチングを施して示した特定の検出対象区間に
ついて、断線の有無を検出する方法を説明した。この実
施例の検出装置の特徴は、検出対象となった基板上に形
成された全線状電極E1〜E5の全区間について、同様
の検出を簡単な操作で繰り返し行える点にある。すなわ
ち、図13において、電圧供給用選択回路40によるア
ナログスイッチのON/OFFの組み合わせを変えれ
ば、他の区間についての検出を直ちに行うことができ
る。たとえば、プローブ電極P3をバッファ3の出力
に、プローブ電極P4を反転バッファ4の出力に、それ
ぞれ接続するように切り替えれば、図にハッチングを施
した区間のすぐ右隣の区間(プローブ電極P3とP4と
によって挟まれた領域)についての検出結果を得ること
ができる。この実施例では、説明の便宜上、4本のプロ
ーブ電極P1〜P4のみを用いた簡単なモデルを示して
いるが、実際には、より多数のプローブ電極P1〜Pn
が配置されており、これらn本のプローブ電極のうちか
ら一対のプローブ電極を選択して、バッファ3および反
転バッファ4に接続することにより、線状電極の全長に
わたる全区間について、個々に検出を行うことができ
る。そして、断線が検出された場合には、その断線位置
(その時点での検出対象区間)を直ちに認識することが
できる。
<All Detection Steps for Detection Target> The method for detecting the presence / absence of disconnection in the specific detection target section shown by hatching in FIG. 13 has been described above. The detection device of this embodiment is characterized in that the same detection can be repeated by a simple operation for all the sections of all the linear electrodes E1 to E5 formed on the substrate that is the detection target. That is, in FIG. 13, if the combination of ON / OFF of the analog switches by the voltage supply selection circuit 40 is changed, it is possible to immediately detect other sections. For example, by switching the probe electrode P3 to the output of the buffer 3 and the probe electrode P4 to the output of the inverting buffer 4, the section immediately to the right of the hatched section (probe electrodes P3 and P4 It is possible to obtain the detection result for the area sandwiched by and. In this embodiment, for convenience of description, a simple model using only four probe electrodes P1 to P4 is shown, but in reality, a larger number of probe electrodes P1 to Pn are used.
Are arranged, and by selecting a pair of probe electrodes from these n probe electrodes and connecting them to the buffer 3 and the inversion buffer 4, detection is individually performed on the whole section of the linear electrode. It can be carried out. When the disconnection is detected, the disconnection position (the detection target section at that time) can be immediately recognized.

【0044】なお、n本のプローブ電極を用いた場合の
全区間にわたる検出方法としては、次のようないくつか
の方法が考えられる。なお、以下の説明では、X番目の
プローブ電極PxとY番目のプローブ電極Pyとによっ
て挟まれた区間のことを、区間Lx,yと表わすことに
する。
The following several methods are conceivable as the detection method over the entire section when n probe electrodes are used. In the following description, a section sandwiched between the Xth probe electrode Px and the Yth probe electrode Py is referred to as a section Lx, y.

【0045】方法:まず、プローブ電極P1,P2を
選択して、区間L1,2についての検出を行い、続い
て、プローブ電極P2,P3を選択して、区間L2,3
についての検出を行い、次に、プローブ電極P3,P4
を選択して、区間L3,4についての検出を行い、…、
最後に、プローブ電極P(n−1),Pnを選択して区
間L(n−1),nについての検出を行う、というよう
に、1区間ずつ順次検出を行ってゆく。この方法によれ
ば、たとえば、プローブ電極Pi,Pjを選択して、区
間Li,jについての検出を行ったときに断線検出があ
った場合、断線箇所は区間Li,j内に存在すると認識
することができる。
Method: First, the probe electrodes P1 and P2 are selected to detect the sections L1 and L2, and subsequently, the probe electrodes P2 and P3 are selected and the sections L2 and 3 are selected.
About the probe electrodes P3 and P4
Is selected to detect the sections L3 and L4,
Finally, the probe electrodes P (n-1) and Pn are selected to detect the sections L (n-1) and n, and the detection is sequentially performed for each section. According to this method, for example, if a disconnection is detected when the probe electrodes Pi, Pj are selected and the detection is performed for the section Li, j, it is recognized that the disconnection point exists in the section Li, j. be able to.

【0046】方法:この方法では、常に第1番目のプ
ローブ電極P1が一方のプローブ電極として選択され
る。すなわち、まず、プローブ電極P1,P2を選択し
て、区間L1,2についての検出を行い、続いて、プロ
ーブ電極P1,P3を選択して、区間L1,3について
の検出を行い、次に、プローブ電極P1,P4を選択し
て、区間L1,4についての検出を行い、…、最後に、
プローブ電極P1,Pnを選択して区間L1,nについ
ての検出を行う、というように、区間の幅を少しずつ広
げながら順次検出を行ってゆく。この方法によれば、た
とえば、プローブ電極P1,Piを選択して、区間L
1,iについての検出を行ったときには断線は認められ
なかったのに、続いて、プローブ電極P1,P(i+
1)を選択して、区間L1,(i+1)についての検出
を行ったときに断線検出があった場合、断線箇所は区間
Li,(i+1)内に存在すると認識することができ
る。方法では、プローブ電極直下におけるいわば区間
の境界部分についての検出が正確には行われない可能性
があるのに対し、この方法では、このような境界部分
についても正しく検出できるというメリットがある。
Method: In this method, the first probe electrode P1 is always selected as one probe electrode. That is, first, the probe electrodes P1 and P2 are selected to detect the sections L1 and L2, subsequently, the probe electrodes P1 and P3 are selected to detect the sections L1 and 3, and then, The probe electrodes P1 and P4 are selected to detect the sections L1 and L4, ...
The probe electrodes P1 and Pn are selected to detect the sections L1 and n, and the detection is sequentially performed while gradually widening the width of the sections. According to this method, for example, the probe electrodes P1 and Pi are selected and the section L
Although no disconnection was observed when the detection of 1, i was performed, the probe electrodes P1, P (i +
When disconnection is detected when 1) is selected and the detection is performed for the section L1, (i + 1), it can be recognized that the disconnection point exists in the section Li, (i + 1). In the method, there is a possibility that the so-called boundary portion of the section immediately below the probe electrode may not be accurately detected, but this method has an advantage that such a boundary portion can be correctly detected.

【0047】方法:この方法では、半ピッチずつ区間
をずらしながら重複した検出が行われる。すなわち、ま
ず、プローブ電極P1,P3を選択して、区間L1,3
についての検出を行い、続いて、プローブ電極P2,P
4を選択して、区間L2,4についての検出を行い、次
に、プローブ電極P3,P5を選択して、区間L3,5
についての検出を行い、プローブ電極P4,P6を選択
して、区間L4,6についての検出を行い、…、という
ように検出が行われる。結局、区間L1,3、区間L
2,4、区間L3,5、区間L4,6と半ピッチずつ重
複した検出が行われることになり、やはり、区間の境界
部分についても正しく検出できるというメリットがあ
る。
Method: In this method, overlapping detection is performed while shifting the intervals by half pitch. That is, first, the probe electrodes P1 and P3 are selected, and the sections L1 and 3 are selected.
Of the probe electrodes P2, P
4 is selected to perform detection for the sections L2 and 4, then probe electrodes P3 and P5 are selected to select sections L3 and 5
Is selected, the probe electrodes P4 and P6 are selected, the sections L4 and 6 are detected, and so on. After all, section L1,3, section L
The detection is performed by overlapping the second and fourth sections, the sections L3 and 5, and the sections L4 and 6 by a half pitch, and again, there is an advantage that the boundary portion of the sections can be correctly detected.

【0048】以上、1本の線状電極の全長にわたっての
断線検出を行う方法を述べたが、この実施例の検出装置
では、全線状電極E1〜E5について、同様の検出を簡
単な操作で繰り返し行うことができる。すなわち、図1
3において、電圧検出用選択回路50によるアナログス
イッチのON/OFFの組み合わせを変えれば、他の線
状電極についての検出を直ちに行うことができる。具体
的には、検出対象として選択された線状電極の左端を検
出回路100に接続し、他の線状電極については接地す
るように、アナログスイッチの切り替えを行えばよいの
である。
The method for detecting disconnection over the entire length of one linear electrode has been described above. In the detection apparatus of this embodiment, the same detection is repeated for all linear electrodes E1 to E5 by a simple operation. It can be carried out. That is, FIG.
In 3, the detection of other linear electrodes can be immediately performed by changing the ON / OFF combination of the analog switches by the voltage detection selection circuit 50. Specifically, the analog switch may be switched so that the left end of the linear electrode selected as the detection target is connected to the detection circuit 100 and the other linear electrodes are grounded.

【0049】なお、電圧供給用選択回路40や電圧検出
用選択回路50のアナログスイッチ(あるいはリレー)
の切り替え操作は、手作業によって容易に行うことがで
きるが、たとえば、プロセッサ73からの制御信号など
により自動的に切り替えることもできる。したがって、
プロセッサ73内に所定の検出手順プログラムを用意し
ておけば、このプログラムに従って全検出工程を自動化
することも可能である。
An analog switch (or a relay) of the voltage supply selection circuit 40 and the voltage detection selection circuit 50.
The switching operation can be easily performed manually, but can also be automatically switched by, for example, a control signal from the processor 73. Therefore,
If a predetermined detection procedure program is prepared in the processor 73, it is possible to automate all the detection steps according to this program.

【0050】また、線状電極の数やプローブ電極の数が
増えると、電圧供給用選択回路40や電圧検出用選択回
路50内に設けるアナログスイッチあるいはリレーの数
も増やさねばならず、それだけコストが高くなる。そこ
で、多少検出作業の操作性を犠牲にしても、コストを下
げたいという要望がある場合には、電圧供給用選択回路
40や電圧検出用選択回路50に必要なスイッチ数の
(1/m)の数のスイッチだけを設けておき、検出作業
を行う場合に、電圧供給用選択回路40や電圧検出用選
択回路50をm回移動させるという手法を採ることもで
きる。たとえば、1000本の線状電極が形成された検
出対象基板10についての検出を行う場合、電圧検出用
選択回路50としては、1000本のうちから1本を選
択して交流電源を供給する機能をもった回路を用意する
必要があり、そのためには、2000組のスイッチが必
要になる。このような大型の電圧検出用選択回路50を
作成するにはかなりのコストがかかる。このような場合
は、たとえば、100本の線状電極にしか対応できない
電圧検出用選択回路50を用意しても、検出は可能であ
る。すなわち、この電圧検出用選択回路50を、100
0本の線状電極のうちの1〜100番目の線状電極に接
続し、1〜100番目まで順次検出を行い、続いて、こ
の電圧検出用選択回路50を101〜200番目の線状
電極に接続しなおし、101〜200番目まで順次検出
を行い、…、というようにして、電圧検出用選択回路5
0を10回移動すれば、全1000本の線状電極につい
ての検出が可能になる。
When the number of linear electrodes or the number of probe electrodes increases, the number of analog switches or relays provided in the voltage supply selection circuit 40 or the voltage detection selection circuit 50 must also increase, and the cost increases accordingly. Get higher Therefore, if there is a demand to reduce the cost even if the operability of the detection work is sacrificed, the number of switches required for the voltage supply selection circuit 40 and the voltage detection selection circuit 50 is (1 / m). It is also possible to employ a method in which only the number of switches are provided and the voltage supply selection circuit 40 and the voltage detection selection circuit 50 are moved m times when performing the detection work. For example, when performing detection on the detection target substrate 10 on which 1000 linear electrodes are formed, the voltage detection selection circuit 50 has a function of selecting one from 1000 and supplying AC power. It is necessary to prepare a circuit having the above, and for that purpose, 2000 sets of switches are required. It takes a considerable cost to make such a large-sized voltage detection selection circuit 50. In such a case, for example, the detection can be performed even if the voltage detection selection circuit 50 which can handle only 100 linear electrodes is prepared. That is, this voltage detection selection circuit 50 is set to 100
The voltage detecting selection circuit 50 is connected to the 1st to 100th linear electrodes among the 0 linear electrodes and sequentially detected from the 1st to 100th linear electrodes. , The voltage detection selection circuit 5 is sequentially detected from the 101st to the 200th, and so on.
If 0 is moved 10 times, detection is possible for all 1000 linear electrodes.

【0051】<断線箇所が複数にある場合>上述の実施
例では、線状電極に生じている断線箇所が1箇所である
ものとして説明を行ったが、本発明に係る欠陥検出方法
は、1本の線状電極上の複数箇所が断線しているような
場合にも、検出が可能である。
<When there are a plurality of disconnection points> In the above embodiment, the description has been made assuming that there is one disconnection point in the linear electrode, but the defect detection method according to the present invention is It is possible to detect even when a plurality of points on the linear electrode of the book are broken.

【0052】これを、図18の等価回路で説明しよう。
この等価回路は、検出対象電極E上の所定位置x1およ
びx3の2箇所において断線が生じている場合の回路で
ある。ここで、位置x1における断線検出(このような
検出を行う場合の等価回路は、図18の点gを位置x1
の左側に、点hを位置x1のすぐ右側に、それぞれ移動
させたものになる。)が、上述の実施例で説明した原理
によって行い得ることは容易に理解できよう。なぜな
ら、もう1箇所の断線位置x3は、電圧変動を検出する
左端a側ではなく、右端b側にあるため、位置x1を検
出対象区間に含む検出には何ら影響を与えないのであ
る。ところが、位置x3を検出対象区間に含む検出を行
う場合には、やや事情が異なる。すなわち、位置x3の
断線に関して、もう1箇所の断線位置x3は、電圧変動
を検出する左端a側にあるため、検出系に何らかの影響
が及ぶはずである。確かに、位置x1において断線して
いれば、点gから点aに向かって電流は流れなくなる。
しかしながら、そのような状態でも、なお、位置x3に
おける断線を検出することができるのである。
This will be described with reference to the equivalent circuit of FIG.
This equivalent circuit is a circuit in the case where disconnection occurs at two positions on the detection target electrode E, that is, predetermined positions x1 and x3. Here, the disconnection detection at the position x1 (the equivalent circuit for performing such detection is that the point g in FIG.
To the left of the point h to the right of the position x1, respectively. It can be easily understood that the above) can be performed according to the principle described in the above embodiment. This is because the other disconnection position x3 is on the right end b side rather than the left end a side where the voltage fluctuation is detected, and therefore has no effect on the detection including the position x1 in the detection target section. However, the situation is slightly different when the detection including the position x3 in the detection target section is performed. That is, with respect to the disconnection at the position x3, the other disconnection position x3 is located on the left end a side where the voltage fluctuation is detected, and therefore the detection system should be affected in some way. Certainly, if the wire is broken at the position x1, the current stops flowing from the point g to the point a.
However, even in such a state, the disconnection at the position x3 can still be detected.

【0053】これは次のような理由による。いま、図1
8に示すように、点gに負の電荷、点hに正の電荷が誘
起された瞬間を考える。ここで、位置x3は断線してい
るから、これらの電荷は互いに相殺されることはない。
ところで、位置x3から位置x1に至るまでの区間は導
通しているから、点gに負の電荷が誘起されたというこ
とは、位置x1のすぐ右側の部分にも負の電荷が発生し
ていることになる。ここで、位置x1における断線状態
を考えると、位置x1のすぐ右側に導体が存在し、位置
x1のすぐ左側にも導体が存在し、これら両導体が互い
に対向して配置されている状態になっていることが分か
る。別言すれば、位置x1のすぐ右側の導体と、位置x
1のすぐ左側の導体とは、容量結合していることにな
る。したがって、位置x1のすぐ右側の部分に負の電荷
が発生すれば、この容量結合により、位置x1のすぐ左
側の部分には正の電荷が誘起されることになる。結局、
点gにおいて誘起される電圧変動は、位置x1の断線部
における容量結合を介して、増幅器5へと伝達されるこ
とになる。
This is for the following reason. Now, Figure 1
As shown in FIG. 8, consider the moment when a negative charge is induced at the point g and a positive charge is induced at the point h. Here, since the position x3 is broken, these charges are not canceled by each other.
By the way, since the section from the position x3 to the position x1 is conductive, the negative charge is induced at the point g, which means that the negative charge is generated also in the portion immediately to the right of the position x1. It will be. Here, considering the disconnection state at the position x1, there is a conductor on the right side of the position x1 and a conductor on the left side of the position x1. Both conductors are arranged to face each other. I understand that. In other words, the conductor immediately to the right of position x1 and the position x
The conductor immediately to the left of 1 is capacitively coupled. Therefore, if a negative charge is generated in the portion immediately to the right of the position x1, this capacitive coupling will induce a positive charge in the portion immediately to the left of the position x1. After all,
The voltage fluctuation induced at the point g is transmitted to the amplifier 5 via the capacitive coupling in the disconnection portion at the position x1.

【0054】この断線部の容量結合は、一般の容量素子
に比べると弱いものであるが、それでも、位置gにおけ
る電位変動は増幅器5まで伝達され、検出することはで
きる。したがって、本発明に係る検出方法では、1本の
線状電極上の複数箇所に断線が生じていても、これを検
出することが可能である。
Although the capacitive coupling of the disconnection portion is weaker than that of a general capacitive element, the potential fluctuation at the position g can still be transmitted to the amplifier 5 and detected. Therefore, with the detection method according to the present invention, even if disconnection occurs at a plurality of locations on a single linear electrode, this can be detected.

【0055】以上、本発明を図示する実施例に基づいて
説明したが、本発明はこの実施例のみに限定されるもの
ではなく、この他にも種々の態様で実施可能である。た
とえば、上述の実施例では、プローブ基板20として
は、図9に示すように、プローブ電極P1〜P4上に絶
縁膜22を形成したものを用いているが、この絶縁膜2
2は必ずしも必要なものではない。図10に示すよう
に、検出対象基板10とプローブ基板20とを対向させ
たときに、プローブ電極P1〜P4が線状電極E1〜E
5に接触してしまわないようにできれば、本発明による
欠陥検出は可能であるから、絶縁膜22の代わりを果た
す何らかのスペーサを挿入してやるようにすれば、絶縁
膜22を形成する必要はない。したがって、図7に示す
プローブ基板20の代わりに、図6に示す検出対象基板
10自身を利用することも可能である。すなわち、図6
に示すような構造をもった検出対象基板10を2組用意
し、一方を90°回転させた状態で対向させるようにす
れば、一方の線状電極をプローブ電極の代用として用い
ることも可能である。
Although the present invention has been described above based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to this embodiment and can be implemented in various modes other than this. For example, in the above-described embodiment, as the probe substrate 20, as shown in FIG. 9, the one in which the insulating film 22 is formed on the probe electrodes P1 to P4 is used.
2 is not always necessary. As shown in FIG. 10, when the detection target substrate 10 and the probe substrate 20 are opposed to each other, the probe electrodes P1 to P4 are linear electrodes E1 to E.
The defect detection according to the present invention is possible if it is possible to prevent it from coming into contact with the insulating film 5. Therefore, the insulating film 22 need not be formed by inserting some spacer that substitutes for the insulating film 22. Therefore, the detection target substrate 10 itself shown in FIG. 6 can be used instead of the probe substrate 20 shown in FIG. That is, FIG.
If two sets of detection target substrates 10 having a structure as shown in (1) are prepared and one of them is made to face each other while being rotated by 90 °, one of the linear electrodes can be used as a substitute for the probe electrode. is there.

【0056】上述の実施例における検出対象基板では、
線状電極が基板上で露出しているが、プラズマディスプ
レイ装置用の基板の中には、線状電極が絶縁膜で覆われ
た構造のものも存在する。このように検出対象基板自身
が絶縁膜で覆われているような場合には、プローブ基板
20側の絶縁膜22は必ずしも必要ではない。従来は、
このように絶縁膜で覆われた線状電極に対する欠陥検出
はプローブを接触させることができないため非常に困難
であったが、本発明による検出方法を利用すれば、何ら
問題なく検出が可能である。また、セル障壁形成後の電
極基板についても、本発明により欠陥検出が可能であ
る。
In the substrate to be detected in the above embodiment,
Although the linear electrodes are exposed on the substrate, some substrates for plasma display devices have a structure in which the linear electrodes are covered with an insulating film. In such a case where the detection target substrate itself is covered with the insulating film, the insulating film 22 on the probe substrate 20 side is not always necessary. conventionally,
As described above, it was very difficult to detect a defect in the linear electrode covered with the insulating film because the probe cannot be brought into contact with the defect. However, if the detection method according to the present invention is used, the defect can be detected without any problem. . Further, the present invention can detect defects in the electrode substrate after the cell barrier is formed.

【0057】以上のとおり本発明に係る線状電極やプロ
ーブ電極の各部を、適宜接地することにより検出を行っ
ているが、これは必ずしも接地レベル(いわゆるアー
ス)にする必要はなく、所定の基準電圧に固定すること
ができれば、接地する代わりに所定の定電圧源に接続し
てもよい。
As described above, the detection is performed by properly grounding the respective parts of the linear electrode and the probe electrode according to the present invention, but this does not necessarily have to be a ground level (so-called ground), and a predetermined reference If it can be fixed at a voltage, it may be connected to a predetermined constant voltage source instead of being grounded.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上のとおり本発明に係る線状電極の欠
陥検出方法によれば、一対のプローブ電極を線状電極上
に配置して容量結合し、この容量結合によって線状電極
側に生じる電圧変動を観測することにより、線状電極上
の欠陥を検出するようにしたため、欠陥を効率的に検出
することができるようになる。
As described above, according to the defect detecting method for a linear electrode of the present invention, a pair of probe electrodes are arranged on the linear electrode and capacitively coupled, and the capacitive coupling causes the linear electrode side. Since the defect on the linear electrode is detected by observing the voltage fluctuation, the defect can be efficiently detected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る線状電極の欠陥検出方法の基本原
理を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating the basic principle of a defect detection method for a linear electrode according to the present invention.

【図2】図1に示す検出系の等価回路図である。FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the detection system shown in FIG.

【図3】図1に示す検出系において、点ag間に断線欠
陥がある場合の等価回路図である。
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram in the detection system shown in FIG. 1 when there is a disconnection defect between points ag.

【図4】図1に示す検出系において、点hb間に断線欠
陥がある場合の等価回路図である。
FIG. 4 is an equivalent circuit diagram in the case where there is a disconnection defect between points hb in the detection system shown in FIG.

【図5】図1に示す検出系において、点gh間に断線欠
陥がある場合の等価回路図である。
5 is an equivalent circuit diagram in the detection system shown in FIG. 1 when there is a disconnection defect between points gh.

【図6】本発明に係る欠陥検出方法を実施する検出対象
基板10の一例を示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing an example of a detection target substrate 10 for implementing the defect detection method according to the present invention.

【図7】本発明の一実施例に係る欠陥検出装置の一構成
要素であるプローブ基板20の一例を示す平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view showing an example of a probe substrate 20 which is a component of the defect detection apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図8】図6に示す検出対象基板10を切断線8−8に
沿って切った断面図である。
8 is a cross-sectional view of the detection target substrate 10 shown in FIG. 6 taken along section line 8-8.

【図9】図7に示すプローブ基板20を切断線9−9に
沿って切った断面図である。
9 is a cross-sectional view of the probe substrate 20 shown in FIG. 7 taken along section line 9-9.

【図10】図8に示す検出対象基板10上に、図9に示
すプローブ基板20を重ね合わせた状態を示す断面図で
ある。
10 is a cross-sectional view showing a state in which the probe substrate 20 shown in FIG. 9 is superposed on the detection target substrate 10 shown in FIG.

【図11】本発明の一実施例に係る欠陥検出装置の全体
構成を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing the overall configuration of a defect detection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図12】図11に示す欠陥検出装置における電気的な
動作に関連する部分だけを抽出して示した回路図であ
る。
FIG. 12 is a circuit diagram showing only a portion related to an electrical operation in the defect detection device shown in FIG.

【図13】図12に示す回路を用いた断線欠陥の検出動
作を示す回路図である。
13 is a circuit diagram showing an operation of detecting a disconnection defect using the circuit shown in FIG.

【図14】図12および図13に示す検出回路100の
内部構成を示す回路図である。
14 is a circuit diagram showing an internal configuration of a detection circuit 100 shown in FIGS. 12 and 13. FIG.

【図15】図12および図13に示す検出回路におい
て、交流電源Gが発生する交流電圧波形の一例を示すグ
ラフである。
15 is a graph showing an example of an AC voltage waveform generated by an AC power supply G in the detection circuit shown in FIGS. 12 and 13.

【図16】図12および図13に示す検出回路におい
て、断線が生じていない場合に検出回路100で観測さ
れる電圧変動波形の一例を示すグラフである。
16 is a graph showing an example of a voltage fluctuation waveform observed in the detection circuit 100 in the detection circuit shown in FIGS. 12 and 13 when no disconnection occurs.

【図17】図12および図13に示す検出回路におい
て、断線が生じている場合に検出回路100で観測され
る電圧変動波形の一例を示すグラフである。
FIG. 17 is a graph showing an example of a voltage fluctuation waveform observed in the detection circuit 100 when a disconnection occurs in the detection circuits shown in FIGS. 12 and 13.

【図18】本発明に係る検出方法により、1本の線状電
極上の複数箇所に断線が生じていた場合にも検出が可能
であることを説明する等価回路図である。
FIG. 18 is an equivalent circuit diagram explaining that the detection method according to the present invention enables detection even when disconnection occurs at a plurality of points on one linear electrode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2…プローブ電極 3…バッファ 4…反転バッファ 5…増幅器 10…検出対象基板 11…支持基板 20…プローブ基板 21…支持基板 22…絶縁膜 40…電圧供給用選択回路 50…電圧検出用選択回路 60…入力バッファ 61…位相遅延器 62,63…スイッチドライバ 64…帯域フィルタ 65,66…アナログスイッチ 67…反転バッファ 68…バッファ 69…加算器 70…低域フィルタ 71…増幅器 72…A/D変換器 73…プロセッサ 74…表示部 100…検出回路 C1,C2…容量素子 E…検出対象電極 E1〜E5…線状電極 G…交流電源 P1〜P4…プローブ電極 R0…抵抗素子 R1〜R4…終端抵抗 S…シールド線 1, 2 ... Probe electrode 3 ... Buffer 4 ... Inversion buffer 5 ... Amplifier 10 ... Detection target substrate 11 ... Support substrate 20 ... Probe substrate 21 ... Support substrate 22 ... Insulating film 40 ... Voltage supply selection circuit 50 ... Voltage detection selection Circuit 60 ... Input buffer 61 ... Phase delay device 62, 63 ... Switch driver 64 ... Band filter 65, 66 ... Analog switch 67 ... Inversion buffer 68 ... Buffer 69 ... Adder 70 ... Low-pass filter 71 ... Amplifier 72 ... A / D Converter 73 ... Processor 74 ... Display part 100 ... Detection circuit C1, C2 ... Capacitance element E ... Detection target electrode E1-E5 ... Linear electrode G ... AC power supply P1-P4 ... Probe electrode R0 ... Resistance element R1-R4 ... Termination Resistance S ... Shielded wire

フロントページの続き (72)発明者 田辺 尚雄 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Nao Tanabe 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Dai Nippon Printing Co., Ltd.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定方向に伸びた線状電極についての欠
陥を検出する方法であって、 前記線状電極の検出対象区間の両側位置に、第1のプロ
ーブ電極および第2のプローブ電極を、それぞれ前記線
状電極との間に所定間隔をあけて配置し、 周波数および振幅が等しく、互いに位相が反転した関係
にある第1の交流電圧および第2の交流電圧を用意し、 前記第1のプローブ電極に前記第1の交流電圧を印加す
るとともに、前記第2のプローブ電極に前記第2の交流
電圧を印加したときに、前記線状電極の一端に誘起され
る前記交流電圧と同一周波数の電圧変動を測定し、この
電圧変動の振幅に基づいて前記検出対象区間における欠
陥の有無を検出することを特徴とする線状電極の欠陥検
出方法。
1. A method for detecting a defect in a linear electrode extending in a predetermined direction, wherein a first probe electrode and a second probe electrode are provided at positions on both sides of a detection target section of the linear electrode. A first AC voltage and a second AC voltage having a frequency and an amplitude equal to each other and having phases inverted from each other are prepared by arranging them with a predetermined distance from each of the linear electrodes. When the first AC voltage is applied to the probe electrode and the second AC voltage is applied to the second probe electrode, the same frequency as the AC voltage induced at one end of the linear electrode is applied. A method for detecting a defect of a linear electrode, which comprises measuring a voltage fluctuation and detecting the presence or absence of a defect in the detection target section based on the amplitude of the voltage fluctuation.
【請求項2】 請求項1に記載の検出方法において、 第1のプローブ電極および第2のプローブ電極として、
それぞれ細長い電極を用い、各プローブ電極の一端を終
端抵抗を介して所定の基準電位に固定し、各プローブ電
極の他端にそれぞれ交流電圧を印加し、 線状電極の電圧変動検出端を抵抗素子を介して所定の基
準電位に固定し、前記電圧変動検出端を増幅器に接続
し、この増幅器の出力電圧に基づいて欠陥の有無を検出
することを特徴とする線状電極の欠陥検出方法。
2. The detection method according to claim 1, wherein the first probe electrode and the second probe electrode are:
Each elongated electrode is used, one end of each probe electrode is fixed to a predetermined reference potential via a terminating resistor, an AC voltage is applied to the other end of each probe electrode, and the voltage fluctuation detection end of the linear electrode is a resistance element. A defect detection method for a linear electrode, which is characterized in that the voltage fluctuation detection end is connected to an amplifier via the circuit, and the presence or absence of a defect is detected based on the output voltage of the amplifier.
【請求項3】 第1の平面内において、第1の方向に沿
って伸び、互いにほぼ平行に配置された複数の線状電極
についての欠陥を検出する方法であって、 前記第1の平面に対して平行な第2の平面内において、
前記第1の方向に対してほぼ垂直な第2の方向に沿って
伸び、互いにほぼ平行に配置された複数の細長いプロー
ブ電極を、前記複数の線状電極に向かい合わせ、 周波数および振幅が等しく、互いに位相が反転した関係
にある第1の交流電圧および第2の交流電圧を用意し、 前記複数の線状電極のうちの1本を検出対象として定
め、この検出対象となる1本の線状電極の検出対象区間
の両側に位置する一対のプローブ電極のうちの一方を第
1のプローブ電極、他方を第2のプローブ電極として定
め、 前記第1のプローブ電極に前記第1の交流電圧を印加す
るとともに、前記第2のプローブ電極に前記第2の交流
電圧を印加したときに、前記検出対象となる線状電極の
一端に誘起される前記交流電圧と同一周波数の電圧変動
を測定し、この電圧変動の振幅に基づいて前記検出対象
区間における欠陥の有無を検出することを特徴とする線
状電極の欠陥検出方法。
3. A method for detecting defects in a plurality of linear electrodes extending along a first direction in a first plane and arranged substantially parallel to each other, the method comprising: In the second plane parallel to
A plurality of elongated probe electrodes that extend along a second direction that is substantially perpendicular to the first direction and that are arranged substantially parallel to each other face the plurality of linear electrodes, and have equal frequencies and amplitudes; A first AC voltage and a second AC voltage having a phase-inverted relationship with each other are prepared, one of the plurality of linear electrodes is set as a detection target, and one linear line that is the detection target is set. One of the pair of probe electrodes located on both sides of the detection target section of the electrode is defined as a first probe electrode and the other is defined as a second probe electrode, and the first AC voltage is applied to the first probe electrode. In addition, when the second AC voltage is applied to the second probe electrode, a voltage fluctuation of the same frequency as the AC voltage induced at one end of the linear electrode to be detected is measured, Voltage Defect detection method of linear electrodes and detecting the presence or absence of a defect in the detection target section based on the amplitude of the dynamic.
【請求項4】 請求項3に記載の検出方法において、 各プローブ電極の一端を終端抵抗を介して所定の基準電
位に固定し、第1のプローブ電極および第2のプローブ
電極の他端にそれぞれ交流電圧を印加し、 検出対象となる線状電極の電圧変動検出端を抵抗素子を
介して所定の基準電位に固定し、前記電圧変動検出端を
増幅器に接続し、この増幅器の出力電圧に基づいて欠陥
の有無を検出することを特徴とする線状電極の欠陥検出
方法。
4. The detection method according to claim 3, wherein one end of each probe electrode is fixed to a predetermined reference potential via a terminating resistor, and the other end of each of the first probe electrode and the second probe electrode is fixed. AC voltage is applied, the voltage fluctuation detection end of the linear electrode to be detected is fixed to a predetermined reference potential via a resistance element, the voltage fluctuation detection end is connected to an amplifier, and based on the output voltage of this amplifier. A method for detecting a defect in a linear electrode, characterized in that the presence or absence of a defect is detected.
【請求項5】 所定の平面内において、所定の方向に沿
って伸び、互いにほぼ平行に配置された複数の線状電極
についての欠陥を検出する装置であって、 平板状の支持基板と、この支持基板上において所定の方
向に沿って伸び、互いにほぼ平行に配置された複数の細
長いプローブ電極と、このプローブ電極を覆うように形
成された絶縁膜と、を有するプローブ基板と、 周波数および振幅が等しく、互いに位相が反転した関係
にある第1の交流電圧および第2の交流電圧を供給する
電圧供給回路と、 前記複数のプローブ電極のうちから一対のプローブ電極
を選択し、選択されたプローブ電極の一方に前記第1の
交流電圧を供給し、他方に前記第2の交流電圧を供給す
る電圧供給用選択回路と、 前記複数の線状電極のうちから1本の線状電極を選択
し、選択された線状電極の一端に誘起される電圧変動を
取り出す電圧検出用選択回路と、 前記電圧変動に基づいて、前記選択された線状電極にお
ける前記選択された一対のプローブ電極間に対応する部
分の欠陥の有無を検出する検出回路と、 を備えることを特徴とする線状電極の欠陥検出装置。
5. An apparatus for detecting defects in a plurality of linear electrodes extending along a predetermined direction in a predetermined plane and arranged substantially parallel to each other, comprising a flat support substrate, A probe substrate having a plurality of elongated probe electrodes extending along a predetermined direction on the support substrate and arranged substantially parallel to each other, and an insulating film formed so as to cover the probe electrodes; A voltage supply circuit that supplies a first AC voltage and a second AC voltage that are equal and have mutually inverted phases, and a pair of probe electrodes selected from the plurality of probe electrodes, and the selected probe electrodes A voltage supply selection circuit that supplies the first AC voltage to one side and the second AC voltage to the other side; and one linear electrode from the plurality of linear electrodes. A voltage detection selection circuit for extracting a voltage fluctuation induced at one end of the selected linear electrode, and between the selected pair of probe electrodes in the selected linear electrode based on the voltage fluctuation. A detection circuit for detecting the presence / absence of a defect in a portion corresponding to, and a defect detecting device for a linear electrode, comprising:
【請求項6】 請求項5に記載の検出装置において、 電圧供給回路から得られる交流信号の位相を所定の遅延
時間だけ遅らせる位相遅延器と、電圧検出用選択回路か
ら取り出された電圧変動のうち、前記位相遅延器からの
信号に基づいて正の成分のみを抽出して出力する第1の
濾波器と、電圧検出用選択回路から取り出された電圧変
動のうち、前記位相遅延器からの信号に基づいて負の成
分のみを抽出してこれを反転して出力する第2の濾波器
と、前記第1の濾波器の出力と前記第2の濾波器の出力
とを加算する加算器と、により検出回路を構成し、前記
加算器の出力に基づいて欠陥の有無を検出することを特
徴とする線状電極の欠陥検出装置。
6. The detection device according to claim 5, wherein a phase delayer that delays the phase of the AC signal obtained from the voltage supply circuit by a predetermined delay time and a voltage fluctuation extracted from the voltage detection selection circuit are included. A first filter for extracting and outputting only a positive component based on the signal from the phase delay device, and a voltage fluctuation extracted from the voltage detection selection circuit A second filter for extracting only the negative component based on the output and inverting and outputting the negative component; and an adder for adding the output of the first filter and the output of the second filter. A defect detecting device for a linear electrode, which constitutes a detection circuit and detects the presence or absence of a defect based on the output of the adder.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001053842A1 (en) * 2000-01-18 2001-07-26 Oht Inc. Method of inspecting passive-matrix liquid crystal panel and apparatus for inspecting the same, and method of inspecting plasma display panel and apparatus for inspecting the same
JP2008281576A (en) * 2008-06-06 2008-11-20 Tokyo Cathode Laboratory Co Ltd Conductive pattern inspection device
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WO2021079945A1 (en) * 2019-10-25 2021-04-29 日本電産リード株式会社 Substrate inspection method, substrate inspection program, and substrate inspection device

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