JPH07268558A - シャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法 - Google Patents
シャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法Info
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- JPH07268558A JPH07268558A JP6080994A JP6080994A JPH07268558A JP H07268558 A JPH07268558 A JP H07268558A JP 6080994 A JP6080994 A JP 6080994A JP 6080994 A JP6080994 A JP 6080994A JP H07268558 A JPH07268558 A JP H07268558A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高エッチング性を備えたシャドウマスク用Ｆ
ｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法の提供。 【構成】 重量％にて、Ｎｉ ３０〜４５％、Ｍｎ ０．
５％以下、Ｓｉ ０．１％以下を含み、不可避不純物と
してＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量を２００ｐｐｍ以下
とし、ストリップの長さ、幅、厚みの方向をそれぞれ３
軸の方向とする直角座標に対し、結果の｛１００｝〔０
０１〕方位のずれ角度が実質的に３０°以内に集積して
いるシャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金
原板。上記成分の材料を熱間圧延後、８０〜９５％の圧
下率の冷間圧延とその後の７００〜９５０℃の焼鈍をそ
れぞれ１回以上施すことを特徴とするシャドウマスク用
オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板の製造方法。
ｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法の提供。 【構成】 重量％にて、Ｎｉ ３０〜４５％、Ｍｎ ０．
５％以下、Ｓｉ ０．１％以下を含み、不可避不純物と
してＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量を２００ｐｐｍ以下
とし、ストリップの長さ、幅、厚みの方向をそれぞれ３
軸の方向とする直角座標に対し、結果の｛１００｝〔０
０１〕方位のずれ角度が実質的に３０°以内に集積して
いるシャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金
原板。上記成分の材料を熱間圧延後、８０〜９５％の圧
下率の冷間圧延とその後の７００〜９５０℃の焼鈍をそ
れぞれ１回以上施すことを特徴とするシャドウマスク用
オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高精細ディスプレイ用
陰極線管に用いられるシャドウマスク用オーステナイト
Ｆｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法に関するもの
である。
陰極線管に用いられるシャドウマスク用オーステナイト
Ｆｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】シャドウマスクは電子銃より照射された
電子線を多数の開孔により色選別する機能を有し、従来
はアルミキルド鋼（ＡＫ鋼）が用いられていた。しか
し、開孔を通過しない電子線はシャドウマスクに衝突し
てこれを加熱膨張させ、それが色ずれ現象を起こすこと
になる。近年、ディスプレイの高精細、高輝度化が要求
される中、従来のＡＫ鋼に替わり、熱膨張係数の小さい
Ｆｅ−３６Ｎｉ合金（アンバー合金、熱膨張はＡＫ鋼の
約１／１０）を使用することが提案され、現在シャドウ
マスク材料として実用化されている。このようなＦｅ−
Ｎｉ系シャドウマスク材は、一般に溶解、鋳造、熱間圧
延を経た後、最終板厚まで冷間圧延と焼鈍を繰り返され
て調製される。調製された原板は、その後、表面の脱脂
処理等を施された後、所定のパターンのドット孔を塩化
第２鉄溶液等によるでエッチングで形成されることによ
り、シャドウマスク原板とされる。その後原板は軟化焼
鈍を行なった後、所定の皿形形状にプレス成形され、さ
らに表面へ黒化処理（酸化処理）を施した後陰極線管に
組み込まれる。
電子線を多数の開孔により色選別する機能を有し、従来
はアルミキルド鋼（ＡＫ鋼）が用いられていた。しか
し、開孔を通過しない電子線はシャドウマスクに衝突し
てこれを加熱膨張させ、それが色ずれ現象を起こすこと
になる。近年、ディスプレイの高精細、高輝度化が要求
される中、従来のＡＫ鋼に替わり、熱膨張係数の小さい
Ｆｅ−３６Ｎｉ合金（アンバー合金、熱膨張はＡＫ鋼の
約１／１０）を使用することが提案され、現在シャドウ
マスク材料として実用化されている。このようなＦｅ−
Ｎｉ系シャドウマスク材は、一般に溶解、鋳造、熱間圧
延を経た後、最終板厚まで冷間圧延と焼鈍を繰り返され
て調製される。調製された原板は、その後、表面の脱脂
処理等を施された後、所定のパターンのドット孔を塩化
第２鉄溶液等によるでエッチングで形成されることによ
り、シャドウマスク原板とされる。その後原板は軟化焼
鈍を行なった後、所定の皿形形状にプレス成形され、さ
らに表面へ黒化処理（酸化処理）を施した後陰極線管に
組み込まれる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】特に高精細、さらには
超高精細の陰極線管に用いられるシャドウマスクは、個
々のエッチング孔の正常性およびシャドウマスク全体の
均一性とを含むエッチング穿孔性が極めて重要な特性と
なる。Ｆｅ−Ｎｉ系シャドウマスクのエッチング穿孔性
を阻害する素材要因としては、（１）成分偏析、（２）
非金属介在物、（３）集合組織があげられるが、
（１）、（２）についてはアンバー合金の製鋼技術の向
上と共に、これら内質的素材清浄性は飛躍的に改善され
てきている。しかしながら、（３）集合組織については
幾つか提案がなされているものの、それらによるものは
未だエッチング性が十分でない。本発明は、集合組織を
適正化することにより、エッチング性を十分高くしたＦ
ｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用原板およびその製造方法を
提供することを目的とする。
超高精細の陰極線管に用いられるシャドウマスクは、個
々のエッチング孔の正常性およびシャドウマスク全体の
均一性とを含むエッチング穿孔性が極めて重要な特性と
なる。Ｆｅ−Ｎｉ系シャドウマスクのエッチング穿孔性
を阻害する素材要因としては、（１）成分偏析、（２）
非金属介在物、（３）集合組織があげられるが、
（１）、（２）についてはアンバー合金の製鋼技術の向
上と共に、これら内質的素材清浄性は飛躍的に改善され
てきている。しかしながら、（３）集合組織については
幾つか提案がなされているものの、それらによるものは
未だエッチング性が十分でない。本発明は、集合組織を
適正化することにより、エッチング性を十分高くしたＦ
ｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用原板およびその製造方法を
提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｆｅ−Ｎｉ系
オーステナイト合金でなるシャドウマスク原板のエッチ
ング穿孔性を向上するには、特定の集合状態とするこ
と、およびそのためには特にＣ，Ｐ，Ｓ，Ｂ，Ｏ，Ｎの
総不純物量を特定値以下に規制することが必要であるこ
とを知見し、この集合状態および上記不純物量をレジス
ト密着性阻害の観点も含めて規定した材料、ならびに上
記集合状態を得るための製造条件を見出し、それを規定
した製造方法である。
オーステナイト合金でなるシャドウマスク原板のエッチ
ング穿孔性を向上するには、特定の集合状態とするこ
と、およびそのためには特にＣ，Ｐ，Ｓ，Ｂ，Ｏ，Ｎの
総不純物量を特定値以下に規制することが必要であるこ
とを知見し、この集合状態および上記不純物量をレジス
ト密着性阻害の観点も含めて規定した材料、ならびに上
記集合状態を得るための製造条件を見出し、それを規定
した製造方法である。
【０００５】すなわち、本発明は、重量％にて、Ｎｉ
３０〜４５％、Ｍｎ ０．５％以下、Ｓｉ ０．１％以下
を含み、不可避不純物としてＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの
総量が２００ｐｐｍ以下に規制されたＦｅ−Ｎｉ系合金
でなり、ストリップの長さ、幅、厚みの各方向を３軸の
方向とする直角座標に対し、結晶の｛１００｝〔００
１〕方位のずれ角度が実質的に３０°以内に集積してい
ることを特徴とするシャドウマスク用オーステナイトＦ
ｅ−Ｎｉ系合金原板、ならびに重量％にて、Ｎｉ３０〜
４５％、Ｍｎ ０．５％以下、Ｓｉ ０．１％以下を含
み、不可避不純物としてＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量
が２００ｐｐｍ以下に規制され、残部Ｆｅからなる材料
を、熱間圧延後８０〜９５％の冷間圧延とその後の７０
０〜９５０℃の焼鈍をそれぞれ１回以上施すことを特徴
とするシャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合
金原板の製造方法である。
３０〜４５％、Ｍｎ ０．５％以下、Ｓｉ ０．１％以下
を含み、不可避不純物としてＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの
総量が２００ｐｐｍ以下に規制されたＦｅ−Ｎｉ系合金
でなり、ストリップの長さ、幅、厚みの各方向を３軸の
方向とする直角座標に対し、結晶の｛１００｝〔００
１〕方位のずれ角度が実質的に３０°以内に集積してい
ることを特徴とするシャドウマスク用オーステナイトＦ
ｅ−Ｎｉ系合金原板、ならびに重量％にて、Ｎｉ３０〜
４５％、Ｍｎ ０．５％以下、Ｓｉ ０．１％以下を含
み、不可避不純物としてＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量
が２００ｐｐｍ以下に規制され、残部Ｆｅからなる材料
を、熱間圧延後８０〜９５％の冷間圧延とその後の７０
０〜９５０℃の焼鈍をそれぞれ１回以上施すことを特徴
とするシャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合
金原板の製造方法である。
【０００６】
【作用】次に本発明の数値限定理由を述べる。Ｎｉは３
０ｗｔ％未満では組成的に不安定となり、また４５ｗｔ
％を越えると熱膨張係数が大きくなるため、Ｎｉ量は３
０〜４５ｗｔ％に限定する。Ｍｎは鋳造性を阻害するＳ
をＭｎＳとして固定し、粒界脆化を抑制すると共に脱酸
を目的として添加するが、０．５ｗｔ％を越えると熱膨
張係数を高くする。そのため、Ｍｎは０．５ｗｔ％以下
の範囲に限定する。望ましくは、０．１ｗｔ％〜０．５
ｗｔ％である。Ｓｉは脱酸を目的として添加するが、
０．０１ｗｔ％を越えると内質清浄度が劣化すると共
に、表面酸化および窒化が促進され、それがレジスト密
着性のムラとなり、マスクムラ品位を低下させるので、
Ｓｉは０．１ｗｔ％以下に限定する。好ましくは、０．
０５ｗｔ％以下、さらに望ましくは０．０２ｗｔ％以下
である。
０ｗｔ％未満では組成的に不安定となり、また４５ｗｔ
％を越えると熱膨張係数が大きくなるため、Ｎｉ量は３
０〜４５ｗｔ％に限定する。Ｍｎは鋳造性を阻害するＳ
をＭｎＳとして固定し、粒界脆化を抑制すると共に脱酸
を目的として添加するが、０．５ｗｔ％を越えると熱膨
張係数を高くする。そのため、Ｍｎは０．５ｗｔ％以下
の範囲に限定する。望ましくは、０．１ｗｔ％〜０．５
ｗｔ％である。Ｓｉは脱酸を目的として添加するが、
０．０１ｗｔ％を越えると内質清浄度が劣化すると共
に、表面酸化および窒化が促進され、それがレジスト密
着性のムラとなり、マスクムラ品位を低下させるので、
Ｓｉは０．１ｗｔ％以下に限定する。好ましくは、０．
０５ｗｔ％以下、さらに望ましくは０．０２ｗｔ％以下
である。
【０００７】不可避的不純物であるＣ，Ｐ，Ｓ，Ｂ，
Ｏ，Ｎは、いずれも本発明の目的である結晶方位の発達
を阻害する元素である。これら不可避的不純物が総量と
して２００ｐｐｍを越えると、冷間圧延や焼鈍の際、結
晶粒界に偏析し、これらが結晶粒の回転のピンニングと
なり、所望の集積度が得られない。また、これらの元素
は焼鈍の際に表面に濃縮し、または表面で酸化し、レジ
スト密着性を阻害する元素として作用するため、総量と
してＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量を２００ｐｐｍ以下
とする。好ましくは、１００ｐｐｍ以下である。
Ｏ，Ｎは、いずれも本発明の目的である結晶方位の発達
を阻害する元素である。これら不可避的不純物が総量と
して２００ｐｐｍを越えると、冷間圧延や焼鈍の際、結
晶粒界に偏析し、これらが結晶粒の回転のピンニングと
なり、所望の集積度が得られない。また、これらの元素
は焼鈍の際に表面に濃縮し、または表面で酸化し、レジ
スト密着性を阻害する元素として作用するため、総量と
してＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量を２００ｐｐｍ以下
とする。好ましくは、１００ｐｐｍ以下である。
【０００８】ストリップの長さ、幅、厚みの各方向を３
軸とする直角座標（以下理想方法と記す）に対し、結晶
の｛１００｝〔００１〕方位からのずれ角度が実質的に
３０°を越えて集積度が低下すると所望のエッチングフ
ァクターが得られないため、方位集積度は理想方位に対
して｛１００｝〔００１〕方位が３０°以下に限定す
る。これら理想方位に対し、高度に方位集積した結晶組
織（以下立方体方位組織と記す）を得るためには、高圧
延率とその後の十分な焼鈍を必要とする。すなわち熱間
圧延後の冷間圧延率が８０％未満では、再結晶時の十分
な駆動力が得られない。しかし、９５％を越えると圧延
時の表面油焼付きが発生し易く、また、圧延形状が悪く
なり易い。また、その後の焼鈍温度が７００℃未満では
再結晶が十分に進まず、一方、９５０℃を越えると再結
晶粒が粗大化し、開孔の形状が異常となるため、熱間圧
延後の冷間圧延率は８０％〜９５％とし、かつその後の
焼鈍は、７００℃〜９５０℃に限定する。なお、必要に
応じて立方体方位組織が壊れない範囲での調質圧延、形
状矯正および歪取焼鈍を行なってもよい。
軸とする直角座標（以下理想方法と記す）に対し、結晶
の｛１００｝〔００１〕方位からのずれ角度が実質的に
３０°を越えて集積度が低下すると所望のエッチングフ
ァクターが得られないため、方位集積度は理想方位に対
して｛１００｝〔００１〕方位が３０°以下に限定す
る。これら理想方位に対し、高度に方位集積した結晶組
織（以下立方体方位組織と記す）を得るためには、高圧
延率とその後の十分な焼鈍を必要とする。すなわち熱間
圧延後の冷間圧延率が８０％未満では、再結晶時の十分
な駆動力が得られない。しかし、９５％を越えると圧延
時の表面油焼付きが発生し易く、また、圧延形状が悪く
なり易い。また、その後の焼鈍温度が７００℃未満では
再結晶が十分に進まず、一方、９５０℃を越えると再結
晶粒が粗大化し、開孔の形状が異常となるため、熱間圧
延後の冷間圧延率は８０％〜９５％とし、かつその後の
焼鈍は、７００℃〜９５０℃に限定する。なお、必要に
応じて立方体方位組織が壊れない範囲での調質圧延、形
状矯正および歪取焼鈍を行なってもよい。
【０００９】
【実施例】まず、表１に示す組成の合金Ａ，Ｂを真空溶
解炉にして溶解し、造塊、分塊、および熱間圧延により
所定板厚とした。酸洗処理により脱スケールした後、７
０％、８５％、９０％、９７％の各圧延率で冷間圧延し
て厚さ ０．１５mmとし、さらに各々を６５０℃、７５
０℃、８５０℃、１０００℃で焼鈍を行なった。上記に
より各々調製したシャドウマスク素材にアルカリ脱脂後
レジストを塗布してマスク孔パターンを形成した。その
後、塩化第２鉄溶液のスプレーエッチングによりシャド
ウマスク用平板に加工し、エッチング孔形およびマスク
品位を評価した。
解炉にして溶解し、造塊、分塊、および熱間圧延により
所定板厚とした。酸洗処理により脱スケールした後、７
０％、８５％、９０％、９７％の各圧延率で冷間圧延し
て厚さ ０．１５mmとし、さらに各々を６５０℃、７５
０℃、８５０℃、１０００℃で焼鈍を行なった。上記に
より各々調製したシャドウマスク素材にアルカリ脱脂後
レジストを塗布してマスク孔パターンを形成した。その
後、塩化第２鉄溶液のスプレーエッチングによりシャド
ウマスク用平板に加工し、エッチング孔形およびマスク
品位を評価した。
【００１０】
【表１】
【００１１】また、所定の深さとなるまで塩化第２鉄溶
液のスプレーエッチングより腐食し、エッチング深さａ
と、サイドエッチング量ｂからエッチングファクタ ａ
／ｂを求めた。さらに、素材の集合組織を測定した。そ
の方法は、γ−ＦｅＮｉ（２２０）面について透過法、
および反射法により測定し、｛１００｝〔００１〕の理
想方位からのずれ角度を求めた。表２に上記により、各
々求めたマスクの評価結果を示す。また、図１および図
２にそれぞれ合金ＡおよびＢについて、各冷間圧延率
（Ｒｅｄ）と焼鈍温度について｛１００｝〔００１〕の
理想方位からのずれを整理して示す。図中Ｒｅｄ％は冷
間圧延の圧下率、（ ）内はエッチングファクタを、ま
た黒く塗りつぶしたものは、結晶粒の粗大化または混粒
を生じたことを示すものである。
液のスプレーエッチングより腐食し、エッチング深さａ
と、サイドエッチング量ｂからエッチングファクタ ａ
／ｂを求めた。さらに、素材の集合組織を測定した。そ
の方法は、γ−ＦｅＮｉ（２２０）面について透過法、
および反射法により測定し、｛１００｝〔００１〕の理
想方位からのずれ角度を求めた。表２に上記により、各
々求めたマスクの評価結果を示す。また、図１および図
２にそれぞれ合金ＡおよびＢについて、各冷間圧延率
（Ｒｅｄ）と焼鈍温度について｛１００｝〔００１〕の
理想方位からのずれを整理して示す。図中Ｒｅｄ％は冷
間圧延の圧下率、（ ）内はエッチングファクタを、ま
た黒く塗りつぶしたものは、結晶粒の粗大化または混粒
を生じたことを示すものである。
【００１２】
【表２】
【００１３】合金Ａは、合金Ｂに比較して全体に理想方
位からの｛１００｝〔００１〕のずれが小さく、エッチ
ングファクタも大きくなることからＣ，Ｓ，Ｐ，Ｂ，
Ｏ，Ｎ等の不純物を極低化することの効果が極めて顕著
であることがわかる。しかしながら、冷間圧延率と高温
焼鈍の組合せにおいて、高圧延率で高温焼鈍したもの
は、配向度は高いものの、結晶粒が粗大化あるいは混粒
になるため、エッチング開孔部の異常（開孔形状がギザ
ギザになる）が発生するため、条件として圧延率は８０
〜９５％、焼鈍温度 ７００〜９５０℃が最適条件にな
り、マスク品位に優れたシャドウマスクが得られること
がわかる。なお、図３（イ）、（ロ）および図４
（ハ）、（ニ）は、結晶方位の集積度の測定例として、
それぞれ表２のＡ−１０（合金：Ａ，Ｎo.10)、Ｂ−１
０およびＢ−９、Ｂ−１の（２２０）極点図を示すもの
であり、該図中■印の位置は、｛１００｝〔００１〕の
理想方位を示すものである。図（イ）から順に集積度は
±２７°以内、±３２°以内、±３８°以内および±４
５°以内と判定された。
位からの｛１００｝〔００１〕のずれが小さく、エッチ
ングファクタも大きくなることからＣ，Ｓ，Ｐ，Ｂ，
Ｏ，Ｎ等の不純物を極低化することの効果が極めて顕著
であることがわかる。しかしながら、冷間圧延率と高温
焼鈍の組合せにおいて、高圧延率で高温焼鈍したもの
は、配向度は高いものの、結晶粒が粗大化あるいは混粒
になるため、エッチング開孔部の異常（開孔形状がギザ
ギザになる）が発生するため、条件として圧延率は８０
〜９５％、焼鈍温度 ７００〜９５０℃が最適条件にな
り、マスク品位に優れたシャドウマスクが得られること
がわかる。なお、図３（イ）、（ロ）および図４
（ハ）、（ニ）は、結晶方位の集積度の測定例として、
それぞれ表２のＡ−１０（合金：Ａ，Ｎo.10)、Ｂ−１
０およびＢ−９、Ｂ−１の（２２０）極点図を示すもの
であり、該図中■印の位置は、｛１００｝〔００１〕の
理想方位を示すものである。図（イ）から順に集積度は
±２７°以内、±３２°以内、±３８°以内および±４
５°以内と判定された。
【００１４】
【発明の効果】本発明に基づいて、Ｆｅ−Ｎｉ系合金の
不可避的不純物とし、冷間圧延、焼鈍を最適条件で行な
うことにより、エッチング穿孔性に優れるシャドウマス
ク原板が得られ、この原板はコンピュータディスプレイ
用途等の高画質、高解像度を可能とし、工業上大きく貢
献できるものである。
不可避的不純物とし、冷間圧延、焼鈍を最適条件で行な
うことにより、エッチング穿孔性に優れるシャドウマス
ク原板が得られ、この原板はコンピュータディスプレイ
用途等の高画質、高解像度を可能とし、工業上大きく貢
献できるものである。
【図１】合金Ａの冷間圧延率、焼鈍温度と配向度および
エッチングファクタの関係を示す図である。
エッチングファクタの関係を示す図である。
【図２】合金Ｂの冷間圧延率、焼鈍温度と配向度および
エッチングファクタの関係を示す図である。
エッチングファクタの関係を示す図である。
【図３】（２２０）極点図である。
【図４】（２２０）極点図である。
Claims (2)
- 【請求項１】 重量％にて、Ｎｉ ３０〜４５％、Ｍｎ
０．５％以下、Ｓｉ０．１％以下を含み、不可避不純物
としてＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量が２００ｐｐｍ以
下に規制されたＦｅ−Ｎｉ系合金でなり、ストリップの
長さ、幅、厚みの各方向を３軸の方向とする直角座標に
対し、結晶の｛１００｝〔００１〕方位のずれ角度が実
質的に３０°以内に集積していることを特徴とするシャ
ドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板。 - 【請求項２】 重量％にて、Ｎｉ ３０〜４５％、Ｍｎ
０．５％以下、Ｓｉ０．１％以下を含み、不可避不純物
としてＣ＋Ｐ＋Ｓ＋Ｂ＋Ｏ＋Ｎの総量が２００ｐｐｍ以
下に規制され、残部Ｆｅからなる材料を、熱間圧延後８
０〜９５％の冷間圧延とその後の７００〜９５０℃の焼
鈍をそれぞれ１回以上施すことを特徴とするシャドウマ
スク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6080994A JPH07268558A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | シャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6080994A JPH07268558A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | シャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07268558A true JPH07268558A (ja) | 1995-10-17 |
Family
ID=13153052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6080994A Pending JPH07268558A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | シャドウマスク用オーステナイトＦｅ−Ｎｉ系合金原板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07268558A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7014721B2 (en) | 2000-11-21 | 2006-03-21 | Nippon Yakin Kogyo Co., Ltd. | Iron-nickel alloy material for shadow mask with excellent suitability for etching |
| DE19817484B4 (de) * | 1997-04-22 | 2007-05-31 | Hitachi Metals, Ltd. | Legierungsblech auf Fe-Ni-Basis mit hervorragenden Oberflächeneigenschaften und hervorragender Ätzbarkeit |
-
1994
- 1994-03-30 JP JP6080994A patent/JPH07268558A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19817484B4 (de) * | 1997-04-22 | 2007-05-31 | Hitachi Metals, Ltd. | Legierungsblech auf Fe-Ni-Basis mit hervorragenden Oberflächeneigenschaften und hervorragender Ätzbarkeit |
| US7014721B2 (en) | 2000-11-21 | 2006-03-21 | Nippon Yakin Kogyo Co., Ltd. | Iron-nickel alloy material for shadow mask with excellent suitability for etching |
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