JPH07260648A - マイクロプレートの温度調節装置 - Google Patents
マイクロプレートの温度調節装置Info
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- JPH07260648A JPH07260648A JP6079576A JP7957694A JPH07260648A JP H07260648 A JPH07260648 A JP H07260648A JP 6079576 A JP6079576 A JP 6079576A JP 7957694 A JP7957694 A JP 7957694A JP H07260648 A JPH07260648 A JP H07260648A
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- Japan
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- temperature
- microplate
- heat
- controller
- outer peripheral
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- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 各ウェルの温度を均一かつ迅速に調節可能に
する。 【構成】 温度調節装置は、マイクロプレートＭＰの温
度を測定する温度センサ１０Ａ，１０Ｂと、温度センサ
１０Ａ，１０Ｂで測定された温度に基づきマイクロプレ
ートＭＰを一定の温度に保持する伝熱手段１２Ａ，１２
Ｂとを備えている。温度センサ１０Ａ及び伝熱手段１２
Ａは、マイクロプレートＭＰの外周側に設けられ、温度
センサ１０Ｂ及び伝熱手段１２Ｂは、マイクロプレート
ＭＰの内側に設けられている。
する。 【構成】 温度調節装置は、マイクロプレートＭＰの温
度を測定する温度センサ１０Ａ，１０Ｂと、温度センサ
１０Ａ，１０Ｂで測定された温度に基づきマイクロプレ
ートＭＰを一定の温度に保持する伝熱手段１２Ａ，１２
Ｂとを備えている。温度センサ１０Ａ及び伝熱手段１２
Ａは、マイクロプレートＭＰの外周側に設けられ、温度
センサ１０Ｂ及び伝熱手段１２Ｂは、マイクロプレート
ＭＰの内側に設けられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、医薬分野における酵
素免疫反応測定に用いられるものであって、試料を入れ
る多数の有底穴（以下「ウェル」という。）が設けられ
たマイクロプレートを、均一に加熱するための温度調節
装置に関する。
素免疫反応測定に用いられるものであって、試料を入れ
る多数の有底穴（以下「ウェル」という。）が設けられ
たマイクロプレートを、均一に加熱するための温度調節
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】病原菌の感染検査法の一種として、酵素
免疫反応測定がある。この測定では、図４に示すマイク
ロプレートが用いられる。マイクロプレートＭＰは、合
成樹脂からなる平板状の成形品であり、例えば、長さａ
が127[mm] ，幅ｂが85[mm]，高さｃが15[mm]程度の大き
さである。また、マイクロプレートＭＰには、試料を入
れるためのウェルＷが12×8=96個設けられている。各ウ
ェルＷには、基本的には別々の検体（血液等）が注入さ
れる。そして、ウェルＷ内で検体と試薬とが混合され
て、陰性又は陽性の感染判定が行われる。ここでいう
「試料」とは、この検体と試薬との混合物のことであ
る。
免疫反応測定がある。この測定では、図４に示すマイク
ロプレートが用いられる。マイクロプレートＭＰは、合
成樹脂からなる平板状の成形品であり、例えば、長さａ
が127[mm] ，幅ｂが85[mm]，高さｃが15[mm]程度の大き
さである。また、マイクロプレートＭＰには、試料を入
れるためのウェルＷが12×8=96個設けられている。各ウ
ェルＷには、基本的には別々の検体（血液等）が注入さ
れる。そして、ウェルＷ内で検体と試薬とが混合され
て、陰性又は陽性の感染判定が行われる。ここでいう
「試料」とは、この検体と試薬との混合物のことであ
る。
【０００３】ところで、酵素免疫反応測定では、反応を
促進するためにマイクロプレートを均一に加熱する工程
が含まれている。従来、マイクロプレートの加熱方法と
しては、次のようなものがあった。一定温度に保たれ
たヒートブロック上に、マイクロプレートを載置する方
法。循環している恒温水の上部に、マイクロプレート
を配置する方法。循環している恒温空気の中に、マイ
クロプレートを配置する方法。
促進するためにマイクロプレートを均一に加熱する工程
が含まれている。従来、マイクロプレートの加熱方法と
しては、次のようなものがあった。一定温度に保たれ
たヒートブロック上に、マイクロプレートを載置する方
法。循環している恒温水の上部に、マイクロプレート
を配置する方法。循環している恒温空気の中に、マイ
クロプレートを配置する方法。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
〜の従来技術には、次のような問題があった。
〜の従来技術には、次のような問題があった。
【０００５】イ）マイクロプレートの内側のウェルと外
周側のウェルとで、温度差が生じる。つまり、温度上昇
・下降の勾配に差が生じる。しかも、定常状態に達した
後も温度差が生じたままの場合もある。その結果、各ウ
ェルの反応の進行がばらついて、測定誤差が生じること
になる。
周側のウェルとで、温度差が生じる。つまり、温度上昇
・下降の勾配に差が生じる。しかも、定常状態に達した
後も温度差が生じたままの場合もある。その結果、各ウ
ェルの反応の進行がばらついて、測定誤差が生じること
になる。
【０００６】ロ）目標温度までの立ち上がり時間が長
い。目標温度近傍で反応が最も促進されるので、立ち上
がり時間はできるだけ短いことが好ましい。
い。目標温度近傍で反応が最も促進されるので、立ち上
がり時間はできるだけ短いことが好ましい。
【０００７】上記イの問題は、マイクロプレートの構造
に起因している。すなわち、図４に示すように、最外周
のウェルＷには底面ばかりでなく側面からも熱の出入り
があるため、内側のウェルＷと外周側のウェルＷとで温
度差が生ずるのである。また、全部のウェルＷのさらに
外側には方形環状の通路８０が形成されている。この通
路８０に温められた又は冷やされた空気が滞留すること
が、かかる温度差の発生を助長している。これにより、
マイクロプレートＭＰを加熱した場合は、内側のウェル
Ｗよりも外周側のウェルＷの方が温度が高くなる。
に起因している。すなわち、図４に示すように、最外周
のウェルＷには底面ばかりでなく側面からも熱の出入り
があるため、内側のウェルＷと外周側のウェルＷとで温
度差が生ずるのである。また、全部のウェルＷのさらに
外側には方形環状の通路８０が形成されている。この通
路８０に温められた又は冷やされた空気が滞留すること
が、かかる温度差の発生を助長している。これにより、
マイクロプレートＭＰを加熱した場合は、内側のウェル
Ｗよりも外周側のウェルＷの方が温度が高くなる。
【０００８】上記ロの問題は、加熱手段の特性に起因し
ている。すなわち、急速に加熱すると、一時的に目標温
度を越えるオーバーシュートが発生する。ところが、目
標温度を越えると、反応が激しくなって試料が分解して
しまうおそれがある。そこで、オーバーシュートが生じ
ないように緩やかに加熱する結果、目標温度までの立ち
上がり時間が長くなるのである。
ている。すなわち、急速に加熱すると、一時的に目標温
度を越えるオーバーシュートが発生する。ところが、目
標温度を越えると、反応が激しくなって試料が分解して
しまうおそれがある。そこで、オーバーシュートが生じ
ないように緩やかに加熱する結果、目標温度までの立ち
上がり時間が長くなるのである。
【０００９】
【発明の目的】そこで、本発明の目的は、上記従来例の
問題点を解決することにより、各ウェルの温度を均一か
つ迅速に調節可能とした、マイクロプレートの温度調節
装置を提供することにある。
問題点を解決することにより、各ウェルの温度を均一か
つ迅速に調節可能とした、マイクロプレートの温度調節
装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係るマイクロプ
レートの温度調節装置は、上記目的を達成するためにな
されたものであり、マイクロプレートの温度を測定する
温度センサと、この温度センサで測定された温度に基づ
き前記マイクロプレートを一定の温度に保持する伝熱手
段とを備えている。前記温度センサ及び前記伝熱手段
は、前記マイクロプレートの外周側に少なくとも一組設
けられ、前記マイクロプレートの内側に少なくとも一組
設けられている。また、前記伝熱手段は、ペルチェ素子
を用いたものとしてもよい。
レートの温度調節装置は、上記目的を達成するためにな
されたものであり、マイクロプレートの温度を測定する
温度センサと、この温度センサで測定された温度に基づ
き前記マイクロプレートを一定の温度に保持する伝熱手
段とを備えている。前記温度センサ及び前記伝熱手段
は、前記マイクロプレートの外周側に少なくとも一組設
けられ、前記マイクロプレートの内側に少なくとも一組
設けられている。また、前記伝熱手段は、ペルチェ素子
を用いたものとしてもよい。
【００１１】
【作用】マイクロプレートの温度は、温度センサで測定
されると共に、伝熱手段によって一定に保持される。温
度センサ及び伝熱手段は、マイクロプレートの外周側と
内側とに少なくとも一組づつ設けられている。したがっ
て、マイクロプレートの外周側と内側とは、それぞれ独
立して温度が調節される。
されると共に、伝熱手段によって一定に保持される。温
度センサ及び伝熱手段は、マイクロプレートの外周側と
内側とに少なくとも一組づつ設けられている。したがっ
て、マイクロプレートの外周側と内側とは、それぞれ独
立して温度が調節される。
【００１２】ペルチェ素子は、加熱のみならず、加冷も
電流を切換えるだけで簡単に行える。したがって、伝熱
手段がペルチェ素子を用いたものである場合は、急速な
加熱をしても加冷を組み合わせることにより、オーバー
シュートのない昇温が可能である。
電流を切換えるだけで簡単に行える。したがって、伝熱
手段がペルチェ素子を用いたものである場合は、急速な
加熱をしても加冷を組み合わせることにより、オーバー
シュートのない昇温が可能である。
【００１３】
【実施例】図１は本発明に係るマイクロプレートの温度
調節装置の一実施例を示し、図１（１）は平面図、図１
（２）は図１（１）におけるＩ−Ｉ線縦断面図である。
以下、この図面に基づき説明する。
調節装置の一実施例を示し、図１（１）は平面図、図１
（２）は図１（１）におけるＩ−Ｉ線縦断面図である。
以下、この図面に基づき説明する。
【００１４】本実施例の温度調節装置は、マイクロプレ
ートＭＰの温度を測定する温度センサ１０Ａ，１０Ｂ
と、温度センサ１０Ａ，１０Ｂで測定された温度に基づ
きマイクロプレートＭＰを一定の温度に保持する伝熱手
段１２Ａ，１２Ｂとを備えている。温度センサ１０Ａ及
び伝熱手段１２Ａは、マイクロプレートＭＰの外周側に
設けられ、温度センサ１０Ｂ及び伝熱手段１２Ｂは、マ
イクロプレートＭＰの内側に設けられている。
ートＭＰの温度を測定する温度センサ１０Ａ，１０Ｂ
と、温度センサ１０Ａ，１０Ｂで測定された温度に基づ
きマイクロプレートＭＰを一定の温度に保持する伝熱手
段１２Ａ，１２Ｂとを備えている。温度センサ１０Ａ及
び伝熱手段１２Ａは、マイクロプレートＭＰの外周側に
設けられ、温度センサ１０Ｂ及び伝熱手段１２Ｂは、マ
イクロプレートＭＰの内側に設けられている。
【００１５】温度センサ１０Ａ，１０Ｂは、マイクロプ
レートＭＰから離間した位置にあって、マイクロプレー
トＭＰの試料の温度を非接触で測定するものである。こ
のような非接触温度センサとしては、例えばLiTaO3単結
晶を用いたものがある。
レートＭＰから離間した位置にあって、マイクロプレー
トＭＰの試料の温度を非接触で測定するものである。こ
のような非接触温度センサとしては、例えばLiTaO3単結
晶を用いたものがある。
【００１６】伝熱手段１２Ａ，１２Ｂは、それぞれ、ヒ
ータ１４Ａ，１４Ｂ, ヒートブロック１６Ａ，１６Ｂ及
び後述する温度コントローラによって構成されている。
図４に示すウェルＷ全部のうち、伝熱手段１２Ａが最外
周の36個の温度を調節し、伝熱手段１２Ｂが内側の60個
の温度を調節する。
ータ１４Ａ，１４Ｂ, ヒートブロック１６Ａ，１６Ｂ及
び後述する温度コントローラによって構成されている。
図４に示すウェルＷ全部のうち、伝熱手段１２Ａが最外
周の36個の温度を調節し、伝熱手段１２Ｂが内側の60個
の温度を調節する。
【００１７】ヒータ１４Ａ，１４Ｂは、抵抗体を絶縁体
で挟持したシート状を呈しており、抵抗体から発生する
ジュール熱を利用するものである。ヒートブロック１６
Ａ，１６Ｂは、ヒータ１４Ａ，１４Ｂから発生する熱の
バラツキを均一化するためのものであり、熱伝導性の良
好なアルミニウム等から板状に形成されたものである。
ヒータ１４Ｂ及びヒートブロック１６Ｂは方形状に形成
されている。ヒータ１４Ａ及びヒートブロック１６Ａ
は、ヒータ１４Ｂ及びヒートブロック１６Ｂを囲繞する
ように、方形枠状に形成されている。また、ヒートブロ
ック１６Ａとヒートブロック１６Ｂとは、断熱材１８に
よって仕切られている。断熱材１８は、コルク，発泡ウ
レタン等である。
で挟持したシート状を呈しており、抵抗体から発生する
ジュール熱を利用するものである。ヒートブロック１６
Ａ，１６Ｂは、ヒータ１４Ａ，１４Ｂから発生する熱の
バラツキを均一化するためのものであり、熱伝導性の良
好なアルミニウム等から板状に形成されたものである。
ヒータ１４Ｂ及びヒートブロック１６Ｂは方形状に形成
されている。ヒータ１４Ａ及びヒートブロック１６Ａ
は、ヒータ１４Ｂ及びヒートブロック１６Ｂを囲繞する
ように、方形枠状に形成されている。また、ヒートブロ
ック１６Ａとヒートブロック１６Ｂとは、断熱材１８に
よって仕切られている。断熱材１８は、コルク，発泡ウ
レタン等である。
【００１８】図２は、温度コントローラのブロック図で
ある。温度コントローラ２０は、上位コントローラ２
２，ＰＩＤコントローラ２４Ａ，２４Ｂから構成されて
いる。以下、図１及び図２に基づき本実施例の温度調節
装置の動作を説明する。
ある。温度コントローラ２０は、上位コントローラ２
２，ＰＩＤコントローラ２４Ａ，２４Ｂから構成されて
いる。以下、図１及び図２に基づき本実施例の温度調節
装置の動作を説明する。
【００１９】温度調節を始める前に、上位コントローラ
２２は、設定温度ＴSBについてオーバーシュート，ハン
チング等を起こさないようにＰ（比例），Ｉ（積分），
Ｄ（微分）の各定数ＣPBを演算して、ＰＩＤコントロー
ラ２４ＢへＴSB，ＣPBを出力する。
２２は、設定温度ＴSBについてオーバーシュート，ハン
チング等を起こさないようにＰ（比例），Ｉ（積分），
Ｄ（微分）の各定数ＣPBを演算して、ＰＩＤコントロー
ラ２４ＢへＴSB，ＣPBを出力する。
【００２０】温度調節が始まると、ＰＩＤコントローラ
２４Ｂは、温度センサ１０Ｂから測定温度ＴmBを入力し
て、ＴSB，ＣPBに基づいた電流ＩB をヒータ１４Ｂへ出
力する。これにより、ＰＩＤコントローラ２４Ｂは、マ
イクロプレートＭＰの内側の温度を調節する。一方、上
位コントローラ２２は、温度センサ１０Ｂから逐次入力
した測定温度ＴmBを設定温度ＴSAとし、温度センサ１０
Ａから逐次入力した測定温度ＴmAと測定温度ＴmBとの差
（ＴmA−ＴmB）に基づきＰ，Ｉ，Ｄの各定数ＣPAを演算
して、ＰＩＤコントローラ２４ＡへＴSA，ＣPAを出力す
る。ＰＩＤコントローラ２４Ａは、ＴSA，ＣPAに基づい
た電流ＩA をヒータ１４Ａへ出力する。これにより、Ｐ
ＩＤコントローラ２４Ａは、マイクロプレートＭＰの外
周側の温度を調節する。
２４Ｂは、温度センサ１０Ｂから測定温度ＴmBを入力し
て、ＴSB，ＣPBに基づいた電流ＩB をヒータ１４Ｂへ出
力する。これにより、ＰＩＤコントローラ２４Ｂは、マ
イクロプレートＭＰの内側の温度を調節する。一方、上
位コントローラ２２は、温度センサ１０Ｂから逐次入力
した測定温度ＴmBを設定温度ＴSAとし、温度センサ１０
Ａから逐次入力した測定温度ＴmAと測定温度ＴmBとの差
（ＴmA−ＴmB）に基づきＰ，Ｉ，Ｄの各定数ＣPAを演算
して、ＰＩＤコントローラ２４ＡへＴSA，ＣPAを出力す
る。ＰＩＤコントローラ２４Ａは、ＴSA，ＣPAに基づい
た電流ＩA をヒータ１４Ａへ出力する。これにより、Ｐ
ＩＤコントローラ２４Ａは、マイクロプレートＭＰの外
周側の温度を調節する。
【００２１】すなわち、ＰＩＤコントローラ２４Ｂは、
上位コントローラ２２の支配を受けずにマイクロプレー
トＭＰの内側の温度を調節する。これに対し、ＰＩＤコ
ントローラ２４Ａは、上位コントローラ２２の支配を受
けて、マイクロプレートＭＰの内側の温度に合わせるよ
うに、マイクロプレートＭＰの外周側の温度を調節す
る。
上位コントローラ２２の支配を受けずにマイクロプレー
トＭＰの内側の温度を調節する。これに対し、ＰＩＤコ
ントローラ２４Ａは、上位コントローラ２２の支配を受
けて、マイクロプレートＭＰの内側の温度に合わせるよ
うに、マイクロプレートＭＰの外周側の温度を調節す
る。
【００２２】このように、温度センサ１０Ａ及び伝熱手
段１２ＡでマイクロプレートＭＰの外周側の温度を調節
する一方、温度センサ１０Ｂ及び伝熱手段１２Ｂでマイ
クロプレートＭＰの内側の温度を調節する。したがっ
て、マイクロプレートＭＰの外周側と内側とで、温度差
は本質的に生じない。
段１２ＡでマイクロプレートＭＰの外周側の温度を調節
する一方、温度センサ１０Ｂ及び伝熱手段１２Ｂでマイ
クロプレートＭＰの内側の温度を調節する。したがっ
て、マイクロプレートＭＰの外周側と内側とで、温度差
は本質的に生じない。
【００２３】なお、上述した温度コントローラ２０の制
御方法は、言うまでもなく一例に過ぎない。例えば、温
度コントローラ２０は、ＰＩＤコントローラ２４Ａ，２
４Ｂを、同一の昇降温プロファイルに従って全く独立に
制御するようにしてもよい。
御方法は、言うまでもなく一例に過ぎない。例えば、温
度コントローラ２０は、ＰＩＤコントローラ２４Ａ，２
４Ｂを、同一の昇降温プロファイルに従って全く独立に
制御するようにしてもよい。
【００２４】図３は本発明に係るマイクロプレートの温
度調節装置の他の実施例を示し、図３（１）は平面図、
図３（２）は図３（１）におけるIII-III 線縦断面図で
ある。以下、この図面に基づき説明する。ただし、図１
と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。
度調節装置の他の実施例を示し、図３（１）は平面図、
図３（２）は図３（１）におけるIII-III 線縦断面図で
ある。以下、この図面に基づき説明する。ただし、図１
と同一部分は同一符号を付して説明を省略する。
【００２５】本実施例の温度調節装置は、マイクロプレ
ートＭＰの温度を測定する温度センサ１０Ａ，１０Ｂ
と、温度センサ１０Ａ，１０Ｂで測定された温度に基づ
きマイクロプレートＭＰを一定の温度に保持する伝熱手
段３２Ａ，３２Ｂとを備えている。温度センサ１０Ａ及
び伝熱手段３２Ａは、マイクロプレートＭＰの外周側に
設けられ、温度センサ１０Ｂ及び伝熱手段３２Ｂは、マ
イクロプレートＭＰの内側に設けられている。
ートＭＰの温度を測定する温度センサ１０Ａ，１０Ｂ
と、温度センサ１０Ａ，１０Ｂで測定された温度に基づ
きマイクロプレートＭＰを一定の温度に保持する伝熱手
段３２Ａ，３２Ｂとを備えている。温度センサ１０Ａ及
び伝熱手段３２Ａは、マイクロプレートＭＰの外周側に
設けられ、温度センサ１０Ｂ及び伝熱手段３２Ｂは、マ
イクロプレートＭＰの内側に設けられている。
【００２６】伝熱手段３２Ａ，３２Ｂは、それぞれ、ペ
ルチェ素子３４Ａ，３４Ｂ, ヒートブロック１６Ａ，１
６Ｂ，放熱用ヒートシンク３６及び前述した温度コント
ローラによって構成されている。ペルチェ素子３４Ａは
マイクロプレートＭＰの外周側に八個配設され、ペルチ
ェ素子３４ＢはマイクロプレートＭＰの内側に二個配設
されている。つまり、図４に示すウェルＷ全部のうち、
伝熱手段３２Ａが最外周の36個の温度を調節し、伝熱手
段３２Ｂが内側の60個の温度を調節する。
ルチェ素子３４Ａ，３４Ｂ, ヒートブロック１６Ａ，１
６Ｂ，放熱用ヒートシンク３６及び前述した温度コント
ローラによって構成されている。ペルチェ素子３４Ａは
マイクロプレートＭＰの外周側に八個配設され、ペルチ
ェ素子３４ＢはマイクロプレートＭＰの内側に二個配設
されている。つまり、図４に示すウェルＷ全部のうち、
伝熱手段３２Ａが最外周の36個の温度を調節し、伝熱手
段３２Ｂが内側の60個の温度を調節する。
【００２７】ペルチェ素子とは、例えばビスマス・テル
ル化物からなる多数のＮ型半導体及びＰ型半導体が電気
的には直列に，熱的には並列に接続されたものである。
ペルチェ素子３４Ａ，３４Ｂは、板状を呈し、上面はヒ
ートブロック１６Ａ，１６Ｂに接すると共に，下面は放
熱用ヒートシンク３６に接している。ペルチェ素子３４
Ａ，３４Ｂに直流電流を流すと、放熱用ヒートシンク３
６の熱が吸収され、その熱がヒートブロック１６Ａ，１
６Ｂへ放出されることにより、マイクロプレートＭＰが
加熱される。この直流電流の向きを逆にすれば、ヒート
ブロック１６Ａ，１６Ｂの熱が吸収され、その熱が放熱
用ヒートシンク３６へ放出されることにより、マイクロ
プレートＭＰが加冷される。
ル化物からなる多数のＮ型半導体及びＰ型半導体が電気
的には直列に，熱的には並列に接続されたものである。
ペルチェ素子３４Ａ，３４Ｂは、板状を呈し、上面はヒ
ートブロック１６Ａ，１６Ｂに接すると共に，下面は放
熱用ヒートシンク３６に接している。ペルチェ素子３４
Ａ，３４Ｂに直流電流を流すと、放熱用ヒートシンク３
６の熱が吸収され、その熱がヒートブロック１６Ａ，１
６Ｂへ放出されることにより、マイクロプレートＭＰが
加熱される。この直流電流の向きを逆にすれば、ヒート
ブロック１６Ａ，１６Ｂの熱が吸収され、その熱が放熱
用ヒートシンク３６へ放出されることにより、マイクロ
プレートＭＰが加冷される。
【００２８】このように、ペルチェ素子３４Ａ，３４Ｂ
は、加熱のみならず、加冷も電流を切換えるだけで簡単
に行える。したがって、急速な加熱をしてもオーバーシ
ュートが起こりそうな時に加冷することによってオーバ
ーシュートを抑えることが可能である。
は、加熱のみならず、加冷も電流を切換えるだけで簡単
に行える。したがって、急速な加熱をしてもオーバーシ
ュートが起こりそうな時に加冷することによってオーバ
ーシュートを抑えることが可能である。
【００２９】
【発明の効果】請求項１記載のマイクロプレートの温度
調節装置によれば、以下の効果を奏する。マイクロプレ
ートの外周側と内側とに別々に温度センサ及び伝熱手段
を設けたので、マイクロプレートの外周側と内側との温
度差を本質的になくすことができる。したがって、マイ
クロプレートの各ウェルにおける酵素免疫反応のバラツ
キを抑えることができる。
調節装置によれば、以下の効果を奏する。マイクロプレ
ートの外周側と内側とに別々に温度センサ及び伝熱手段
を設けたので、マイクロプレートの外周側と内側との温
度差を本質的になくすことができる。したがって、マイ
クロプレートの各ウェルにおける酵素免疫反応のバラツ
キを抑えることができる。
【００３０】請求項２記載のマイクロプレートの温度調
節装置によれば、上記効果に加え、以下の効果を奏す
る。伝熱手段をペルチェ素子を用いたものとしたので、
マイクロプレートを急速に加熱してもオーバシュートが
起こりそうな時に加冷することにより、オーバシュート
を抑えることができる。したがって、昇温時間を短縮で
きる。しかも、室温以下での温度調節も可能であるの
で、高機能化を図ることもできる。
節装置によれば、上記効果に加え、以下の効果を奏す
る。伝熱手段をペルチェ素子を用いたものとしたので、
マイクロプレートを急速に加熱してもオーバシュートが
起こりそうな時に加冷することにより、オーバシュート
を抑えることができる。したがって、昇温時間を短縮で
きる。しかも、室温以下での温度調節も可能であるの
で、高機能化を図ることもできる。
【図１】本発明に係るマイクロプレートの温度調節装置
の一実施例を示し、図１（１）は平面図、図１（２）は
図１（１）におけるＩ−Ｉ線縦断面図である。
の一実施例を示し、図１（１）は平面図、図１（２）は
図１（１）におけるＩ−Ｉ線縦断面図である。
【図２】図１の実施例における温度コントローラのブロ
ック図である。
ック図である。
【図３】本発明に係るマイクロプレートの温度調節装置
の他の実施例を示し、図３（１）は平面図、図３（２）
は図３（１）におけるIII-III 線縦断面図である。
の他の実施例を示し、図３（１）は平面図、図３（２）
は図３（１）におけるIII-III 線縦断面図である。
【図４】酵素免疫反応測定に用いられるマイクロプレー
トを示し、図４（１）は平面図、図４（２）は図４
（１）における正面図、図４（３）は図４（１）におけ
るIV−IV線縦断面図である。
トを示し、図４（１）は平面図、図４（２）は図４
（１）における正面図、図４（３）は図４（１）におけ
るIV−IV線縦断面図である。
１０Ａ，１０Ｂ 温度センサ １２Ａ，１２Ｂ，３２Ａ，３２Ｂ 伝熱手段 ３４Ａ，３４Ｂ ペルチェ素子 ＭＰ マイクロプレート
Claims (2)
- 【請求項１】 マイクロプレートの温度を測定する温度
センサと、この温度センサで測定された温度に基づき前
記マイクロプレートを一定の温度に保持する伝熱手段と
を備え、 前記温度センサ及び前記伝熱手段は、前記マイクロプレ
ートの外周側に少なくとも一組設けられ、前記マイクロ
プレートの内側に少なくとも一組設けられていることを
特徴とするマイクロプレートの温度調節装置。 - 【請求項２】 前記伝熱手段は、ペルチェ素子を用いた
ものであることを特徴とする請求項１記載のマイクロプ
レートの温度調節装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6079576A JPH07260648A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | マイクロプレートの温度調節装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6079576A JPH07260648A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | マイクロプレートの温度調節装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07260648A true JPH07260648A (ja) | 1995-10-13 |
Family
ID=13693827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6079576A Withdrawn JPH07260648A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | マイクロプレートの温度調節装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07260648A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11326157A (ja) * | 1998-05-09 | 1999-11-26 | Atom Kosan Kk | マルチウエルプレート用密閉装置 |
| US6626236B1 (en) * | 1999-03-24 | 2003-09-30 | Komatsu Ltd. | Substrate temperature control plate and substrate temperature control apparatus comprising same |
| WO2005068066A1 (ja) * | 2004-01-20 | 2005-07-28 | Sosho, Inc. | 温度調節装置およびそれを用いたタンパク質結晶化装置 |
| JP2009507237A (ja) * | 2005-09-06 | 2009-02-19 | フィンザイムズ・インストゥルーメンツ・オサケユキテュア | 最適化されたサンプルホルダ形状を有するサーマルサイクラー |
| CN106922567A (zh) * | 2017-04-06 | 2017-07-07 | 深圳市宇诺生物技术有限公司 | 一种自动均匀加热微板的孵育装置 |
-
1994
- 1994-03-25 JP JP6079576A patent/JPH07260648A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11326157A (ja) * | 1998-05-09 | 1999-11-26 | Atom Kosan Kk | マルチウエルプレート用密閉装置 |
| US6626236B1 (en) * | 1999-03-24 | 2003-09-30 | Komatsu Ltd. | Substrate temperature control plate and substrate temperature control apparatus comprising same |
| WO2005068066A1 (ja) * | 2004-01-20 | 2005-07-28 | Sosho, Inc. | 温度調節装置およびそれを用いたタンパク質結晶化装置 |
| JP2009507237A (ja) * | 2005-09-06 | 2009-02-19 | フィンザイムズ・インストゥルーメンツ・オサケユキテュア | 最適化されたサンプルホルダ形状を有するサーマルサイクラー |
| CN106922567A (zh) * | 2017-04-06 | 2017-07-07 | 深圳市宇诺生物技术有限公司 | 一种自动均匀加热微板的孵育装置 |
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