JPH07253516A - Optical waveguide expanded in mode field diameter and its production - Google Patents

Optical waveguide expanded in mode field diameter and its production

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JPH07253516A
JPH07253516A JP4367894A JP4367894A JPH07253516A JP H07253516 A JPH07253516 A JP H07253516A JP 4367894 A JP4367894 A JP 4367894A JP 4367894 A JP4367894 A JP 4367894A JP H07253516 A JPH07253516 A JP H07253516A
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optical
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field diameter
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Abstract

PURPOSE:To provide an optical waveguide expanded in a mode field diameter, good in optical coupling characteristic and low in loss and the same production. CONSTITUTION:A glass film for cores is formed on a quartz glass substrate 1. The film is patterned by photolithography and dry etching to the cores 2 of a prescribed size (stage 1). Next, the middle parts of the cores 2 on the substrate 1 are locally heated and melted by a CO2 laser beam 5 and are thereby deformed flat (stage 2). In the succession, the soot which constitutes a clad layer 6 is deposited on the quartz glass substrate 1 and is then vitrified by sintering (stage 3). The clad layer 6 is formed on the surface of the cores after the cores 2 are deformed by heating and, therefore, the mode field diameter of the optical waveguides is expanded without thermally deforming the clad layer 6. A slit 8 for cutting the cores 2 of the parts 4 irradiated with the laser is formed at the optical waveguide 7 with the clad (stage 4) and an optical element is inserted into the slit 8, by which the low-loss flush type optical parts are obtd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板上あるいは
Si基板上に形成される光導波路に関し、特に光結合特
性を改善するため局所的にモードフィールド径を拡大し
た光導波路及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical waveguide formed on a glass substrate or a Si substrate, and more particularly to an optical waveguide in which a mode field diameter is locally enlarged in order to improve optical coupling characteristics and a manufacturing method thereof. It is a thing.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ファイバ通信システムの高度化および
適用範囲の拡大を図るため、発光・受光素子、光ファイ
バ以外に、光方向性結合器、光スターカプラ、光合分波
器、光スイッチなどの光信号処理および制御機能を持っ
た光受動部品が必要とされている。
2. Description of the Related Art In order to improve the sophistication of optical fiber communication systems and expand the range of application, in addition to light emitting / receiving elements and optical fibers, optical directional couplers, optical star couplers, optical multiplexers / demultiplexers, optical switches, etc. Optical passive components with optical signal processing and control functions are needed.

【0003】光受動部品の形態は、バルク型、光ファイ
バ型および光導波路型に分類することができる。これら
の中で光導波路型部品は、小型化・経済化・機能の複合
化・集積化を最も期待できる部品であり、活発な開発が
進められている。
The form of the optical passive component can be classified into a bulk type, an optical fiber type and an optical waveguide type. Among them, the optical waveguide type component is the component which is most expected to be miniaturized, economically constructed, and has a composite / integrated function, and is under active development.

【0004】光導波路型部品の一つとして、光導波路に
スリットを加工形成し、そのスリットに光素子を挿入し
て構成される埋め込み型光部品の検討が進められてい
る。このような埋め込み型光部品では光導波路型部品の
性能を高めるだけでなく、光導波路単独では困難であっ
た機能(たとえばアイソレータなど)も付加することが
可能である。
As one of the optical waveguide type components, studies are being made on an embedded optical component which is formed by processing a slit in the optical waveguide and inserting an optical element into the slit. With such an embedded optical component, not only can the performance of the optical waveguide component be improved, but it is also possible to add a function (for example, an isolator) which was difficult with the optical waveguide alone.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】光導波路型部品の小型
化・多機能化を図るには、光導波路の比屈折率差Δを大
きくして光導波路の曲げ損失特性を良好とすることが重
要である。しかし、Δを大きくするとモードフィールド
径が小さくなるため、光導波路と光ファイバとのモード
フィールド径の不一致から接続損失が大きくなり、光導
波路の特性を外部に十分に引き出すことができないとい
う問題がある。その例を以下に示す。
In order to reduce the size and increase the number of functions of the optical waveguide type component, it is important to increase the relative refractive index difference Δ of the optical waveguide so that the bending loss characteristic of the optical waveguide is good. Is. However, if Δ is increased, the mode field diameter becomes smaller, so the connection loss increases due to the mismatch of the mode field diameters of the optical waveguide and the optical fiber, and there is a problem that the characteristics of the optical waveguide cannot be sufficiently drawn to the outside. . An example is shown below.

【0006】光導波路のモードフィールド径を 2ω1
し、光ファイバのモードフィールド径を 2ω2 としたと
き、モードフィールド径の不一致によって生じる光結合
損失ηは次式で表されることが知られている。
It is known that when the mode field diameter of the optical waveguide is 2ω 1 and the mode field diameter of the optical fiber is 2ω 2 , the optical coupling loss η caused by the mismatch of the mode field diameters is expressed by the following equation. There is.

【0007】 η=-20log( 2ω1 ω2 /( ω1 2 +ω2 2 ) ) (1) 一例として、 2ω1 が 7μmと10μmのときの光導波路
と光ファイバとの結合損失の計算結果を図1に示す。同
図より、光ファイバのモードフィールド径2ω2 が10μ
mの場合、 2ω1 が 7μmになると光結合損失は約 0.5
dBとなる。
Η = −20log (2ω 1 ω 2 / (ω 1 2 + ω 2 2 )) (1) As an example, the calculation result of the coupling loss between the optical waveguide and the optical fiber when 2ω 1 is 7 μm and 10 μm is shown. As shown in FIG. From the figure, the mode field diameter 2ω 2 of the optical fiber is 10μ.
When 2ω 1 is 7 μm, the optical coupling loss is about 0.5
It becomes dB.

【0008】一方、光導波路にスリットを加工形成し、
そのスリットに光素子を挿入固定してなる埋め込み型光
部品について検討したところ、スリットの幅を大きくす
ると回折損失が増加するため、実用可能となるスリット
幅はせいぜい30μm程度であることがわかった。このよ
うな狭いスリットでは、挿入できる光素子の種類がごく
限られてしまうという問題がある。
On the other hand, by forming a slit in the optical waveguide,
As a result of studying an embedded optical component in which an optical element is inserted and fixed in the slit, it was found that the practical slit width is at most about 30 μm because the diffraction loss increases as the slit width increases. With such a narrow slit, there is a problem that the types of optical elements that can be inserted are very limited.

【0009】これらを解決する方法として、熱拡散法に
よる光導波路の局所モードフィールド変換技術が報告さ
れている(柳澤他、1993年電子情報通信学会春季大会C
−240)。光導波路の任意の場所のモードフィールド
径を拡大することができれば、光ファイバとの結合損失
を低減できるし、スリットを形成したことで生じる回折
損失も低減できる。
As a method for solving these problems, a local mode field conversion technique for an optical waveguide by a thermal diffusion method has been reported (Yanagisawa et al., 1993 IEICE Spring Conference C).
-240). If the mode field diameter at any location of the optical waveguide can be increased, the coupling loss with the optical fiber can be reduced and the diffraction loss caused by forming the slit can be reduced.

【0010】しかし、この方法ではモードフィールド径
2ωを 5μmから10μmに拡大するだけでも、光導波
路を温度1300℃で10時間も加熱する必要があり、作業効
率上問題がある。
However, in this method, even if the mode field diameter 2ω is increased from 5 μm to 10 μm, it is necessary to heat the optical waveguide at a temperature of 1300 ° C. for 10 hours, which is a problem in working efficiency.

【0011】また、回折損失を低減するには、モードフ
ィールド径を20μm以上に拡大する必要があるため、こ
の方法で 2ωをさらに拡大させようとしたところ、クラ
ッドガラス層に変形が発生し光導波路の損失が増大して
しまうという問題が起こった。さらにこの方法では、光
導波路を拡大できる位置は光導波路の両端に限られてい
るため、スリットを形成する場所の光導波路のモードフ
ィールド径を拡大することはできないという問題があ
る。
Further, in order to reduce the diffraction loss, it is necessary to increase the mode field diameter to 20 μm or more. Therefore, when an attempt was made to further increase 2ω by this method, the cladding glass layer was deformed and the optical waveguide There was a problem that the loss of the company would increase. Further, in this method, since the position where the optical waveguide can be enlarged is limited to both ends of the optical waveguide, there is a problem that the mode field diameter of the optical waveguide at the place where the slit is formed cannot be enlarged.

【0012】本発明の目的は、前記した従来技術の欠点
を解消し、光結合特性が良好で、かつ低損失なモードフ
ィールド径拡大光導波路及びその製造方法を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and to provide a mode field diameter expanding optical waveguide having good optical coupling characteristics and low loss, and a method for manufacturing the same.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のモードフィールド径拡大光導波路において
は、基板上に形成されたコアの途中が局所的な加熱によ
って扁平に変形しており、その整形後コア表面にクラッ
ド層が形成されている。扁平に整形された部分のコア断
面の長短軸比は 0.12 未満とすることが望ましい。
In order to achieve the above object, in the mode field diameter enlarged optical waveguide of the present invention, the middle of the core formed on the substrate is deformed flat due to local heating, After shaping, a clad layer is formed on the surface of the core. The ratio of the major axis to the minor axis of the core cross section of the flatly shaped portion is preferably less than 0.12.

【0014】また、本発明のモードフィールド径拡大光
導波路の製造方法は、基板上にコアを形成し、このコア
の途中を局所的に加熱して扁平に変形させたのちコア表
面にクラッド層を形成するようにしたことを特徴とす
る。
Further, according to the method of manufacturing an optical waveguide with expanded mode field diameter of the present invention, a core is formed on a substrate, the middle of the core is locally heated to be deformed into a flat shape, and then a clad layer is formed on the surface of the core. It is characterized in that it is formed.

【0015】[0015]

【作用】基板上に形成されたコアの途中を局所的に加熱
して扁平に変形させた後にコア表面にクラッド層を形成
することで、クラッド層を熱変形させることなくモード
フィールド径を拡大することが可能となる。コアの途中
を局所的に加熱するための加熱源として、CO2 レーザ
やマイクロヒータなどを用いれば基板上の任意の場所を
加熱でき、また、加熱範囲も任意に制御することができ
る。
[Function] The mode field diameter is expanded without thermally deforming the clad layer by locally heating the middle part of the core formed on the substrate to deform it into a flat shape and then forming the clad layer on the core surface. It becomes possible. If a CO 2 laser, a micro-heater or the like is used as a heating source for locally heating the middle of the core, any place on the substrate can be heated and the heating range can be controlled arbitrarily.

【0016】導波路の途中に導波作用のない幅dのスリ
ットを形成したときに生じる回折損失は次式により得ら
れることが知られている。
It is known that the diffraction loss generated when a slit having a width d without a wave guiding action is formed in the middle of a waveguide is obtained by the following equation.

【0017】 η=1/(1+z2 ) (2) ただし、 z=λd/( 2πnω1 2 ) (3) ここで、λは波長、nはスリットに挿入する光素子の屈
折率、 2ω1 は光導波路のモードフィールド径である。
Η = 1 / (1 + z 2 ) (2) where z = λd / (2πnω 1 2 ) (3) where λ is the wavelength, n is the refractive index of the optical element inserted in the slit, and 2ω 1 is It is the mode field diameter of the optical waveguide.

【0018】図2に、 2ωをパラメ−タとしたときのス
リット幅に対する回折損失の計算値を示す(λ=1.55 μ
m,n=1.0)。同図より、 2ωが大きいほど回折損失が
小さくなることがわかる。
FIG. 2 shows the calculated value of the diffraction loss with respect to the slit width when 2ω is a parameter (λ = 1.55 μ
m, n = 1.0). From the figure, it can be seen that the larger 2ω is, the smaller the diffraction loss is.

【0019】図3に、コア寸法 8μm× 8μmの光導波
路を、コア断面積は不変(64μm2 )とし、形状だけ断
面扁平に変形させたときのモードフィールド形状の計算
結果を示す。計算には Marcatiliの理論を適用した。な
お、コアの比屈折率差は 0.3%とした。同図はモードフ
ィールドを四分割した1象限分を示す図であり、εはコ
アの長短軸比(ε =短軸径/長軸径)、aはモードフィ
ールドの長軸側の半径、bは短軸側の半径を示してい
る。同図より、コアの長短軸比εを小さくするとモード
フィールドの長軸側の径を大きくできることがわかる。
FIG. 3 shows the calculation result of the mode field shape when an optical waveguide having a core size of 8 μm × 8 μm has a core cross-sectional area unchanged (64 μm 2 ) and is deformed into a flat cross section. Marcatili's theory was applied to the calculation. The relative refractive index difference of the core was 0.3%. This figure is a diagram showing one quadrant of the mode field divided into four, where ε is the core long-short axis ratio (ε = short axis diameter / long axis diameter), a is the radius on the long axis side of the mode field, and b is The radius on the short axis side is shown. It can be seen from the figure that the diameter of the mode field on the major axis side can be increased by decreasing the major axis ratio ε of the core.

【0020】図4は、コアの長短軸比εとモードフィー
ルドの短軸側の半径bとの関係を詳しく示したものであ
る。同図より、ε<0.12にすることで、bも変形前より
大きくなることがわかる。
FIG. 4 shows in detail the relationship between the long-short axis ratio ε of the core and the radius b of the mode field on the short axis side. From the figure, it can be seen that when ε <0.12, b also becomes larger than before the deformation.

【0021】[0021]

【実施例】次に、本発明の実施例について図5を参照し
て説明する。同図には本発明の一実施例のモードフィー
ルド径拡大光導波路の製造工程の概略が示されている。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The figure shows the outline of the manufacturing process of the mode-field-diameter expanding optical waveguide of one embodiment of the present invention.

【0022】まず、石英ガラス基板1の上にコア用ガラ
ス膜(組成:TiO2 - SiO2 ,比屈折率差Δ =0.3
%)を形成し、この膜をフォトリソグラフィおよびドラ
イエッチングによって寸法 8μm× 8μmのコア2にパ
ターン化する(工程1)。この実施例のコアパターン
は、第1のポートP1からコア2内に波長1.31μmの光と
1.55μmの光を入射させたときに、第2のポートP2から
は1.55μmの光が、第3のポートP3からは1.31μmの光
が各々出射されるように設計された方向性結合器型の光
分波器3を基板1中央部に有するパターンである。次に
基板1上の第2のポートP2付近(スリットを形成する部
分)のコア2の途中を局所的にCO2 レーザ(炭酸ガス
レーザ)5で 5分間加熱した(工程2)。その結果レー
ザ照射部(加熱部)4のコア2が融けて水平方向は拡径
し垂直方向は縮径して、断面扁平に変形した。他の加熱
源としては、例えばマイクロヒータ、酸水素火炎ヒータ
などを用いることもできる。これらの加熱源を用いるこ
とで石英ガラス基板1上のいかなる場所も加熱すること
が可能である。また、加熱範囲も任意に制御可能であ
る。続いて、石英ガラス基板1上に火炎体積法によりク
ラッド層6となるスートを堆積させた後、焼結・ガラス
化させた(工程3)。このクラッド付き光導波路7に、
レーザ照射部4のコア2をほぼ垂直に切断する幅 100μ
mのスリット8を形成した(工程4)。このスリット8
の加工には、たとえばダイヤモンドソーによる機械切削
的な手法あるいは RIE(反応性イオンエッチング)など
の化学的な手法を用いることができる。スリット8と光
導波路の光軸との角度を変えることで反射特性を変える
ことも可能である。最後に、光導波路7の上記ポートP1
〜P3に光ファイバ10,11,12を融着接続してスリ
ット付きモードフィールド径拡大光導波路9を得た。ま
た比較のため、同一のコア寸法で、上記加熱処理を施さ
ない従来の方法でもスリット付き光導波路を作製した。
First, a core glass film (composition: TiO 2 -SiO 2) having a relative refractive index difference Δ = 0.3 is formed on a quartz glass substrate 1.
%), And the film is patterned by photolithography and dry etching into a core 2 having dimensions of 8 μm × 8 μm (step 1). The core pattern of this embodiment has a wavelength of 1.31 μm from the first port P1 to the core 2
Directional coupler type designed to emit 1.55 μm light from the second port P2 and 1.31 μm light from the third port P3 when 1.55 μm light is incident. This pattern has the optical demultiplexer 3 in the center of the substrate 1. Next, the middle of the core 2 in the vicinity of the second port P2 (portion where the slit is formed) on the substrate 1 was locally heated by a CO 2 laser (carbon dioxide gas laser) 5 for 5 minutes (step 2). As a result, the core 2 of the laser irradiation part (heating part) 4 was melted and expanded in the horizontal direction and contracted in the vertical direction to be deformed into a flat cross section. As another heating source, for example, a micro heater, an oxyhydrogen flame heater, or the like can be used. By using these heating sources, it is possible to heat any place on the quartz glass substrate 1. Also, the heating range can be controlled arbitrarily. Subsequently, a soot to be the cladding layer 6 was deposited on the quartz glass substrate 1 by the flame volume method, and then sintered and vitrified (step 3). In this optical waveguide with a clad 7,
Width to cut the core 2 of the laser irradiation part 4 almost vertically 100μ
m slits 8 were formed (step 4). This slit 8
For the processing, for example, a mechanical cutting method using a diamond saw or a chemical method such as RIE (reactive ion etching) can be used. It is also possible to change the reflection characteristics by changing the angle between the slit 8 and the optical axis of the optical waveguide. Finally, the port P1 of the optical waveguide 7
Optical fibers 10, 11 and 12 are fusion-spliced to P3 to obtain a slitted mode field diameter expanding optical waveguide 9. For comparison, a slitted optical waveguide having the same core size was also manufactured by the conventional method without the above heat treatment.

【0023】上記工程3の後、本実施例の光導波路の損
失を測定し、加熱処理をしない従来の光導波路と比較し
た。両者の損失差は 0.1dB以下と小さく、加熱処理に
よる増加損失はほとんどないことが確認できた。また、
光導波路を切断し、その部分のモードフィールド径をフ
ァーフィールドパターン法で測定したところ、レーザ照
射による加熱処理を処した部分のモードフィールド径
は、加熱処理していない部分に比べて長軸側は 3倍に、
短軸側は 1.4倍に拡大していた。
After the above step 3, the loss of the optical waveguide of this example was measured and compared with the conventional optical waveguide without heat treatment. It was confirmed that the loss difference between the two was as small as 0.1 dB or less, and there was almost no increase in loss due to heat treatment. Also,
When the optical waveguide was cut and the mode field diameter of that part was measured by the far field pattern method, the mode field diameter of the part that was heat-treated by laser irradiation was longer on the major axis side than the part that was not heat-treated. Three times,
The minor axis side was magnified 1.4 times.

【0024】この実施例では光導波路基板1に石英ガラ
スを用いた場合を示したが、基板1の材質をたとえばS
iあるいは多成分ガラスにした場合でも、本発明は適用
可能である。
In this embodiment, quartz glass is used for the optical waveguide substrate 1, but the material of the substrate 1 is, for example, S.
The present invention can be applied to the case of i or multi-component glass.

【0025】スリット加工形成後の本実施例の光導波路
と従来のスリット付き光導波路の挿入損失を比較したと
ころ、本実施例の光導波路は従来のスリット付き光導波
路よりも 2.5dB低損失であった。これはモードフィー
ルド径を拡大したことによる効果といえる。
Comparing the insertion loss of the optical waveguide of the present example and the conventional optical waveguide with the slit after forming the slits, the optical waveguide of the present example has a loss of 2.5 dB lower than that of the conventional optical waveguide with the slit. It was This can be said to be the effect of increasing the mode field diameter.

【0026】さらに、本実施例で作製したスリット付き
光導波路9のスリット8に1.31μm透過/1.55μm遮断
光フィルタ(厚さ90μm)を挿入して接着剤で固定し、
フィルタ埋め込み型分波器を作製した。1.31帯の透過損
失 1dB以下、アイソレ−ション50dB以上という特性
が得られた。従来の光導波路型分波器と比較すると、ア
イソレ−ションは20dB以上改善した。
Further, a 1.31 μm transmission / 1.55 μm blocking optical filter (thickness 90 μm) was inserted into the slit 8 of the slitted optical waveguide 9 produced in this example, and fixed with an adhesive.
A filter-embedded duplexer was manufactured. The transmission loss in the 1.31 band was 1 dB or less and the isolation was 50 dB or more. Compared with the conventional optical waveguide type demultiplexer, isolation was improved by 20 dB or more.

【0027】この実施例の他にも、スリットに挿入する
光素子を変えることによって、光減衰器、光分岐器、光
合波・分波器、光アイソレータ、光サーキュレータなど
を作製し、本発明がこれらにおいても有効であることが
確認されている。
In addition to this embodiment, an optical attenuator, an optical branching device, an optical multiplexer / demultiplexer, an optical isolator, an optical circulator, etc. are produced by changing the optical element to be inserted in the slit. It has been confirmed that these are also effective.

【0028】また、コア2の端部(ポートP1,P2,P3)を
加熱処理してそのモードフィールド径を拡大した光導波
路を作製し、光ファイバ10,11,12との結合特性
を評価したところ、接続損失が低減し、さらに光導波路
と光ファイバとの光軸ずれによる損失も低減するという
結果が得られた。
Further, the end portions (ports P1, P2, P3) of the core 2 were heat-treated to produce an optical waveguide having an expanded mode field diameter, and the coupling characteristics with the optical fibers 10, 11, 12 were evaluated. However, the result is that the connection loss is reduced and the loss due to the optical axis shift between the optical waveguide and the optical fiber is also reduced.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上要するに、本発明によれば以下のよ
うな効果が得られる。
In summary, according to the present invention, the following effects can be obtained.

【0030】(1)請求項1記載のモードフィールド径
拡大光導波路は、コアの上にクラッドを形成する前にコ
アの途中を扁平に変形させてモードフィールド径を拡大
しているので、従来のようにクラッド層が熱変形するこ
とがなく、伝送損失が極めて小さい。
(1) In the mode-field-diameter-increasing optical waveguide according to claim 1, the mode-field diameter is expanded by deforming the middle of the core into a flat shape before forming the cladding on the core. As described above, the cladding layer is not thermally deformed and the transmission loss is extremely small.

【0031】(2)請求項2記載のモードフィールド径
拡大光導波路は、扁平に変形した部分のコア断面の長短
軸比を 0.12 未満としたことにより、モードフィールド
の長軸側の径と短軸側の径が共に拡大するので、この部
分にスリットを形成することによって生じる回折損失を
極力抑え、このスリットに光素子を挿入して構成される
埋め込み型光部品の損失を低減できる。
(2) In the mode-field-diameter-enlarged optical waveguide of claim 2, the major-minor axis ratio of the core cross section of the flatly deformed portion is set to less than 0.12. Since the diameters on both sides increase, the diffraction loss caused by forming the slit in this portion can be suppressed as much as possible, and the loss of the embedded optical component configured by inserting the optical element into this slit can be reduced.

【0032】(3)請求項3記載のモードフィールド径
拡大光導波路の製造方法によれば、基板上にコアを形成
し、このコアの途中を局所的に加熱して扁平に変形させ
たのちコア表面にクラッド層を形成するようにしたの
で、クラッド層を熱変形させることなくコアのあらゆる
位置でモードフィールド径を拡大することができる。
(3) According to the method of manufacturing a mode field diameter enlarged optical waveguide of claim 3, a core is formed on a substrate, the middle of the core is locally heated to be deformed to a flat shape, and then the core is deformed. Since the clad layer is formed on the surface, the mode field diameter can be expanded at any position of the core without thermally deforming the clad layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】モードフィールド径不一致による接続損失の計
算結果の一例をグラフに表した図である。
FIG. 1 is a graph showing an example of a calculation result of connection loss due to mode field diameter mismatch.

【図2】モードフィールド径をパラメ−タとしてスリッ
ト幅と回折損失との関係を計算によって調べた結果の一
例をグラフに表した図である。
FIG. 2 is a graph showing an example of a result obtained by investigating a relationship between a slit width and a diffraction loss with a mode field diameter as a parameter.

【図3】コアの長短軸比を変えたときの短軸側モードフ
ィールド形状の変化を計算した結果の一例をグラフに表
した図である。
FIG. 3 is a graph showing an example of a result of calculation of change in mode field shape on the minor axis side when the major axis and minor axis ratios of the core are changed.

【図4】コアの長短軸比を変えたときの短軸側モードフ
ィールド径の変化を計算した結果の一例をグラフに表し
た図である。
FIG. 4 is a graph showing an example of the result of calculation of changes in mode field diameter on the minor axis side when the major axis and minor axis ratios of the core are changed.

【図5】本発明のモードフィールド径拡大光導波路の製
造方法を示す一連の工程図である。
FIG. 5 is a series of process charts showing a method for manufacturing a mode field diameter enlarged optical waveguide of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 コア 4 レーザ照射部(加熱部) 5 CO2 レーザ光(加熱手段) 6 クラッド層 7 光導波路 8 スリット1 Substrate 2 Core 4 Laser Irradiation Part (Heating Part) 5 CO 2 Laser Light (Heating Means) 6 Clad Layer 7 Optical Waveguide 8 Slit

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にコア及びそのコアを覆うクラッ
ドが形成された光導波路において、前記コアの途中が局
所的な加熱によって扁平に変形されていることを特徴と
するモードフィールド径拡大光導波路。
1. An optical waveguide in which a core and a clad covering the core are formed on a substrate, wherein the middle of the core is deformed to be flat by local heating. .
【請求項2】 扁平に変形した部分のコア断面の長短軸
比が 0.12 未満である請求項1記載のモードフィールド
径拡大光導波路。
2. The expanded mode field diameter optical waveguide according to claim 1, wherein the major-minor axis ratio of the core cross section of the flatly deformed portion is less than 0.12.
【請求項3】 基板上にコアを形成し、このコアの途中
を局所的に加熱して扁平に変形させたのちコア表面にク
ラッド層を形成するようにしたことを特徴とするモード
フィールド径拡大光導波路の製造方法。
3. A mode field diameter expansion, characterized in that a core is formed on a substrate, the middle of the core is locally heated to be deformed into a flat shape, and then a clad layer is formed on the surface of the core. Manufacturing method of optical waveguide.
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