JPH07248120A - 電磁誘導処理装置 - Google Patents

電磁誘導処理装置

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JPH07248120A
JPH07248120A JP4066694A JP4066694A JPH07248120A JP H07248120 A JPH07248120 A JP H07248120A JP 4066694 A JP4066694 A JP 4066694A JP 4066694 A JP4066694 A JP 4066694A JP H07248120 A JPH07248120 A JP H07248120A
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JP
Japan
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lamp
electromagnetic induction
electromagnetic
processing device
processed
Prior art date
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Pending
Application number
JP4066694A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Kimura
剛 木村
Katsuyuki Hosoya
勝幸 細谷
Toshio Sasamoto
敏雄 笹本
Mitsuo Tokuda
光雄 徳田
Kazuto Takada
和登 高田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP4066694A priority Critical patent/JPH07248120A/ja
Publication of JPH07248120A publication Critical patent/JPH07248120A/ja
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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)
  • Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】明るい照明のもとで被処理物を自然に近い状態
で観察できるようにするほか、被処理物の表面殺菌がで
きるようにする。 【構成】電磁誘導処理装置1の処理室2内に、電磁波発
生源3からの電磁波を利用し電磁誘導により発光する無
電極ランプ5−1、5−2を配置する。 【効果】電磁誘導処理中でも被処理物の処理状態が自然
に近い状態で観察できるため使い勝手が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電磁誘導処理装置、例え
ば、家庭用電子レンジのように電磁誘導により物質を加
熱処理する装置の処理室内の照明等の構成に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、主に家庭で使われている調理用電
子レンジでは調理中の食品の調理具合を観察する場合、
電磁波の発生を一旦停止して食品を直接見るか、図2に
示すように電磁波から遮蔽された電磁誘導処理室22の
外側に設置された電球25による照明で観察していた。
このため利便性が損なわれたり、自然に近い状態で食品
の処理状態を観察することができなかった。また、電球
付電子レンジの場合、電磁誘導があるため従来形の電球
を直接、調理室内に配置することはできず、調理室外の
電磁誘導の起こらない食品から離れた場所に設置せざる
を得ず、従って、調理中の食品を照明するには暗いと言
う難点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
調理中でも調理室内の食品の状態をより自然に近い状態
で観察できる電磁誘導処理装置を提供することである。
本発明の他の目的は、調理室内の照明とともに調理室内
の食品の殺菌効果を高めることができる電磁誘導処理装
置を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の電磁誘導処理装置は、電磁波発生源からの
電磁波を被処理物に照射を行う処理室をもつ電磁処理装
置において、上記電磁波により可視光、赤外線、紫外線
の少なくともいずれかを発生する無電極ランプを上記処
理室の内部に設置した。上記無電極ランプの好ましい態
様は、水銀ランプ、希ガスランプ又はメタルハライドラ
ンプを無電極で構成した無電極放電ランプである。ま
た、可視光を発生し照明用として使用するときは、無電
極ランプを蛍光ランプ、内部に電磁波によって発光する
フィラメントをもつランプとしてもよい。
【0005】
【作用】本発明の電磁誘導処理装置は、電磁波によって
発光する無電極ランプを使用するため、ランプ用の電源
配線を不要とし、処理室内にランプを配置できる。その
ため、発光を効率的に使用できる。発光を可視光として
照明用に使用するとき、明るさ、演色評価関数が実施例
に示すように高くとれる。発光を紫外線として殺菌用に
使用するとき、その殺菌効果を高める。またランプ設置
のために処理室外部に場所を設ける必要がない。さら
に、処理室内のランプ保持手段を着脱が容易な構成にす
ることによって、ランプの交換が簡単に行える。本発明
の電磁誘導処理装置の主な用途は調理用電子レンジであ
るが、それに限定されるものではない。
【0006】
【実施例】
<実施例1>図1は本発明による電磁誘導処理装置の一
実施例の構成を示す断面図である。電磁誘導処理装置の
本体1に内蔵された高周波発生器3から発生した2,4
50MHzの電磁波は電磁波導波管4を伝わって処理室
2の上部から電磁波のキャビティである処理室2に供給
される。処理室2内の壁面近くに無電極ランプ5−1、
5−2が保持手段8−1、8−2によって配置されてい
る。
【0007】本実施例では無電極ランプ5として管壁に
三波長蛍光体を塗布しアルゴンガスを130Paと若干の
Hgを封入した内径4mm長さ200mmの無電極ランプを
用いた。ランプ5の設置場所は電磁波導波管4と処理室
2の境界近傍の図示する2ヶ所に処理室2の壁面より5
mm離した場所にプラスチック部材からなる保持手段8−
1、8−2を用いて固定した。その結果、調理台上で約
400lxの明るさと、演色評価指数Ra=78を有する
照明光を得ることができた。
【0008】上記実施例は封入ガスにアルゴンと水銀を
用いた場合であるが、このほか、アルゴンガスとキセノ
ンガスを封入した蛍光ランプ場合でも照度、Raが若
干、低下するが同様の効果が得られた。
【0009】<実施例2>本発明による電磁誘導処理装
置の第2の実施例は、図1の無電極ランプにタングステ
ンフィラメントの電磁誘導加熱で発光させる白熱電球を
応用した。フィラメントに線径0.3mmφのタングステ
ン線をリング状にしたものを用いた。ランプ設置場所は
処理室奥壁面の上部で、上記リング状にしたタングステ
ン線が概略水平になるように配置した。2450MH
z、500Wの電磁波発生器3の出力で、明るさ150
lx、演色評価指数Ra=80を有する照明光を得ること
ができた。
【0010】<実施例3>本発明による電磁誘導処理装
置の第3の実施例は、図1の電磁誘導処理装置におい
て、石英製であるキセノン水銀ランプを図1中のランプ
5-2に並行して配置した。この結果、キセノン水銀ラ
ンプが紫外線を発光し、冷凍食品の半解凍状態でも食品
7の表面殺菌が可能となった。
【0011】<実施例4>本発明による電磁誘導処理装
置の第4の実施例は、図1の電磁誘導処理装置におい
て、ランプ発光管5全体を膜厚50μmの熱収縮性をも
つヒシチュ−ブで被覆した。その結果、処理室2への被
処理物の出し入れの際にランプ5−1、5−2に被処理
物をぶつけ、衝撃でランプ5が破壊してもガラス屑はヒ
シチュ−ブ内に留まり、被処理物7を汚すことはなかっ
た。
【0012】以上本発明の実施例について説明したが、
本発明は上記実施例に限定されるものではない。無電極
ランプとして赤外線発生するものを使用し、加熱効果を
高めたり、複数種の無電極ランプを同時に使用してもよ
い。さらに、電子レンジ以外にも工業用に用いられてい
る塗装乾燥や紙、木材、ゴム等の乾燥に用いられるマイ
クロ波加熱の装置にも適用される。
【0013】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の電磁誘導
処理装置は処理室内に各種ランプを設置するため、処理
中の被加工物を従来より格段に明るく観察できること
や、半解凍を食品の殺菌が可能となるため、利用者の利
便性、使い易さが向上する効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による電磁誘導処理装置の一実施例の構
成を示す図
【図2】従来の電磁誘導処理装置の構成を示す図
【符号の説明】
1-----本体、 2-----処理室、 3-----電磁波発生器、 4-----導波管 5-----無電極ランプ、 6-----調理台、 7-----被処理物、 8-----ランプ保持手段。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01J 65/04 B H05B 6/02 B H01J 61/50 C F L (72)発明者 徳田 光雄 東京都青梅市藤橋888番地 株式会社日立 製作所リビング機器事業部内 (72)発明者 高田 和登 東京都青梅市藤橋888番地 株式会社日立 製作所リビング機器事業部内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電磁波発生器からの電磁波を被処理物に照
    射を行う処理室をもつ電磁処理装置において、該電磁波
    により発光し、該発光を被処理物に照射するランプが該
    処理室の内部に設置されたことを特徴とする電磁誘導処
    理装置。
  2. 【請求項2】請求項1項記載の電磁誘導処理装置におい
    て、該ランプが無電極放電ランプであることを特徴とす
    る電磁誘導処理装置。
  3. 【請求項3】請求項2記載の電磁誘導処理装置におい
    て、該ランプが水銀ランプ、希ガスランプ又はメタルハ
    ライドランプであることを特徴とする電磁誘導処理装
    置。
  4. 【請求項4】請求項1又は2項記載の電磁誘導処理装置
    において、該ランプが発光する光が紫外線であることを
    特徴とする電磁誘導処理装置。
  5. 【請求項5】請求項1又は2項記載の電磁誘導処理装置
    において、該ランプが発光する光が赤外線であることを
    特徴とする電磁誘導処理装置。
  6. 【請求項6】請求項1又は2項記載の電磁誘導処理装置
    において、該ランプが発光する光が可視光線であること
    を特徴とする電磁誘導処理装置。
  7. 【請求項7】請求項6記載の電磁誘導処理装置におい
    て、該ランプが蛍光ランプであることを特徴とする電磁
    誘導処理装置。
  8. 【請求項8】請求項4又は6記載の電磁誘導処理装置に
    おいて、該ランプがフィラメントの電磁誘導加熱により
    発光するランプであることを特徴とする電磁誘導処理装
    置。
  9. 【請求項9】請求項1乃至8記載のいずれかの電磁誘導
    処理装置において、該ランプが防飛形ランプ又は防飛チ
    ューブがその周囲に有するランプであることを特徴とす
    る電磁誘導処理装置。
  10. 【請求項10】請求項1乃至9記載のいずれかの電磁誘
    導処理装置において、該被処理物が食物であることを特
    徴とする調理用電子レンジ。
  11. 【請求項11】請求項1乃至9記載のいずれかの電磁誘
    導処理装置の処理室内に取付けるための手段を該ランプ
    が具備したことを特徴とするランプ。
  12. 【請求項12】電磁波発生源からの電磁波を被処理物に
    照射を行う処理室をもつ電磁処理装置において、電磁波
    により発光し、被処理物に照射するランプを保持するた
    めの保持手段が該処理室の内部に設置されたことを特徴
    とする電磁誘導処理装置。
JP4066694A 1994-03-11 1994-03-11 電磁誘導処理装置 Pending JPH07248120A (ja)

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JP4066694A JPH07248120A (ja) 1994-03-11 1994-03-11 電磁誘導処理装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010109922A (ko) * 2000-06-05 2001-12-12 김경모 전자 렌지용 램프 및 그 제조방법
WO2003033036A1 (fr) * 2001-10-12 2003-04-24 Matsushita Electric Works, Ltd. Sterilisateur faisant appel a l'application de micro-ondes
KR20200095893A (ko) * 2019-02-01 2020-08-11 삼성전자주식회사 오븐 및 그의 조리 방법

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