JPH07243834A - 電子ビーム検査方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、試料に対する検査を高速かつ高精度
に行う。 【構成】電子ビームのビーム形状を第１及び第２のアパ
ーチャ(10,11) により矩形に形成し、これを試料(15)に
対して走査し、このときの２次電子、反射電子を検出し
て試料のパターン幅を求める。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウエハ等
の試料上に形成されたパターン幅を検査する電子ビーム
検査方法及びその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】かかる電子ビーム検査装置は、電子銃か
ら放出された電子ビームを走査コイルにより走査し、こ
の後に対物レンズにより集束して半導体ウエハ等の試料
上に照射し、この試料上の電子ビーム走査時に発生する
荷電粒子（２次電子、反射電子）を検出して信号処理す
ることにより、例えば試料に形成されたパターンエッジ
を判断してパターン幅を求めるものとなっている。

【０００３】このような装置では、測定精度の向上、及
び測定の高速化を図るために次の方法が行なわれてい
る。すなわち、所望の検査領域に対して電子ビームを繰
り返し走査し、これら走査で得られた２次電子に応じた
電気信号を積算してＳＮ比を向上させる方法、ＬａＢ₆
の電子銃から輝度の高い電界放出型電子銃に代えて性能
アップを図る方法が行なわれている。

【０００４】又、測定の高速化を図るために、ビーム調
整の自動化や測定パターンの自動認識等の開発が広く行
なわれているのが現状である。しかしながら、電子ビー
ムを繰り返し試料のパターンに対して走査する方法で
は、測定に時間がかかる。そのうえ、試料上のレジスト
等の絶縁物の場合、電子が帯電したり、又この帯電によ
り入射電子ビームの軌道が曲ることによる測定精度の低
下、さらに材料の汚染によりデバイス特性に悪影響を与
える虞がある。

【０００５】又、電子ビームは、図８に示すように偏向
させて半導体ウエハ等の試料に照射しているので、この
偏向歪みを避けることはできない。このため、通常パタ
ーン幅測定は、試料上において電子ビームの偏向量の少
ない、入射電子ビームの直下付近の小さい領域を利用し
て検査を行っている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】以上のように電子ビー
ムを繰り返し試料のパターンに対して走査するので、測
定に時間がかかる。又、電子ビームを偏向させて試料に
照射するので、偏向歪みが生じる。そこで本発明は、試
料に対する検査を高速かつ高精度にできる電子ビーム検
査方法及びその装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１によれば、電子
ビームをパターンの形成された試料に走査し、このとき
この試料に発生する荷電粒子を検出して試料に対する検
査を行う電子ビーム検査方法において、電子ビームのビ
ーム形状を矩形に形成して上記目的を達成しようとする
電子ビーム検査方法である。

【０００８】請求項２によれば、電子ビームのビーム形
状を円形に形成してパターンに走査し、このとき試料に
発生する荷電粒子を検出してパターンに対する電子ビー
ムの走査角度を求め、この走査角度をパターンに対して
垂直方向に補正するようにしている。

【０００９】請求項３によれば、電子ビームをパターン
の形成された試料に走査し、このときこの試料に発生す
る荷電粒子を検出して試料に対する検査を行う電子ビー
ム検査装置において、電子ビームのビーム形状を矩形に
形成するアパーチャを備えて上記目的を達成しようとす
る電子ビーム検査装置である。

【００１０】請求項４によれば、電子ビームをパターン
の形成された試料に走査し、このときこの試料に発生す
る荷電粒子を検出して試料に対する検査を行う電子ビー
ム検査装置において、電子ビームのビーム形状を円形又
は矩形に形成するアパーチャと、荷電粒子を検出する電
子検出器と、円形ビーム形状の電子ビームをパターンに
走査したときの電子検出器の出力信号に基づいてパター
ンに対する電子ビームの走査角度を求める走査角度演算
手段と、この電子ビームの走査角度をパターンに対して
垂直方向に補正する走査補正手段と、電子ビーム走査方
向の補正後に矩形ビーム形状の電子ビームをパターンに
走査したときの電子検出器の出力信号に基づいてパター
ンに対する検査を行う検査手段と、を備えて上記目的を
達成しようとする電子ビーム検査装置である。

【００１１】請求項５によれば、電子ビームをパターン
の形成された試料に走査し、このときこの試料に発生す
る荷電粒子を検出して試料に対する検査を行う電子ビー
ム検査装置において、電子ビームのビーム形状を矩形に
形成するアパーチャと、矩形ビーム形状の電子ビームを
パターンに対して垂直方向及びこのパターン方向に沿っ
て走査する走査制御手段と、荷電粒子を検出する電子検
出器と、電子ビームをパターンに対して垂直方向に走査
したときの電子検出器の出力信号を積算するとともに電
子ビームをパターン方向に沿って走査したときの電子検
出器の出力信号を積算した信号に基づいて試料に対する
検査を行う検査手段と、を備えて上記目的を達成しよう
とする電子ビーム検査装置である。

【００１２】

【作用】請求項１によれば、電子ビームのビーム形状を
矩形に形成し、これを試料に対して走査し、このとき試
料に発生する荷電粒子を検出して試料に対する検査を行
う。これにより、ＳＮ比が向上し、かつ繰り返して電子
ビームを走査する必要がなくなり検査時間が短縮され
る。

【００１３】この場合、請求項２によれば、電子ビーム
を試料に走査する前に、電子ビームのビーム形状を円形
に形成してパターンに走査し、このとき試料に発生する
荷電粒子を検出してパターンに対する電子ビームの走査
角度を求め、この走査角度をパターンに対して垂直方向
に補正するようにしている。

【００１４】請求項３によれば、電子ビームをアパーチ
ャによって矩形のビーム形状に形成し、このビームを試
料に対して走査し、このときこの試料に発生する荷電粒
子を検出して試料に対する検査を行う。

【００１５】請求項４によれば、電子ビームのビーム形
状をアパーチャにより円形に形成し、この電子ビームを
パターンに走査したときの電子検出器の出力信号に基づ
いて走査角度演算手段によりパターンに対する電子ビー
ムの走査角度を求め、この電子ビームの走査角度を走査
補正手段によりパターンに対して垂直方向に補正する。
そして、電子ビームのビーム形状をアパーチャにより矩
形に形成し、この電子ビームをパターンに走査したとき
の電子検出器の出力信号に基づいて検査手段によりパタ
ーンに対する検査を行う。

【００１６】請求項５によれば、電子ビームのビーム形
状をアパーチャにより矩形に形成し、この電子ビームを
走査制御手段によりパターンに対して垂直方向及びこの
パターン方向に沿ってそれぞれ走査する。そして、電子
ビームをパターンに対して垂直方向に走査したとき、及
びパターン方向に沿って走査したときの電子検出器の出
力信号をそれぞれ積算した信号に基づいて試料に対する
検査を行う。

【００１７】

【実施例】

(1) 以下、本発明の第１の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は電子ビーム検査装置を走査型電子顕
微鏡に適用した場合の構成図である。顕微鏡本体１の上
部には、電子銃２が設けられている。

【００１８】又、この顕微鏡本体１内には、電子銃２か
ら放射される電子ビームの進行方向に沿って、第１の電
子レンズ３、第１の偏向器４、第２の電子レンズ５、第
２の偏向器６、対物レンズ７が配置されている。

【００１９】これら各レンズ３、５、７及び各偏向器
４、６は、それぞれ電源８を介して走査制御部９により
励磁電流が制御されて電子ビームのビーム形状、照射領
域等が調整されるものとなっている。

【００２０】第１の電子レンズ３と第１の偏向器４との
間には第１のアパーチャ１０が配置されると共に、第２
の電子レンズ５と第２の偏向器６との間には第２のアパ
ーチャ１１が配置されている。第１のアパーチャ１０は
円形又は矩形に形成されたものであり、第２のアパーチ
ャ１１は矩形に形成されたものである。

【００２１】又、顕微鏡本体１の下部には試料室１２が
形成され、その内部にＸＹステージ１３が設けられてい
る。このＸＹステージ１３上には、微小送り機構１４が
搭載されている。この微小送り機構１４は、例えば圧電
素子を用い、この圧電素子に対する印加電圧を制御して
微小変位する機能を有している。

【００２２】そして、この微小送り機構１４上に半導体
ウエハ等の試料１５が載置されている。なお、試料１５
の移動量は、図示しない位置測定器、例えばレーザ干渉
測長器により測定され、これが演算制御部２０に送られ
るようになっている。

【００２３】又、試料室１２には、図示しないが真空排
気系が備えられて真空引きされるようになっている。微
小送り機構１４の斜め上方、及び第２の偏向器６と対物
レンズ７との間には、それぞれ電子検出器１６〜１８が
設けられている。これら電子検出器１６〜１８は、試料
１５に電子ビームが照射されたときに発生する荷電粒子
（２次電子、反射電子）を検出してその電気信号を出力
するものである。

【００２４】これら電子検出器１６〜１８は、増幅部１
９を介して演算制御部２０に接続されている。この演算
制御部２０は、円形ビーム形状の電子ビームを試料１５
に走査したときの各電子検出器１６〜１８の出力信号に
基づいて試料１５に形成されたいるパターンに対する電
子ビームの走査角度を求める走査角度演算手段としての
機能を有している。

【００２５】又、この演算制御部２０は、電子ビームの
走査方向を試料１５上のパターンに対して垂直方向に補
正する補正信号を走査制御部９に送る走査補正手段とし
ての機能を有している。

【００２６】又、演算制御部２０は、電子ビーム走査方
向の補正後、矩形ビーム形状の電子ビームを試料１５上
のパターンに走査したときの各電子検出器１６〜１８の
出力信号に基づいてパターンに対するパターン幅検査を
行う検査手段としての機能を有している。

【００２７】又、演算制御部２０は、ＸＹステージ１３
に移動制御信号を送出して試料１５を電子ビームの照射
位置に位置決めする機能、及び微小送り機構１４に微小
変位信号を送出して試料１５をＸＹ平面上に微小移動さ
せる機能を有している。

【００２８】走査制御部９は、電子ビーム走査方向の補
正信号を受けて電源８から第２の偏向器６に供給する励
磁電流を制御して電子ビームの偏向量を調整する機能を
有している。

【００２９】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。試料室１２が真空排気系により真空引き
された後、試料１５はＸＹステージ１３の微小送り機構
１４上に載置されて試料室１２内に搬入される。

【００３０】又、演算制御部２０は、図示しないＣＡＤ
から試料１５における測定位置、測定パターンの形状等
のデータを読み込み、このデータに基づいて電子ビーム
が試料１５上の所望パターンに照射されるよう位置決め
の移動制御信号をＸＹステージ１３に対して送出する。
これにより、ＸＹステージ１３は、移動して試料１５を
位置決めする。

【００３１】この状態に、電子銃２に対して電源８から
所定の加速電圧が印加されると、電子銃２から電子ビー
ムが放出される。これと共に第１の電子レンズ３、第１
の偏向器４、第２の電子レンズ５、第２の偏向器６、及
び対物レンズ７に対して電源８から励磁電流が供給され
てそれぞれ電磁界が生じる。

【００３２】これにより電子ビームは、電子レンズ３に
より均一電子ビームとなり、第１のアパーチャ１０によ
って円形のビーム形状（直径数ｎｍ程度）に形成され
る。なお、このときは、第１のアパーチャ１０のみで電
子ビームのビーム形状が円形に形成される。

【００３３】この電子ビームは、第２の偏向器６により
偏向され、次に対物レンズ７により集束されて試料１５
上に走査される。この場合、電子ビームの走査は、図２
に示すように所定間隔ｄをおいて複数箇所行われる。な
お、１５ａは試料１５上のパターンである。

【００３４】この電子ビーム走査により試料１５には、
荷電粒子である２次電子、反射電子が発生する。これら
２次電子、反射電子は、各電子検出器１６〜１８により
検出され、その荷電粒子量に応じた各電気信号をそれぞ
れ出力する。これら電気信号は、増幅部１９を通して演
算制御部２０に送られる。

【００３５】この演算制御部２０は、各電子検出器１６
〜１８からの電気信号に基づいてパターン１５ａのエッ
ジ部のずれを求める。すなわち、図３に示すように各走
査「１」、「２」の出力波形においてピーク部分がパタ
ーン１５ａのエッジ部分に相当する。従って、これらピ
ーク部分からずれδｗが求められる。

【００３６】演算制御部２０は、このずれδｗから電子
ビームとパターン１５ａとの角度を求め、電子ビームの
走査角度をパターン１５ａに対して垂直方向に補正する
補正信号を作成して走査制御部９に送る。これにより走
査制御部９は、第２の偏向器６に対する励磁電流を補正
する。

【００３７】次に第１及び第２のアパーチャ１０、１１
は、共に矩形形状が用いられる。電子銃２から放出され
た電子ビームは、第１のアパーチャ１０により矩形に形
成され、さらに第２のアパーチャ１１により縦長の矩形
ビームに形成される。この場合、矩形ビームのビーム幅
は、可能な限り細い、例えば数ｎｍ程度に形成されて測
定精度を高くしている。さらに、この矩形ビームは、第
１の偏向器４によりパターン１５ａの形成方向に対して
平行に偏向される。

【００３８】この矩形の電子ビームは、第２の偏向器６
により偏向され、次に対物レンズ７により集束されて試
料１５上に走査される。図４はこのときの電子ビームの
走査を示しており、縦長の電子ビームがパターン１５ａ
に対して垂直方向に走査される。

【００３９】この電子ビーム走査により試料１５には、
上記同様に２次電子、反射電子が発生する。これら２次
電子、反射電子は、各電子検出器１６〜１８により検出
され、その荷電粒子量に応じた各電気信号をそれぞれ出
力する。これら電気信号は、増幅部１９を通して演算制
御部２０に送られる。

【００４０】この演算制御部２０は、各電子検出器１６
〜１８からの電気信号を信号処理し、その出力波形の各
ピーク位置からパターン幅を求める。一方、この装置で
は、測定するパターンに応じて電子ビームのビーム形状
を矩形又は円形に形成する。

【００４１】例えば、パターン１５ａのエッジ部は、マ
クロ的に見ると直線状であるが、ミクロ的に見ると図５
に示すように凹凸に形成されている。従って、パターン
１５ａに対してよりミクロ的な検査が必要とされる場
合、電子ビームは、第１のアパーチャ１０のみによって
円形のビーム形状（直径数ｎｍ程度）に形成される。

【００４２】この場合も、電子ビームの走査角度がパタ
ーン１５ａに対して垂直方向となるように補正され、こ
の後に電子ビームがパターン１５ａに走査される。この
とき試料１５に発生する２次電子、反射電子が各電子検
出器１６〜１８により検出され、その荷電粒子量に応じ
た各電気信号がそれぞれ演算制御部２０に送られる。

【００４３】この演算制御部２０は、これら電子検出器
１６〜１８からの電気信号を信号処理し、その出力波形
の各ピーク位置からパターン幅を求める。又、この装置
は、円形ビーム形状の電子ビームを走査せずに固定し、
かつ微小送り機構１４を微小変位させて検査を行う。

【００４４】すなわち、電子ビームは、第１のアパーチ
ャ１０のみによって円形のビーム形状（直径数ｎｍ程
度）に形成され、対物レンズ７により集束されて試料１
５の面に対して垂直方向に照射される。

【００４５】この状態に、演算制御部２０は、試料１５
の測定位置、測定パターンの形状等のデータに基づい
て、パターン１５ａに電子ビームを走査させる微小変位
信号を微小送り機構１４に送出する。

【００４６】これにより、試料１５は微小移動し、電子
ビームがパターン１５ａに対して走査されると同等とな
る。従って、このとき試料１５に発生する２次電子、反
射電子が各電子検出器１６〜１８により検出され、演算
制御部２０によりパターン１５ａのパターン幅が求めら
れる。

【００４７】このように上記第１の実施例においては、
電子ビームのビーム形状を矩形に形成し、これを試料１
５に対して走査し、このときの２次電子、反射電子を検
出して試料１５のパターン幅を求めるようにしたので、
ビームスポットの電子ビームを複数回走査させることな
く、矩形ビームを走査させるだけで短時間で走査を行っ
て検査時間を短縮できる。又、ＳＮ比を向上できる。

【００４８】又、電子ビームを試料１５に走査する前
に、パターン１５ａに対する電子ビームの走査角度をパ
ターン１５ａに対して垂直方向に補正するので、矩形の
電子ビームであってもパターン１５ａのエッジ部を確実
に検出することができ、高精度にパターン幅を求めるこ
とができる。

【００４９】又、電子ビームを走査させずに微小送り機
構１４を変位させてパターン幅を求めるので、電子ビー
ムを偏向させることによる偏向歪み、測定誤差を発生さ
せずに精度高くパターン幅を求めることができる。

【００５０】又、電子ビームのビーム形状を円形又は矩
形に任意に形成できるので、パターン形状や測定の目的
に応じてビーム形状を変更して測定ができる。 (2) 次に本発明の第２の実施例について説明する。ここ
では図１を参照し、その機能の異なる部分について説明
する。

【００５１】走査制御部９は、矩形ビーム形状の電子ビ
ームをパターン１５ａに対して垂直方向及びこのパター
ン方向に沿って走査させるように電源８から第２の偏向
器６に供給する励磁電流を制御する機能を有している。

【００５２】演算制御部２０は、電子ビームをパターン
１５ａに対して垂直方向に走査したときの各電子検出器
１６〜１８の出力信号を積算するとともに電子ビームを
パターン１５ａ方向に沿って走査したときの各電子検出
器１６〜１８の出力信号を積算し、かつこれら積算信号
に基づいて試料１５に対する欠陥検査を行う機能を有し
ている。

【００５３】このような構成であれば、試料室１２が真
空引きされた後、試料１５がこの試料室１２内に搬入さ
れる。一方、演算制御部２０は、ＣＡＤから試料１５に
おける測定位置、測定パターンの形状等のデータを読み
込み、このデータに基づいて電子ビームが所望パターン
に照射されるよう位置決めの処理を行う。

【００５４】この状態に、電子銃２から電子ビームが放
出されると、この電子ビームは、第１のアパーチャ１０
によって円形のビーム形状に形成され、さらに第２の偏
向器６により偏向され、次に対物レンズ７により集束さ
れて試料１５上に複数回走査される。

【００５５】そして、試料１５から発生する２次電子、
反射電子が各電子検出器１６〜１８より検出されると、
演算制御部２０は、電子ビームとパターン１５ａとの角
度を求め、電子ビームの走査角度をパターン１５ａに対
して垂直方向に補正する処理を行う。

【００５６】次に第１及び第２のアパーチャ１０、１１
は、共に矩形形状が用いられる。電子銃２から放出され
た電子ビームは、第１のアパーチャ１０により矩形に形
成され、さらに第２のアパーチャ１１により縦長の矩形
ビーム（ビーム幅数ｎｍ程度）に形成され、さらに第１
の偏向器４によりパターン１５ａの形成方向に対して平
行に偏向される。

【００５７】この矩形の電子ビームは、第２の偏向器６
により偏向され、次に対物レンズ７により集束されて試
料１５上に走査される。図７はこのときの電子ビームの
走査を示しており、縦長の電子ビームがパターン１５ａ
に対して垂直方向（ｘ方向）に走査される。

【００５８】この電子ビーム走査により試料１５には、
２次電子、反射電子が発生し、これら２次電子、反射電
子が各電子検出器１６〜１８により検出される。次に電
子ビームは、第１の偏向器４によりパターン１５ａの形
成方向に対して垂直（ｙ方向）に偏向され、かつ長手方
向にさらに長く形成される。

【００５９】この矩形の電子ビームは、第２の偏向器６
により偏向され、次に対物レンズ７により集束されて試
料１５上に走査され、図７に示すようにパターン１５ａ
の形成方向に対して走査される。

【００６０】このときに試料１５に発生する２次電子、
反射電子は、各電子検出器１６〜１８により検出され
る。演算制御部２０は、電子ビームをパターン１５ａに
対して垂直方向に走査したときの各電子検出器１６〜１
８の出力信号を積算し、かつ電子ビームをパターン１５
ａ方向に沿って走査したときの各電子検出器１６〜１８
の出力信号を積算してそれぞれの波形信号を得る。

【００６１】これらｘ及びｙ方向の各電子ビーム走査に
より、パターン１５ａが単純パターンであれば、その波
形信号は一定値を示すが、パターン欠けやごみ２１が存
在すると、波形信号に特異点２２が現れる。

【００６２】演算制御部２０は、各波形信号に特異点２
２が現れれば、試料１５にパターン欠けやごみ２１が存
在すると判断し、ＣＡＤデータからその位置を認識し、
かつＣＡＤに欠陥データとして送る。

【００６３】又、演算制御部２０は、各波形信号をそれ
ぞれ所定のしきい値で整形し、パターン幅を求める。こ
のように上記第２の実施例によれば、高速にかつ高精度
にパターン幅を求めることができると共に試料１５上の
パターン欠けやごみ２１を検出することができる。

【００６４】

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、試
料に対する検査を高速かつ高精度にできる電子ビーム検
査方法及びその装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる電子ビーム検査装置の第１の実
施例を示す構成図。

【図２】電子ビーム走査角度の補正作用を示す図。

【図３】電子ビーム走査角度の補正時の波形信号を示す
図。

【図４】矩形の電子ビーム走査を示す図。

【図５】円形の電子ビーム走査を示す図。

【図６】微小送り機構の変位を示す図。

【図７】本発明に係わる電子ビーム検査装置の第２の実
施例を示す構成図。

【図８】従来の電子ビーム走査を示す図。

【符号の説明】

１…顕微鏡本体、２…電子銃、３…第１の電子レンズ、
４…第１の偏向器、５…第２の電子レンズ、６…第２の
偏向器、７…対物レンズ、９…走査制御部、１０…第１
のアパーチャ、１１…第２のアパーチャ、１３…ＸＹス
テージ、１４…微小送り機構、１５…試料、１６〜１８
…電子検出器、２０…演算制御部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福留 裕二 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術研究所内 (72)発明者 橋本 進 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術研究所内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子ビームをパターンの形成された試料
   に走査し、このときこの試料に発生する荷電粒子を検出
   して前記試料に対する検査を行う電子ビーム検査方法に
   おいて、 前記電子ビームのビーム形状を矩形に形成することを特
   徴とする電子ビーム検査方法。
2. 【請求項２】 電子ビームのビーム形状を円形に形成し
   てパターンに走査し、このとき試料に発生する荷電粒子
   を検出して前記パターンに対する前記電子ビームの走査
   角度を求め、この走査角度を前記パターンに対して垂直
   方向に補正することを特徴とする請求項１記載の電子ビ
   ーム検査方法。
3. 【請求項３】 電子ビームをパターンの形成された試料
   に走査し、このときこの試料に発生する荷電粒子を検出
   して前記試料に対する検査を行う電子ビーム検査装置に
   おいて、 前記電子ビームのビーム形状を矩形に形成するアパーチ
   ャを備えたことを特徴とする電子ビーム検査装置。
4. 【請求項４】 電子ビームをパターンの形成された試料
   に走査し、このときこの試料に発生する荷電粒子を検出
   して前記試料に対する検査を行う電子ビーム検査装置に
   おいて、 前記電子ビームのビーム形状を円形又は矩形に形成する
   アパーチャと、 前記荷電粒子を検出する電子検出器と、 円形ビーム形状の前記電子ビームを前記パターンに走査
   したときの前記電子検出器の出力信号に基づいて前記パ
   ターンに対する前記電子ビームの走査角度を求める走査
   角度演算手段と、 この電子ビームの走査角度を前記パターンに対して垂直
   方向に補正する走査補正手段と、 前記電子ビーム走査方向の補正後に前記矩形ビーム形状
   の電子ビームを前記パターンに走査したときの前記電子
   検出器の出力信号に基づいて前記パターンに対する検査
   を行う検査手段と、を具備したことを特徴とする電子ビ
   ーム検査装置。
5. 【請求項５】 電子ビームをパターンの形成された試料
   に走査し、このときこの試料に発生する荷電粒子を検出
   して前記試料に対する検査を行う電子ビーム検査装置に
   おいて、 前記電子ビームのビーム形状を矩形に形成するアパーチ
   ャと、 前記矩形ビーム形状の電子ビームを前記パターンに対し
   て垂直方向及びこのパターン方向に沿って走査する走査
   制御手段と、 前記荷電粒子を検出する電子検出器と、 前記電子ビームを前記パターンに対して垂直方向に走査
   したときの前記電子検出器の出力信号を積算するととも
   に前記電子ビームを前記パターン方向に沿って走査した
   ときの前記電子検出器の出力信号を積算した信号に基づ
   いて前記試料に対する検査を行う検査手段と、を具備し
   たことを特徴とする電子ビーム検査装置。