JPH07242720A - ポリ(n,n′−ジアシルウレア)及びその製造法 - Google Patents

ポリ(n,n′−ジアシルウレア)及びその製造法

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JPH07242720A
JPH07242720A JP6056822A JP5682294A JPH07242720A JP H07242720 A JPH07242720 A JP H07242720A JP 6056822 A JP6056822 A JP 6056822A JP 5682294 A JP5682294 A JP 5682294A JP H07242720 A JPH07242720 A JP H07242720A
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JP
Japan
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substituted
unsubstituted
group
poly
diacylurea
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JP6056822A
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English (en)
Inventor
Masami Kanamaru
正実 金丸
Takeshi Endo
剛 遠藤
Toshikazu Takada
十志和 高田
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 まだ報告されていない新規なポリマーである
ポリ(N,N′−ジアシルウレア)を提供するともに、
その好適な製造方法を提供する。 【構成】 下記一般式[I] 【化1】 [式中、X及びYは炭素数40以下の置換若しくは無置
換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキ
レン基、置換若しくは無置換のシクロアルキリデン基又
は置換若しくは無置換のアリーレン基或は下記一般式 【化2】 で示される2価の基であり、Zは水素原子、アルキル
基、シクロアルキル基又はアリール基である。]で表わ
される繰り返し単位を有し、かつ数平均分子量が1,0
00〜500,000であるポリ(N,N′−ジアシル
ウレア)及び下記一般式[II] 【化3】 で表わされるビス(アシルイソシアナート)化合物と下
記一般式[III] 【化4】 で表わされるジアミド化合物とを反応させるポリ(N,
N′−ジアシルウレア)の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、溶媒中から金属キレー
ションにより金属イオンを取り除くことができる機能性
ポリマーとして、あるいは染色性に優れたポリマーとし
て好適に用いられる新規なポリ(N,N′−ジアシルウ
レア)及びその好適な製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリウレアはジイソシアナートとジアミ
ンとの反応により合成されているが、ジイソシアナート
とジアミドからポリマーを合成しようとしても通常のジ
イソシアナートとジアミドとはジアミドの反応性が低い
ため重付加反応せず、ポリマーが得られたという報告は
ない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は反応性の高い
ビス(アシルイソシアナート)化合物を用いて、まだ報
告されていない新規なポリマーであるポリ(N,N′−
ジアシルウレア)を提供すると共に、その好適な製造法
を提供することを目的とする。
【0004】本発明はまた多くの親水基を有するため染
色性に優れる上、金属キレーションにより金属イオンを
取り除く機能を有する新規なポリマーを提供することを
目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記目的を
達成するために鋭意研究を行った結果、ビス(アシルイ
ソシアナート)化合物とジアミド化合物とを反応させる
ことにより新規なポリマーである高分子量のポリ(N,
N′−ジアシルウレア)が得られることを見出し、この
知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【0006】すなわち、本発明は、下記一般式[I]
【0007】
【化7】 [式中、X及びYは炭素数40以下の置換若しくは無置
換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキ
レン基、置換若しくは無置換のシクロアルキリデン基又
は置換若しくは無置換のアリーレン基或は下記一般式
【0008】
【化8】 (式中、Wは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、
−CO−、−CH2−又は−C(CH32−を表わ
す。)で示される2価の基であり、Zは水素原子、炭素
数40以下の置換若しくは無置換のアルキル基、置換若
しくは無置換のシクロアルキル基又は置換若しくは無置
換のアリール基である。]で表わされる繰り返し単位を
有し、かつ数平均分子量が1,000〜500,000
であることを特徴とするポリ(N,N′−ジアシルウレ
ア)を提供するものである。
【0009】本発明のポリ(N,N′−アシルウレア)
の数平均分子量が1,000未満であると、機械的強度
と耐久性が実用上十分であるとはいえない。数平均分子
量が500,000を超えると、溶媒に対する溶解性が
低下し、成形性が低下する。したがって、数平均分子量
の好ましい範囲は2,000〜90,000である。
【0010】一般式[I]のX又はYで表わされるアル
キレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、
2,2−ジメチル−1,3−プロピレン、2−n−ブチ
ル−1,3−プロピレン、2−n−デシル−1,3−プ
ロピレン、2−ドデシル−1,3−プロピレン、2,2
−ジフェニル−1,3−プロピレン、n−ブチレン、i
−ブチレン、t−ブチレン、n−アミレン、イソアミレ
ン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレ
ン、ノナメチレン、デカメチレン等が挙げられる。シク
ロアルキレン基、シクロアルキリデン基としては、シク
ロペンチレン、シクロペンチリデン、シクロヘキシレ
ン、シクロヘキシリデン、メチルシクロヘキシレン、シ
クロヘプチリデン、シクロヘプチレン、シクロオクチリ
デン、シクロオクチレン、シクロノニリデン、シクロノ
ニレン、シクロデシリデン、シクロデシレン等が挙げら
れる。アリーレン基としてはフェニレン、t−ブチル−
フェニレン、クロロフェニレン、ブロモフェニレン、フ
ルオロフェニレン、ニトロフェニレン、シアノフェニレ
ン、イソシアナートフェニレン、メチルフェニレン、キ
シリレン、ビフェニレン、ナフチレン、ビナフチレン、
アントラセニレン、フェナントリレン等が挙げられる。
また、Wを含む2価の基としては、ビフェニルエーテル
−4,4′−ジイル等が挙げられる。好ましいXは炭素
数6〜12のアリーレン基、更に好ましくはフェニレン
であり、特に好ましくは1,3−フェニレンである。好
ましいYは炭素数1〜12のアルキレン又は炭素数6〜
12のアリーレン基である。特に好ましくはオクタメチ
レン、t−ブチル−フェニレン、デカメチレン及び1,
3−フェニレンである。
【0011】Zで表わされるアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i
−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチ
ル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル等が挙げら
れる。Zで表されるシクロアルキルとしてはシクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、
シクロデシル等が挙げられる。Zで表されるアリール基
としては、フェニル、クロロフェニル、ブロモフェニ
ル、フルオロフェニル、ニトロフェニル、シアノフェニ
ル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、ビフェニリ
ル、イソシアナートフェニル、フェノキシフェニル、ナ
フタレニル、ビナフタレニル、アントラセニル、フェナ
ントレニル等が挙げられる。好ましいZは、水素原子、
炭素数1〜12のアルキル基であり、特に好ましくはメ
チル、n−ヘキシル、水素原子である。
【0012】本発明のポリ(N,N′−ジアシルウレ
ア)は例えば、下記一般式[II]
【0013】
【化9】 (式中、Xは前記と同じ。)で表わされるビス(アシル
イソシアナート)化合物と下記一般式[III]
【0014】
【化10】 (式中、Z及びYは前記と同じ。)で表わされるジアミ
ド化合物とを反応させることにより得られる。
【0015】本発明で用いられるビス(アシルイソシア
ナート)化合物の具体例としては、テレフタロイルジイ
ソシアナート、イソフタロイルジイソシアナート、5−
t−ブチル−イソフタロイルジイソシアナート、アジポ
イルジイソシアナート等が挙げられる。
【0016】ジアミド化合物の具体例としては、N,
N′−ジ−n−ヘキシル−1,10−デカンジアミド、
5−t−ブチルイソフタルアミド、N,N′−ジメチル
−1,10−デカンジアミド、N,N′−ジ−n−ヘキ
シルイソフタルアミド等が挙げられる。
【0017】本発明においてビス(アシルイソシアナー
ト)化合物及びジアミド化合物は1種の化合物としてだ
けでなく、2種以上の化合物の混合物として用いてもよ
い。
【0018】重合反応は溶媒の不存在下で行ってもよい
が、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサメチルホスホラスアミド、ジメチルアセトア
ミドなどのアミド系炭化水素、ベンゼン、キシレン、ト
ルエン、ヘミメリテン、プソイドクメン、メシチレンな
どの芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタンな
どの脂肪族炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、テ
トラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のよ
うな溶媒の存在下で行ってもよい。反応原料の濃度は、
溶媒1リットル当りポリマー250〜3,000gとな
るような濃度で行うことが好ましい。
【0019】重合反応の温度は、通常−78〜200
℃、好ましくは−20〜80℃の範囲の温度が選択され
る。反応時間は通常0.1〜100時間の範囲内から選
ばれる。所望の重合度に到達した後、公知の方法により
得られたポリマーを単離、精製する。
【0020】重合圧力は減圧から加圧のいかなる圧力下
でも行い得るが、好ましくは常圧で行われる。
【0021】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、物性値は下記の方法により測定した。1 H−NMR及び13C−NMR:日本電子(株)製EX
−90型 IR:日本分光工業(株)製フーリエ変換赤外分光光度
計FT/IR−5300分子量測定:東ソー製HLC−
8020(ポリスチレンゲルカラム:TSKゲルG50
00HXL、G4000HXL、G2500HXL、移
動相溶媒:塩化リチウム2モル%DMF、流速:1.0
ml/分、検出器:UV、ポリスチレン換算値)
【0022】実施例1 イソフタロイルジイソシアナート108mg、N,N′
−ジ−n−ヘキシル−1,10−デカンジアミド184
mg及びTHF1mlを乾燥アルゴン気流下、ガラス製
容器に仕込み、20分間アルゴン雰囲気下で加熱還流し
た。反応混合液をエーテル40mlに再沈殿して白色固
体277mgを得た。該生成物の数平均分子量は13,
900であった。該生成物の1 H−NMRスペクトルを
測定したところ11.7、8.7−7.4、3.00、
2.00、1.24及び0.86ppmにピーク面積比
2:4:8:8:28:6の吸収が観察された。該生成
物のIRスペクトルを測定したところ、3316、29
30、1765及び1660cm-1にピークが観察され
た。これらの結果から、該生成物はイソフタロイルジイ
ソシアナートとN,N′−ジ−n−ヘキシル−1,10
−デカンジアミドが付加重合した下記の繰り返し単位か
らなる構造のポリマーであることが確認された。
【0023】
【化11】
【0024】実施例2 実施例1において、N,N′−ジ−n−ヘキシル−1,
10−デカンジアミド及びTHFに代えて5−t−ブチ
ルイソフタルアミド110mg、DMAc0.25ml
を乾燥アルゴン気流下、ガラス製容器に仕込み、20分
間アルゴン雰囲気下で65℃で加熱攪拌した。反応混合
液をエーテル40mlに再沈殿して白色固体228mg
得た。該生成物の数平均分子量は3,800であった。
該生成物の1H−NMRスペクトル及びIRスペクトル
からイソフタロイルジイソシアナート、5−t−ブチル
イソフタルアミドが付加重合した下記の繰り返し単位か
らなる構造のポリマーであることが確認された。
【0025】
【化12】
【0026】実施例3 実施例2において、5−t−ブチルイソフタルアミドに
代えてN,N′−ジメチル−1,10−デカンジアミド
114mgを用いた以外は実施例2と同様にして重合を
行い、白色固体196mgを得た。該生成物の数平均分
子量は12,800であった。該生成物の1H−NMR
スペクトル及びIRスペクトルからイソフタロイルジイ
ソシアナート、N,N′−ジメチル−1,10−デカン
ジアミドが付加重合した下記の繰り返し単位からなる構
造のポリマーであることが確認された。
【0027】
【化13】
【0028】実施例4 実施例1において、N,N′−ジ−n−ヘキシル−1,
10−デカンジアミドに代えてN,N′−ジ−n−ヘキ
シルイソフタルアミド194mgを用いた以外は実施例
1と同様にして重合を行い、白色固体82mgを得た。
該生成物の数平均分子量は6,100であった。該生成
物は1H−NMRスペクトル及びIRスペクトルからイ
ソフタロイルジイソシアナート、N,N′−n−ヘキシ
ルイソフタルアミドが付加重合した下記の繰り返し単位
からなる構造のポリマーであることが確認された。
【0029】
【化14】 比較例 実施例1においてイソフタロイルジイソシアナートに代
えて、m−フェニレンジイソシアナート80mgを用い
た以外は実施例1と同様にして重合を行ったが対応する
ポリマーは得られなかった。
【0030】
【発明の効果】本発明により、新規な重合体であるポリ
(N,N′−ジアシルウレア)を得ることができた。こ
のポリ(N,N′−ジアシルウレア)はカルボニル基の
数が多いため金属イオンに対する配位能力が高く、溶媒
から金属イオンを取り除く機能性ポリマーとしての用途
が期待される。また、本発明のポリ(N,N′−ジアシ
ルウレア)は染色性に優れている。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式[I] 【化1】 [式中、X及びYは炭素数40以下の置換若しくは無置
    換のアルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキ
    レン基、置換若しくは無置換のシクロアルキリデン基又
    は置換若しくは無置換のアリーレン基或は下記一般式 【化2】 (式中、Wは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、
    −CO−、−CH2−又は−C(CH32−を表わ
    す。)で示される2価の基であり、Zは水素原子、炭素
    数40以下の置換若しくは無置換のアルキル基、置換若
    しくは無置換のシクロアルキル基又は置換若しくは無置
    換のアリール基である。]で表わされる繰り返し単位を
    有し、かつ数平均分子量が1,000〜500,000
    であることを特徴とするポリ(N,N′−ジアシルウレ
    ア)。
  2. 【請求項2】 一般式[I]中、Xが炭素数6〜12の
    置換若しくは無置換のアリーレン基であり、Yが炭素数
    1〜12の置換若しくは無置換のアルキレン基又は炭素
    数6〜12の置換若しくは無置換のアリーレン基であ
    り、Zが水素原子、炭素数1〜12の置換若しくは無置
    換のアルキルである請求項1記載のポリ(N,N′−ジ
    アシルウレア)。
  3. 【請求項3】 Xが1,3−フェニレン、Yがオクタメ
    チレン、Zがn−ヘキシルである請求項2記載のポリ
    (N,N′−ジアシルウレア)。
  4. 【請求項4】 Xが1,3−フェニレン、Yが5−t−
    ブチル−1,3−フェニレン、Zが水素原子である請求
    項2記載のポリ(N,N′−ジアシルウレア)。
  5. 【請求項5】 Xが1,3−フェニレン、Yがオクタメ
    チレン、Zがメチルである請求項2記載のポリ(N,
    N′−ジアシルウレア)。
  6. 【請求項6】 Xが1,3−フェニレン、Yが1,3−
    フェニレン、Zがn−ヘキシルである請求項2記載のポ
    リ(N,N′−ジアシルウレア)。
  7. 【請求項7】 下記一般式[II] 【化3】 [式中、Xは炭素数40以下の置換若しくは無置換のア
    ルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン
    基、置換若しくは無置換のシクロアルキリデン基又は置
    換若しくは無置換のアリーレン基或は下記一般式 【化4】 (式中、Zは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、
    −CO−、−CH2−又は−C(CH32−を表わ
    す。)で示される2価の基である。]で表わされるビス
    (アシルイソシアナート)化合物と下記一般式[II
    I] 【化5】 [式中、Yは炭素数40以下の置換若しくは無置換のア
    ルキレン基、置換若しくは無置換のシクロアルキレン
    基、置換若しくは無置換のシクロアルキリデン基又は置
    換若しくは無置換のアリーレン基或は下記一般式 【化6】 (式中、Wは−O−、−S−、−SO−、−SO2−、
    −CO−、−CH2−又は−C(CH32−を表わ
    す。)で示される2価の基であり、Zは水素原子、炭素
    数40以下の置換若しくは無置換のアルキル基、置換若
    しくは無置換のシクロアルキル基又は置換若しくは無置
    換のアリール基である。]で表わされるジアミド化合物
    とを反応させることを特徴とするポリ(N,N′−ジア
    シルウレア)の製造法。
JP6056822A 1994-03-03 1994-03-03 ポリ(n,n′−ジアシルウレア)及びその製造法 Pending JPH07242720A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7786326B2 (en) * 2004-07-21 2010-08-31 Stichting Voor De Technische Wetenschappen Polyacylurethanes based on diisocyanates and polyesterpolyols

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7786326B2 (en) * 2004-07-21 2010-08-31 Stichting Voor De Technische Wetenschappen Polyacylurethanes based on diisocyanates and polyesterpolyols

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