JPH07241757A - Glass substrate polishing device - Google Patents

Glass substrate polishing device

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Publication number
JPH07241757A
JPH07241757A JP3591794A JP3591794A JPH07241757A JP H07241757 A JPH07241757 A JP H07241757A JP 3591794 A JP3591794 A JP 3591794A JP 3591794 A JP3591794 A JP 3591794A JP H07241757 A JPH07241757 A JP H07241757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
glass substrate
roller
moving table
rollers
Prior art date
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Pending
Application number
JP3591794A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigemitsu Mizutani
重光 水谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP3591794A priority Critical patent/JPH07241757A/en
Publication of JPH07241757A publication Critical patent/JPH07241757A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To secure the planeness of a glass plate so as to improve the adhesiveness (attaching property) to a bonded (attached) member, and heighten the quality by removing protruding parts stuck to the glass surface. CONSTITUTION:The roughness of a polishing tape 56 wound on polishing rollers 54C, 54B is set to be smaller than the roughness of a polishing tape 57 wound on a polishing roller 54A. In a glass substrate 18 positioned onto a moving table 16, unevenness with relatively large protrusion quantity caused by an external factor is removed first by the rough polishing tape 57, and then unevenness with relatively small protrusion quantity caused by an internal factor is preliminarily polished and then finish-polished. It is so constituted that the respective polishing rollers 54A, 54B, 54C can be independently moved in the vertical direction without coming in contact with an angle part with a burr 18.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板の表面を研
磨部材によって研磨するためのガラス基板の研磨装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass substrate polishing apparatus for polishing the surface of a glass substrate with a polishing member.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気信号に変換された画像を表示するた
めのディスプレイ装置として、液晶ディスプレイ(Liqu
id Crystal Display、以下「LCD」と言う)が普及し
ている。LCDは、例えば液晶の表面側に偏光膜を設け
て、液晶を透過した光が偏光膜を透過するか否かによっ
て偏光膜状に明暗を形成するようになっている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display (Liquor display) is used as a display device for displaying an image converted into an electric signal.
id Crystal Display (hereinafter referred to as “LCD”) has become popular. In the LCD, for example, a polarizing film is provided on the surface side of the liquid crystal, and light and dark are formed like a polarizing film depending on whether light transmitted through the liquid crystal passes through the polarizing film.

【0003】このLCDには、例えば、緑、青、赤の微
小な各色成分をモザイク状に配置したカラーフィルタを
液晶と偏光膜との間に配置し、偏光膜を透過する光に各
色の成分を持たせるようにして、カラー画像を表示する
ようにしたものがある。
In this LCD, for example, a color filter in which minute color components of green, blue, and red are arranged in a mosaic pattern is arranged between the liquid crystal and the polarizing film, and the components of each color are included in the light passing through the polarizing film. There is a device that has a color image displayed.

【0004】このカラーフィルタ及び偏光膜は一対の透
明ガラス板に挟持されて、LCDとしてユニット化され
ている。
The color filter and the polarizing film are sandwiched between a pair of transparent glass plates to be unitized as an LCD.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この透
明ガラス板のカラーフィルタとの貼付面において、透明
ガラス板の仕上げが粗かったり(内的要因)、組付時に
異物の付着等によって突起部が形成されたり(外的要
因)すると、平面性が悪化して貼付作業に支障をきたす
ことがある。
However, on the surface of the transparent glass plate to which the color filter is attached, the transparent glass plate has a rough finish (internal factor), or a protrusion is formed due to adhesion of foreign matter during assembly. If it is formed (external factor), the flatness may be deteriorated and the sticking work may be hindered.

【0006】また、透明ガラス板同士の接着部において
も同様に、突起部等によって接着力が低下することが考
えられる。
Similarly, it is conceivable that the adhesive strength of the transparent glass plates will be reduced due to the protrusions.

【0007】さらに、組付後に透明ガラス板の表面に異
物が付着することがあり、この異物の付着によって、品
質が低下することになる。
Further, foreign matter may adhere to the surface of the transparent glass plate after the assembling, and the adhesion of the foreign matter deteriorates the quality.

【0008】本発明は上記事実を考慮し、ガラス板の平
面性を確保して、被接着(被貼付)部材との接着性(貼
付性)を向上すると共にガラス表面に付着する突起部を
除去することによって、品質を高めることができるガラ
ス基板の研磨装置を得ることが目的である。
In consideration of the above facts, the present invention secures the flatness of the glass plate to improve the adhesiveness (adhesiveness) with the member to be adhered (adhered) and remove the protrusions adhered to the glass surface. By doing so, it is an object to obtain a glass substrate polishing apparatus capable of improving the quality.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、ガラス基板の表面を研磨部材によって研磨するため
のガラス基板の研磨装置であって、ベース上を移動する
と共にガラス基板が位置決め載置される移動テーブル
と、前記移動テーブルの上方に、軸線が前記移動テーブ
ルの移動方向と直交する方向とされ、かつ移動テーブル
の移動方向に沿って複数個配置され、それぞれの周面に
粗さの異なる少なくも2種類の研磨部材が取付けられた
研磨ローラと、前記複数個の研磨ローラをそれぞれ移動
テーブルに対して昇降させる昇降手段と、前記移動テー
ブル上のガラス基板の搬送方向先端部側の角部を通過し
た時点で対応する研磨ローラを下降させ、ガラス基板の
表面と研磨部材とを所定の間隔まで接近又は所定の圧力
で接触させて相対移動させると共に前記ガラス基板の搬
送方向後端部側の角部が通過する直前に対応する研磨ロ
ーラを上昇させる昇降制御手段と、を有している。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a glass substrate polishing apparatus for polishing the surface of a glass substrate with a polishing member, the glass substrate being moved on a base and the glass substrate being positioned and mounted. A moving table to be placed, and a plurality of axes are arranged above the moving table, the axis of which is perpendicular to the moving direction of the moving table, and a plurality of them are arranged along the moving direction of the moving table, and roughness is provided on each circumferential surface. Polishing rollers to which at least two types of polishing members different from each other are attached, elevating means for elevating and lowering the plurality of polishing rollers with respect to the moving table, and a front end portion side of the moving table in the conveying direction of the glass substrate. When passing the corner, the corresponding polishing roller is lowered to bring the surface of the glass substrate and the polishing member close to each other to a predetermined distance or to bring them into contact with each other with a predetermined pressure to make a relative movement. Corners of the conveying direction trailing end side of the glass substrate has a raising and lowering control means for raising the corresponding polishing rollers immediately before passing causes.

【0010】請求項2に記載の発明は、前記研磨部材が
薄肉の長尺テープの表面に塗布され、前記長尺体は供給
側リールから巻取側リールに巻き取られており、その中
間部で前記研磨ローラに巻掛けられていることを特徴と
している。
According to a second aspect of the present invention, the polishing member is applied to the surface of a thin long tape, and the long body is wound from a supply-side reel to a winding-side reel. And is wound around the polishing roller.

【0011】請求項3に記載の発明は、複数の研磨ロー
ラを同一の条件でガラス基板と対応させる場合に、前記
研磨部材の粗さが、前記研磨ローラのガラス基板搬送方
向下流側に対してガラス基板搬送方向上流側が同等又は
粗く設定されていることを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, when a plurality of polishing rollers are made to correspond to a glass substrate under the same conditions, the roughness of the polishing member is relative to the downstream side of the polishing roller in the glass substrate conveying direction. It is characterized in that the upstream side in the glass substrate transport direction is set to be equal or rough.

【0012】請求項4に記載の発明は、前記研磨ローラ
が3個設けられており、ガラス基板搬送方向最上流側の
研磨ローラには、独立した最も粗さの高い研磨部材が設
けられ、ガラス基板搬送方向最下流側の研磨ローラによ
って一度研磨した研磨部材を中間側の研磨ローラでの研
磨に再使用していることを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, the three polishing rollers are provided, and the polishing roller on the most upstream side in the glass substrate transport direction is provided with an independent polishing member having the highest roughness. The polishing member once polished by the polishing roller on the most downstream side in the substrate transport direction is reused for polishing by the intermediate polishing roller.

【0013】請求項5に記載の発明は、前記研磨ローラ
の数と同一種類の粗さの異なる研磨部材が適用され、ガ
ラス基板搬送方向上流側にいくに従い粗さが高くなるよ
うに設定されていることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, polishing members of the same kind as the number of the polishing rollers and different in roughness are applied, and the roughness is set to increase toward the upstream side in the glass substrate transport direction. It is characterized by being.

【0014】[0014]

【作用】請求項1に記載の発明によれば、移動テーブル
上にガラス基板を位置決めし、ベースに沿って移動させ
る。この移動テーブルの搬送方向に沿った、上方には研
磨ローラが複数個配置されており、それぞれ研磨部材が
取付けられている。
According to the first aspect of the invention, the glass substrate is positioned on the moving table and moved along the base. A plurality of polishing rollers are arranged above the moving table in the conveying direction, and polishing members are attached to the polishing rollers.

【0015】ところで、ガラス基板のエッジ部(搬送方
向先端部側及び後端部側の角部には、所謂バリ(突起
部)が存在しており、このバリと研磨ローラとが接触す
ると、研磨部材が破損したり、ガラス基板自体も欠損す
る恐れがある。
By the way, there are so-called burrs (protrusions) at the edges of the glass substrate (corners on the front end side and the rear end side in the carrying direction), and when the burrs come into contact with the polishing roller, they are polished. The member may be damaged or the glass substrate itself may be damaged.

【0016】そこで、昇降制御手段では、通常研磨ロー
ラを上昇させて退避させておき、ガラス基板の搬送方向
先端部側の角部が通過した時点で、搬送方向最上流側の
研磨ローラから順に下降させていく。また、ガラス基板
の搬送方向後端部側の角部が通過する直前で搬送方向最
上流側の研磨ローラから順時上昇させていく。これによ
り、研磨ローラと角部(バリ)との接触はない。
Therefore, the elevating control means normally raises and retracts the polishing roller, and when the corner of the front end side of the glass substrate in the transport direction passes, the polishing roller descends in order from the most upstream polishing roller in the transport direction. I will let you. Further, immediately before the corner of the rear end side of the glass substrate in the carrying direction passes, the polishing roller is sequentially raised from the polishing roller on the most upstream side in the carrying direction. As a result, there is no contact between the polishing roller and the corners (burrs).

【0017】下降された研磨ローラは、所定の隙間まで
ガラス基板まで接近するか、或いは所定の圧力でガラス
基板と接触する。この状態で、ガラス基板と研磨部材と
を相対移動させることによって、ガラス基板の表面が研
磨部材によって研磨される。
The lowered polishing roller approaches the glass substrate up to a predetermined gap or contacts the glass substrate at a predetermined pressure. In this state, the surface of the glass substrate is polished by the polishing member by moving the glass substrate and the polishing member relative to each other.

【0018】この研磨において、異なる粗さの研磨部材
によって研磨しているため、例えば、内的要因(ガラス
基板表面の平面性)と外的要因(組付時等における異物
の付着)との両方の要因に適した粗さの研磨部材を対応
させることができ、両方の要因による不具合を解消する
ことができる。
In this polishing, since polishing is performed by polishing members having different roughness, for example, both internal factors (flatness of the surface of the glass substrate) and external factors (adhesion of foreign matter during assembly, etc.) It is possible to deal with a polishing member having a roughness suitable for the above factors, and it is possible to eliminate problems caused by both factors.

【0019】請求項2記載の発明によれば、研磨部材が
研磨ローラに巻掛け可能なテープ形状であり(以下、研
磨テープという)、この研磨テープはリールに巻き取ら
れた状態でサプライ側のリール軸にセットされ、その最
外層が引き出され、前記研磨ローラに巻掛られた後、リ
トラクタ側のリール軸にセットされたリールに巻き取ら
れるようになっている。研磨部材をテープ状とすること
によって、連続して次々と新しい部分をガラス基板面に
対応させることができ、研磨部材の交換等の手間を省く
ことができる。また、全て使い切った場合には、リール
毎取り外して交換すればよく、メンテナンス作業性も向
上する。
According to the second aspect of the present invention, the polishing member has a tape shape that can be wound around the polishing roller (hereinafter referred to as a polishing tape), and the polishing tape on the supply side in a state wound on a reel. The reel is set on the reel shaft, the outermost layer thereof is drawn out, wound on the polishing roller, and then wound on the reel set on the reel shaft on the retractor side. By forming the polishing member into a tape shape, new portions can be successively made to correspond to the glass substrate surface, and the labor of exchanging the polishing member can be saved. Further, when all the reels are used up, the reels can be removed and replaced, which improves maintenance workability.

【0020】なお、テープ幅寸法は研磨すべきガラス基
板の幅寸法に応じて用意しておけば、無駄な使用も避け
ることができる。
If the tape width is prepared according to the width of the glass substrate to be polished, useless use can be avoided.

【0021】請求項3に記載の発明によれば、複数の研
磨ローラをガラス基板に対して一定の隙間を設けるか、
一定の圧力で載置する場合、粗さの高い研磨部材を下流
側に設置するのは全く意味がなく、上流側で細かく研磨
したことが無駄になる。従って、このように複数の研磨
ローラを同一の条件でガラス基板に対応させる場合に
は、ガラス基板搬送方向下流側に対して、ガラス基板搬
送方向上流側の研磨部材の粗さを同等又は粗く設定す
る。これにより、ガラス基板は徐々に粗さの低い研磨部
材と対応していくため、粗さの異なる各研磨部材による
研磨効果を得ることができる。
According to the third aspect of the present invention, a plurality of polishing rollers are provided with a certain gap with respect to the glass substrate,
When mounting at a constant pressure, it is meaningless to install a polishing member having high roughness on the downstream side, and fine polishing on the upstream side is useless. Therefore, when a plurality of polishing rollers are made to correspond to the glass substrate under the same condition, the roughness of the polishing member on the upstream side in the glass substrate transport direction is set to be equal to or coarser than that on the downstream side in the glass substrate transport direction. To do. As a result, the glass substrate gradually corresponds to the polishing member having a low roughness, so that the polishing effect of each polishing member having a different roughness can be obtained.

【0022】請求項4に記載の発明によれば、まず第1
に3個の研磨ローラの内、最上流側の研磨ローラに取付
けられる(巻掛けられる)研磨部材は、他の2個に取付
けられる(巻掛けられる)研磨部材とは異なり、かつ粗
さが高い。
According to the invention of claim 4, firstly,
Among the three polishing rollers, the polishing member attached (wound) to the most upstream polishing roller is different from the polishing members attached to the other two (rolled) and has a high roughness. .

【0023】次に、中間の研磨ローラには、最下流側で
使用された研磨部材(研磨テープ)が再度取付けられ
(巻掛けられ)ている。すなわち、最上流側では、粗い
研磨部材で異物等の突起部と取り除き、中間の研磨ロー
ラでは、一度研磨のために使用された研磨部材(研磨テ
ープ)によって予備研磨した後、最下流側の研磨ローラ
で仕上げ研磨を行う、3工程研磨を行っている。これに
より、仕上がり精度が向上すると共に、研磨部材(研磨
テープ)の有効利用を図ることができる。
Next, the polishing member (polishing tape) used on the most downstream side is attached (wound) again to the intermediate polishing roller. That is, on the most upstream side, a coarse polishing member is used to remove protrusions such as foreign matter, and at the intermediate polishing roller, after preliminarily polishing with the polishing member (polishing tape) used for polishing, the most downstream polishing is performed. Three-step polishing is performed, in which final polishing is performed with a roller. As a result, the finishing accuracy is improved and the polishing member (polishing tape) can be effectively used.

【0024】請求項5に記載の発明によれば、各研磨ロ
ーラにそれぞれ異なる研磨部材(研磨テープ)を取付け
(巻掛け)、ガラス搬送方向上流側にいくに従い粗さを
高くする。これによれば、ガラス表面の凹凸を徐々に研
磨してくことができ、段数(研磨ローラの数)が増すほ
ど、その精度を向上させることができる。
According to the fifth aspect of the invention, different polishing members (polishing tapes) are attached (wrapped) to the respective polishing rollers, and the roughness is increased toward the upstream side in the glass conveying direction. According to this, the irregularities on the glass surface can be gradually polished, and the accuracy can be improved as the number of stages (the number of polishing rollers) increases.

【0025】[0025]

【実施例】図1及び図2には、本実施例に係るガラス基
板研磨装置10が示されている。
1 and 2, a glass substrate polishing apparatus 10 according to this embodiment is shown.

【0026】定盤12上には、その長手方向に沿ってレ
ール14が敷設されており、このレール14には、移動
テーブル16が載置されている。この移動テーブル16
上にこれから研磨すべきガラス基板18等が位置決めさ
れるようになっている。
A rail 14 is laid along the longitudinal direction of the surface plate 12, and a moving table 16 is placed on the rail 14. This moving table 16
The glass substrate 18 or the like to be polished is positioned above.

【0027】図3に示される如く、本実施例の研磨装置
10によって研磨されるガラス基板18は、アクティブ
マトリクスカラー液晶表示装置20(以下、単に液晶表
示装置20という)の表裏面に適用されるものである。
As shown in FIG. 3, the glass substrate 18 polished by the polishing apparatus 10 of this embodiment is applied to the front and back surfaces of the active matrix color liquid crystal display device 20 (hereinafter, simply referred to as the liquid crystal display device 20). It is a thing.

【0028】液晶表示装置20は、裏面側とされるガラ
ス基板18に画素状電極22、絶縁層24及び配向層2
6が層状に設けられたベース部28と、表面側とされる
ガラス基板18にRGBカラーフィルタ30、絶縁層3
2、配向層34が層状に設けられカバー部36とで構成
され、これらが液晶38を挟んで接着剤40によって結
合されて構成されている。なお、一対のガラス基板18
の外側面には、それぞれ偏光板42が取付けられてい
る。
In the liquid crystal display device 20, the pixel electrode 22, the insulating layer 24 and the alignment layer 2 are provided on the glass substrate 18 which is the back side.
The base portion 28 in which 6 is provided in layers, the RGB color filter 30, the insulating layer 3 on the glass substrate 18 on the front side.
2. The alignment layer 34 is provided in layers and is composed of a cover portion 36, and these are bonded by an adhesive 40 with a liquid crystal 38 sandwiched therebetween. The pair of glass substrates 18
Polarizing plates 42 are attached to the outer surfaces of the respective.

【0029】組付後のガラス基板18の外面には、組付
時に適用した接着剤(シリコン系)が飛散して付着し
て、平面性が失われる場合がある(外的要因)。このよ
うな場合には、組付後の液晶表示装置20を本実施例の
移動テーブル16上に載置して研磨する。
On the outer surface of the glass substrate 18 after the assembling, the adhesive (silicone) applied at the time of the assembling may be scattered and adhered to lose the flatness (external factor). In such a case, the assembled liquid crystal display device 20 is placed on the moving table 16 of this embodiment and polished.

【0030】また、組付前のガラス基板18の単体にお
いて、加工工程の精度上の問題から表面が粗くなること
がある(内的要因)。このような場合には、組付前のガ
ラス基板18の単体を移動テーブル16上に載置して研
磨する。
Further, the surface of the glass substrate 18 before being assembled may become rough due to a problem in the accuracy of the working process (internal factor). In such a case, the single glass substrate 18 before assembly is placed on the moving table 16 and polished.

【0031】以下、研磨装置10を説明する上で、ガラ
ス基板18単体の状態で研磨することを例にとる。
In the following, the polishing apparatus 10 will be described by taking the polishing of the glass substrate 18 alone as an example.

【0032】移動テーブル16のガラス基板載置面に
は、複数の小孔44が設けられ、図示しない内方チャン
バと連通されている。また、移動テーブル16の側面に
もチャンバと連通する貫通孔46が設けられ、蛇腹状の
ホース48の一端が取付けられている。このホース48
の他端は吸引手段(図示省略)に取付けられており、吸
引手段の駆動によって、前記移動テーブル16上の小孔
44が吸引口となる。従って、移動テーブル16上に載
置され位置決めされたガラス基板18は、この吸引力に
よって、その位置が保持されるようになっている。
A plurality of small holes 44 are provided on the glass substrate mounting surface of the moving table 16 and communicate with an inner chamber (not shown). Further, a through hole 46 communicating with the chamber is also provided on the side surface of the moving table 16, and one end of a bellows-shaped hose 48 is attached. This hose 48
The other end is attached to suction means (not shown), and the small hole 44 on the moving table 16 serves as a suction port by driving the suction means. Therefore, the position of the glass substrate 18 placed and positioned on the moving table 16 is held by this suction force.

【0033】移動テーブル16は、図示しない駆動手段
の駆動力で定速でレール14に沿って摺動されるように
なっており、その摺動軌跡を挟むように、定盤12から
一対の側板50、52が立設されている。
The moving table 16 is slidable along the rails 14 at a constant speed by a driving force of a driving means (not shown), and a pair of side plates are provided from the surface plate 12 so as to sandwich the sliding locus. 50 and 52 are erected.

【0034】これらの側板50、52間には、3個の研
磨ローラ54A、54B、54Cが掛け渡され、前記移
動テーブル16の搬送方向に沿って、かつ移動テーブル
16の移動軌跡の上方近傍に配列されている。これらの
研磨ローラ54A、54B、54C、それぞれ研磨テー
プ56又は研磨テープ57が巻掛けられ、前記ガラス基
板18面と接触することによって、ガラス基板18面を
研磨するようになっている。なお、図1の奥側の側板5
0の背側には、各部の駆動を制御するための駆動制御装
置58が取付けられている。
Three polishing rollers 54A, 54B and 54C are bridged between the side plates 50 and 52, and along the conveying direction of the moving table 16 and near the upper part of the moving path of the moving table 16. It is arranged. The polishing rollers 54A, 54B, 54C, and the polishing tape 56 or the polishing tape 57, respectively, are wound around and contact the glass substrate 18 surface to polish the glass substrate 18 surface. In addition, the side plate 5 on the back side of FIG.
A drive control device 58 for controlling the drive of each part is attached to the back side of 0.

【0035】移動テーブル16の搬送方向において最下
流側に位置する研磨ローラ54Cに巻掛けられた研磨テ
ープ56と、中央に位置する研磨ローラ54Bに巻掛け
られた研磨テープ56は共通のものが使用されている。
The polishing tape 56 wound around the polishing roller 54C located on the most downstream side in the transport direction of the moving table 16 and the polishing tape 56 wound around the polishing roller 54B located in the center are common. Has been done.

【0036】すなわち、図2に示される如く、供給側リ
ール60に層状に巻き取られた研磨テープロールの最外
層から引き出された研磨テープ56は、2本の巻掛ロー
ラ62、64と駆動ローラ66に巻掛けられ、略S字型
に送り出され、最下流側の研磨ローラ54Cに巻掛られ
ることによって180°反転されている。反転された研
磨テープ56は、2本の巻掛ローラ68、70に巻掛け
られ、それぞれ同一回転方向に90°づつ方向転換さ
れ、中央の研磨ローラ54Bへと至っている。この中央
の研磨ローラ54Bに巻掛けられた研磨テープ56は、
180°反転され、3本の巻掛ローラ72、74、76
と1本のテンションローラ78にそれぞれ巻掛けられ、
巻取側リール80へ巻き取られている。テンションロー
ラ78は、軸直角方向に移動可能とされており、研磨テ
ープ56にかかるテンションをほぼ一定に保つ役目を有
している。また、このテンションローラ78は、駆動源
としての機能も有しており、このテンションローラ78
の回転力によって研磨テープ56に搬送力を付与してい
る。なお、前記駆動ローラ66による搬送速度に比べ
て、テンションローラ78による搬送速度は、約0.3%増
速されている。
That is, as shown in FIG. 2, the polishing tape 56 pulled out from the outermost layer of the polishing tape roll wound in layers on the supply-side reel 60 has two winding rollers 62, 64 and a driving roller. It is wound around 66, sent out in a substantially S-shape, and wound around the polishing roller 54C on the most downstream side to be inverted by 180 °. The inverted polishing tape 56 is wound around the two winding rollers 68 and 70, and is turned by 90 ° in the same rotation direction to reach the central polishing roller 54B. The polishing tape 56 wound around the central polishing roller 54B is
180 degree inverted and three winding rollers 72, 74, 76
And one tension roller 78,
It is wound around the winding side reel 80. The tension roller 78 is movable in the direction perpendicular to the axis, and has a role of keeping the tension applied to the polishing tape 56 substantially constant. The tension roller 78 also has a function as a drive source.
The rotational force of the polishing tape 56 imparts a conveying force to the polishing tape 56. The conveying speed by the tension roller 78 is increased by about 0.3% as compared with the conveying speed by the driving roller 66.

【0037】従って、この研磨テープ56は、最下流側
の研磨ローラ54Cによって一度研磨処理された研磨面
が中央の研磨ローラ56Bによって再利用されるよう
に、搬送路が構成されている。
Therefore, the polishing tape 56 has a transport path so that the polishing surface once polished by the polishing roller 54C on the most downstream side can be reused by the polishing roller 56B in the center.

【0038】一方、最上流側の研磨ローラ54Aには、
前記研磨テープ56とは異なる番手(粗さが異なる)の
研磨テープ57が巻掛けられている。すなわち、供給側
リール82から引き出された研磨テープ57は、巻掛ロ
ーラ84及び駆動ローラ86に巻掛けられて、研磨ロー
ラ54A方向へ案内され、この研磨ローラ54Aに巻掛
けられることによって180°反転され、さらに3本の
巻掛ローラ88、90、92と1本のテンションローラ
94に巻掛けられて巻取側リール96へと至っている。
このテンションローラ94も駆動源として機能してお
り、研磨テープ57は、所定のテンションを維持しなが
ら、供給側リール82から巻取側リール96へと搬送さ
れるようになっている。なお、前記駆動ローラ86によ
る搬送速度に比べて、テンションローラ94による搬送
速度は、約0.3%増速されている。
On the other hand, the polishing roller 54A on the most upstream side has
A polishing tape 57 having a count (having a different roughness) different from that of the polishing tape 56 is wound. That is, the polishing tape 57 pulled out from the supply-side reel 82 is wound around the winding roller 84 and the drive roller 86, is guided in the direction of the polishing roller 54A, and is wound around this polishing roller 54A to be inverted by 180 °. Further, it is wound around three winding rollers 88, 90, 92 and one tension roller 94, and reaches the take-up reel 96.
The tension roller 94 also functions as a drive source, and the polishing tape 57 is conveyed from the supply reel 82 to the take-up reel 96 while maintaining a predetermined tension. The conveying speed by the tension roller 94 is increased by about 0.3% as compared with the conveying speed by the driving roller 86.

【0039】最下流側及び中央の研磨ローラ54C、5
4Bに巻掛けられた研磨テープ56の粗さは、最上流側
の研磨ローラ54Aに巻掛けられた研磨テープ57の粗
さに比べて小さく設定されている。具体的にJIS規格
による粗さ表示では、一方の研磨テープ57は200番
から10000番であり、他方の研磨テープ56が10
00番から8000番を取り得、相対的に粗さの度合い
が下流側の方が小さくなるように選択されている。
The polishing rollers 54C, 5 on the most downstream side and in the center
The roughness of the polishing tape 56 wound around 4B is set smaller than the roughness of the polishing tape 57 wound around the most upstream polishing roller 54A. Specifically, in the roughness display according to JIS standard, one polishing tape 57 is numbered 200 to 10000 and the other polishing tape 56 is numbered 10 to 10.
Nos. 00 to 8000 can be taken, and the degree of roughness is selected to be relatively smaller on the downstream side.

【0040】このような、研磨テープ56、57の適用
によって、移動テーブル16上に位置決めされたガラス
基板18は、まず、粗い研磨テープ57によって比較的
突起量の大きい、外的要因による凹凸が取り除かれ、次
いで、比較的に突起量の少ない、内的要因による凹凸が
予備研磨された後、仕上げ研磨が行われることになる。
By applying the polishing tapes 56 and 57 as described above, the glass substrate 18 positioned on the moving table 16 is first subjected to the rough polishing tape 57 to remove the irregularities due to external factors having a relatively large protrusion amount. Then, after unevenness due to internal factors, which has a relatively small amount of protrusion, is preliminarily polished, final polishing is performed.

【0041】ところで、ガラス基板18は、その角部に
バリ18Aが出ており、このバリ18Aの部分を研磨テ
ープ56、57が通過すると、上記の如く、研磨テープ
56、57の粗さがバリ18Aを取り除くほどの粗さが
ないため、却って研磨テープ56、57を損傷させる原
因となる。また、バリ18Aと研磨ローラ54A、54
B、54Cとが干渉しあって、ガラス基板18を損傷さ
せることもある。
By the way, the glass substrate 18 has burrs 18A at its corners, and when the polishing tapes 56, 57 pass through the burrs 18A, the roughness of the polishing tapes 56, 57 is burred as described above. Since it is not rough enough to remove 18A, it rather causes damage to the polishing tapes 56 and 57. Further, the burr 18A and the polishing rollers 54A, 54
B and 54C may interfere with each other to damage the glass substrate 18.

【0042】そこで、本実施例では、各研磨ローラ54
A、54B、54Cを独立して上下動、すなわち軸直角
方向へ移動可能とし、バリ18Aのある角部とは接触さ
せない構造となっている。
Therefore, in this embodiment, each polishing roller 54 is
A, 54B, 54C can be independently moved up and down, that is, movable in the direction perpendicular to the axis, and the structure is such that they do not come into contact with the corner portion having the burr 18A.

【0043】すなわち、図4に示される如く、研磨ロー
ラ54A、54B、54C(以下、全て同一構造である
ので代表して研磨ローラ54Aを用いて説明する)の一
端は延長され、カラー部材100を介して移動ブロック
102に軸支されている。なお、このカラー部材100
の貫通孔100Aが長孔とされ、研磨ローラ54Aの回
転軸は若干量軸直角方向に移動可能とされ、図示しない
付勢手段の付勢力で長孔の下端部に押圧されている。
That is, as shown in FIG. 4, one end of the polishing rollers 54A, 54B, 54C (hereinafter, the polishing roller 54A will be representatively described because they all have the same structure) is extended and the collar member 100 is extended. It is rotatably supported by the moving block 102. In addition, this color member 100
The through hole 100A is a long hole, and the rotating shaft of the polishing roller 54A is movable in a direction slightly perpendicular to the axial direction, and is pressed against the lower end of the long hole by the urging force of the urging means (not shown).

【0044】この移動ブロック102はその横方向両端
部に上下端面間を貫通する円孔104、106が設けら
れ、一方の円孔106の内周面には雌ねじが形成されて
いる。
The moving block 102 has circular holes 104 and 106 penetrating between the upper and lower end surfaces at both lateral ends thereof, and female threads are formed on the inner peripheral surface of one circular hole 106.

【0045】移動ブロック102の下方には固定ブロッ
ク108が配設され、2本のガイドシャフト110、1
12が上方に向けて突出されている。この2本のガイド
シャフト110、112の軸間寸法は、前記円孔10
4、106の軸間寸法と一致されている。
A fixed block 108 is arranged below the moving block 102, and two guide shafts 110, 1 are provided.
12 is projected upward. The inter-axis dimension of the two guide shafts 110 and 112 is the same as the circular hole 10
4 and 106 are the same as the inter-axis dimensions.

【0046】ガイドシャフト110、112は、前記円
孔104、106に挿入され、一方のガイドシャフト1
12には雄ねじが形成され、前記雌ねじと螺合されてい
る。このため、雄ねじが形成されたガイドシャフト11
2を回転させることによって、移動ブロック102がガ
イドシャフト110、112に沿って上下することがで
きるようになっている。
The guide shafts 110 and 112 are inserted into the circular holes 104 and 106, and one guide shaft 1
A male screw is formed on 12 and is screwed with the female screw. Therefore, the guide shaft 11 formed with the male screw
By rotating 2, the moving block 102 can move up and down along the guide shafts 110 and 112.

【0047】移動ブロック102と固定ブロック108
との間のガイドシャフト112には歯車114が取付け
られ、モータ116の回転軸に取付られた歯車118と
噛み合っている。ここで、モータ116の正逆回転させ
ることによって、移動ブロック102を上下動させるこ
とができる。すなわち、このモータ116の駆動力によ
って研磨ローラ54Aを上下動させ、前記バリ18Aあ
るガラス基板18の角部では上昇させ、それ以外では下
降させている。
Moving block 102 and fixed block 108
A gear 114 is attached to the guide shaft 112 between and, and meshes with a gear 118 attached to the rotating shaft of the motor 116. Here, the moving block 102 can be moved up and down by rotating the motor 116 forward and backward. That is, the polishing roller 54A is moved up and down by the driving force of the motor 116, and is raised at the corner of the glass substrate 18 where the burr 18A is present, and is lowered otherwise.

【0048】なお、カラー部材100を貫通した研磨ロ
ーラ54Aの回転軸の先端部にはウェイト部材120が
取付けられ、片持ち状態の研磨ローラ54Aのバランス
を図っている。
A weight member 120 is attached to the tip of the rotary shaft of the polishing roller 54A penetrating the collar member 100 to balance the polishing roller 54A in a cantilever state.

【0049】以下に本実施例の作用を図5の処理工程図
に従い説明する。研磨すべきガラス基板18を移動テー
ブル16の所定の位置に位置決めし、移動を開始する。
このとき、研磨ローラ54A、54B、54Cは全て上
昇位置にあり、ガラス基板18と干渉する位置から退避
されている(図5(A)参照)。
The operation of this embodiment will be described below with reference to the process chart of FIG. The glass substrate 18 to be polished is positioned at a predetermined position on the moving table 16 and the movement is started.
At this time, the polishing rollers 54A, 54B, 54C are all in the raised position and are retracted from the position where they interfere with the glass substrate 18 (see FIG. 5A).

【0050】レール14に沿って定盤12上の移動テー
ブル16が移動し、最初(最上流側)の研磨ローラ54
Aの真下をガラス基板18の角部が通過すると、この最
上流側の研磨ローラ54Aのみが下降し、ガラス基板1
8に対して所定の間隔に位置させるか、或いは所定の圧
力で接触させる(図5(B)参照)。この状態で、研磨
テープ57を一方リールから他方のリールへ移動させる
ことによって、研磨ローラ54Aは回転しながらガラス
基板18上の摺動し、研磨が開始される。この最上流側
の研磨テープ57は独立した比較的粗さの大きいもので
あり、所謂荒研磨がなされることになる。この荒研磨に
よって大きな突起物等が削れられ、後工程で使用される
研磨テープを損傷させるようなものが取り除かれる。
The moving table 16 on the surface plate 12 moves along the rails 14, and the first (upmost stream side) polishing roller 54 is moved.
When the corner of the glass substrate 18 passes directly under A, only the polishing roller 54A on the most upstream side descends, and the glass substrate 1
8 is placed at a predetermined interval or is brought into contact with a predetermined pressure (see FIG. 5B). In this state, by moving the polishing tape 57 from one reel to the other reel, the polishing roller 54A slides on the glass substrate 18 while rotating, and polishing is started. The polishing tape 57 on the most upstream side is independent and has a relatively large roughness, and so-called rough polishing is performed. By this rough polishing, large projections and the like are scraped off, and those that damage the polishing tape used in the subsequent process are removed.

【0051】次に、2番目の研磨ローラ54Bの真下を
ガラス基板18が通過すると、最上流側の研磨ローラ5
4Aと同様に、下降を開始し、例えば、ガラス基板18
と所定の圧力で接触させる(図5(C)参照)。
Next, when the glass substrate 18 passes directly under the second polishing roller 54B, the polishing roller 5 on the most upstream side.
4A, the descent is started, and, for example, the glass substrate 18
And a predetermined pressure (see FIG. 5C).

【0052】この2番目に位置する研磨ローラ54Bに
巻掛られる研磨テープ56は、最下流の研磨ローラ54
Cによって一旦研磨処理がなされた研磨テープ56が再
利用されている。すなわち、後述する最下流側の研磨ロ
ーラ54Cに巻掛けられ、研磨処理された研磨テープ5
6を再度、この中間の研磨ローラ54Bに巻掛け、研磨
テープ56の有効利用を図っている。
The polishing tape 56 wound around the polishing roller 54B located at the second position is the most downstream polishing roller 54.
The polishing tape 56 once polished by C is reused. That is, the polishing tape 5 wound around the polishing roller 54C on the most downstream side, which will be described later, and subjected to the polishing treatment.
6 is again wound around the intermediate polishing roller 54B to effectively use the polishing tape 56.

【0053】この2番目の研磨ローラ54Bによる研磨
が、所謂本研磨であり、ガラス基板18上の突起物の殆
どがこの2番目の研磨ローラ54Bによる研磨によって
切削されることになる。
The polishing by the second polishing roller 54B is so-called main polishing, and most of the protrusions on the glass substrate 18 are cut by the polishing by the second polishing roller 54B.

【0054】ところで、この2番目の研磨ローラ54B
による研磨が開始されてから、所定時間経過すると、最
上流側の研磨ローラ54Aがガラス基板18の搬送方向
後端部側の角部へ至る。ここで、最上流側の研磨ローラ
54Aは上昇し、角部との接触が回避される(図5の
(D)参照)。
By the way, this second polishing roller 54B
After a lapse of a predetermined time from the start of polishing by, the most upstream polishing roller 54A reaches the corner of the glass substrate 18 on the rear end side in the transport direction. Here, the polishing roller 54A on the most upstream side is raised, and contact with the corner is avoided (see FIG. 5D).

【0055】その後、最下流側の研磨ローラ54Cの真
下をガラス基板18の搬送方向前端部の角部が通過する
と、この最下流側の研磨ローラ54Cが下降して、ガラ
ス基板18に所定圧力で接触する(図5(E)参照)。
After that, when the corner of the front end of the glass substrate 18 in the transport direction passes directly under the polishing roller 54C on the most downstream side, the polishing roller 54C on the most downstream side descends and a predetermined pressure is applied to the glass substrate 18. Contact (see FIG. 5 (E)).

【0056】この最下流側の研磨は仕上げ研磨であり、
新品の研磨テープ56が適用され、最終的な仕上げ処理
が行うことができる。
The polishing on the most downstream side is finish polishing,
A new polishing tape 56 is applied and a final finishing process can be performed.

【0057】この最終仕上げ中に中間の研磨ローラ54
Bがガラス基板18の搬送方向後端部の角部へ至ると上
昇され(図5(F)参照)、次いで、最下流側の研磨ロ
ーラ54Cがこの角部へ至ると、上昇される(図5の
(G)参照)。
During this final finishing, the intermediate polishing roller 54
B is raised when it reaches the corner of the rear end of the glass substrate 18 in the transport direction (see FIG. 5 (F)), and then the polishing roller 54C on the most downstream side is raised when it reaches this corner (FIG. 5F). 5 (G)).

【0058】本実施例によれば、研磨工程を3段階に分
け、目の粗い順番にガラス基板18上の付着物を研磨す
るようにしたので、比較的大きい突起物から極めて小さ
い付着物まで確実に研磨することができる。
According to the present embodiment, the polishing process is divided into three steps, and the deposits on the glass substrate 18 are polished in the order of coarse meshes. Can be polished to.

【0059】また、角部に形成されるバリ18Aを回避
しながら研磨するため、バリ18Aとの当接による剥離
や、研磨テープ56、57の損傷等を防止でき、精度よ
く研磨加工を行うことができる。なお、角部のバリ18
Aは、別工程において切削することが望ましい。
Further, since polishing is performed while avoiding the burrs 18A formed at the corners, peeling due to contact with the burrs 18A, damage to the polishing tapes 56, 57, etc. can be prevented, and polishing can be performed accurately. You can The burr 18 at the corner
It is desirable to cut A in a separate process.

【0060】また、中間に位置する研磨ローラ54Bに
巻きかける研磨テープ56として、最下流側に位置する
研磨ローラ54Cに巻掛け、最終仕上げを行った研磨テ
ープ56を利用しているため、研磨テープ56を有効利
用することができる。
As the polishing tape 56 wound around the polishing roller 54B located in the middle, the polishing tape 56 wound around the polishing roller 54C located at the most downstream side and subjected to final finishing is used. 56 can be effectively used.

【0061】なお、本実施例では、最上流側の研磨ろー
ら54Aに巻掛けられる研磨テープ57のみ別物とした
が、全て別の研磨テープを用いてもよい。このとき、徐
々に粗さが小さくなるように配列することが好ましい
が、ガラス基板18の接触圧との関係から、この粗さの
順番を変えることも可能である。例えば、目の粗い研磨
テープを用い、ガラス基板18の面に対し若干隙間を開
けて位置決めすることにより、この隙間以上の突起部を
面上を荒らすことなく、研磨することができる。
In this embodiment, only the polishing tape 57 wound around the polishing roller 54A on the most upstream side is different, but different polishing tapes may be used. At this time, it is preferable that the roughness is gradually reduced, but it is also possible to change the order of the roughness depending on the relationship with the contact pressure of the glass substrate 18. For example, by using a coarse-grained polishing tape and positioning the glass substrate 18 with a slight gap left between the glass substrate 18 and the surface, it is possible to polish the protrusions larger than the gap without roughening the surface.

【0062】なお、本実施例では、モータ116の駆動
力で移動ブロック102を介して各研磨ローラ54A、
54B、54Cを上下動させるようにしたが(図4参
照)、図6に示される如くそれぞれ傾斜面122Aを有
するスライド部材122を配設し、このスライド部材1
22上に各研磨ローラ54A、54B、54Cの回転軸
を載置し、スライド部材122の移動によって、傾斜面
122A上を回転軸が移動するようにして、研磨ローラ
54A、54B、54Cの高さ位置を調整してもよい。
In the present embodiment, the driving force of the motor 116 causes the polishing rollers 54A, 54A,
54B and 54C are moved up and down (see FIG. 4), slide members 122 each having an inclined surface 122A are arranged as shown in FIG.
The rotary shafts of the polishing rollers 54A, 54B, 54C are placed on the surface 22, and the height of the polishing rollers 54A, 54B, 54C is adjusted by moving the slide member 122 so that the rotary shafts move on the inclined surface 122A. The position may be adjusted.

【0063】また、本実施例では、ガラス基板18単体
の研磨について説明したが、組付の終了した液晶表示装
置20の状態であっても研磨が可能である。
In this embodiment, the polishing of the glass substrate 18 alone has been described, but the polishing can be performed even in the state of the liquid crystal display device 20 which has been assembled.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上説明した如く本発明に係るガラス基
板の研磨装置は、ガラス板の平面性を確保して、被接着
(被貼付)部材との接着性(貼付性)を向上すると共に
ガラス表面に付着する突起部を除去することによって、
品質を高めることができるという優れた効果を有する。
As described above, the glass substrate polishing apparatus according to the present invention ensures the flatness of the glass plate to improve the adhesiveness (adhesiveness) to the adhered (adhered) member and the glass. By removing the protrusions attached to the surface,
It has an excellent effect that the quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施例に係るガラス基板研磨装置の概略を示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an outline of a glass substrate polishing apparatus according to this embodiment.

【図2】本実施例に係るガラス基板研磨装置のローラの
配列を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an arrangement of rollers of the glass substrate polishing apparatus according to the present embodiment.

【図3】液晶表示装置の内部構造を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an internal structure of a liquid crystal display device.

【図4】研磨ローラの上下動の機構を示す斜視図であ
る。
FIG. 4 is a perspective view showing a mechanism for vertically moving a polishing roller.

【図5】研磨工程中の研磨ローラの動きを説明する工程
図である。
FIG. 5 is a process diagram illustrating movement of a polishing roller during a polishing process.

【図6】研磨ローラの上下動の機構を変形例を示す斜視
図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a modified example of a mechanism for vertically moving a polishing roller.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ガラス基板研磨装置 12 定盤(ベース) 16 移動テーブル 18 ガラス基板 20 液晶表示装置 54A、54B、54C 研磨ローラ 56、57 研磨テープ 102 移動ブロック 108 固定ブロック 110、112 ガイドシャフト 116 モータ 10 Glass Substrate Polishing Device 12 Surface Plate (Base) 16 Moving Table 18 Glass Substrate 20 Liquid Crystal Display Device 54A, 54B, 54C Polishing Roller 56, 57 Polishing Tape 102 Moving Block 108 Fixed Block 110, 112 Guide Shaft 116 Motor

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板の表面を研磨部材によって研
磨するためのガラス基板の研磨装置であって、 ベース上を移動すると共にガラス基板が位置決め載置さ
れる移動テーブルと、 前記移動テーブルの上方に、軸線が前記移動テーブルの
移動方向と直交する方向とされ、かつ移動テーブルの移
動方向に沿って複数個配置され、それぞれの周面に粗さ
の異なる少なくも2種類の研磨部材が取付けられた研磨
ローラと、 前記複数個の研磨ローラをそれぞれ移動テーブルに対し
て昇降させる昇降手段と、 前記移動テーブル上のガラス基板の搬送方向先端部側の
角部を通過した時点で対応する研磨ローラを下降させ、
ガラス基板の表面と研磨部材とを所定の間隔まで接近又
は所定の圧力で接触させて相対移動させると共に前記ガ
ラス基板の搬送方向後端部側の角部が通過する直前に対
応する研磨ローラを上昇させる昇降制御手段と、 を有するガラス基板の研磨装置。
1. A glass substrate polishing apparatus for polishing the surface of a glass substrate with a polishing member, comprising: a moving table which moves on a base and on which the glass substrate is positioned and mounted; and a moving table above the moving table. , The axis is in a direction orthogonal to the moving direction of the moving table, and a plurality of them are arranged along the moving direction of the moving table, and at least two kinds of polishing members having different roughness are attached to the respective circumferential surfaces. A polishing roller, an elevating means for elevating and lowering the plurality of polishing rollers with respect to a moving table, and a corresponding polishing roller being lowered when the glass substrate on the moving table passes through a corner on the front end side in the transport direction. Let
The surface of the glass substrate and the polishing member are moved close to each other or brought into contact with each other with a predetermined pressure to move them relative to each other, and the corresponding polishing roller is raised immediately before the corner on the rear end side in the transport direction of the glass substrate passes. An apparatus for polishing a glass substrate, comprising: an elevating and lowering control unit.
【請求項2】 前記研磨部材が薄肉の長尺テープの表面
に塗布され、前記長尺体は供給側リールから巻取側リー
ルに巻き取られており、その中間部で前記研磨ローラに
巻掛けられていることを特徴とする請求項1記載のガラ
ス基板の研磨装置。
2. The polishing member is applied to the surface of a thin long tape, and the long body is wound from a supply-side reel to a winding-side reel, and is wound around the polishing roller at an intermediate portion thereof. The glass substrate polishing apparatus according to claim 1, wherein the polishing apparatus is a glass substrate polishing apparatus.
【請求項3】 複数の研磨ローラを同一の条件でガラス
基板と対応させる場合に、前記研磨部材の粗さは、前記
研磨ローラのガラス基板搬送方向下流側に対してガラス
基板搬送方向上流側が同等又は粗く設定されていること
を特徴とする請求項1又は請求項2記載のガラス基板の
研磨装置。
3. When a plurality of polishing rollers are made to correspond to a glass substrate under the same conditions, the roughness of the polishing member is equal on the upstream side in the glass substrate transport direction to the downstream side in the glass substrate transport direction of the polishing rollers. Alternatively, the glass substrate polishing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the glass substrate is roughly set.
【請求項4】 前記研磨ローラが3個設けられており、
ガラス基板搬送方向最上流側の研磨ローラには、独立し
た最も粗さの高い研磨部材が設けられ、ガラス基板搬送
方向最下流側の研磨ローラによって一度研磨した研磨部
材を中間側の研磨ローラでの研磨に再使用していること
を特徴とする請求項1又は請求項2記載のガラス基板の
研磨装置。
4. Three polishing rollers are provided,
The polishing roller on the most upstream side in the glass substrate transport direction is provided with an independent polishing member having the highest roughness, and the polishing member once polished by the polishing roller on the most downstream side in the glass substrate transport direction is used by the polishing roller on the intermediate side. The glass substrate polishing apparatus according to claim 1 or 2, which is reused for polishing.
【請求項5】 前記研磨ローラの数と同一種類の粗さの
異なる研磨部材が適用され、ガラス基板搬送方向上流側
にいくに従い粗さが高くなるように設定されていること
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載のガラス基板
の研磨装置。
5. A polishing member of the same kind as the number of said polishing rollers and having different roughness is applied, and the roughness is set to increase toward the upstream side in the glass substrate transport direction. The glass substrate polishing apparatus according to claim 1 or 2.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106842650A (en) * 2017-04-10 2017-06-13 京东方科技集团股份有限公司 The processing unit of display base plate foreign matter, the processing method of display base plate foreign matter

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