JPH0722451U - イオン源ガス供給システム - Google Patents

イオン源ガス供給システム

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JPH0722451U
JPH0722451U JP5780093U JP5780093U JPH0722451U JP H0722451 U JPH0722451 U JP H0722451U JP 5780093 U JP5780093 U JP 5780093U JP 5780093 U JP5780093 U JP 5780093U JP H0722451 U JPH0722451 U JP H0722451U
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JP
Japan
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pressure
gas
ion source
gas supply
pipe
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Pending
Application number
JP5780093U
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English (en)
Inventor
啓三 林
義明 足立
Original Assignee
日新ハイボルテージ株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 絶縁体製イオン源ガス供給配管内の沿面絶縁
耐力の低下を防止すること。 【構成】 イオン源2は圧力タンク1内の高電位部に設
けられており、大地電位部のガス源5からガス供給配管
6を介してイオン源ガスが供給される。大地電位部と高
電位部間は絶縁体製配管6’で接続されており、ガス供
給配管の高電位部には流量調節バルブ10が、そして大
地電位部には圧力調節バルブ11が設けられている。絶
縁体製配管内のガス圧は圧力計9で検出され、圧力計の
出力に応答して調節器12は圧力調節バルブを制御し、
同配管内のガス圧を一定に保つ。流量調節バルブを操作
し、イオン源ガス流量を少なくしても、絶縁体製配管内
の圧力は低下しないから、同配管内の沿面絶縁耐力を低
下させない。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、イオン源ガスを供給する絶縁体製配管の内壁に所要の沿面絶縁耐力 が得られるようにしたイオン加速装置におけるイオン源ガス供給システムに関す る。
【0002】
【従来の技術】
図2は、シングルステージ加速方式によるメガ・エレクトロン・ボルト(Me V)級イオン加速装置の一例を示す構成図である。高圧絶縁ガスが充填された圧 力タンク1の内部に収容されたイオン源2及び加速管3には直流高電圧電源4の 出力高電圧が印加されており、イオン源から引出されたイオンビ−ムは加速管に よって大地電位部に向かって加速される。
【0003】 高電位部に位置するイオン源2には、大地電位部に設けられたガス源(ボンベ )5からイオン源ガス例えば水素ガスがガス供給配管6を介して供給されており 、大地電位部から高電位部間の接続部分は絶縁体製配管6’を用いている。ガス 供給配管6の大地電位部にはガス流量調整用の手動操作ニードルバルブ7を、そ して高電位部には管路開閉用の電磁弁8を設け、配管内のガス圧は圧力計9で監 視している。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
ガス源5については少容量のものでよい場合には高電位部に設置することもあ るが、上例のようにガス源を大地電位部に設けるときには、配管路の電気絶縁を 考慮し絶縁体製配管6’の使用を要する。この場合、圧力タンク1内には高圧絶 縁ガスが充填されているから、配管6’の外表面については充分な沿面絶縁耐力 を得ることができる。配管6’の内部についてみると、イオン源ガス例えば電気 絶縁性能を有する水素ガスが通っているから、配管内のガス圧が高いときには充 分な沿面絶縁耐力を得ることができるが、ガス流量を少なくするためにニードル バルブ7を絞ると、配管内のイオン源ガス圧が低下し、配管内壁部に所要の沿面 絶縁耐力が得られないという事態が生ずる。
【0005】 本考案は、イオン源ガスを供給する絶縁体製配管の内壁部に、所要の沿面絶縁 耐力を持たせることができるイオン源ガス供給システムの提供を目的とするもの である。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本考案は、絶縁ガスが充填されている圧力容器内の高電位部に設けたイオン源 に、大地電位部に設けられたガス源から絶縁体製のガス供給配管を介してイオン 源ガスを供給するシステムにおいて、ガス供給配管の高電位部に設けられた流量 調節バルブと、ガス供給配管の大地電位部に設けられた圧力調節バルブと、絶縁 体製のガス供給配管内のイオン源ガス圧力を検出する圧力計と、この圧力計の出 力に応答し前記圧力調節バルブを制御する調節器とを備えてなることを特徴とす るものである。
【0007】
【作用】
イオン源へのガス流量を少なくするために、ガス供給配管の高電位部に設けた 流量調節バルブを絞った場合にあっても、ガス供給配管の大地電位部に設けられ た圧力調節バルブが配管内のガス圧に応答する調節器で制御され、絶縁体製の配 管内のガス圧を一定に保つことができるから、同配管内壁の沿面絶縁耐力が低下 しない。
【0008】
【実施例】
本考案の実施例について図1の構成図を参照して説明する。なお、図2と同一 符号は同等部分を示す。高圧絶縁ガスが充填された圧力タンク1の内部に収容さ れたイオン源2及び加速管3には直流高電圧電源4の出力高電圧が印加されてい る。高電位部に位置するイオン源2には、大地電位部に設けられたガス源(ボン ベ)5からイオン源ガス例えば水素ガスがガス供給配管6によって供給されてお り、大地電位部と高電位部間は絶縁体製配管6’で接続されている。
【0009】 ガス供給配管6の高電位部には管路開閉用の電磁弁8と、イオン源ガスの流量 調節バルブとして電動ないし電磁操作型ニードルバルブ10が設けられており、 これら両バルブは圧力タンク1の外部から操作される。そしてガス供給配管6の 大地電位部には電動ないし電磁操作型の圧力調節バルブ11が設けられている。
【0010】 絶縁体製配管6’内のイオン源ガス圧力は圧力計9で検出されており、この圧 力計の出力に応答して調節器12は圧力調節バルブ11をフィードバック制御し 、絶縁体製配管6’内のイオン源ガス圧を一定に保つ。
【0011】 したがって、イオン源ガス流量を少なくするために、イオン源ガス流量調節用 のニードルバルブ10を絞ったときにも、絶縁体製配管6’内のガス圧は低下し ないから、同配管内壁の沿面絶縁耐力は低下しない。
【0012】
【考案の効果】
本考案は、以上説明したように構成したので、絶縁体製配管内のイオン源ガス 圧は常に一定に保たれ、イオン源に供給するイオン源ガスの流量を減少させても 配管内のガス圧が低下することがなくなり、配管内壁の沿面絶縁耐力の低下を防 止することができる。
【0013】 絶縁体製配管内のイオン源ガス圧が一定に保たれることに伴い、流量調節バル ブによる調節精度が向上し、イオン源から所要のイオンビ−ムを安定に引出すこ とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の実施例の構成図である。
【図2】従来例の構成図である。
【符号の説明】
1 圧力タンク 2 イオン源 3 加速管 4 直流高電圧電源 5 ガス源 6 ガス供給配管 6’ 絶縁体製配管 8 電磁弁 9 圧力計 10 流量調節バルブ 11 圧力調節バルブ 12 調節器

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁ガスが充填された圧力容器内の高電
    位部に設けられたイオン源に、大地電位部に設けられた
    ガス源から絶縁体製のガス供給配管を介してイオン源ガ
    スを供給するシステムにおいて、ガス供給配管の高電位
    部に設けられた流量調節バルブと、ガス供給配管の大地
    電位部に設けられた圧力調節バルブと、絶縁体製のガス
    供給配管内のイオン源ガス圧力を検出する圧力計と、こ
    の圧力計の出力に応答し前記圧力調節バルブを制御する
    調節器とを備えてなることを特徴とするイオン源ガス供
    給システム。
JP5780093U 1993-10-01 1993-10-01 イオン源ガス供給システム Pending JPH0722451U (ja)

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JP5780093U JPH0722451U (ja) 1993-10-01 1993-10-01 イオン源ガス供給システム

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JP5780093U JPH0722451U (ja) 1993-10-01 1993-10-01 イオン源ガス供給システム

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Publication Number Publication Date
JPH0722451U true JPH0722451U (ja) 1995-04-21

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ID=13065990

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JP5780093U Pending JPH0722451U (ja) 1993-10-01 1993-10-01 イオン源ガス供給システム

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JP (1) JPH0722451U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007273118A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Ihi Corp イオン注入装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007273118A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Ihi Corp イオン注入装置

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