JPH07221187A - Automatic arrangement wiring method of integrated circuit and integrated circuit made using the same - Google Patents

Automatic arrangement wiring method of integrated circuit and integrated circuit made using the same

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JPH07221187A
JPH07221187A JP6035401A JP3540194A JPH07221187A JP H07221187 A JPH07221187 A JP H07221187A JP 6035401 A JP6035401 A JP 6035401A JP 3540194 A JP3540194 A JP 3540194A JP H07221187 A JPH07221187 A JP H07221187A
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JP
Japan
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circuit
layout
integrated circuit
cell
circuit element
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Application number
JP6035401A
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Inventor
Katsunori Shimizu
克則 清水
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To confirm the operation in the actual circuit after correction by a method wherein a layout automatically arranging spare circuit elements is made in a circuit element not yet formed region using the circuit element layout data, reserve circuit data and the circuit element arrangement requirement data. CONSTITUTION:The region meeting the arrangement requirements of defective logic relieving cells according to the data on previously inputted arrangement requirements is decided by computation out of the circuit element not yet formed regions decised by layout data. The defective logic relieving cells are to be arranged after the decision of the arrangement position thereof. As the results of the arrangement decision, a new layout wherein the defective logic relieving cells 92, 94, 96 and 98 are respectively arranged in the feedthrough cells 32, 34, 36 and 38 in the layout is to be made. Through these procedures, the term, labor and material cost required for the development of integrated circuit can be notably cut down.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、CAD装置などによっ
て作成された回路図から実際の集積回路上のレイアウト
を作成する集積回路の自動配置配線方法及びこの方法に
よって作成された集積回路に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit automatic placement and routing method for creating a layout on an actual integrated circuit from a circuit diagram created by a CAD device or the like, and an integrated circuit created by this method. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】CAD装置などで論理回路を作成する場
合、論理回路の回路図上の各回路素子(セル)の大きさ
はほぼ同じでも実際にシリコン基板上に形成されるセル
は、その種類によって必要とする面積は大きく異なる。
また、回路図上で導線が交差する部分についても実際の
回路では配線層が互いにショートしないよう各素子を配
置しなければならない。このため少ない面積により多く
の素子を集積するには、各素子を如何に配置するかとい
うレイアウトが重要となる。特に、近年、LSIが大規
模化し、使用するセル数が増大したことに伴い、効率的
なレイアウトの必要性が高まっている。
2. Description of the Related Art When a logic circuit is created by a CAD device or the like, even if the size of each circuit element (cell) on the circuit diagram of the logic circuit is almost the same, the type of cell actually formed on the silicon substrate is different. The required area varies greatly depending on the type.
Also, in the actual circuit, each element must be arranged so that the wiring layers do not short-circuit with each other even in the portion where the conducting wires intersect on the circuit diagram. Therefore, in order to integrate many elements in a small area, the layout of how to arrange each element is important. Particularly, in recent years, as the scale of LSI has increased and the number of cells used has increased, the need for efficient layout has increased.

【0003】自動配置配線ツールは、例えばCAD装置
を用いてコンピュータ画面上で作成した論理回路を、実
際のシリコン基板上に形成する際のレイアウトを自動的
に作成するものである。かかるツールを使用することに
より、レイアウト設計に要する期間が短縮化される。ま
た、このようなレイアウトは、LSI設計上の技術的制
約をLIS設計条件とした規約(デザインルール)を満
たすので、レイアウト設計における検証が不要となり、
LSI設計に要する期間を短縮化でき、これにともなっ
て設計コストの大幅な削減を可能とした。
The automatic placement and routing tool automatically creates a layout when a logic circuit created on a computer screen using a CAD device is formed on an actual silicon substrate. By using such a tool, the period required for layout design is shortened. Further, such a layout satisfies a rule (design rule) in which a technical constraint on LSI design is a LIS design condition, and therefore verification in the layout design is unnecessary,
The time required for LSI design can be shortened, and the design cost can be greatly reduced accordingly.

【0004】ところで、CAD装置で設計しシミュレー
タによって論理回路の動作確認を行った回路であって
も、上記自動配置配線ツールで作成したレイアウトに従
って集積回路を実際に試作した段階で種々の不具合が発
見されることがある。このような場合、その不良箇所が
特定されどのように修正するかという対策が立てられ
る。また、その対策(修正回路)が誤っていると時間
的、コスト的な損害が甚大なものとなるので、シミュレ
ータで修正回路の動作確認を行うだけでなく、実際に修
正し組み直した試作回路で正常に動作することを確認す
る必要がある。従来は、修正された試作回路を作製する
場合、自動配置配線ツールの段階まで戻ってレイアウト
を作成しなおし、このレイアウトに基づいて新たな試作
回路を作製していた。
By the way, even if the circuit is designed by a CAD device and the operation of the logic circuit is confirmed by a simulator, various defects are found at the stage of actually prototyping the integrated circuit according to the layout created by the automatic placement and routing tool. It may be done. In such a case, a measure is taken to identify the defective portion and how to correct it. Also, if the countermeasure (correction circuit) is incorrect, time and cost will be seriously damaged. Therefore, not only check the operation of the correction circuit with a simulator, but also use a prototype circuit that is actually corrected and reassembled. You need to confirm that it works properly. Conventionally, when manufacturing a modified prototype circuit, the layout was recreated by returning to the stage of the automatic placement and routing tool, and a new prototype circuit was created based on this layout.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、集積回
路の試作には1〜2か月程度かかるため、集積回路を試
作しなおすと最終的な製品の発売が遅れ、製品発売のタ
ーゲット時期を逃す虞れがある。また、試作段階といっ
ても100個程度のチップが載ったウェハを数十枚単位
で製造しなければならず、したがって試作が繰り返され
ると材料費、人件費とも増大し、結果的に製品コストの
上昇につながる。
However, since it takes about 1 to 2 months to prototype an integrated circuit, the final product release may be delayed if the integrated circuit is prototyped again, and the target time for product release may be missed. There is In addition, even at the prototype stage, several tens of wafers each having a chip mounted thereon must be manufactured in units of several tens of wafers. Therefore, repeated prototypes increase material costs and personnel costs, resulting in product costs. Leading to a rise in.

【0006】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、試作された集積回路に不良が見つかった場合
に、短い期間で簡単に修正後の実際の回路で動作確認を
行うことができる集積回路の自動配置配線方法及びこの
方法を用いて作成された集積回路を提供することを目的
とするものである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and when a defect is found in a prototyped integrated circuit, the operation can be easily confirmed in a corrected actual circuit in a short period of time. An object of the present invention is to provide an automatic circuit placement and routing method and an integrated circuit produced by using this method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1記載の発明になる自動配置配線方法は、回路
図から作成された回路素子のレイアウトに関する第一の
データと、前記レイアウト中の回路素子未作製領域に配
置すべき予備の回路素子に関する第二のデータと、前記
回路素子未作製領域にどういう回路素子を配置するかと
いう条件に関する第三のデータとを用い、前記回路素子
未作製領域に自動的に予備の回路素子を配置したレイア
ウトを作成することを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, an automatic placement and routing method according to a first aspect of the present invention is directed to a first data relating to the layout of circuit elements created from a circuit diagram and the layout Using the second data on the spare circuit element to be arranged in the circuit element non-fabrication area and the third data on the condition of what kind of circuit element is to be arranged in the circuit element non-fabrication area, It is characterized by automatically creating a layout in which spare circuit elements are arranged in the manufacturing area.

【0008】請求項2記載の発明になる自動配置配線方
法は、請求項1記載の発明において、前記回路素子未作
製領域はフィードスルーセルが形成される領域又は電源
配線が形成される領域であることを特徴とするものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an automatic placement and routing method according to the first aspect, wherein the circuit element non-fabrication region is a region where a feedthrough cell is formed or a power supply line is formed. It is characterized by that.

【0009】請求項3記載の発明になる集積回路は、請
求項1又は2記載の集積回路の自動配置配線方法によっ
て作成されたレイアウトに基づいて、前記回路素子未作
製領域に前記予備の回路素子を形成したことを特徴とす
るものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an integrated circuit, wherein the spare circuit element is provided in the circuit element non-fabrication area based on a layout created by the integrated circuit automatic placement and routing method according to the first or second aspect. Is formed.

【0010】[0010]

【作用】請求項1記載の発明は前記の構成により、一般
に集積回路は、セルの配置をいかに効率的に配置して
も、そのレイアウトの中にはセルの配置されない回路素
子未作製領域が残る。CAD装置によって作成した回路
図から自動配置配線ツールを用いてレイアウトを自動作
成した場合、コンピュータの内部には回路素子のレイア
ウトに関するデータが保存される。このデータには当然
上記の回路素子未作製領域に関する第一のデータも含ま
れ、このデータからレイアウトのどこに回路素子未作製
領域が存在するかを知ることができる。
According to the first aspect of the present invention, the integrated circuit generally has a circuit element non-fabrication region in which cells are not arranged in the layout, no matter how efficiently the cells are arranged. . When a layout is automatically created from a circuit diagram created by a CAD device using an automatic placement and routing tool, data regarding the layout of circuit elements is stored inside the computer. This data naturally includes the first data on the circuit element non-fabricated region, and it is possible to know where in the layout the circuit element non-fabricated region exists from this data.

【0011】回路素子未作製領域には、例えばその上に
セル同士を電気的に接続する配線や電源配線が形成され
ている領域がある。このため、回路素子の種類によって
はこのような領域に予備の回路素子として形成できない
ものがある。したがって第二のデータから回路素子未作
製領域のうちどこにどういった回路素子を予備の回路素
子として配置できるかを知ることができる。
The circuit element non-fabrication area includes, for example, an area on which wiring for electrically connecting cells and a power supply wiring are formed. For this reason, some circuit elements cannot be formed as spare circuit elements in such regions. Therefore, from the second data, it is possible to know where and what kind of circuit element can be arranged as a spare circuit element in the circuit element non-fabrication area.

【0012】更に、回路素子未作製領域に配置できる予
備の回路素子が複数ある場合、その位置に配置する予備
の回路素子として最も適するものがある。第三のデータ
を入力することにより、その領域にもっとも適した予備
の回路素子を選択することができる。
Further, when there are a plurality of spare circuit elements that can be arranged in the circuit element non-fabrication area, there is the most suitable spare circuit element to be arranged at that position. By inputting the third data, the spare circuit element most suitable for the area can be selected.

【0013】上記第一、第二、第三のデータから、どこ
の回路素子未作製領域にどういう予備の回路素子を配置
するかが決定され、これに基づいて新たなレイアウトが
作成される。
From the above first, second and third data, it is determined which circuit element non-fabrication area and what spare circuit element is to be arranged, and a new layout is created based on this.

【0014】請求項2記載の発明は前記の構成により、
一般にフィードスルーセルが形成される領域又は電源配
線が形成される領域には本来の回路素子は形成されてい
ないので、これらの領域は予備の回路素子を形成する回
路素子未作製領域として利用できる。
According to a second aspect of the present invention, by the above configuration,
Generally, since the original circuit elements are not formed in the area where the feedthrough cells are formed or the area where the power supply wiring is formed, these areas can be used as circuit element non-fabrication areas for forming spare circuit elements.

【0015】請求項3記載の発明は前記の構成により、
上記のようにして作成された新たなレイアウトに基づい
て作製された集積回路には回路素子未作製領域にその領
域に相応しい予備の回路素子が含まれており、回路動作
に不良が発見された場合には、この回路素子未作製領域
に配置された予備の回路素子によって、実際に回路構成
を修正した状態でその動作を確認することができる可能
性が高まる。
According to a third aspect of the present invention, by the above configuration,
When an integrated circuit manufactured based on the new layout created as described above contains spare circuit elements suitable for that area in the circuit element non-fabrication area, and a defect is found in the circuit operation. In addition, there is a high possibility that the operation can be confirmed in the state where the circuit configuration is actually corrected by the spare circuit element arranged in the circuit element non-fabrication region.

【0016】[0016]

【実施例】以下に図面を参照して本発明の一実施例につ
いて説明する。図1は本発明の一実施例の集積回路の自
動配置配線方法の工程を示したフローチャート、図2は
自動配置配線ツールによって作成された集積回路のレイ
アウトの一部を示す図、図3は論理不良救済用セルを含
んだ集積回路の一部の回路図、図4は論理不良救済用セ
ルによって図3に示す回路の配線の一部を修正した様子
を示す回路図、図5は論理不良救済用セルを含んだ一例
の集積回路の断面図、図6は図2のレイアウトに基づい
てフィードスルーセルに論理不良救済用セルを配置して
作成された新しいレイアウトの一部を示す図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart showing steps of an automatic placement and routing method for an integrated circuit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a part of the layout of the integrated circuit created by the automatic placement and routing tool, and FIG. 3 is a logic diagram. A circuit diagram of a part of an integrated circuit including a defect relief cell, FIG. 4 is a circuit diagram showing a state in which a part of the wiring of the circuit shown in FIG. 3 is corrected by the logic defect relief cell, and FIG. 5 is a logic defect relief. FIG. 6 is a cross-sectional view of an example integrated circuit including a memory cell, and FIG. 6 is a diagram showing a part of a new layout created by arranging logic defect relief cells in feedthrough cells based on the layout of FIG.

【0017】本発明の一実施例である集積回路の自動配
置配線方法は図1のフローチャートに示す各工程よりな
る。同図において、ステップS1では自動配置配線ツー
ルによって作成されたレイアウトデータを読み込み、ス
テップS2では予備の回路素子である論理不良救済用セ
ルに関するデータを入力し、ステップS3では論理不良
救済用セルの配置条件を入力する。そしてステップS4
ではレイアウトデータからセルが構成されていない領域
(回路素子未作製領域)を計算で求め、ステップS5に
おいて上で入力したデータから論理不良救済用セルの配
置条件に適合する領域を計算で求める。更に、ステップ
S6で論理不良救済用セルを所定の領域に配置し、ステ
ップS7で論理不良救済用セルを配置した新しいレイア
ウトを作成しそのデータを出力する。
An automatic placement and routing method for an integrated circuit according to an embodiment of the present invention comprises the steps shown in the flow chart of FIG. In the figure, in step S1, the layout data created by the automatic placement and routing tool is read, in step S2, the data relating to the logical defect relief cell which is a spare circuit element is input, and in step S3, the placement of the logical defect relief cell is performed. Enter the condition. And step S4
Then, an area where cells are not formed (circuit element non-fabricated area) is calculated from the layout data, and an area conforming to the placement condition of the logic defect relief cell is calculated from the data input above in step S5. Further, the logic defect relief cells are arranged in a predetermined area in step S6, and a new layout in which the logic defect relief cells are arranged is created in step S7 and the data is output.

【0018】図2に示す自動配置配線ツールによって作
成された集積回路のレイアウトでは、電源ライン(Vd
d)20は左側に、グランドライン(GND)22は右
側に配置されている。これらの電源配線の下層には回路
素子は作製されておらず、回路素子未作製領域となって
いる。電源ライン20とグランドライン22の間は三列
の領域24、26、28があり、これらの領域は更に小
さい領域に区分されており、この区分されたそれぞれの
領域がセルである。これらのセルにはフィードスルーセ
ル32、34、36、38、40とそれ以外の通常のセ
ルとがあり、通常のセルにはトランジスタ等の回路素子
が作製されている。配線42、44、46、48、50
は通常のセルを互いに電気的に接続している。
In the layout of the integrated circuit created by the automatic placement and routing tool shown in FIG. 2, the power supply line (Vd
d) 20 is arranged on the left side, and the ground line (GND) 22 is arranged on the right side. No circuit element is formed in the lower layer of these power supply wirings, which is a circuit element non-production area. Between the power supply line 20 and the ground line 22, there are three rows of regions 24, 26 and 28, which are divided into smaller regions, and each divided region is a cell. These cells include feedthrough cells 32, 34, 36, 38, 40 and other normal cells, and circuit elements such as transistors are formed in the normal cells. Wiring 42, 44, 46, 48, 50
Electrically connect ordinary cells to each other.

【0019】フィードスルーセル32、34、36、3
8、40も回路素子未作製領域であり、トランジスタな
どの回路素子は作製されていない。これらのうち、フィ
ードスルーセル36は領域24と領域28のセルをつな
ぐ信号配線をy方向に通すためのセルである。信号配線
を通常のセルの上に形成すると、そのセルの素子と信号
配線とがショートするので、セル領域に信号線を通す際
にはこのようなセルが必要となる。また、フィードスル
ーセル34は列26のx方向の長さを整えて電源配線を
行うためのセルである。このようにフィードスルーセル
はCAD装置で作製した回路図の各素子及び配線を実際
に集積回路上にレイアウトする際に必要となるセルであ
り、自動配置配線ツールはこれらのフィードスルーセル
を含めたかたちで実際のレイアウトを決定する。
Feedthrough cells 32, 34, 36, 3
Reference numerals 8 and 40 are also circuit element non-fabrication areas, and circuit elements such as transistors are not manufactured. Of these, the feedthrough cell 36 is a cell for passing a signal wire connecting the cells of the regions 24 and 28 in the y direction. When the signal wiring is formed on a normal cell, the element of the cell and the signal wiring are short-circuited, and therefore such a cell is required when passing the signal line through the cell region. Further, the feedthrough cell 34 is a cell for adjusting the length of the column 26 in the x direction for power supply wiring. As described above, the feedthrough cell is a cell required when actually laying out each element and wiring of the circuit diagram produced by the CAD device on the integrated circuit, and the automatic placement and routing tool includes these feedthrough cells. The actual layout is determined in the form.

【0020】次に、論理不良救済用セルの必要性につい
て説明する。CAD装置で集積回路の回路図を作成し、
シミュレータでその回路動作を確認した場合であって
も、実際にその回路図に基づいて集積回路を試作した段
階で不良が生じることがある。その際、どのように修正
したら正常に動作するのかが理論的に分かっても、その
修正によって正しく動作することを実際の配線で確認す
る必要がある。仮にその修正が誤っていたり、又は別の
不良が見つけられたときに、製品の製造段階まで進んで
からそのような不良が発見されると、時間的、材料的、
労力的な損害が甚大なものになるからである。
Next, the necessity of the logic defect relief cell will be described. Create a circuit diagram of an integrated circuit with a CAD device,
Even when the circuit operation is confirmed by a simulator, a defect may occur when an integrated circuit is actually prototyped based on the circuit diagram. At that time, even if it is theoretically understood how to correct the problem, it is necessary to confirm with the actual wiring that the modification works properly. If the correction is incorrect or another defect is found, and if such a defect is discovered after moving to the manufacturing stage of the product, time, material,
This is because the labor loss will be enormous.

【0021】このような場合、予備として論理不良を救
済するための適当な論理不良救済用セルを回路素子未作
製領域に用意しておけば、試作の段階で不良が発見され
ても、いずれかの論理不良救済用セルを用いて回路接続
を修正しなおし、正しく動作するか否かを確認できる。
例えば図3のように、インバータ82が論理不良救済用
セルとして予め形成された集積回路があったとする。こ
のインバータ82の左右には、本来の使用されるAND
ゲート80及び82があり、ANDゲート80の出力が
ANDゲート84の一方の入力に接続されている。図2
の構成の集積回路を試作したところ、ANDゲート80
とANDゲート84の間にインバータを挿入すべきであ
ったことが判明したとき、配線86を修正して図4に示
すようにつなぎ変えることができれば、この修正された
回路が正しく動作するかどうかを簡単に調べることがで
きる。
In such a case, if an appropriate logic defect relief cell for relieving a logic defect is prepared as a spare in a circuit element non-fabrication region, even if a defect is found at the stage of trial manufacture, either It is possible to correct the circuit connection again by using the logic defect relief cell and confirm whether or not it operates properly.
For example, as shown in FIG. 3, it is assumed that there is an integrated circuit in which the inverter 82 is preliminarily formed as a logic defect relief cell. To the left and right of this inverter 82, the originally used AND
There are gates 80 and 82, and the output of AND gate 80 is connected to one input of AND gate 84. Figure 2
AND gate 80
If it is found that an inverter should have been inserted between the AND gate 84 and the AND gate 84, if the wiring 86 can be modified and reconnected as shown in FIG. Can be easily checked.

【0022】ところで、実際の製品では、過酷な条件下
での使用に耐えうるよう種々の仕様に十分な余裕を持た
せてある。例えば電源配線は、集積回路を普通の状況下
で使用するときに必要とされる幅よりも十分太くしてあ
る。しかしながら、試作した集積回路に動作不良が見つ
かり、それを修正して実際に正しい論理動作が行われる
かどうかを確認するだけであればそれ程太い電源配線は
必要ない。したがってその電源配線の一部を、例えばフ
ォーカスド・イオン・ビーム装置(FIB)等の装置を
用いてはぎ取り、下層の論理不良救済用セルを顕在化さ
せ、タングステン等の導線を使ってその論理不良救済用
セルの端子と必要な箇所とをつないで回路接続を修正し
ても、この修正された状態で正常な動作が行われること
を確認することについては何ら問題はない。このように
すれば、自動配置配線ツールの段階まで戻ってレイアウ
トを作成しなおし、それに基づいて新たな試作の集積回
路を再度作製するという作業は不要となる。
By the way, in actual products, various specifications have a sufficient margin so that they can be used under severe conditions. For example, the power wiring is sufficiently thicker than that required when the integrated circuit is used under normal circumstances. However, if an operation failure is found in the prototype integrated circuit and it is merely corrected to confirm whether or not the correct logical operation is actually performed, the power wiring that is thick is not necessary. Therefore, a part of the power supply wiring is stripped off by using a device such as a focused ion beam device (FIB) to expose the logic defect relief cell in the lower layer, and the logic defect is formed by using a conductor such as tungsten. Even if the circuit connection is corrected by connecting the terminal of the relief cell and a necessary portion, there is no problem in confirming that the normal operation is performed in this corrected state. In this way, it is not necessary to return to the stage of the automatic placement and routing tool to recreate the layout and recreate a new prototype integrated circuit based on the layout.

【0023】ところで、従来の集積回路では、図2のフ
ィードスルーセル36等や電源配線の下層には回路素子
は形成されていない。少ない面積により多くの回路素子
を集積したいという観点からは、これらの領域を利用し
ないまま残しておくのは効率的でない。そこで本実施例
では、これらの回路素子未作製領域に論理不良救済用セ
ルを配置する。
By the way, in the conventional integrated circuit, no circuit element is formed in the feedthrough cell 36 of FIG. From the perspective of wanting to integrate many circuit elements in a small area, it is not efficient to leave these regions unused. Therefore, in the present embodiment, the logic defect relief cells are arranged in these circuit element non-fabrication regions.

【0024】図5は、フィードスルーセルの領域にCM
OSのインバータを論理不良救済用セルとして形成した
集積回路の断面図である。同図においてシリコン基板6
0上に形成された拡散層62及び64と、その上のPg
層(ポリシリコン層)によって論理不良救済用セルとな
るインバータ用のトランジスタ74が構成される。アル
ミニウム層(Al層)68、72はゲートの入出力又は
ゲート同士を接続する配線に用いられる。また層66、
70は二酸化珪素(SiO2 )からなる絶縁層である。
トランジスタ74の入力はAl層68には接続されてい
るが、その出力はAl槽72には接続されていない。し
たがって外部の回路から独立しており、これを用いて回
路接続を修正する場合を除き,通常の場合は使用されな
い。
FIG. 5 shows a CM in the area of the feedthrough cell.
FIG. 6 is a cross-sectional view of an integrated circuit in which an OS inverter is formed as a logic defect relief cell. In the figure, the silicon substrate 6
0 and the diffusion layers 62 and 64 formed on top of Pg
The layer (polysilicon layer) constitutes a transistor 74 for an inverter, which serves as a cell for remedying logic defects. The aluminum layers (Al layers) 68 and 72 are used for input / output of gates or wiring for connecting gates. Also layer 66,
70 is an insulating layer made of silicon dioxide (SiO 2 ).
The input of the transistor 74 is connected to the Al layer 68, but its output is not connected to the Al tank 72. It is therefore independent of the external circuitry and is not normally used unless it is used to modify circuit connections.

【0025】実際に論理不良救済用セルのトランジスタ
74を使用する必要が生じた場合には、上記のFIB装
置等でその上のAl層72、絶縁層70をはぎ取り、ト
ランジスタ74の出力端子を取り出し、そしてタングス
テンの導線等を使って必要な箇所と接続する。このよう
にして修正した集積回路は動作確認を行うことができ、
レイアウト段階まで戻って試作用集積回路を作製しなお
す必要はない。
When it is actually necessary to use the transistor 74 of the logic defect relief cell, the Al layer 72 and the insulating layer 70 thereabove are stripped off by the FIB device or the like, and the output terminal of the transistor 74 is taken out. , And connect it to the required place using a tungsten wire or the like. The integrated circuit modified in this way can be checked for operation,
There is no need to go back to the layout stage and recreate the prototype integrated circuit.

【0026】或いはまた、実際の集積回路の試作品を作
製する場合には、一般に、多数くある工程のそれぞれに
いてそれらの工程が終えた段階で、その工程まで終了し
たウェハをある程度の数だけ残しておくことが多い。一
例として、試作工程が全部で10工程あり、そのうち第
7工程までがセル層の形成で、第8工程以降が配線層の
形成であるとする。そして試作された集積回路に論理不
良があることが判明したので論理不良救済用セルを使っ
て配線を変更しようとした場合に、配線工程のマスクだ
けを変更すればよいので、第7工程までで止まっている
すべてのウェハをそのまま利用することが可能となる。
Alternatively, in the case of manufacturing a prototype of an actual integrated circuit, generally, in each of a large number of processes, at the stage when those processes are completed, a certain number of wafers that have been completed up to that process are used. Often left. As an example, it is assumed that there are a total of 10 trial production steps, of which the cell layer is formed up to the seventh step and the wiring layer is formed after the eighth step. Since it was found that the prototyped integrated circuit had a logic defect, if an attempt is made to change the wiring by using the logic defect relief cell, only the mask in the wiring process needs to be changed. It is possible to use all the stopped wafers as they are.

【0027】一般に集積回路を作製する工程のうち、セ
ルを形成する工程、特に図5の拡散層62、64を形成
する工程は、セル同士の配線を行うAl層68、72を
形成する工程に比べて時間や手間がかかる。したがっ
て、論理不良救済用セルを含めたセルの作製工程までは
比較的多くのウェハを流し、それ以降の工程について
は、まず少ないウェハだけを流して試作された段階で動
作確認を行い、不良があった場合は論理不良救済用セル
を使って回路接続を変更し、正しく動作することが確認
されたら配線工程のマスクを正しく作り直し、そしてセ
ルの作製工程で止まっているウェハをこの新たなマスク
を使った配線工程へと進める。このようにすることによ
り、試作された集積回路に論理不良があったときに無駄
になるウェハの数が最小限に抑えられるとともに、その
修正に要する期間、コスト、労力などが大幅に削減でき
る。
Of the steps of forming an integrated circuit, the step of forming cells, particularly the step of forming diffusion layers 62 and 64 of FIG. 5, is the same as the step of forming Al layers 68 and 72 for wiring cells. It takes time and effort compared to. Therefore, a relatively large number of wafers are flown up to the cell manufacturing process including the logic defect relief cell, and for the subsequent processes, only a small number of wafers are flowed first, and the operation is confirmed at the stage of trial manufacture to check for defects. If so, change the circuit connection using the logic defect relief cell, correct the mask in the wiring process if it is confirmed to operate correctly, and use the new mask for the wafer stopped in the cell manufacturing process. Proceed to the wiring process used. By doing so, the number of wafers that are wasted when a prototype integrated circuit has a logic defect can be minimized, and the period, cost, and labor required for the correction can be significantly reduced.

【0028】ところで、図2に示すように一つの集積回
路中にはフィードスルーセル32、34、36、38、
40などが数多くある。したがって、これらのフィード
スルーセルや電源配線のうちどこにどういった種類の論
理不良救済用セルを配置するかが問題となる。本実施例
では、どういう論理不良救済用セルをどこの位置に配置
するかをコンピュータを使って計算し、論理不良救済用
セルを含んだ集積回路の新しいレイアウトを自動的に作
成する。
By the way, as shown in FIG. 2, in one integrated circuit, feedthrough cells 32, 34, 36, 38,
There are many such as 40. Therefore, it becomes a problem where and what kind of logic defect relief cell is arranged in these feedthrough cells and power supply wirings. In this embodiment, a computer is used to calculate what kind of logic defect relief cell is to be arranged, and a new layout of an integrated circuit including the logic defect relief cell is automatically created.

【0029】図1は論理不良救済用セルを含んだ集積回
路のレイアウトをコンピュータで自動作成するための工
程を示したフローチャートである。まずステップS1で
は、自動配置配線ツールによって作成された図2のよう
な集積回路のレイアウトデータを読み込む。
FIG. 1 is a flow chart showing a process for automatically creating a layout of an integrated circuit including logic failure relief cells by a computer. First, in step S1, the layout data of the integrated circuit as shown in FIG. 2 created by the automatic placement and routing tool is read.

【0030】ステップ2では、論理不良救済用セルに関
するデータを入力する。例えば図5で説明したように、
フィードスルーセルや電源配線の下層に論理不良救済用
セルを配置する場合、Al層72が使われているセルを
配置すると配線とショートするのでこのようなセルは使
えない。またフィードスルーセルは図2の32と40で
は面積が異なるので、配置できる論理不良救済用セルの
種類はそのサイズによっても制限される。この論理不良
救済用セルに関するデータは、このような論理不良救済
用セルとして配置するセルの個々のレイアウトなどに関
するデータである。このデータは、オペレータが入力す
る代わりに、予めライブラリーとして用意してあるデー
タをコンピュータに読み込ませることによっても行うこ
とができる。
In step 2, data relating to the logic defect relief cell is input. For example, as explained in FIG.
When arranging a cell for logic defect relief in the lower layer of the feedthrough cell or the power supply wiring, if a cell using the Al layer 72 is arranged, such a cell cannot be used because it is short-circuited with the wiring. Since the areas of the feedthrough cells are different between 32 and 40 in FIG. 2, the types of logic defect relief cells that can be arranged are also limited by their size. The data relating to the logical defect relief cell is data relating to individual layouts of cells arranged as such logical defect relief cells. This data can also be obtained by reading the data prepared in advance as a library into a computer instead of being input by the operator.

【0031】ステップS3では、回路素子未作製領域に
どういう回路素子を配置するかという配置条件に関する
データを入力する。例えば、フィードスルーセルや論理
不良救済用セルの形状だけを考慮したときに特定のフィ
ードスルーセルに配置できる論理不良救済用セルの種類
が複数あったとする。このとき、そのフィードスルーセ
ルに配置する論理不良救済用セルの種類をそれ以上の考
慮をせずに決めると、その周辺に不良が発生したときに
その論理不良救済用セルがその不良箇所の修正に使える
ものである確率は低い。そこで、不良が発生したときに
予め用意してある論理不良救済用セルを使って修正を行
える可能性を高めるため、何らかの規則性に基づいて配
置する論理不良救済用セルの種類を決定することが望ま
しい。このようにすれば何らかの論理不良が発見された
ときに、修正のバリエーションが豊富となる。そのため
の条件データがここでいう配置条件に関するデータであ
る。
In step S3, data relating to arrangement conditions such as what kind of circuit element is to be arranged in the circuit element non-fabrication area is input. For example, it is assumed that there are a plurality of types of logic defect relief cells that can be arranged in a specific feedthrough cell when only the shapes of the feedthrough cells and the logic defect relief cells are taken into consideration. At this time, if the type of the logic defect relief cell to be arranged in the feed-through cell is determined without further consideration, the logic defect relief cell corrects the defect location when a defect occurs in its periphery. The probability that it can be used for is low. Therefore, in order to increase the possibility of making a correction using a prepared logic defect relief cell when a defect occurs, the type of the logic defect relief cell to be arranged can be determined based on some regularity. desirable. In this way, when some kind of logic defect is found, a variety of corrections are available. The condition data for that is the data relating to the arrangement condition here.

【0032】具体的には、例えば3入力NANDが本来
のゲートとしてあるときに、その入力にもう一つ条件を
付けて4入力NANDにしたいという状況がしばしばあ
るとする。そのようなときに、その周辺のフィードスル
ーセルや電源配線の下層に3入力NANDにもう一つ入
力を形成するためのセルを用意しておくと論理回路の変
更が生じた場合の救済が簡単に行える。或いは、フィー
ドスルーセルの周囲に最も多いゲートと同系列のゲート
を論理不良救済用セルとして予め用意しておくこともで
きる。すわなち何らかの論理不良が発見されたときに、
最も修正のバリエーションが豊富となるような種類の論
理不良救済用セルを用意することが望ましい。本実施例
ではコンピュータを用いて、このような配置条件に関す
るデータから最適な論理不良救済用セルを自動的に決定
させる。
More specifically, for example, when a 3-input NAND is used as an original gate, it is often the case that it is desired to add another condition to the input to make it a 4-input NAND. In such a case, if a cell for forming another input to the 3-input NAND is prepared in the lower layer of the feed-through cell or the power supply wiring in the periphery, relief in the case where the logic circuit is changed is easy. You can do it. Alternatively, gates in the same series as the most gates around the feedthrough cell can be prepared in advance as the logic defect relief cell. That is, when some kind of logic defect is discovered,
It is desirable to prepare a type of logic defect relief cell that has the greatest variety of modifications. In this embodiment, a computer is used to automatically determine the optimum logic defect relief cell from the data relating to such arrangement conditions.

【0033】図1のステップS4では、上で読み込んだ
レイアウトデータから、トランジスタが形成されていな
い回路素子未作製領域を計算して求める。レイアウトデ
ータには、チップ上のすべての素子や配線に関する位置
的なデータがすべてふくまれているからである。ステッ
プS5では、S3で入力したデータと、S4で求められ
た回路素子未作製領域の中から、予め入力した配置条件
に関するデータに基づき論理不良救済用セルの配置条件
に適合する領域を計算で求める。論理不良救済用セルを
配置する場所が求められたら、ステップS6において、
図3に示すような論理不良救済用セルを配置する。
In step S4 of FIG. 1, a circuit element unfabricated region in which no transistor is formed is calculated and obtained from the layout data read above. This is because the layout data includes all positional data regarding all elements and wirings on the chip. In step S5, from the data input in step S3 and the circuit element non-fabricated area obtained in step S4, a region that conforms to the placement condition of the logic defect relief cell is calculated based on the data relating to the placement condition input in advance. . When the location for arranging the logic defect relief cell is obtained, in step S6,
A logic defect relief cell as shown in FIG. 3 is arranged.

【0034】このようにして論理不良救済用セルの配置
が決定され、データの中で論理不良救済用セルが配置さ
れたら、ステップS7において新しいレイアウトデータ
を出力する。図6は、図2のレイアウトの中のフィード
スルーセル32、34、36、38の領域に、それぞれ
論理不良救済用セル92、94、96、98を配置した
新たなレイアウトを示した図である。これらの論理不良
救済用セルは図2のフィードスルーセルの面積を考慮し
て、その中に収まるようなものが選択されている。こう
して作成された新しいレイアウトに基づいて論理不良救
済用セルを含んだ集積回路を作製すると、その集積回路
は、どこかに不良が発見されたときに、その近傍の論理
不良救済用セルを使って修正することができる可能性が
非常に高いものとなる。
In this way, the layout of the logic defect relief cells is determined, and when the logic defect relief cells are arranged in the data, new layout data is output in step S7. FIG. 6 is a diagram showing a new layout in which logic defect relief cells 92, 94, 96, 98 are arranged in the regions of the feedthrough cells 32, 34, 36, 38 in the layout of FIG. 2, respectively. . Considering the area of the feedthrough cell shown in FIG. 2, these logic defect relief cells are selected so as to be contained therein. When an integrated circuit including a logic defect relief cell is produced based on the new layout created in this way, when a defect is found somewhere, the integrated circuit uses the logic defect relief cell in the vicinity thereof. It is very likely that you can fix it.

【0035】尚、本発明は上記の実施例に限定されるも
のではなく、その要旨の範囲内で種々の変形が可能であ
る。
The present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made within the scope of the invention.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明したように請求項1記載の発明
によれば、論理不良救済用セルの配置条件に関するデー
タなどから自動的に作成される新しいレイアウトデータ
に含まれる論理不良救済用セルは、その近傍で不良が発
見されたときに不良救済用として用いられる可能性が非
常に高く、また、予め回路素子未作製領域に論理不良救
済用セルが形成された集積回路のレイアウトが得られる
ので、このレイアウトに従って集積回路を試作すれば、
たとえその後に不良が発見された場合であってもこの論
理不良救済用セルを用いて修正することにより、もう一
度レイアウト段階まで戻って集積回路を試作しなおさな
くてもその動作確認を行うことができるので、集積回路
の開発に要する期間、労力、材料費を大幅に削減できる
集積回路の自動配置配線方法を提供することができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the logic defect relief cell included in the new layout data automatically created from the data relating to the placement condition of the logic defect relief cell is , It is very likely to be used for defect relief when a defect is found in the vicinity of the defect, and a layout of an integrated circuit in which logic defect relief cells are formed in advance in the circuit element non-fabrication region can be obtained. , If you prototype an integrated circuit according to this layout,
Even if a defect is found after that, the operation can be confirmed without repairing the integrated circuit again by returning to the layout stage by correcting with the logical defect relief cell. Therefore, it is possible to provide an automatic placement and routing method for an integrated circuit, which can significantly reduce the period, labor, and material cost required for the development of the integrated circuit.

【0037】請求項2記載の発明によれば、上記効果の
他、本来の回路素子が形成されていないフィードスルー
セル又は電源配線が形成される領域に論理不良救済用セ
ルを設けることにより、空間効率の高い集積回路の自動
配置配線方法を提供することができる。
According to the second aspect of the present invention, in addition to the above effects, by providing the logic defect relief cell in the region where the original circuit element is not formed, or in the area where the power supply wiring is formed, the space for space is provided. An automatic placement and routing method for an integrated circuit with high efficiency can be provided.

【0038】請求項3記載の発明によれば、請求項1又
は2記載の方法によって作成することにより、予め論理
不良救済用セルが回路素子未作製領域に形成されてあ
り、したがって試作した後に不良が発見された場合であ
ってもこの論理不良救済用セルを用いて修正することに
より、もう一度レイアウト段階まで戻って試作しなおさ
なくてもその動作確認を行うことができるので、開発に
要する期間、労力、材料費を大幅に削減できる集積回路
を提供することができる。
According to the third aspect of the invention, the logic defect relief cell is formed in advance in the circuit element non-fabricated region by the method according to the first or second aspect of the invention. Even if is found, the operation can be confirmed by correcting with this logic defect relief cell without having to go back to the layout stage and prototype again. An integrated circuit that can significantly reduce labor and material cost can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の集積回路の自動配置配線方
法の工程を示したフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing steps of an automatic placement and routing method for an integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】自動配置配線ツールによって作成された集積回
路のレイアウトの一部を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a part of a layout of an integrated circuit created by an automatic placement and routing tool.

【図3】論理不良救済用セルを含んだ集積回路の一部の
回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a part of an integrated circuit including logic failure relief cells.

【図4】論理不良救済用セルによって図3に示す回路の
配線の一部を修正した様子を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a state in which a part of the wiring of the circuit shown in FIG. 3 has been corrected by the logic defect relief cell.

【図5】論理不良救済用セルを含んだ一例の集積回路の
断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of an example integrated circuit including a logic defect relief cell.

【図6】図2のレイアウトに基づいてフィードスルーセ
ルに論理不良救済用セルを配置して作成された新しいレ
イアウトの一部を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a part of a new layout created by arranging logic defect relief cells in feedthrough cells based on the layout of FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 電源ライン(Vdd) 22 グランドライン(GND) 32、34、36、38、40 フィードスルーセル 42、44、46、48、50 配線 62、64 拡散層 66、70 絶縁層 68、72 Al層 80、84 ANDゲート 82 インバータ 92、94、96、98 論理不良救済用セル 20 power supply line (Vdd) 22 ground line (GND) 32, 34, 36, 38, 40 feed through cell 42, 44, 46, 48, 50 wiring 62, 64 diffusion layer 66, 70 insulating layer 68, 72 Al layer 80 , 84 AND gate 82 Inverter 92, 94, 96, 98 Logic defect relief cell

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/822 8832−4M H01L 21/82 R 27/04 T A ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location H01L 21/822 8832-4M H01L 21/82 R 27/04 TA

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路図から作成された回路素子のレイア
ウトに関する第一のデータと、前記レイアウト中の回路
素子未作製領域に配置すべき予備の回路素子に関する第
二のデータと、前記回路素子未作製領域にどういう回路
素子を配置するかという条件に関する第三のデータとを
用い、前記回路素子未作製領域に自動的に予備の回路素
子を配置したレイアウトを作成することを特徴とする集
積回路の自動配置配線方法。
1. A first data relating to a layout of circuit elements created from a circuit diagram, a second data relating to a spare circuit element to be arranged in a circuit element non-fabrication area in the layout, and a circuit element not existing. Using the third data regarding the condition of what kind of circuit element is to be arranged in the manufacturing area, the layout of the integrated circuit is characterized in that a layout in which spare circuit elements are automatically arranged in the circuit element non-manufacturing area is created. Automatic place and route method.
【請求項2】 前記回路素子未作製領域はフィードスル
ーセルが形成される領域又は電源配線が形成される領域
であることを特徴とする請求項1記載の集積回路の自動
配置配線方法。
2. The automatic placement and routing method for an integrated circuit according to claim 1, wherein the circuit element non-fabrication region is a region in which a feedthrough cell is formed or a power supply line is formed.
【請求項3】 請求項1又は2記載の集積回路の自動配
置配線方法によって作成されたレイアウトに基づいて、
前記回路素子未作製領域に前記予備の回路素子を形成し
たことを特徴とする集積回路。
3. Based on a layout created by the automatic placement and routing method for an integrated circuit according to claim 1 or 2,
An integrated circuit, wherein the spare circuit element is formed in the circuit element non-fabrication region.
JP6035401A 1994-02-08 1994-02-08 Automatic arrangement wiring method of integrated circuit and integrated circuit made using the same Withdrawn JPH07221187A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6317865B1 (en) 1998-10-23 2001-11-13 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wiring-capacitance improvement aid device aiding in improvement of points having wiring-capacitance attributable error only with layout modification, method thereof, and medium having a program therefor recorded therein

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6317865B1 (en) 1998-10-23 2001-11-13 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wiring-capacitance improvement aid device aiding in improvement of points having wiring-capacitance attributable error only with layout modification, method thereof, and medium having a program therefor recorded therein

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