JPH07218698A

JPH07218698A - 蛍光板およびそれを利用した放射線撮影装置、並びに蛍光板の製造方法

Info

Publication number: JPH07218698A
Application number: JP6008195A
Authority: JP
Inventors: Noritaka Sato; 則孝佐藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-01-28
Filing date: 1994-01-28
Publication date: 1995-08-18

Abstract

(57)【要約】【目的】より明るい画像を観測できるようにする。【構成】Ｘ線Ｂ１０を、支持体１と光反射層２を介し
て蛍光体層３に入射させる。蛍光体層３より出射された
光を、光学多層薄膜４と鉛ガラス１１を介して観測機１
２により観測させる。光学多層薄膜４は、蛍光体層３よ
り出射された光を法線に集中させる。これにより、観測
機１２は、より明るい画像を観測することができ、コン
トラスト、鮮鋭度も向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば人体等の生体に
Ｘ線、粒子線、γ線などの放射線を外から照射したり、
あるいは、放射性の薬剤を投与して、その内部の状態を
観察する場合に用いて好適な蛍光板およびそれを利用し
た放射線撮影装置、並びに蛍光板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１８は、従来の蛍光板式Ｘ線テレビの
一例の構成を示している。図示せぬＸ線発生装置より放
射されたＸ線Ｂ１０が、図示せぬ人体等の生体に照射さ
れる。そして、生体を透過したＸ線Ｂ１０は、蛍光板１
０に入射される。

【０００３】蛍光板１０は、例えば合成樹脂などよりな
る支持体１を有し、そのＸ線Ｂ１０の入射側と反対側に
は、蛍光体層３が配置されている。この蛍光体層３は、
例えば希土類蛍光体Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂを有しており、こ
の蛍光体は、Ｘ線Ｂ１０が入射されると、発光（可視
光）Ｂ１１を発生するようになされている。この光Ｂ１
１は、図中右方向の立体角２πの空間に放出されるが、
その放出分布は、ランバート（Ｌａｍｂｅｒｔ）則に従
ったものとなる。

【０００４】光Ｂ１１のうち、蛍光体層３の面に略垂直
な方向に放出される光Ｂ１１−１は、鉛ガラス１１を介
して、ビデオカメラよりなる観測機１２に入射される。
この光Ｂ１１−１の強度は、蛍光体層３に入射されるＸ
線Ｂ１０の強度に対応する。そして、この蛍光体層３に
入射されるＸ線Ｂ１０の強度は、生体の内部の状態に対
応して変化する。その結果、観測機１２により、生体の
内部の状態に対応した画像を観察することができる。

【０００５】鉛ガラス１１は、Ｘ線Ｂ１０が蛍光板１０
を透過して、観測機１２（観察者）に照射されるのを抑
制するために設けられている。

【０００６】また、蛍光体層３において発生される光
は、観測機１２側に対して放出されるだけでなく、その
反対側、即ち、支持体１側にも放出される。この支持体
１側に放出される光は、観測機１２により観測すること
ができないため、無駄な光となってしまう。

【０００７】そこで、支持体１と蛍光体層３の間には、
光反射層２が設けられている。この光反射層２は、蛍光
体層３より入射された光を反射し、鉛ガラス１１側に放
出させる。これにより、観測機１２により、より多くの
光（明るい画像）を観測することができるようになされ
ている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の蛍光
板は、輝度とコントラストが低く、かつ、鮮鋭度が充分
でない課題を有していた。

【０００９】最初に、輝度が低い原因について説明す
る。輝度が低い原因の１つは、例えば図１８に示すよう
に、蛍光体層３より放出された光Ｂ１１のうち、観測機
１２の方向以外の方向に放出される光Ｂ１１−２により
生起される。即ち、このように、観測機１２により補足
されない光Ｂ１１−２が発生すると、その分だけ、観測
機１２により補足される光Ｂ１１−１の光量が少なくな
る。このため、画像の輝度が低下するのである。

【００１０】これを解決するには、例えば光学系を用い
て、光Ｂ１１−２を集光し、観測機１２に入射させるこ
とが考えられる。

【００１１】しかしながら、例えば、Ｆナンバが１．８
のレンズを用いて、拡大率１／４０で蛍光板１０を観測
すると、蛍光板１０からの発光放出分布を考慮すると、
蛍光板１０から観測機１２側に放出される全ての光のう
ち、観測される光は、５×１０^-5程度と計算される。即
ち、レンズにより集光しようとしても、その効率は極め
て小さいものとなる。

【００１２】そこで、光学系を大きくすることが考えら
れる。例えばＸ線間接撮影装置においては、大きな凹面
鏡を用いて集光するミラーカメラ（この場合、観測機１
２はスチルカメラ）が考案されている。しかしながら、
このミラーカメラは、装置自身が極めて大きくなるとい
う課題を有している。

【００１３】また、コントラストは、図１９に示すよう
に、外部から迷光Ｂ１４が蛍光板１０に入射されること
によって低下する。そこで、この場合、蛍光板１０と観
測機１２を暗箱１３の内部に配置し、その内部に迷光Ｂ
１４が入射しないようにすることで、コントラストの低
下を抑制することが可能である。

【００１４】しかしながら、この場合、蛍光板１０より
放出された光Ｂ１１の一部の光（観測機１２で補集され
ない光の殆どの光）が、暗箱１３の内壁に照射される
と、そこで乱反射され、光Ｂ１２として、様々な方向に
進行する。そして、この光Ｂ１２のうちの一部の光Ｂ１
３が、蛍光板１０に入射される。この光Ｂ１３は、迷光
と同様に作用するため、コントラストを低下させる。

【００１５】そこで、このような場合、暗箱１３の内壁
を、つや消し処理したり、あるいは黒色塗料を塗布する
等して、光吸収面とすることが考えられる。

【００１６】しかしながら、内壁面を完全吸収面にする
ことは困難であり、光Ｂ１３は蛍光体層３に入射され、
そこで散乱反射され、光Ｂ１５として、各方向に進行す
る。この光Ｂ１５のうち、蛍光板１０と垂直な方向（法
線方向）に進行した光Ｂ１５−１は、観測機１２に入射
されるため、本来の光Ｂ１１−１のコントラストを低下
させる要因となる。

【００１７】また、迷光Ｂ１４を抑制する他の方法とし
て、蛍光板１０の観測機１２側の面を、蛍光体層３より
発生される光の波長以外の波長領域の光を吸収する染料
で染色する方法（蛍光体層３の中または表面に染料を混
ぜるか、鉛ガラス１１がある場合は、その全体または表
面を染色する方法）がある。この場合、光Ｂ１３による
コントラストの低下を、より効果的に抑制するには、さ
らに、発光波長領域の光も吸収するようにする必要があ
る。しかしながら、そのようにすると、観測すべき光Ｂ
１１−１も吸収されるため、輝度（画像の明るさ）が低
下してしまう。

【００１８】次に、図２０を参照して、鮮鋭度の低下の
原因について説明する。

【００１９】同図に示すように、蛍光体層３により発生
された光Ｂ１１−２のうち、一部の光は、鉛ガラス１１
の表面で反射され、光Ｂ１６として再び蛍光体層３に入
射される。この光Ｂ１６は、蛍光体層３で散乱反射さ
れ、光Ｂ１７となる。この光Ｂ１７のうちの一部の光Ｂ
１７−１は、蛍光板１０の法線方向の光となり、観測機
１２に入射される。

【００２０】このように、鉛ガラス１１の表面で反射さ
れた光Ｂ１６が蛍光体層３に入射され、そこで散乱反射
される過程は繰り返されるが、多重の反射、散乱反射に
より、次第に再入射光は減少する。従って、これらの光
Ｂ１７は、光Ｂ１１が発生する場所の近傍において、局
所的に発生するものとなる。このため、この光Ｂ１７−
１は、画像の鮮鋭度を低下させる要因となる。

【００２１】このため、鉛ガラス１１を染色し、光Ｂ１
６やＢ１７の光量を抑制するようにすることが考えられ
る。しかしながら、そのようにすると、本来の光Ｂ１１
−１の光量も抑制されていまい、輝度が低下してしまう
課題が発生する。

【００２２】そこで、さらに鉛ガラス１１の表面に反射
防止処理を施し、光Ｂ１６の発生を抑制する方法も考え
られるが、その効果は充分なものではない。

【００２３】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、輝度とコントラストを改善するとともに、
より大きな鮮鋭度が得られるようにするものである。

【００２４】

【課題を解決するための手段】本発明の蛍光板は、入射
される放射線を可視光に変換する蛍光板において、入射
される放射線を可視光に変換する蛍光体層（例えば図１
の蛍光体層３）と、蛍光体層の放射線の入射側とは反対
側に配置され、可視光をその法線方向に集中させる光学
多層薄膜（例えば図１の光学多層薄膜４）とを備えるこ
とを特徴とする。

【００２５】この蛍光板には、光学多層薄膜の放射線の
入射側と反対側に、放射線の放出を抑制するガラス（例
えば図１の鉛ガラス１１）を配置したり、蛍光体層によ
り発生された可視光が、放射線の入射側に放出されるの
を阻止するように、蛍光体層の放射線の入射側に光反射
層（例えば図１の光反射層２）を配置したり、放射線が
入射される側に支持体（例えば図１の支持体１）を配置
し、光反射層を、支持体に形成させることができる。

【００２６】光学多層薄膜は、蛍光体層により発生され
る可視光のうち、主ピークの波長の可視光に対して、角
度依存性を有するショートパスフィルタを構成させるよ
うにしたり、バンドパスフィルタを構成するようにする
ことができる。

【００２７】光学多層薄膜は、ＳｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｔ
ｉＯ₂，ＴａＯ₂，Ｔａ₂Ｏ₅のいずれかにより構成するこ
とができる。

【００２８】蛍光体層は、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ，Ｇｄ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｅｕ，Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｐｒ，ＣｓＩ：Ｎａ，ＣｓＩ：
Ｔｌ，Ｌａ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ，ＬａＯＢｒ：Ｔｂ，ＺｎＣｄ
Ｓ：Ａｇのいずれかにより構成することができる。

【００２９】また、このような蛍光板を利用して、放射
線撮影装置を実現することができる。

【００３０】本発明の蛍光板の製造方法は、入射される
放射線を可視光に変換する蛍光板の製造方法において、
可視光を透過するガラス板の上に、可視光をその法線方
向に集中させる光学多層薄膜を形成し、光学多層薄膜の
上に、入射される放射線を可視光に変換する蛍光体層を
形成することを特徴とする。

【００３１】この蛍光体層の表面を平面平滑化処理し、
その上に、蛍光体層により発生された可視光が、放射線
の入射側に放出されるのを阻止する光反射層を形成する
ことができる。

【００３２】また、蛍光体層を形成したガラス板に、支
持体を接合したり、支持体の上に、可視光を反射する光
反射層を形成した後、蛍光体層を形成したガラス板と接
合するようにすることもできる。

【００３３】さらに本発明の他の蛍光板の製造方法は、
入射される放射線を可視光に変換する蛍光板の製造方法
において、可視光を透過するガラス板の上に、可視光を
その法線方向に集中させる光学多層薄膜を形成し、支持
体の上に、入射される放射線を可視光に変換する蛍光体
層を形成し、蛍光体層を形成した支持体と、光学多層薄
膜を形成したガラス板を接合することを特徴とする。

【００３４】本発明のさらに他の蛍光板の製造方法は、
入射される放射線を可視光に変換する蛍光板の製造方法
において、支持体の上に、入射される放射線を可視光に
変換する蛍光体層を形成し、蛍光体層の表面を平面平滑
化処理し、蛍光体層の上に、可視光をその法線方向に集
中させる光学多層薄膜を形成することを特徴とする。

【００３５】この光学多層薄膜を形成した支持体を、さ
らに放射線の通過を抑制するガラス板と接合するように
することもできる。

【００３６】また、支持体の上に、蛍光体層を形成する
前に、可視光を反射する光反射層を形成し、光反射層の
上に、蛍光体層を形成するようにしてもよい。

【００３７】これらのガラスは鉛ガラスとすることがで
きる。

【００３８】

【作用】上記構成の蛍光板およびこれを用いた放射線撮
影装置においては、蛍光体層により発生された可視光
が、光学多層薄膜により、法線方向に集中される。従っ
て、輝度とコントラストを改善し、また、鮮鋭度を向上
させることが可能となる。

【００３９】上記構成の蛍光板の製造方法においては、
ガラス板の上に、光学多層薄膜、蛍光体層を順に形成す
ることで、あるいは、支持体の上に、蛍光体層、光学多
層薄膜を順に形成することで、蛍光板が製造される。こ
れにより、確実に、蛍光板を製造することができる。

【００４０】あるいはまた、光学多層薄膜と蛍光体層を
順次形成したガラス板に支持体を接合したり、蛍光体層
を形成した支持体と、光学多層薄膜を形成したガラス板
を接合することで製造される。従って、蛍光体層の表面
の平面平滑化処理が不要となり、製造が容易となる。ま
た、個別に製造したものを組み合わせるので、歩留まり
を向上させることができる。

【００４１】

【実施例】図１は、本発明の放射線撮影装置の一実施例
の構成を示す図であり、従来における場合と対応する部
分には同一の符号を付してあり、その説明は適宜省略す
る。この実施例においては、蛍光板１０が光学多層薄膜
４を有していることを特徴とする。この光学多層薄膜４
は、蛍光体層３と鉛ガラス１１の間に配置される。その
他の構成は、従来の場合と同様である。

【００４２】光学多層薄膜４は、図２に示すように、複
数枚（ｋ枚）の薄膜４₁乃至４_kにより構成される。これ
らの薄膜４_iの屈折率ｎ_iは、低屈折率と高屈折率となる
ように構成される。低屈折率の物質としては、例えば、
二酸化珪素（ＳｉＯ₂）、酸化アルミ（Ａｌ₂Ｏ₃）を用
いることができ、また、高屈折率の物質としては、例え
ば、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化タンタル（ＴａＯ₂
またはＴａ₂Ｏ₅）を用いることができる。

【００４３】光反射層２は、例えば高反射率のアルミニ
ウムなどの薄膜や誘電体ミラーにより構成することが可
能であるが、特別に光反射層２を形成するのではなく、
支持体１を、例えば白色の合成樹脂で構成する場合、そ
の表面を、そのまま光反射層２として用いるようにする
ことも可能である。

【００４４】本発明に用いる蛍光体としては、従来求め
られてきた基本的な特性、即ち、Ｘ線吸収率が良好であ
ること、発光効率が良いこと、発光寿命（残光特性）が
良好であること等に加え、光学多層薄膜４に対する作用
の点から、発光主ピークの全発光に対する割合が大き
く、かつ、それが輝線（波長帯域が狭い光）であること
が望ましい。

【００４５】尚、蛍光体層３は、蛍光体粉体を所定の基
板（後述するように、支持体１または光学多層薄膜４を
形成した鉛ガラス１１）に塗布して作成したり、あるい
はスパッタリングや蒸着などにより形成することが可能
である。

【００４６】蛍光体層３としては、従来の場合と同様
に、希土類蛍光体であるＧｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂの他、Ｇｄ₂
Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ，Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｐｒ，ＣｓＩ：Ｎａ，Ｃｓ
Ｉ：Ｔｌ，Ｌａ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ，ＬａＯＢｒ：Ｔｂ，Ｚｎ
ＣｄＳ：Ａｇなどを用いることができる。例えばＧｄ₂
Ｏ₂Ｓ：Ｔｂは、図３に示すような発光スペクトルを有
し、その主発光ピーク波長は５４５nmであり、緑色の光
となる。

【００４７】光学多層薄膜４は、所謂光学干渉フィルタ
を構成するものであり、蛍光体層３の発生する光の主発
光ピーク波長（５４５nm）の光が入射角０度で入射され
るとき、それをできるだけ減衰せずに（当然、反射も少
なくし）、透過するような特性を有するように作成され
る。

【００４８】この光学多層薄膜４の特性は、図４に示す
ように、約５６０nmより短い波長の光を透過させるショ
ートパスフィルタ型（ＳＰＦ型）のもの、または、図５
に示すように、主発光ピーク波長（５４５nm）を中心と
する所定の波長領域の光を透過させるバンドパス型（Ｂ
ＰＦ型）とする。

【００４９】いずれの型のフィルタであるとしても、光
学多層薄膜４は、所望の波長の光を透過するだけでな
く、それ以外の波長の光を、吸収するのではなく、反射
するものであることが好ましい。

【００５０】図２に示した薄膜４_iの厚さと、その層の
数を適宜調節することで、光学多層薄膜４を所望の特性
に設定することが可能である。この光学多層薄膜４の全
体の厚さは、数μm程度である。

【００５１】この光学多層薄膜４は、合成樹脂の支持体
１の表面に、必要に応じて光反射層２を形成し、その上
に蛍光体層３を形成し、その蛍光体層３上に、蒸着、ス
パッタリングあるいは印刷等の手法により形成すること
が可能である。この場合、蛍光体粉体を塗布すること
で、蛍光体層３を形成すると、その表面が粗面となるた
め、平面平滑化処理した上で蛍光体層３上に光学多層薄
膜４を作成するようにする。そして、必要に応じて、光
学多層薄膜４の上に鉛ガラス１１を接合する。

【００５２】あるいはまた、光学多層薄膜４を、鉛ガラ
ス１１の蛍光体層３側に形成することも可能である。即
ち、鉛ガラス１１の上に、光学多層薄膜４を形成したも
のと、支持体１の上に光反射層２を必要に応じて形成
し、その上に蛍光体層３を形成したものを用意する。そ
して、両者の光学多層薄膜４を形成した面と、蛍光体層
３の面とを密着させるようにする。

【００５３】このとき、構造上、蛍光体層３と光学多層
薄膜４の間に若干の間隙が形成されてしまうことがあ
る。この間隙があると、画像の鮮鋭度が低下することに
なる。しかしながら、蛍光体層３の平面平滑化処理が不
要となるため、製作が容易となる効果がある。また、別
個に用意した支持体１（光反射層２が形成されている）
と、鉛ガラス１１（光学多層薄膜４が形成されている）
とを組み合わせるので、歩留まりを向上させることがで
きる。

【００５４】さらに、他の例として、例えば、鉛ガラス
１１の上に光学多層薄膜４を形成し、その上に蛍光体層
３を形成し、蛍光体層３の表面を平面平滑化処理した
後、そこに、さらに光反射層２を形成するようにするこ
とも可能である。このようにすれば、支持体１が不要に
なり、構成が簡略化され、薄型化が可能となる。

【００５５】この他、鉛ガラス１１の上に光学多層薄膜
４を形成し、その上に蛍光体層３を形成し、この鉛ガラ
ス１１に、必要に応じて光反射層２を形成した支持体１
を接合するようにすることもできる。この場合も、蛍光
体層３の平面平滑化処理が不要となるため、製作が容易
となる効果がある。また、個別に作成したものを組み合
わせるので、歩留まりを向上させることができる。

【００５６】以上のように、光反射層２、蛍光体層３お
よび光学多層薄膜４は、種々の方法で形成することが可
能である。

【００５７】また、これらの構成のうちの基本（最低必
要なもの）は、蛍光体層３と光学多層薄膜４である。従
って、例えば、図１に示した構成のうち、光反射層２が
無いものでもよい。

【００５８】尚、鉛ガラス１１は、放射線の放出を抑制
する必要がない場合、省略したり、通常のガラスとする
こともできる。

【００５９】次に、図１の実施例の作用について説明す
る。図示せぬ発生手段から発生されたＸ線Ｂ１０は、図
示せぬ人体等の生体に照射される。この生体を透過した
Ｘ線Ｂ１０は、支持体１および光反射層２を殆ど減衰す
ることなく通過し、蛍光体層３に入射される。Ｘ線Ｂ１
０は、蛍光体層３によりその大部分が吸収される。この
とき、蛍光体層３の蛍光体は、入射するＸ線強度に比例
した光Ｂ１１を発生する。即ち、Ｘ線画像が蛍光体層３
によって可視光の画像に変換される。

【００６０】Ｘ線の一部は、蛍光体層３、さらに光学多
層薄膜４を通過した後、鉛ガラス１１に入射されるが、
そこで略吸収される。これにより、観察者（観測機１
２）がＸ線の被曝から保護される。

【００６１】蛍光体層３により発生された光は、大きく
分けて、蛍光体層３のＸ線入射側（図１において左側）
と、観測側、即ち、観測機１２の存在する側（図１にお
いて右側）に進む。図１において左方向に進んだ光は、
光反射層２により反射され、図中右方向に進行方向が反
転される。これにより、観測機１２により、より多くの
光（明るい画像）を観測することが可能となる。

【００６２】蛍光体層３の光放出側面（観測側の面）は
散乱面であるため、光学多層薄膜４が存在しない場合に
おいては、上述したように、ランバート則に従って、図
６の黒い菱形で示すように光が放出される。

【００６３】尚、図６において矢印は、Ｘ線Ｂ１０の入
射方向を示し、円周上の数字は、放出される光の角度を
表し、径方向の数字は、光量（分光感度（量子効率）が
発光波長領域で、一定の観測機で計測した光量）を表し
ている。

【００６４】また、図６（後述する図１３、図１４、図
１５も同様）は、０度の線を含む水平断面における右側
の９０度の範囲のみを示しているが、実際には、０度の
線を中心として、３６０度回転したような分布となる。

【００６５】しかしながら、本実施例においては、蛍光
体層３の前面に光学多層薄膜４が配置されているため、
この光学多層薄膜４の作用により、光の放出分布特性
が、図６において、黒い四角または白い四角で示したよ
うになる。

【００６６】図６において、黒い四角は、光学多層薄膜
４を、図４に示すように、ＳＰＦ型の特性に設定した場
合のものであり、白い四角は、図５に示すように、ＢＰ
Ｆ型の特性に設定した場合のものである。いずれの特性
に設定した場合においても、光学多層薄膜４を設けない
場合（図６において、黒い菱形で示す場合）に比べて、
光が蛍光板１０の法線方向に集中するようになっている
ことが判る。換言すれば、鋭い指向性を有するようにな
っていることが判る。

【００６７】次に、この分布が法線方向に集中する原理
について説明する。

【００６８】光学多層薄膜４は、光の入射角度に対応し
て、その透過率（従って反射率）の特性が変化する。即
ち、光学多層薄膜４は、透過率の角度依存性を有する。

【００６９】図７は、光学多層薄膜４をＳＰＦ型とした
場合における透過率スペクトルを表している。図７に示
すように、入射角度が大きくなると、光学多層薄膜４の
透過率（反射率）の特性は、短波長シフトを起こす。換
言すれば、光学多層薄膜４は、光の主ピークの波長（５
４５nm）において、このような透過率（反射率）が入射
角度によって変化するように（角度依存性を有するよう
に）形成されている。図７の実施例においては、入射角
度が０度から３０度の範囲においては、約９０％前後の
透過率を有するが、入射角度が４５度以上となると、透
過率は５０％以下に低下している。

【００７０】従って、主ピーク付近の波長（緑色の光）
は、蛍光体層３から光学多層薄膜４に入射する入射角度
が小さいものは、光学多層薄膜４を透過し、略同一の角
度で蛍光板１０（鉛ガラス１１）から放出される。

【００７１】しかしながら、蛍光体層３から光学多層薄
膜４に対して、大きな入射角度で入射した光は、その波
長が主ピーク付近の光であったとしても、光学多層薄膜
４を透過できず、反射され、蛍光体層３へ戻される。こ
の戻された光は、蛍光体層３の蛍光体で散乱反射され
る。そして、再び光学多層薄膜４へ様々な角度で入射す
る。このような一連の過程が繰り返され、最終的に蛍光
板１０から空間への光放出特性は、大きな出力角の光が
少なく、小さい出力角の光が多くなるものとなる。即
ち、図６に示すように、蛍光板１０の法線に集中して光
が放出されることになる。

【００７２】蛍光板１０の法線方向への光の集中化によ
り、蛍光板１０の正面での輝度（画像の明るさ）が従来
における場合より向上する。図６に示すように、ＳＰＦ
型の光学多層薄膜４を用いた場合（黒い四角で示す場
合）、蛍光板１０の法線方向（０度の方向）において
は、光学多層薄膜４を用いない場合（黒い菱形の場合）
に比べて、輝度は約４０％程度高くなる。また、ＢＰＦ
型の場合（白い四角の場合）も、従来の場合（黒い菱形
の場合）より法線方向の輝度が大きくなっている。

【００７３】ところで、蛍光体層３の蛍光体は、図３に
示すように、主ピーク以外の波長の光も発生する。図３
の実施例においては、４００nm付近の青色の光も発生し
ている。このような主ピーク以外の波長の光に対する光
学多層薄膜４の作用は、光学多層薄膜４の型によって異
なる。

【００７４】即ち、例えば図４に示すように、光学多層
薄膜４をＳＰＦ型に設定した場合、この、より短い波長
の領域の光（青色光）では、図７に示すように、入射角
度依存性が少なくなる。従って、主ピークの波長の光の
ように法線方向に集中した光は殆ど得られない。その結
果、この波長の光は、光学多層薄膜４が設けられていな
い従来の場合と同様にふるまう。

【００７５】一方、光学多層薄膜４を、図５に示すよう
に、ＢＰＦ型に設定した場合、主ピークの波長の光は、
ＳＰＦ型の場合と同様にふるまう。これに対して、主ピ
ーク以外の波長の光は、光学多層薄膜４を通過すること
ができない。従って、主ピーク以外の波長の光に起因す
る悪影響が、ＳＰＦ型の場合より少なくなり（理想的に
は、全くなくなり）、コントラストの点で有利となる。
但し、図６に示すように、光学多層薄膜４の特性をＢＰ
Ｆ型にすると、主ピーク以外の波長の光が観測されない
分、輝度の点では、ＳＰＦ型にした場合に比べて劣るこ
とになる。

【００７６】次に、コントラストの向上と鮮鋭度の向上
の原理について説明するが、いずれも略共通の原理とな
る。両者の差は、光の反射による悪影響が、光学多層薄
膜４による作用が現れる光の主ピーク波長に関し、蛍光
板１０の面積に対し、マクロ的（全体的）に現れるか、
ミクロ的（局所的）に現れるかの差となる。

【００７７】図８は、コントラストの向上の原理を説明
するものである。同図に示すように、外部からの迷光Ｂ
１４は、蛍光板１０、鉛ガラス１１、および観測機１２
を、暗箱１３の内部に収容することで抑制することがで
きる。これにより、コントラストが向上する。この点
は、従来の場合と同様である。

【００７８】また、図８に示すように、蛍光体層３より
放出された光Ｂ１１のうち、法線方向から大きく外れた
角度に放出された光が、暗箱１３の内壁に照射される
と、そこで反射され、光Ｂ１２−２として、各方向に進
行する。そのうちの一部が光Ｂ１３として蛍光体層３に
戻されると、光Ｂ１３はそこで散乱反射される。この散
乱反射された光の一部は、不要な光（本来、観測機１２
で観測される必要のない光）となるため、コントラスト
が低下する要因となる。

【００７９】しかしながら、上述したように、本実施例
においては、光学多層薄膜４が設けられている結果、光
Ｂ１１は法線に集中することになる。このため、暗箱１
３の内壁により反射される光Ｂ１２−２、従って、光Ｂ
１３の光量は、従来の場合に比べて少ないものとなり、
コントラストの改善が実現される。

【００８０】さらにまた、上述したように、光学多層薄
膜４は角度依存性を有し、大きな入射角度で入射した光
Ｂ１３を、光Ｂ２０として、そこで反射する。その結
果、戻る光Ｂ１３が蛍光体層３に達せず、そこで散乱反
射されることが抑制されるので、コントラストが改善さ
れる。

【００８１】図９は、鮮鋭度の向上の原理を表してい
る。図９に示すように、光Ｂ１１のうち、一部の光が鉛
ガラス１１の表面で反射され、光Ｂ１６として、光学多
層薄膜４側に戻される。そして、この光Ｂ１６が蛍光体
層３に達すると、そこで散乱反射される。これが光Ｂ１
７−１として、観測機１２により観測されると、鮮鋭度
が低下する要因となる。

【００８２】しかしながら、上述した場合と同様に、光
Ｂ１１は法線方向に集中されており、鉛ガラス１１の表
面で反射され、戻される光Ｂ１６から発生される光Ｂ１
７−１の発光点からの広がりが小さくなるから、鮮鋭度
の低下が抑制される。

【００８３】また、戻る光Ｂ１６のうち、入射角が大き
いものは、光Ｂ１８として光学多層薄膜４で反射され易
く、蛍光体層３には入射され難い。従って、鮮鋭度の低
下が抑制される。

【００８４】光学多層薄膜４がＳＰＦ型の場合、上述し
たように、主ピークの波長の光において、図８と図９に
示した原理に従って、コントラストと鮮鋭度の向上が期
待される。

【００８５】これに対して、より短い波長（例えば、４
００nm）の光においては、光学多層薄膜４の透過率が角
度依存性を有しないため、図８と図９に示したようなコ
ントラストと鮮鋭度の向上を期待することが困難であ
る。しかしながら、主ピークの波長の光において、図８
と図９に示した原理に従ってコントラストと鮮鋭度の向
上を実現することができるため、結局、総合的に、従来
の場合に比べて、コントラストと鮮鋭度の向上を実現す
ることが可能となる。

【００８６】一方、光学多層薄膜４をＢＰＦ型とした場
合、通過される主ピークの波長の光に対しては、ＳＰＦ
型の短波長の光に対する作用と同様に、集中と角度依存
性に起因して、図８と図９に示すようなコントラストと
鮮鋭度の向上を期待することができる。

【００８７】一方、主ピーク付近以外の波長の光は、蛍
光体層３に侵入することが困難となり、その殆どは光学
多層薄膜４で反射される。従って、その分だけ、コント
ラストと鮮鋭度が向上する。即ち、上述したように、Ｂ
ＰＦ型のものは、ＳＰＦ型のものに比べ、輝度の点では
劣るが、コントラストと鮮鋭度の点で有利となる。

【００８８】ところで、光学多層薄膜４を設けると、集
中化の過程において、光学多層薄膜４で反射され、蛍光
体層３へ戻される光が発生する。このような光が存在す
ると、鉛ガラス１１からの反射光がある場合のように、
鮮鋭度の劣化の要因となる恐れがある。しかしながら、
鉛ガラス１１は、その厚さが通常約５mmであるのに対
し、光学多層薄膜４は数μmであり、非常に薄い。従っ
て、光学多層薄膜４により反射された光による蛍光体層
３の発光点からの光の広がりは、実質的に無視すること
ができる。このため、光学多層薄膜４の厚さによる鮮鋭
度の低下は、従来の場合に比べれば、殆ど無視すること
ができる。

【００８９】次に、光学多層薄膜４により構成するＳＰ
Ｆ型の光学干渉フィルタの具体例について説明する。

【００９０】本発明における光学干渉フィルタで重要な
ことは、透過率と反射率を加算したとき、略１００％と
なるようにすることである。即ち、減衰をできるだけ抑
制することである。また、次に重要なことは、透過率
（または反射率）が入射角度依存性を有することであ
る。この２つの特性から、角度放出分布を蛍光板面の法
線方向に集中させることが可能となる。

【００９１】光学干渉フィルタは、一般的に入射角度を
０度として使用するものなので、入射角度０度における
透過率が５０％となる波長で、その特性が規定される。
発明者は、透過率５０％の波長が、５８６nm（ＳＰＦ
３）、５７４nm（ＳＰＦ４）、５６０nm（ＳＰＦ５）ま
たは５５１nm（ＳＰＦ６）の４種類の光学干渉フィルタ
を試作した。図１０乃至図１２は、このうちの、透過率
５０％の波長が、５８６nm（ＳＰＦ３）、５７４nm（Ｓ
ＰＦ４）、または５６０nm（ＳＰＦ５）の光学干渉フィ
ルタの透過率スペクトルを表している。

【００９２】また、図１３には、図１０乃至図１２に示
す光学干渉フィルタの５４５nmの波長における透過率の
角度依存性を表している。図中、白い四角が図１０の、
黒い菱形が図１１の、また白い菱形が図１２の、それぞ
れ特性に対応している。尚、この図１３には、さらに透
過率５０％の波長が５５１nmである光学干渉フィルタ
（ＳＰＦ６）の特性も、黒い三角で示されている。

【００９３】図１３に示すように、ＳＰＦ３，ＳＰＦ４
またはＳＰＦ５においては、入射角度が小さい角度の範
囲で、透過率が約９４％と高い値となっている。これに
対して、入射角度が大きい角度範囲においては、透過率
が数％と低い値となっている。しかしながら、ＳＰＦ６
のように、透過率５０％の波長を５４５nmの値に近づけ
過ぎると、入射角が０度であったとしても、主発光ピー
ク波長の透過率の値そのものが小さくなってしまう。

【００９４】これに対して、例えば波長が４１５nmであ
る光について考察すると、図１０乃至図１２に示すよう
に、角度依存性が殆ど存在しないことになる。換言すれ
ば、この波長の光に対しては、光学干渉フィルタが存在
しない場合と同様となる。

【００９５】このように設計した光学多層薄膜４（光学
干渉フィルタ）を、蛍光体層３と組み合わせると、所定
の波長における放出角度分布は、理論的には次のように
なる。

【００９６】即ち、蛍光体層３からの光の放出角度範囲
をＩ₀cosθとするとき、光学多層薄膜４を介して放出さ
れる光の放出角度分布は、次式で表される。

【００９７】

【数１】

【００９８】これに対して、上述したＳＰＦ３乃至ＳＰ
Ｆ６の光学多層薄膜４を、蛍光体層３に実際に組み合わ
せた場合の発光放出角度分布を図示すると、図１４に示
すようになる。図中、白の四角がＳＰＦ３を用いた場合
の分布であり、黒の菱形がＳＰＦ４を用いた場合の分布
であり、白の菱形がＳＰＦ５を用いた場合の分布であ
り、黒の三角がＳＰＦ６を用いた場合の分布である。ま
た、黒の四角は、光学多層薄膜４を設けない場合の分布
を示している。尚、この図１４の径方向の値は、光量
（分光感度（量子効率）が発光波長領域で、一定の観測
機で計測した光量）を表している。

【００９９】光学多層薄膜４を設けない場合（黒の四角
の場合）、即ち、従来のものでは、どの波長の光に対し
ても、その発光角度分布はcos型となる。これに対し
て、光学干渉フィルタ（光学多層薄膜４）を備えた場
合、その放出角度分布は、フィルタ毎に異なる。また、
ある１つのフィルタにおいても、波長によって、放出角
度分布は異なる。

【０１００】このような発光放出角度分布の光を、所定
の分光感度の観測機１２により観測すると、分光感度が
一定の場合、全ての波長の光の角度放出分布の単純な積
分（平均）となる。図１４は、このような観測結果に基
づいている。

【０１０１】図１４の角度分布をcos（５度）の値で正
規化すると、図１５に示すようになる。尚、図１５にお
いて、白の三角はcosθを表している。

【０１０２】単に、より高い輝度やコントラストを得る
ためには、図１４の発光放出角度分布が、より鋭い指向
性を有するものであるような光学干渉フィルタが好まし
い。即ち、５０％波長位置が、５４５nmに近いもの程好
ましい。しかしながら、光学多層薄膜４を、どのような
特性に設定すればよいのかは、それが組み込まれた蛍光
板を用いる装置の目的、条件等により変化する。換言す
れば、蛍光板だけを考えても、光学多層薄膜４（光学干
渉フィルタ）の特性を決定することはできない。そこで
次に、使用目的に対応した光学多層薄膜の具体例につい
て説明する。

【０１０３】いま、簡単のため、例えば図１６に示すよ
うに、蛍光板１０が、半径３０cmの円板状であり、蛍光
板１０から観測機１２までの距離が８０cmであるとする
と、その半画角は約２０度となる（蛍光板１０が矩形で
ある場合は、その対角線の長さから、半画角が決定され
る）。観測機１２のレンズの直径は、例えば１０cm以下
のものとする。観測機１２の分光感度（量子効率）は、
蛍光体の発光波長の範囲においては一定であるとする。
また、蛍光板１０は、観測機１２を中心とする内球面や
フレネル面ではなく、平面であるものとする。さらに、
Ｘ線は、蛍光板１０の全面に均一に照射され、蛍光体層
３は一様に発光しているものとする。この場合、上述し
た光の放出角度が、観測機１２から蛍光板１０を観測す
る角度に対応することになる。

【０１０４】例えば、蛍光板１０の全面を均一に明るく
観測したい場合、光の角度分布が０度乃至２０度（半画
角）の範囲において、cos型になっていればよい。従っ
て、図１５に示した実施例においては、ＳＰＦ４を用い
たもの（図１５において、黒の菱形で表されているも
の）が適していることが判る。

【０１０５】ＳＰＦ５（図１５において、白の菱形で表
されているもの）を用いたものは、１５度までは、ほぼ
cos型（図１５において、白の三角で表されているも
の）と同様の相対光量を有しているが、２０度において
は、cos型より小さくなっているので、この目的のため
には、あまり好ましいものではない。即ち、２０度（画
面の周辺部）においては、０度（画面の中心部）の場合
に比べて暗くなる。従って、蛍光板１０は、従来のもの
より明るいものの（図１４の黒の四角で示す２０度の値
と、白の菱形で示す２０度の値とを比較して明らかなよ
うに、従来のものよりは明るいが）、中心部に比べる
と、周辺部が暗く観測されてしまうことになる。

【０１０６】図１７は、このことを模式的に表してい
る。同図に示すように、法線方向に光が集中し過ぎる
と、観測機１２は、蛍光板１０の中心部の光としては法
線方向の光を検出するが、周辺部の光としては法線から
離れた角度の光を検出する。このため、中心部は明るく
とも、周辺部が暗く観測されてしまうことになる。

【０１０７】また、ＳＰＦ３を用いたもの（白の四角で
示すもの）と、ＳＰＦ６を用いたもの（黒の三角で示す
もの）は、中心部から周辺部になるに従って、次第に暗
く観測されるので、やはり、目的のためには、あまり好
ましくない。

【０１０８】一方、蛍光板１０を、明るさの均一性は問
わず、従来のもの（光学多層薄膜４を用いないもの）よ
りは明るく観測したい場合、図１４に示すように、ＳＰ
Ｆ６（黒の三角で示すもの）以外のＳＰＦ３（白の四角
で示すもの）、ＳＰＦ４（黒の菱形で示すもの）、また
はＳＰＦ５（白の菱形で示すもの）を用いたものは、い
ずれも半画角２０度の範囲において、従来の場合（黒の
四角で示すもの）より明るくなっている。従って、これ
らのいずれをも、この目的のために使用することが可能
である。但し、ＳＰＦ３を用いたものは、ＳＰＦ４およ
びＳＰＦ５を用いたものに比べ、より均一性が劣ってい
る。

【０１０９】さらに、所定の領域の中心部分だけでも、
非常に明るく観測したい場合においては、その中心部分
の半画角に相当する角度範囲に、光が集中していればよ
い。周辺部においては、例えば従来における場合と同等
の明るさ（光学多層薄膜４を用いない場合と同等の明る
さ）であれば充分となる。この場合、図１４に示すよう
に、ＳＰＦ６を用いたものとするのがよい。

【０１１０】あるいはまた、具体的には図示していない
が、周辺部が従来のものより暗くなっても、中心部さえ
より一層明るくなればよいのであれば、図１４におい
て、さらに集中化（指向性化）された分布のものを選ぶ
ようにすればよい。また、関心のある所定の領域が均一
に明るい必要があるのであれば、その範囲において、図
１３の透過率が平坦な角度範囲のもの（図１４の分布が
cos型に近いもの）を設定するようにする。

【０１１１】このように、光学多層薄膜４の特性は、目
的に応じて設計される。但し、光学多層薄膜４の材料や
層数、層の厚さにより、透過率５０％の波長位置が同じ
光学多層薄膜でも、その透過率スペクトルの角度依存性
が異なるもの（シフト量が異なるもの）を作ることが可
能である。従って、ここで示したような光学多層薄膜４
の透過率５０％の波長位置だけに基づいて、光学干渉フ
ィルタを設計するのではない。重要なことは、使用され
る装置の目的に対応して、蛍光体の主な発光ピーク波長
で透過率の角度依存性を持つように設計することであ
る。

【０１１２】以上、本発明を蛍光板式Ｘ線テレビに用い
た場合を例として説明したが、本発明は、透視装置、間
接撮影装置（ミラーカメラ）等の放射線診断装置を始
め、光、熱、応力、電圧等の各種の読み出し方法によっ
て放出される輝尽蛍光を、光学多層薄膜により光検出器
方向に集中させ、感度の向上とコントラストの向上を図
るようにしたイメージングプレートに適用することがで
きる。

【０１１３】あるいはイメージングインテンシファイア
のように、放射線を可視光に直接変換するのではなく、
放射線を一旦可視光に変換し、その可視光を電子線に変
換し、その電子線をさらに可視光に変換する装置（本明
細書においては、このように、放射線が直接的に可視光
に変換される装置はもとより、間接的に可視光に変換さ
れる装置も、放射線を可視光に変換する装置とする）に
も適用が可能である。

【０１１４】さらに、これらの医療用機器の他、非破壊
検査Ｘ線テレビ等の非医療用の放射線撮影装置にも適用
することが可能である。

【０１１５】

【発明の効果】以上の如く本発明の蛍光板およびそれを
利用した放射線撮影装置によれば、蛍光体層より放出さ
れた光を、光学多層薄膜により法線方向に集中させるよ
うにしたので、より明るい画像を観測することができ、
コントラストあるいは鮮鋭度の向上を図ることが可能と
なる。

【０１１６】また、本発明の蛍光板の製造方法によれ
ば、ガラス板の上に、光学多層薄膜、蛍光体層を順に形
成することで、あるいは、支持体の上に、蛍光体層、光
学多層薄膜を順に形成することで、蛍光板が製造され
る。これにより、確実に、蛍光板を製造することができ
る。

【０１１７】あるいはまた、光学多層薄膜と蛍光体層を
順次形成したガラス板に支持体を接合したり、蛍光体層
を形成した支持体と、光学多層薄膜を形成したガラス板
を接合することで製造される。従って、蛍光体層の表面
の平面平滑化処理が不要となり、製造が容易となる。ま
た、個別に製造したものを組み合わせるので、歩留まり
を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の蛍光板を応用した蛍光板式Ｘ線テレビ
の構成を示す図である。

【図２】図１の光学多層薄膜４の構成例を示す図であ
る。

【図３】図１の蛍光体層３の発光特性を示す図である。

【図４】図１の光学多層薄膜４のフィルタ特性を説明す
る図である。

【図５】図１の光学多層薄膜４の他のフィルタ特性を説
明する図である。

【図６】図４と図５に示した特性の光学多層薄膜４を用
いた蛍光板の発光放出角度分布を説明する図である。

【図７】図１の光学多層薄膜４の透過率スペクトルの角
度依存性を説明する図である。

【図８】コントラスト向上を説明する図である。

【図９】鮮鋭度向上を説明する図である。

【図１０】図１の光学多層薄膜４をＳＰＦ型とした場合
の透過率スペクトルを示す図である。

【図１１】図１の光学多層薄膜４を他のＳＰＦ型とした
場合の透過率スペクトルを示す図である。

【図１２】図１の光学多層薄膜４をさらに他のＳＰＦ型
とした場合の透過率スペクトルを示す図である。

【図１３】図１０乃至図１２に示した特性の角度特性を
説明する図である。

【図１４】図１の蛍光体層３と各種の特性の光学多層薄
膜４を組み合わせた場合の光の角度分布特性を説明する
図である。

【図１５】図１４の特性をcos（５度）で正規化した場
合の図である。

【図１６】半画角を説明する図である。

【図１７】正面に光が集中し過ぎた場合の作用を説明す
る図である。

【図１８】従来の放射線撮影装置の構成を示す図であ
る。

【図１９】図１８の例においてコントラストの低下の原
理を説明する図である。

【図２０】図１８の例において鮮鋭度の低下の原理を説
明する図である。

【符号の説明】

１支持体２光反射層３蛍光体層４光学多層薄膜１０蛍光板１１鉛ガラス１２観測機

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】入射される放射線を可視光に変換する蛍
光板において、入射される前記放射線を前記可視光に変換する蛍光体層
と、前記蛍光体層の前記放射線の入射側とは反対側に配置さ
れ、前記可視光をその法線方向に集中させる光学多層薄
膜とを備えることを特徴とする蛍光板。
【請求項２】前記光学多層薄膜の前記放射線の入射側
と反対側に配置された、前記放射線の放出を抑制するガ
ラスをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の
蛍光板。
【請求項３】前記ガラスは鉛ガラスであることを特徴
とする請求項２に記載の蛍光板。
【請求項４】前記蛍光体層により発生された前記可視
光が、前記放射線の入射側に放出されるのを阻止するよ
うに、前記蛍光体層の前記放射線の入射側に配置された
光反射層をさらに備えることを特徴とする請求項１，２
または３に記載の蛍光板。
【請求項５】前記放射線が入射される側に配置された
支持体をさらに備え、前記光反射層は、前記支持体に形
成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれ
かに記載の蛍光板。
【請求項６】前記光学多層薄膜は、前記蛍光体層によ
り発生される前記可視光のうち、主ピークの波長の可視
光に対して、その透過率の特性が、角度依存性を有する
ショートパスフィルタを構成することを特徴とする請求
項１乃至５のいずれかに記載の蛍光板。
【請求項７】前記光学多層薄膜は、前記蛍光体層によ
り発生される前記可視光のうち、主ピークの波長の可視
光に対して、その透過率の特性が、角度依存性を有する
バンドパスフィルタを構成することを特徴とする請求項
１乃至５のいずれかに記載の蛍光板。
【請求項８】前記光学多層薄膜は、ＳｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ
₃，ＴｉＯ₂，ＴａＯ₂，Ｔａ₂Ｏ₅のいずれかにより構成
されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか
に記載の蛍光板。
【請求項９】前記蛍光体層は、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ，Ｇ
ｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ，Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｐｒ，ＣｓＩ：Ｎａ，Ｃ
ｓＩ：Ｔｌ，Ｌａ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ，ＬａＯＢｒ：Ｔｂ，Ｚ
ｎＣｄＳ：Ａｇのいずれかにより構成されていることを
特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の蛍光板。
【請求項１０】前記請求項１乃至９のいずれかに記載
の蛍光板を利用したことを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項１１】入射される放射線を可視光に変換する
蛍光板の製造方法において、前記可視光を透過するガラ
ス板の上に、前記可視光をその法線方向に集中させる光
学多層薄膜を形成し、前記光学多層薄膜の上に、入射される前記放射線を前記
可視光に変換する蛍光体層を形成することを特徴とする
蛍光板の製造方法。
【請求項１２】前記蛍光体層の表面を平面平滑化処理
し、その上に、前記蛍光体層により発生された前記可視光
が、前記放射線の入射側に放出されるのを阻止する光反
射層を形成することを特徴とする請求項１１に記載の蛍
光板の製造方法。
【請求項１３】前記蛍光体層を形成した前記ガラス板
に、支持体を接合することを特徴とする請求項１１に記
載の蛍光板の製造方法。
【請求項１４】前記支持体の上に、前記可視光を反射
する光反射層を形成した後、前記蛍光体層を形成した前
記ガラス板と接合することを特徴とする請求項１３に記
載の蛍光板の製造方法。
【請求項１５】入射される放射線を可視光に変換する
蛍光板の製造方法において、前記可視光を透過するガラス板の上に、前記可視光をそ
の法線方向に集中させる光学多層薄膜を形成し、支持体の上に、入射される前記放射線を前記可視光に変
換する蛍光体層を形成し、前記蛍光体層を形成した前記支持体と、前記光学多層薄
膜を形成した前記ガラス板を接合することを特徴とする
蛍光板の製造方法。
【請求項１６】入射される放射線を可視光に変換する
蛍光板の製造方法において、支持体の上に、入射される前記放射線を前記可視光に変
換する蛍光体層を形成し、前記蛍光体層の表面を平面平滑化処理し、前記蛍光体層の上に、前記可視光をその法線方向に集中
させる光学多層薄膜を形成することを特徴とする蛍光板
の製造方法。
【請求項１７】前記光学多層薄膜を形成した前記支持
体を、さらに前記放射線の通過を抑制するガラス板と接
合することを特徴とする請求項１６に記載の蛍光板の製
造方法。
【請求項１８】前記支持体の上に、前記蛍光体層を形
成する前に、前記可視光を反射する光反射層を形成し、前記光反射層の上に、前記蛍光体層を形成することを特
徴とする請求項１５，１６または１７に記載の蛍光板の
製造方法。
【請求項１９】前記ガラスは鉛ガラスであることを特
徴とする請求項１１乃至１８のいずれかに記載の蛍光
板。