JPH072184Y2 - 紫外線による処理装置 - Google Patents
紫外線による処理装置Info
- Publication number
- JPH072184Y2 JPH072184Y2 JP1988098446U JP9844688U JPH072184Y2 JP H072184 Y2 JPH072184 Y2 JP H072184Y2 JP 1988098446 U JP1988098446 U JP 1988098446U JP 9844688 U JP9844688 U JP 9844688U JP H072184 Y2 JPH072184 Y2 JP H072184Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microwave
- arc tube
- microwave cavity
- light
- lamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
- Circuit Arrangements For Discharge Lamps (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案は紫外線照射により処理される工程、例えば紫
外線硬化型樹脂を硬化させるプロセス等において、特に
幅の広い被処理物を処理する際に使用される紫外線によ
る処理装置に関するものである。
外線硬化型樹脂を硬化させるプロセス等において、特に
幅の広い被処理物を処理する際に使用される紫外線によ
る処理装置に関するものである。
［従来の技術］ 従来より、500nm以下の発光波長の紫外線及び可視光か
らなる光によって、ペンキ，インク，樹脂，塗料等が塗
布された面の表面硬化処理や、光化学反応による化学物
質の合成及び処理等の工程が行われている。
らなる光によって、ペンキ，インク，樹脂，塗料等が塗
布された面の表面硬化処理や、光化学反応による化学物
質の合成及び処理等の工程が行われている。
第３図（ａ）は高圧水銀灯を用いて被処理物を紫外線照
射処理する概略説明図で、同図（ｂ）は同図（ａ）の平
面図である。第３図（ａ），（ｂ）において、１は高圧
水銀灯（以下、ランプという）、２はこのランプ１の光
を集光し反射させる楕円集光鏡、３は被処理物（以下、
ワークという）、４はベルト、５はこのベルト４を駆動
するプーリである。
射処理する概略説明図で、同図（ｂ）は同図（ａ）の平
面図である。第３図（ａ），（ｂ）において、１は高圧
水銀灯（以下、ランプという）、２はこのランプ１の光
を集光し反射させる楕円集光鏡、３は被処理物（以下、
ワークという）、４はベルト、５はこのベルト４を駆動
するプーリである。
第３図において、ワーク３はベルト４上を移動しながら
ランプ１の直下にきた時、紫外線照射処理されて図中矢
印の方向へ移動する。従来の紫外線により処理装置は第
３図に示すようにワーク３の搬送方向（図中矢印）とは
直角方向にランプ１を配置する場合が多い。ところが、
ワーク３の幅が広くなって、ランプ１の発光長以上にな
ると、第３図の装置で処理を行うことができない。従っ
て、ランプ１の長さをワーク３の幅以上に大きくするこ
とが考えられるが、ランプの長さをある程度以上大きく
することにも限界がある。そこで、第２図（ａ）に示す
ようにランプを複数個一直線上に配置したものを用いよ
うとするが、各ランプ毎の照度分布は電極，口金等の非
発光部があるため、同図（ｂ）のように発光部と端部で
は不均一になり、各ランプの照度を複数個重ね合わせて
も同図（ｃ）のように照度分布は均一にならず、ワーク
に対して均一な紫外線照射処理を行うことは困難であ
る。
ランプ１の直下にきた時、紫外線照射処理されて図中矢
印の方向へ移動する。従来の紫外線により処理装置は第
３図に示すようにワーク３の搬送方向（図中矢印）とは
直角方向にランプ１を配置する場合が多い。ところが、
ワーク３の幅が広くなって、ランプ１の発光長以上にな
ると、第３図の装置で処理を行うことができない。従っ
て、ランプ１の長さをワーク３の幅以上に大きくするこ
とが考えられるが、ランプの長さをある程度以上大きく
することにも限界がある。そこで、第２図（ａ）に示す
ようにランプを複数個一直線上に配置したものを用いよ
うとするが、各ランプ毎の照度分布は電極，口金等の非
発光部があるため、同図（ｂ）のように発光部と端部で
は不均一になり、各ランプの照度を複数個重ね合わせて
も同図（ｃ）のように照度分布は均一にならず、ワーク
に対して均一な紫外線照射処理を行うことは困難であ
る。
そこで、均一な照度分布を得るために、第２図，第３図
に用いられているような有電極のランプを用いることに
かえて、無電極発光管を用いたもの（例えば特公昭55−
35825号公報第20,21図）を紫外線による処理装置に適用
することが考えられる。これによると、各発光管による
発光長の間隔を短くでき、照度はより均一になる。さら
に、光照射窓のみならず、各マイクロ波空洞の区画物を
メッシュで構成しているので、マイクロ波をシールしつ
つ隣接する発光管からの光は通過するので、さらに照度
分布は均一になる。各マイクロ波空洞の区画物としてメ
ッシュを用いた装置の概略構成を第４図に示す。
に用いられているような有電極のランプを用いることに
かえて、無電極発光管を用いたもの（例えば特公昭55−
35825号公報第20,21図）を紫外線による処理装置に適用
することが考えられる。これによると、各発光管による
発光長の間隔を短くでき、照度はより均一になる。さら
に、光照射窓のみならず、各マイクロ波空洞の区画物を
メッシュで構成しているので、マイクロ波をシールしつ
つ隣接する発光管からの光は通過するので、さらに照度
分布は均一になる。各マイクロ波空洞の区画物としてメ
ッシュを用いた装置の概略構成を第４図に示す。
第４図中、11はワークの長手方向に対してほぼ直角で、
発光管の長手方向に一直線上に並べられた複数の発光
管、12はこの発光管11の支持柱、13は光を放射する面に
設けられた金属メッシュ、13aは各マイクロ波空洞を区
画する金属メッシュ、14はマイクロ波空洞16を形成する
マイクロ波空洞体で、その一部が発光管11に対しては楕
円集光鏡の役目を果たしており、15aはアルミ板で、16
はマイクロ波空洞、17はマイクロ波を誘導する導波管、
17a,17bはマイクロ波空洞16と導波管17を結合する結合
手段としてのカップリングスロット、18a,18bはそれぞ
れマイクロ波発生器としてのマグネトロンである。
発光管の長手方向に一直線上に並べられた複数の発光
管、12はこの発光管11の支持柱、13は光を放射する面に
設けられた金属メッシュ、13aは各マイクロ波空洞を区
画する金属メッシュ、14はマイクロ波空洞16を形成する
マイクロ波空洞体で、その一部が発光管11に対しては楕
円集光鏡の役目を果たしており、15aはアルミ板で、16
はマイクロ波空洞、17はマイクロ波を誘導する導波管、
17a,17bはマイクロ波空洞16と導波管17を結合する結合
手段としてのカップリングスロット、18a,18bはそれぞ
れマイクロ波発生器としてのマグネトロンである。
［考案が解決しようとする課題］ 上記のように、従来の有電極のランプを複数個一直線上
に並べた処理装置は、各発光部分の間隔が大きいために
均一の照度分布を得ることが困難であり、幅の広いワー
クに対する使用に適さない。そこで、無電極の発光管を
用いることが考えられ、各マイクロ波空洞の区画物とし
て金属メッシュを使用することが提案されているが、各
マイクロ波空洞の区画物をメッシュで構成すると、次の
ような欠点がある。
に並べた処理装置は、各発光部分の間隔が大きいために
均一の照度分布を得ることが困難であり、幅の広いワー
クに対する使用に適さない。そこで、無電極の発光管を
用いることが考えられ、各マイクロ波空洞の区画物とし
て金属メッシュを使用することが提案されているが、各
マイクロ波空洞の区画物をメッシュで構成すると、次の
ような欠点がある。
（１）メッシュは各マイクロ波空洞毎にマイクロ波をシ
ールするために用いられるが、マイクロ波の周波数に応
じて開口の大きさを精度良く製作しなければならず、高
価なものとなるので、通常の光照射窓以外で使用したく
ない。
ールするために用いられるが、マイクロ波の周波数に応
じて開口の大きさを精度良く製作しなければならず、高
価なものとなるので、通常の光照射窓以外で使用したく
ない。
（２）メッシュの場合、当然機械的強度が弱くなり、破
れることを想定しなければならない。もし、万一破れた
場合、マイクロ波が隣接するマイクロ波空洞に回り込
み、定在波比値が高くなりエネルギー損失が大となる。
れることを想定しなければならない。もし、万一破れた
場合、マイクロ波が隣接するマイクロ波空洞に回り込
み、定在波比値が高くなりエネルギー損失が大となる。
（３）メッシュは電磁波を遮蔽して光を透過するとはい
え、各発光管の境界面のメッシュの部分では一部の光を
散乱させてしまう。
え、各発光管の境界面のメッシュの部分では一部の光を
散乱させてしまう。
この考案はかかる課題を解決するためになされたもの
で、幅の広いワークに対して設計が容易、かつ安価で簡
単な構造を有し、光の散乱のない安定した紫外線による
処理装置を提供することを目的とする。
で、幅の広いワークに対して設計が容易、かつ安価で簡
単な構造を有し、光の散乱のない安定した紫外線による
処理装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、この考案の紫外線による
処理装置は被処理物の搬送方向に対してほぼ直角で、発
光管の長手方向に一直線上に並べられた複数の発光管
と、これらの発光管をそれぞれ収納する一直線上に並べ
られた複数のマイクロ波空洞体と、このマイクロ波空洞
体内のマイクロ波空洞にマイクロ波を供給するためのマ
イクロ波発生器と、導波管と、結合手段とをそれぞれ備
え、前記一直線上に並べられた複数のマイクロ波空洞体
のそれぞれの内側面のうち、少なくとも発光管の両端側
の内側面は光学反射面で構成したものである。
処理装置は被処理物の搬送方向に対してほぼ直角で、発
光管の長手方向に一直線上に並べられた複数の発光管
と、これらの発光管をそれぞれ収納する一直線上に並べ
られた複数のマイクロ波空洞体と、このマイクロ波空洞
体内のマイクロ波空洞にマイクロ波を供給するためのマ
イクロ波発生器と、導波管と、結合手段とをそれぞれ備
え、前記一直線上に並べられた複数のマイクロ波空洞体
のそれぞれの内側面のうち、少なくとも発光管の両端側
の内側面は光学反射面で構成したものである。
［作用］ 上記の構成を有することにより、幅の広いワークに対し
て適応することのできる均一な照度分布の処理装置が得
られる。
て適応することのできる均一な照度分布の処理装置が得
られる。
［実施例］ 第１図（ａ）はこの考案の一実施例である無電極の発光
管を用いた処理装置の主要部の概略構成を示す側面図、
第１図（ｂ）は同図（ａ）の構成における照度分布を示
す図であり、11はワークの長手方向に対してほぼ直角
で、発光管の長手方向に一直線上に並べられた複数の発
光管、12はこの発光管11の支持柱、13は光を放射する面
に設けられた金属メッシュ、14はマイクロ波空洞16を形
成するマイクロ波空洞体で、その一部が発光管11に対し
ては楕円集光鏡の役目を果しており、15は各発光管11の
境界面、即ち各マイクロ波空洞体14の内側面を構成する
光学反射面で、16はマイクロ波空洞、17はマイクロ波を
誘導する導波管、17a,17bはマイクロ波空洞16と導波管1
7を結合する結合手段としてのカップリングスロット、1
8a,18bはそれぞれマイクロ波発生器としてのマグネトロ
ンである。
管を用いた処理装置の主要部の概略構成を示す側面図、
第１図（ｂ）は同図（ａ）の構成における照度分布を示
す図であり、11はワークの長手方向に対してほぼ直角
で、発光管の長手方向に一直線上に並べられた複数の発
光管、12はこの発光管11の支持柱、13は光を放射する面
に設けられた金属メッシュ、14はマイクロ波空洞16を形
成するマイクロ波空洞体で、その一部が発光管11に対し
ては楕円集光鏡の役目を果しており、15は各発光管11の
境界面、即ち各マイクロ波空洞体14の内側面を構成する
光学反射面で、16はマイクロ波空洞、17はマイクロ波を
誘導する導波管、17a,17bはマイクロ波空洞16と導波管1
7を結合する結合手段としてのカップリングスロット、1
8a,18bはそれぞれマイクロ波発生器としてのマグネトロ
ンである。
また、第１図（ｃ）は同図（ａ）のマイクロ波空洞部分
を詳細に示す正面図、同図（ｄ）は同図（ａ）の光照射
状態を説明するための図である。
を詳細に示す正面図、同図（ｄ）は同図（ａ）の光照射
状態を説明するための図である。
まず第１図（ａ）及び（ｄ）において、発光管11の端部
から放射された光の一部は光学反射面15に反射し、従来
の有電極のランプの場合に照度が低かった部分を照射す
る。従って、同図（ｂ）に示す如く相対的に照度分布が
均一になる。この場合、従来の無電極発光管を一直線上
に並べ各マイクロ波空洞をメッシュで仕切ったものと原
理的には同じである。即ち、従来の金属メッシュはマイ
クロ波をシールしつつ隣接する発光管の端部からの光を
投下せしめて照度を均一にするためのものであるが、第
１図（ｄ）に示すように光学反射面15にした場合は、光
学反射面15には発光管11の像が映り、恰も隣りの発光管
11′から直接光照射されるのとほぼ同じ状態となる。
から放射された光の一部は光学反射面15に反射し、従来
の有電極のランプの場合に照度が低かった部分を照射す
る。従って、同図（ｂ）に示す如く相対的に照度分布が
均一になる。この場合、従来の無電極発光管を一直線上
に並べ各マイクロ波空洞をメッシュで仕切ったものと原
理的には同じである。即ち、従来の金属メッシュはマイ
クロ波をシールしつつ隣接する発光管の端部からの光を
投下せしめて照度を均一にするためのものであるが、第
１図（ｄ）に示すように光学反射面15にした場合は、光
学反射面15には発光管11の像が映り、恰も隣りの発光管
11′から直接光照射されるのとほぼ同じ状態となる。
［考案の効果］ 以上説明したように、この考案は無電極発光管を複数
個、その長手方向に一直線上に配列することにより、幅
の広いワークに対する紫外線照射処理を可能にし、さら
に各マイクロ波空洞体の各発光管両端側の内側面を光学
反射面で構成することにより、光の損失が少なく、メッ
シュで構成する場合に比して安価にでき、破れるという
ことを想定する必要がなく、従って、破れることによる
問題が生じない。
個、その長手方向に一直線上に配列することにより、幅
の広いワークに対する紫外線照射処理を可能にし、さら
に各マイクロ波空洞体の各発光管両端側の内側面を光学
反射面で構成することにより、光の損失が少なく、メッ
シュで構成する場合に比して安価にでき、破れるという
ことを想定する必要がなく、従って、破れることによる
問題が生じない。
第１図（ａ）はこの考案の一実施例である無電極の発光
管を用いた処理装置の主要部の概略構成を示す側面図、
同図（ｂ）は同図（ａ）の構成における照度分布を示す
図、同図（ｃ）は同図（ａ）のマイクロ波空洞部分を詳
細に示す正面図、同図（ｄ）は同図（ａ）の紫外線放射
状態を説明するための図、第２図（ａ）は複数個のラン
プを一直線上に配置したもの、同図（ｂ）は同図（ａ）
における各ランプの照度分布を示す図、同図（ｃ）は同
図（ｂ）を重ね合わせた結果できる照度分布を示す図、
第３図（ａ）は高圧水銀灯を用いて被処理物を紫外線照
射処理する概略説明図で、同図（ｂ）は同図（ａ）の平
面図、第４図は従来の各マイクロ波空洞の区画物として
メッシュを用いた装置の概略構成を示す図である。 図中． 11:発光管、13:金属メッシュ 14:マイクロ波空洞体 15:光学反射面、16:マイクロ波空洞 17:導波管 17a,17b:カップリングスロット 18a,18b:マイクロ波発生器
管を用いた処理装置の主要部の概略構成を示す側面図、
同図（ｂ）は同図（ａ）の構成における照度分布を示す
図、同図（ｃ）は同図（ａ）のマイクロ波空洞部分を詳
細に示す正面図、同図（ｄ）は同図（ａ）の紫外線放射
状態を説明するための図、第２図（ａ）は複数個のラン
プを一直線上に配置したもの、同図（ｂ）は同図（ａ）
における各ランプの照度分布を示す図、同図（ｃ）は同
図（ｂ）を重ね合わせた結果できる照度分布を示す図、
第３図（ａ）は高圧水銀灯を用いて被処理物を紫外線照
射処理する概略説明図で、同図（ｂ）は同図（ａ）の平
面図、第４図は従来の各マイクロ波空洞の区画物として
メッシュを用いた装置の概略構成を示す図である。 図中． 11:発光管、13:金属メッシュ 14:マイクロ波空洞体 15:光学反射面、16:マイクロ波空洞 17:導波管 17a,17b:カップリングスロット 18a,18b:マイクロ波発生器
Claims (1)
- 【請求項１】被処理物の搬送方向に対してほぼ直角で、
発光管の長手方向に一直線上に並べられた複数の発光管
と、これらの発光管をそれぞれ収納する一直線上に並べ
られた複数のマイクロ波空洞体と、このマイクロ波空洞
体内のマイクロ波空洞にマイクロ波を供給するためのマ
イクロ波発生器と、導波管と、結合手段とをそれぞれ備
え、前記一直線上に並べられた複数のマイクロ波空洞体
のそれぞれの内側面のうち、少なくとも発光管の両端側
の内側面は光学反射面で構成したことを特徴とする紫外
線による処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988098446U JPH072184Y2 (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 紫外線による処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988098446U JPH072184Y2 (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 紫外線による処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0219513U JPH0219513U (ja) | 1990-02-08 |
| JPH072184Y2 true JPH072184Y2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=31324719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988098446U Expired - Lifetime JPH072184Y2 (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 紫外線による処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH072184Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6559460B1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-05-06 | Nordson Corporation | Ultraviolet lamp system and methods |
| JP2008221170A (ja) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Bridgestone Corp | 紫外線照射装置 |
| US9502149B2 (en) * | 2014-08-11 | 2016-11-22 | Nordson Corporation | Ultraviolet systems and methods for irradiating a substrate |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4042850A (en) * | 1976-03-17 | 1977-08-16 | Fusion Systems Corporation | Microwave generated radiation apparatus |
| JPS5535825A (en) * | 1978-09-06 | 1980-03-13 | Itsuki Ban | Lighter equipped with watch |
-
1988
- 1988-07-27 JP JP1988098446U patent/JPH072184Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4042850A (en) * | 1976-03-17 | 1977-08-16 | Fusion Systems Corporation | Microwave generated radiation apparatus |
| JPS5535825A (en) * | 1978-09-06 | 1980-03-13 | Itsuki Ban | Lighter equipped with watch |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0219513U (ja) | 1990-02-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6626561B2 (en) | Lamp structure, having elliptical reflectors, for uniformly irradiating surfaces of optical fiber and method of use thereof | |
| EP0277505B1 (en) | Apparatus for sterilization with ultraviolet light | |
| JP2002260595A5 (ja) | ||
| EP3060844B1 (en) | Apparatus for radiant energy curing of coating | |
| US6348669B1 (en) | RF/microwave energized plasma light source | |
| JPH036618B2 (ja) | ||
| JPH072184Y2 (ja) | 紫外線による処理装置 | |
| US5825041A (en) | System for optical curing | |
| US6734444B2 (en) | Substrate treatment device using a dielectric barrier discharge lamp | |
| JPH05229855A (ja) | 光ファイバーに塗布されたコーティング剤の硬化装置 | |
| JP2004171889A (ja) | エキシマ光源装置 | |
| JP3147592B2 (ja) | 誘電体バリヤ放電ランプとそれを使用した処理方法 | |
| JPH05290816A (ja) | 改善した温度分布を有する無電極ランプ | |
| JP2001319510A (ja) | 誘電体バリア放電ランプ装置 | |
| JP2802930B2 (ja) | マイクロ波無電極放電管装置 | |
| KR20020044545A (ko) | 광 조사 장치 | |
| SE0201121D0 (sv) | Globe type electrodless lighting apparatus | |
| JPS6258565A (ja) | マイクロ波放電装置 | |
| JPH04237944A (ja) | 紫外線硬化樹脂硬化用の紫外線照射装置 | |
| JP3519116B2 (ja) | マイクロ波励起光源装置 | |
| JPS62229142A (ja) | レジスト処理方法 | |
| JPH0745875Y2 (ja) | マイクロ波無電極発光装置 | |
| JPH06338300A (ja) | 誘電体バリヤ放電ランプとそれを使用した処理方法 | |
| JPS61104559A (ja) | マイクロ波放電光源装置 | |
| JPH0531803Y2 (ja) |