JPH07211516A - Chip-type thermistor and its production - Google Patents

Chip-type thermistor and its production

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Publication number
JPH07211516A
JPH07211516A JP6003208A JP320894A JPH07211516A JP H07211516 A JPH07211516 A JP H07211516A JP 6003208 A JP6003208 A JP 6003208A JP 320894 A JP320894 A JP 320894A JP H07211516 A JPH07211516 A JP H07211516A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
chip
thermistor
element body
thermistor element
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6003208A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Nakajima
弘明 中島
Masami Koshimura
正己 越村
Yoshinori Fujimoto
義典 藤本
Yoshihiko Ishikawa
良彦 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
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Publication of JPH07211516A publication Critical patent/JPH07211516A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain a chip-type thermistor with a large mechanical strength by forming a chip body easily, completing the formation of insulation inorganic layer one time and adjusting resistance values precisely. CONSTITUTION:A surface electrode 11 for adjusting resistance value is formed on the end surface of a chip-shaped thermistor base body 10 excluding both end faces facing each other in the body 10, and the body 10 is entirely covered with an insulation inorganic layer 14. A wrapping electrode 16 is formed on both end parts of the body covered with the inorganic layer and plating layers 18 and 19 are further formed on the surface of the wrapping electrode. The wrapping electrode is formed by applying and baking a conductive paste containing a metallic powder and inorganic binding material in smaller area than the electrode 11 in a manner to wrap both end parts of the body. The thickness of the inorganic layer is 0.1-10mum and its melting point or softening point is higher than the baking temperature where an inorganic layer is formed into a wrapping electrode, and the inorganic layer in the base part of the paste partly reacts on the inorganic binding material and melts when the wraping electrode is formed, then it is absorbed into the wrapping electrode and disappears thereafter.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プリント回路基板等に
表面実装され、その抵抗値が精密に調整されたチップ型
のNTCサーミスタ及びその製造方法に関する。更に詳
しくはグリーンシートに印刷によって抵抗値調整用表面
電極を形成した後チップ状に切断することにより、その
抵抗値を精密に調整できるようにしたチップ型サーミス
タ及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip type NTC thermistor which is surface-mounted on a printed circuit board or the like and whose resistance value is precisely adjusted, and a method for manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a chip type thermistor in which a resistance value adjusting surface electrode is formed by printing on a green sheet and then cut into chips so that the resistance value can be precisely adjusted, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】本出願人は、この種のチップ型サーミス
タの製造方法として、先ずサーミスタ素体用焼結シート
の両面に銀ペースト又は銀/パラジウム合金ペーストを
帯状に印刷焼成して抵抗値調整用表面電極を形成し、こ
のシート両面にガラスペーストを印刷焼成してガラス層
を形成し、次いで焼結シートを表面電極の列方向と直交
する方向に短冊状に切断し、この切断面にガラスペース
トを印刷焼成してガラス層を形成し、続いて切断面と垂
直な方向にかつ表面電極の幅方向の中心線に沿ってこの
短冊状サーミスタ素体をチップ状に細かく切断し、この
チップ状サーミスタ素体の切断面を包むように素体両端
部に銀ペースト又は銀/パラジウム合金ペーストを塗布
焼成して焼付け電極を形成し、更にこの焼付け電極を下
地電極としてこの表面にめっき層を形成する方法を提案
した(特開平4−127401)。
2. Description of the Related Art As a method of manufacturing a chip type thermistor, the present applicant first adjusts the resistance value by printing and firing a silver paste or a silver / palladium alloy paste in a strip shape on both sides of a sintered sheet for a thermistor body. Forming a front surface electrode, printing and firing glass paste on both sides of this sheet to form a glass layer, then cutting the sintered sheet into strips in the direction orthogonal to the row direction of the front surface electrode, and cutting the glass surface on this cut surface. The paste is printed and baked to form a glass layer, and then the strip-shaped thermistor element is finely cut into chips in a direction perpendicular to the cut surface and along the center line in the width direction of the surface electrode. Silver paste or silver / palladium alloy paste is applied to both ends of the element body so as to wrap the cut surface of the thermistor element and fired to form a baking electrode, and this baking electrode is used as a base electrode. Proposed a method of forming a plating layer on the surface (JP-A-4-127401).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記方法で
は、ガラス層を2回に分けて形成する必要がある上、サ
ーミスタ素体用の極めて硬質のセラミック焼結シートを
短冊状に切断した後、この短冊状物を更にチップ状に細
かく切断しなければならない。またこの短冊状からチッ
プ状に加工物の形状が変化することに伴って、加工物の
取扱いに多大の注意を払わなければならない。これらの
ことから、上記方法は製造工程が複雑化し、必然的に製
造コストが高価になる問題点があった。
However, in the above method, it is necessary to form the glass layer in two steps, and after cutting the extremely hard ceramic sintered sheet for the thermistor body into strips, This strip must be further cut into chips. Further, due to the change in shape of the work piece from the strip shape to the chip shape, great care must be taken in handling the work piece. For these reasons, the above method has a problem that the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is inevitably high.

【0004】本発明の目的は、チップ体に容易に加工で
き、絶縁性無機物層を1回で形成でき、かつ抵抗値を精
密に調整できるチップ型サーミスタ及びその製造方法を
提供することにある。本発明の別の目的は、チップ状グ
リーン体を焼成してサーミスタ素体を作るため焼結密度
が高く機械的強度の高いチップ型サーミスタを製造でき
る方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a chip type thermistor which can be easily processed into a chip body, an insulating inorganic material layer can be formed at one time, and a resistance value can be precisely adjusted, and a manufacturing method thereof. Another object of the present invention is to provide a method capable of manufacturing a chip type thermistor having a high sintered density and a high mechanical strength because a thermistor element body is produced by firing a chip-shaped green body.

【0005】[0005]

【問題点を解決するための手段】図1及び図2に示すよ
うに、本発明のチップ型サーミスタ20は、チップ状サ
ーミスタ素体10と、このサーミスタ素体10の相対向
する両端面以外の素体端部表面の前記両端面に隣接する
端縁に1対ずつ形成された抵抗値調整用表面電極11
と、これらの表面電極11が形成されたサーミスタ素体
10の全面を被覆する絶縁性無機物層14と、この無機
物層14を被覆したサーミスタ素体10の両端部に形成
された外包電極16と、外包電極16の表面に形成され
ためっき層18,19とを備える。その特徴ある構成
は、外包電極16が金属粉末と無機結合材を含む導電性
ペーストを表面電極11より小さい面積でサーミスタ素
体10の両端部を包込むように塗布して焼付けることに
より形成され、無機物層14の厚さが0.1〜10μm
であって、無機物層14が外包電極16を形成する時の
焼成温度より高い融点又は軟化点を有し、かつ前記ペー
ストの下地部分の無機物層14の一部が外包電極16の
形成時に前記無機結合材に反応溶融して外包電極16に
吸収され消滅するように構成されたことにある。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, a chip type thermistor 20 of the present invention includes a chip-type thermistor element body 10 and both end surfaces of the thermistor element body 10 opposite to each other. Resistance-value-adjusting surface electrodes 11 formed in pairs on the edges of the surface of the element body adjacent to the both end surfaces.
An insulating inorganic material layer 14 covering the entire surface of the thermistor element body 10 on which the surface electrodes 11 are formed, and outer envelope electrodes 16 formed on both ends of the thermistor element body 10 covering the inorganic material layer 14, Plating layers 18 and 19 formed on the surface of the envelope electrode 16. The characteristic structure is formed by coating the outer electrode 16 with a conductive paste containing a metal powder and an inorganic binder so as to cover both ends of the thermistor body 10 in an area smaller than that of the front electrode 11 and baking it. , The thickness of the inorganic layer 14 is 0.1 to 10 μm
In addition, the inorganic layer 14 has a melting point or a softening point higher than the firing temperature when the envelope electrode 16 is formed, and a part of the inorganic layer 14 in the base portion of the paste is the inorganic layer when the envelope electrode 16 is formed. It is configured so that the binder material is melted by reaction and absorbed by the outer envelope electrode 16 to disappear.

【0006】本発明のチップ型サーミスタは、図1及び
図2に示されるもの以外に、図8及び図9に示すように
チップ状サーミスタ素体10の両端面に抵抗値調整用表
面電極11に電気的に接続する内包電極15が形成さ
れ、表面電極11及び内包電極15が形成されたサーミ
スタ素体10の全面が絶縁性無機物層14により被覆さ
れたチップ型サーミスタ30を含む。
In addition to those shown in FIGS. 1 and 2, the chip type thermistor of the present invention has resistance value adjusting surface electrodes 11 on both end faces of the chip-shaped thermistor body 10 as shown in FIGS. 8 and 9. The chip-type thermistor 30 is formed in which the inclusion electrode 15 to be electrically connected is formed, and the entire surface of the thermistor element body 10 in which the surface electrode 11 and the inclusion electrode 15 are formed is covered with the insulating inorganic material layer 14.

【0007】また本発明のチップ型サーミスタは、図1
3に示すように抵抗値調整用表面電極11がチップ状サ
ーミスタ素体10の相対向する両端面以外の相対向する
素体両表面の前記両端面に隣接する異なる端縁にそれぞ
れ1つずつ形成されたチップ型サーミスタ40を含む。
The chip type thermistor of the present invention is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, one surface resistance adjusting electrode 11 is formed on each edge of the chip-like thermistor element body 10 other than the opposite end surfaces of the chip-like thermistor element body 10. The chip type thermistor 40 is included.

【0008】更に本発明のチップ型サーミスタは、図1
9に示すようにチップ状サーミスタ素体10の相対向す
る両端面以外の相対向する素体両表面の抵抗値調整用表
面電極11が形成されない前記両端面に隣接する異なる
端縁に外包電極16により包込まれる外包電極係止用表
面電極17が1つずつ形成されたチップ型サーミスタ6
0を含む。
Further, the chip type thermistor of the present invention is shown in FIG.
As shown in FIG. 9, the resistance-value-adjusting surface electrodes 11 on both surfaces of the opposing element bodies other than the opposite end surfaces of the chip-shaped thermistor element body 10 are not formed. Chip thermistor 6 in which one surface electrode 17 for locking the outer packaging electrode is formed
Including 0.

【0009】図1〜図7に示すように、チップ型サーミ
スタ20の製造方法は、サーミスタ素体用グリーンシー
ト21の両面に複数の帯状に第1導電性ペーストを印刷
して抵抗値調整用表面電極11を形成する工程と、表面
電極11が形成されたグリーンシート21を表面電極1
1が両端縁に位置するようにチップ状に切断する工程
と、このチップ状グリーン体23を焼成してチップ状サ
ーミスタ素体10を形成する工程と、このチップ状サー
ミスタ素体10の全面に厚さ0.1〜10μmの絶縁性
無機物層14を被覆する工程と、この無機物層14を被
覆したチップ状サーミスタ素体10の両端部に金属粉末
と無機結合材25aを含む第2導電性ペースト25を表
面電極11より小さい面積でサーミスタ素体10の両端
部を包込むように塗布する工程と、このペースト25を
塗布したサーミスタ素体10を無機物層14の融点又は
軟化点より低い温度で焼成し、塗布したペーストの無機
結合材25aにそのペーストの下地部分の無機物層14
の一部を反応溶融させることにより無機物層14の一部
を消滅させて外包電極16を形成する工程と、外包電極
16の表面にめっき層18,19を形成する工程とを含
む方法である。
As shown in FIGS. 1 to 7, in the method of manufacturing the chip type thermistor 20, a resistance adjusting surface is formed by printing a plurality of strips of the first conductive paste on both surfaces of the thermistor element green sheet 21. The step of forming the electrode 11 and the green sheet 21 on which the surface electrode 11 is formed
1. A step of cutting the chip-shaped thermistor element body 10 into chips so that 1 is located on both edges, a step of firing the chip-shaped green body 23 to form the chip-shaped thermistor element body 10, and A step of coating the insulating inorganic layer 14 having a thickness of 0.1 to 10 μm, and the second conductive paste 25 containing the metal powder and the inorganic binder 25a at both ends of the chip-like thermistor element body 10 coated with the inorganic layer 14. Is applied so as to cover both ends of the thermistor element body 10 in an area smaller than the surface electrode 11, and the thermistor element body 10 applied with this paste 25 is fired at a temperature lower than the melting point or softening point of the inorganic layer 14. , The inorganic layer 14 of the base portion of the paste on the inorganic binder 25a of the applied paste.
Of the inorganic substance layer 14 by extinguishing a part of the inorganic material layer 14 by reaction melting to form the outer envelope electrode 16, and forming the plating layers 18 and 19 on the surface of the outer envelope electrode 16.

【0010】図8〜図11に示すように、チップ型サー
ミスタ30の製造方法は、上記製造方法のチップ状サー
ミスタ素体10を形成する工程と絶縁性無機物層14を
被覆する工程との間にチップ状サーミスタ素体10の両
端面に第3導電性ペーストを塗布し焼成することにより
抵抗値調整用表面電極11に電気的に接続する内包電極
15を形成する工程を備える。
As shown in FIGS. 8 to 11, the manufacturing method of the chip type thermistor 30 is performed between the step of forming the chip-shaped thermistor element 10 and the step of coating the insulating inorganic substance layer 14 of the above manufacturing method. The method includes a step of applying the third conductive paste to both end surfaces of the chip thermistor element body 10 and baking the third conductive paste to form the internal electrodes 15 electrically connected to the resistance value adjusting surface electrodes 11.

【0011】以下、本発明を詳述する。 (a) 抵抗値調整用表面電極付きチップ状サーミスタ素体
の製造 図3に示すように、先ずサーミスタ素体用のグリーンシ
ート21(同図(a))を用意する。このグリーンシー
ト21はMn,Fe,Co,Ni,Cu,Al等の金属
の酸化物粉末を1種又は2種以上混合してこの混合物を
仮焼し粉砕した後、有機結合材と溶剤を加え混練してス
ラリーを調製し、このスラリーをドクターブレード法等
により成膜乾燥して作られる。次いでこのグリーンシー
ト21の両面に貴金属粉末と無機結合材を含む第1導電
性ペーストを帯状に印刷乾燥して多数列の抵抗値調整用
表面電極11を形成する。この導電性ペーストに含まれ
る貴金属粉末としてはAg,Au,Pd又はPtの粉
末、又はこれらを混合した粉末が挙げられる。抵抗値調
整用表面電極11をシート21の両面で相対向するよう
に形成し、続いてダイヤモンドブレード付き切断機のよ
うなダイシングソーを用いて矢印Mの箇所でグリーンシ
ート21を表面電極11の中心線である破線に沿って切
断し、短冊状のグリーン体22を形成する(同図(b)
及び(c))。更に矢印Nの箇所で破線に沿って前記切
断面に直交する方向に切断すると、表面電極11が図3
(d)に示すようにチップ状サーミスタ素体10の相対
向する両端面以外の相対向する素体両表面の前記両端面
に隣接する端縁に1対ずつ形成された多数のチップ状グ
リーン体23が得られる(同図(c),(d)及び図4
(a))。図4(b)に示すように、このチップ状グリ
ーン体23を約1000〜1400℃で約1〜10時間
焼成した後、或いは焼成する前に、バレル研磨処理して
焼結体の角取りをしたておくことが好ましい。この焼成
により抵抗値調整用表面電極11が堅牢にチップ状サー
ミスタ素体10に固着する。また角取りをすると、切断
後の切りバリがなくなり、しかもその後の工程において
サーミスタ素体の欠け、割れ等が生じにくくなり、結果
としてサーミスタの電気的特性のばらつきを小さくす
る。バレル研磨処理するときには研磨前の抵抗値調整用
表面電極の厚さはバレル研磨処理で磨滅しない程度の十
分な厚さにしておく。
The present invention will be described in detail below. (a) Manufacture of chip-like thermistor element body with front surface electrode for resistance adjustment As shown in FIG. 3, first, a green sheet 21 (the same figure (a)) for the thermistor element body is prepared. The green sheet 21 is prepared by mixing one or more kinds of oxide powders of metals such as Mn, Fe, Co, Ni, Cu and Al, calcining and crushing the mixture, and then adding an organic binder and a solvent. It is prepared by kneading to prepare a slurry, and film-forming and drying the slurry by a doctor blade method or the like. Next, the first conductive paste containing the noble metal powder and the inorganic binder is printed and dried on both surfaces of the green sheet 21 in a strip shape to form the resistance value adjusting surface electrodes 11 in multiple rows. Examples of the noble metal powder contained in this conductive paste include Ag, Au, Pd or Pt powder, or a powder obtained by mixing these powders. The surface electrodes 11 for resistance value adjustment are formed so as to face each other on both sides of the sheet 21, and then the green sheet 21 is placed at the center of the surface electrode 11 at the position of the arrow M using a dicing saw such as a cutting machine with a diamond blade. The strip-shaped green body 22 is formed by cutting along the broken line, which is a line (see FIG. 2B).
And (c)). Further, when the surface electrode 11 is cut at a position indicated by an arrow N along a broken line in a direction orthogonal to the cutting surface,
As shown in (d), a large number of chip-shaped green bodies formed in pairs on both edges of both surfaces of the chip-like thermistor element body 10 opposite to each other except for the opposite end surfaces thereof. 23 is obtained ((c), (d) in FIG.
(A)). As shown in FIG. 4 (b), after firing the chip-shaped green body 23 at about 1000 to 1400 ° C. for about 1 to 10 hours, or before firing, barrel polishing is performed to remove the chamfer of the sintered body. It is preferable to set aside. By this firing, the resistance adjusting surface electrode 11 is firmly fixed to the chip-shaped thermistor body 10. Further, if the chamfering is performed, a cutting burr after cutting is eliminated, and furthermore, the thermistor element body is less likely to be chipped or cracked in the subsequent steps, and as a result, variations in the electrical characteristics of the thermistor are reduced. When the barrel polishing process is performed, the thickness of the resistance-adjusting surface electrode before polishing is set to a sufficient thickness so as not to be worn by the barrel polishing process.

【0012】(b) チップ状サーミスタ素体への絶縁性無
機物層の被覆 得られたサーミスタ素体10はその全面に厚さ0.1〜
10μm、好ましくは2〜5μm、より好ましくは2〜
3μmの絶縁性無機物層が被覆される(図1、図2及び
図4(c))。10μmより厚いと、後述する外包電極
形成時に溶融した無機物層が外包電極中に完全に吸収さ
れず、無機物層が外包電極とサーミスタ素体の界面に絶
縁性皮膜として残留するため外包電極のサーミスタ素体
に対する導電性が十分に得られない。また0.1μmよ
り薄いと、後述するめっき処理に際して、まためっき処
理後のサーミスタ素体の保護機能に劣る。この絶縁性無
機物層14を例示すると、SiO2膜、又は50重量%
以上のSiO2と残部がAl23,MgO,ZrO2又は
TiO2のいずれか1種又は2種以上の酸化物により構
成された薄膜、或いはSiO2,B23,Na2O,Pb
O,ZnO又はBaOのいずれか1種又は2種以上の酸
化物を主成分とするガラスにより構成された薄膜が挙げ
られる。この無機物層14は後述する外包電極を形成す
るときの焼成温度より高い融点又は軟化点を有すること
が必要である。例えば、外包電極としてAgのペースト
を焼付ける場合にはその焼成温度は600〜850℃で
あるため、この温度より高い融点又は軟化点を有するも
のが選ばれる。この理由はペーストの焼付け温度より融
点又は軟化点が大幅に低いと、ペースト焼付け時に無機
物層が電極表面に浮き上がったり、或いはサーミスタ素
体同士又は素体と焼成治具との貼り付きが生じて歩留り
が低下し易いからである。
(B) Coating of a chip-like thermistor element body with an insulating inorganic material layer The obtained thermistor element body 10 has a thickness of 0.1 to 0.15 over the entire surface thereof.
10 μm, preferably 2 to 5 μm, more preferably 2 to
A 3 μm insulating inorganic layer is coated (FIGS. 1, 2 and 4 (c)). When it is thicker than 10 μm, the inorganic layer melted at the time of forming the envelope electrode described later is not completely absorbed in the envelope electrode, and the inorganic layer remains as an insulating film at the interface between the envelope electrode and the thermistor element body, so that the thermistor element of the envelope electrode is formed. Insufficient conductivity for the body. When the thickness is less than 0.1 μm, the function of protecting the thermistor element during the plating treatment described later and after the plating treatment is poor. An example of this insulating inorganic layer 14 is a SiO 2 film or 50% by weight.
A thin film composed of the above SiO 2 and the balance of one or more oxides of Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 or TiO 2 , or SiO 2 , B 2 O 3 , Na 2 O, Pb
Examples of the thin film include glass containing O, ZnO, or BaO as a main component and one or more oxides. The inorganic layer 14 needs to have a melting point or a softening point higher than the firing temperature when forming the envelope electrode described later. For example, when an Ag paste is baked as the envelope electrode, the baking temperature is 600 to 850 ° C., and therefore, a material having a melting point or a softening point higher than this temperature is selected. The reason for this is that if the melting point or softening point is significantly lower than the paste baking temperature, the inorganic material layer will float up on the electrode surface during paste baking, or thermistor bodies will stick together or the body and firing jig will yield. Is easily reduced.

【0013】無機物層14は、この要件以外は耐めっき
性があって、後述する導電性ペーストに含まれる無機結
合材と反応して溶融する性質を有するものであれば特に
制限はなく、結晶質であっても非結晶質であってもよ
い。しかし、上記ガラスが結晶質であって、無機物層1
4を結晶化ガラスにするとサーミスタの抗折強度が高ま
り好ましい。このサーミスタ素体への無機物層の被覆は
真空蒸着法、スッパタリング法、イオンプレーティング
法のような物理蒸着法(PVD法)又は化学蒸着法(C
VD法)により行われる。この中でスパッタリング法が
量産に適しているため好ましい。このスパッタリング装
置は、図5に示すように互いに間隔をあけて水平に設け
られた一対に回転ローラ26及び27の間にバレル内面
にかき上げ用突起を有するバレル28を載せ、このバレ
ル中心部に絶縁性無機材料からなるターゲット29がバ
レル28と独立して設けられる。この装置で無機物層を
被覆するには、バレル28の内部に多数のチップ状サー
ミスタ素体を収容した後、一対の回転ローラ26及び2
7を回転させることによりバレル28をゆっくり回転さ
せる。この状態でターゲット29に高電圧を印加して無
機材料からなる粒子を叩き出す。これによりバレル内の
サーミスタ素体の全面に絶縁性無機物層が形成される。
ターゲット29は、例えば無機物層がSiO2膜であれ
ば石英ガラスを用い、またSiO2,Al23,Mg
O,ZrO2,TiO2,B23,Na2O,PbO,Z
nO,BaO等の複合酸化物膜であれば、これらを粉末
冶金でディスク状に成形するか、或いはこれらを溶融後
冷却しディスク状の複合ガラスにして用いる。
Except for this requirement, the inorganic layer 14 is not particularly limited as long as it has resistance to plating and has a property of reacting with an inorganic binder contained in a conductive paste described later and melting. Or may be amorphous. However, the glass is crystalline and the inorganic layer 1
When 4 is crystallized glass, the bending strength of the thermistor is increased, which is preferable. The thermistor body is coated with an inorganic layer by a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a chemical vapor deposition method (C).
VD method). Among these, the sputtering method is preferable because it is suitable for mass production. In this sputtering apparatus, as shown in FIG. 5, a barrel 28 having a raking protrusion on the inner surface of the barrel is placed between a pair of horizontally arranged rollers spaced from each other, and the barrel 28 is placed at the center of the barrel. A target 29 made of an insulating inorganic material is provided independently of the barrel 28. In order to coat the inorganic material layer with this device, a large number of chip-like thermistor bodies are housed inside the barrel 28, and then a pair of rotating rollers 26 and 2 are used.
The barrel 28 is rotated slowly by rotating 7. In this state, a high voltage is applied to the target 29 to knock out particles made of an inorganic material. As a result, an insulating inorganic material layer is formed on the entire surface of the thermistor element in the barrel.
As the target 29, for example, quartz glass is used if the inorganic layer is a SiO 2 film, and SiO 2 , Al 2 O 3 , Mg is used.
O, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 , Na 2 O, PbO, Z
If it is a composite oxide film of nO, BaO or the like, these are formed into a disk shape by powder metallurgy, or they are melted and cooled to form a disk-shaped composite glass.

【0014】(c) 外包電極の形成 図4(d)に示すように、絶縁性無機物層14を被覆し
たサーミスタ素体10の両端部表面に金属粉末と無機結
合材を含む第2導電性ペースト25を抵抗値調整用表面
電極11より小さい面積でサーミスタ素体10の両端部
を包込むように塗布し乾燥する。表面電極11より大き
い面積で包込むと、後述する外包電極16が表面電極1
1を越えてサーミスタ素体10に接触する恐れが生じ、
表面電極11の機能を損なうためである。この塗布は第
2導電性ペースト中にサーミスタ素体の両端部を浸漬さ
せるディッピング法が好ましい。導電性ペースト25に
含まれる金属粉末はAg,Au,Pd又はPtの貴金属
粉末、又はこれらを混合した粉末が挙げられる。導電性
ペーストに含まれる無機結合材を例示すれば、Si
2,B23,Na2O,PbO,ZnO又はBaOのい
ずれか1種又は2種以上の酸化物を主成分とする、ほう
けい酸系ガラス、ほう酸亜鉛系ガラス、ほう酸カドミウ
ム系ガラス、けい酸鉛亜鉛系ガラス等のガラス微粒子が
挙げられる。
(C) Formation of outer electrode As shown in FIG. 4 (d), a second conductive paste containing metal powder and an inorganic binder on both end surfaces of the thermistor element body 10 coated with the insulating inorganic material layer 14. 25 is applied so as to cover both ends of the thermistor element body 10 in an area smaller than the resistance value adjusting surface electrode 11 and dried. If the surface electrode 11 is covered with an area larger than that of the surface electrode 11, the outer envelope electrode 16 to be described later becomes the surface electrode 1.
There is a risk of contacting the thermistor body 10 beyond 1,
This is because the function of the surface electrode 11 is impaired. This coating is preferably performed by a dipping method in which both ends of the thermistor element body are dipped in the second conductive paste. The metal powder contained in the conductive paste 25 may be a noble metal powder of Ag, Au, Pd or Pt, or a powder obtained by mixing these. An example of the inorganic binder contained in the conductive paste is Si
O 2, a major component B 2 O 3, Na 2 O , PbO, and ZnO or any one or more oxides of BaO, borosilicate glass, zinc borate glass, borate cadmium glass Glass fine particles such as lead zinc silicate based glass can be used.

【0015】図6に示すように、塗布された導電性ペー
スト25中には無機結合材25aが均一に分散してお
り、この無機結合材25aは導電性ペーストの焼付け時
にペースト25に接触する無機物層14と反応して、図
7に示すようにこの無機物層14を溶融させる性質を有
することが必要である。図4(e)及び図7に示すよう
に導電性ペースト25は焼付けによって外包電極16を
形成し、この外包電極16はその焼付け時に無機物層1
4の一部が消滅することによって、サーミスタ素体10
に電気的に接続する。
As shown in FIG. 6, an inorganic binder 25a is uniformly dispersed in the applied conductive paste 25. The inorganic binder 25a is an inorganic material that comes into contact with the paste 25 when the conductive paste is baked. It is necessary to have a property of reacting with the layer 14 and melting the inorganic layer 14 as shown in FIG. 7. As shown in FIGS. 4 (e) and 7, the conductive paste 25 forms an outer envelope electrode 16 by baking, and the outer envelope electrode 16 is formed by the inorganic material layer 1 at the time of baking.
When part of 4 disappears, the thermistor body 10
Electrically connect to.

【0016】(d) めっき層の形成 外包電極16の表面にめっき層が電解バレルめっき法に
より形成される。このめっき層は図4(f)に示すよう
にNiめっき層18を形成した後、図4(g)に示すよ
うにSnめっき層19を形成して二重構造にすることが
好ましい。Niめっき層18ははんだ耐熱性を向上し
て、はんだによる外包電極の電極食われを防止し、Sn
めっき層19ははんだ付着性を向上する。図1及び図2
に示すように、外包電極16、めっき層18及び19か
らなる端子電極12を有するチップ型サーミスタ20が
得られる。
(D) Formation of plating layer A plating layer is formed on the surface of the envelope electrode 16 by electrolytic barrel plating. It is preferable that this plating layer has a double structure by forming a Ni plating layer 18 as shown in FIG. 4F and then forming an Sn plating layer 19 as shown in FIG. 4G. The Ni plating layer 18 improves solder heat resistance and prevents electrode erosion of the outer envelope electrode by solder, and
The plating layer 19 improves solder adhesion. 1 and 2
As shown in (1), the chip type thermistor 20 having the terminal electrode 12 including the outer envelope electrode 16 and the plating layers 18 and 19 is obtained.

【0017】(e) 抵抗値調整用表面電極及び内包電極付
きチップ型サーミスタの作製 図4(b)に対応する図10(b)に示すチップ状サー
ミスタ素体10を形成する工程と、図4(c)に対応す
る図10(d)に示す絶縁性無機物層14を被覆する工
程との間に、図10(c)に示すようにチップ状サーミ
スタ素体10の両端面に第3導電性ペーストを塗布乾燥
した後、焼成することにより抵抗値調整用表面電極11
に電気的に接続する内包電極15を形成する。内包電極
15をサーミスタ素体10と外包電極16の間に介在さ
せることにより、サーミスタ素体と接触する電極面積が
一定となり、サーミスタの電気的特性のばらつきが減少
する。
(E) Fabrication of chip-type thermistor with resistance adjusting surface electrode and internal electrode The step of forming the chip-like thermistor body 10 shown in FIG. 10 (b) corresponding to FIG. 4 (b), and FIG. Between the step of covering the insulating inorganic material layer 14 shown in FIG. 10D corresponding to FIG. 10C, the third conductivity is provided on both end surfaces of the chip thermistor body 10 as shown in FIG. 10C. The surface electrode 11 for adjusting the resistance value is obtained by applying and drying the paste and then firing it.
The inclusion electrode 15 electrically connected to is formed. By interposing the inner electrode 15 between the thermistor body 10 and the outer electrode 16, the electrode area in contact with the thermistor body becomes constant, and the variation in the electrical characteristics of the thermistor is reduced.

【0018】この内包電極15の形成は、具体的には図
11(a)に示すようにサーミスタ素体10を保持する
ための多数の保持孔31aが形成された弾性材料からな
る保持プレート31を用いる。保持孔31aに相応して
導入孔32aを有するローディングプレート32を保持
プレート31に重ね合わせてプレート31の下側を真空
ポンプ等により負圧にしてサーミスタ素体10を各保持
孔31aに入れる(図11(b))。導入孔32aはサ
ーミスタ素体10の端面が上面になるように広口に形成
される。負圧状態を解除してから、孔の数だけ押出用ピ
ン33aを備えた押出具33を用いて、各ピン33aを
プレート31の上側から各保持孔31aに一定の長さだ
け挿入しサーミスタ素体10をプレート31の下面から
突出させる。この状態で保持プレート31を裏返して図
11(c)に示すように均一の高さに揃えられたサーミ
スタ素体10の端面にスクリーン印刷する。図11
(c)において、34はスクリーン、36はスキージ、
37は導電性ペーストである。この内包電極15を形成
した後、図4(c)〜図4(g)の工程に相応する図1
0(d)〜図10(h)の工程を経て、図8及び図9に
示すように、内包電極15、外包電極16、めっき層1
8及び19からなる端子電極12を有するチップ型サー
ミスタ30が得られる。
Specifically, as shown in FIG. 11A, the inclusion electrode 15 is formed by using a holding plate 31 made of an elastic material, in which a large number of holding holes 31a for holding the thermistor body 10 are formed. To use. A loading plate 32 having an introduction hole 32a corresponding to the holding hole 31a is superposed on the holding plate 31, and a negative pressure is applied to the lower side of the plate 31 by a vacuum pump or the like to put the thermistor element body 10 into each holding hole 31a (Fig. 11 (b)). The introduction hole 32a is formed in a wide mouth so that the end surface of the thermistor element body 10 is the upper surface. After releasing the negative pressure state, each pin 33a is inserted from the upper side of the plate 31 into each holding hole 31a by a certain length by using the pushing tool 33 having the pushing pins 33a corresponding to the number of holes. The body 10 is projected from the lower surface of the plate 31. In this state, the holding plate 31 is turned upside down and screen-printed on the end surface of the thermistor element body 10 which has a uniform height as shown in FIG. Figure 11
In (c), 34 is a screen, 36 is a squeegee,
37 is a conductive paste. After the inclusion electrode 15 is formed, FIG. 1 corresponding to the process of FIGS.
As shown in FIGS. 8 and 9, through the steps of 0 (d) to 10 (h), the inner electrode 15, the outer electrode 16, the plating layer 1
The chip type thermistor 30 having the terminal electrode 12 composed of 8 and 19 is obtained.

【0019】(f) 別の形態の抵抗値調整用表面電極付き
チップ型サーミスタの作製(その1) 図12(b)に示すように、グリーンシート21の上面
に上述した第1導電性ペーストを帯状に印刷乾燥して抵
抗値調整用表面電極11を形成した後、シート上面の複
数の表面電極11の中間位置に相応するシート下面に帯
状に第1導電性ペーストを印刷乾燥して抵抗値調整用表
面電極11を形成する。シート両面に表面電極11を形
成した後、グリーンシート21を矢印Mの箇所でこれら
の表面電極11の中心線である破線に沿って切断し、図
12(c)に示すように更に矢印Nの箇所で破線に沿っ
て前記切断面に直交する方向に切断すれば、表面電極1
1が図12(d)に示すようにチップ状サーミスタ素体
10の相対向する両端面以外の相対向する素体両表面の
前記両端面に隣接する異なる端縁にそれぞれ1つずつ形
成された多数のチップ状グリーン体23が得られる。こ
のチップ状グリーン体23を図4に示す方法と同様に処
理することにより、図13に示すチップ型サーミスタ4
0が得られる。図13において図2と同一符号は同一構
成部品を示す。
(F) Preparation of Chip Type Thermistor with Surface Electrode for Resistance Value Adjustment of Another Embodiment (No. 1) As shown in FIG. 12B, the above-mentioned first conductive paste is formed on the upper surface of the green sheet 21. After the resistance-adjusting surface electrode 11 is formed by printing and drying in a strip shape, the first conductive paste is printed and dried in a strip shape on the lower surface of the sheet corresponding to the intermediate position of the surface electrodes 11 on the upper surface of the sheet to adjust the resistance value. The front surface electrode 11 is formed. After forming the surface electrodes 11 on both sides of the sheet, the green sheet 21 is cut along the broken line which is the center line of these surface electrodes 11 at the position of the arrow M, and as shown in FIG. If the surface electrode 1 is cut along a broken line in a direction orthogonal to the cut surface at a location.
As shown in FIG. 12 (d), one is formed on each of the opposite edges of both surfaces of the chip-like thermistor element body 10 other than the opposite end surfaces of the chip-like thermistor element body 10 that face each other. A large number of chip-shaped green bodies 23 are obtained. By processing the chip-shaped green body 23 in the same manner as in the method shown in FIG. 4, the chip-type thermistor 4 shown in FIG.
0 is obtained. 13, the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same components.

【0020】(g) 別の形態の抵抗値調整用表面電極付き
チップ型サーミスタの作製(その2) 図14及び図15に示すように、この方法ではグリーン
シート21の両面に上述した第1導電性ペーストを四角
形のスポット状に印刷乾燥して多数個の抵抗値調整用表
面電極11を形成する。これらの表面電極11はシート
両面において相対向する位置に形成される。表面電極を
形成した後、ダイシングソーを用いて矢印Mの箇所で表
面電極11の中心線である破線に沿ってグリーンシート
21を切断し、更に表面電極11が形成されていない矢
印Nの箇所で破線に沿って前記切断面に直交する方向に
切断され、これにより、両側面に表面電極が現れないチ
ップ状グリーン体23が得られる。このチップ状グリー
ン体23は図4に示す方法と同様に処理される。両側面
に表面電極が現れないため、バレル研磨処理時に抵抗値
調整用表面電極を研磨する恐れが少なくなり、サーミス
タの抵抗値のばらつきがより一層小さくなる利点があ
る。
(G) Preparation of Chip Type Thermistor with Surface Electrode for Resistance Value Adjustment of Another Form (Part 2) As shown in FIGS. 14 and 15, in this method, the above-mentioned first conductive material is formed on both surfaces of the green sheet 21. The conductive paste is printed and dried in the shape of a rectangular spot to form a large number of resistance value adjusting surface electrodes 11. These surface electrodes 11 are formed at opposite positions on both sides of the sheet. After forming the surface electrode, the green sheet 21 is cut along the broken line which is the center line of the surface electrode 11 at the position of the arrow M using a dicing saw, and at the position of the arrow N where the surface electrode 11 is not formed. It is cut along a broken line in a direction orthogonal to the cut surface, whereby a chip-shaped green body 23 in which surface electrodes do not appear on both side surfaces is obtained. The chip-shaped green body 23 is treated in the same manner as the method shown in FIG. Since the surface electrodes do not appear on both side surfaces, there is less risk of polishing the resistance value adjusting surface electrode during the barrel polishing process, and there is an advantage that variations in the resistance value of the thermistor are further reduced.

【0021】(h) 別の形態の抵抗値調整用表面電極付き
チップ型サーミスタの作製(その3) 図17及び図18に示すように、この方法ではグリーン
シート21の上面に上述した第1導電性ペーストを十字
形のスポット状に印刷乾燥して多数個の抵抗値調整用表
面電極11を形成した後に、シート上面の複数の表面電
極11の中間位置に相応するシート下面に第1導電性ペ
ーストを上面と同様に十字形のスポット状に印刷乾燥し
て多数個の抵抗値調整用表面電極11を形成する。シー
ト両面に表面電極11を形成した後、上記(g)と同様に
してチップ状グリーン体23が得られる。このチップ状
グリーン体23を図4に示す方法と同様に処理すること
により、図16に示すチップ型サーミスタ50が得られ
る。図16において図2と同一符号は同一構成部品を示
す。両側面に表面電極が現れず、しかも表面電極11が
凸字状になるため、バレル研磨処理時に抵抗値調整用表
面電極を研磨する恐れが少なくなり、サーミスタの抵抗
値のばらつきがより一層小さくなる。更に凸字状の形状
のために、サーミスタ素子に電流を流した場合、電気の
流れが凸部先端に集中し、サーミスタ素体表面に流れに
くくなり、高温環境下に放置したときの信頼性が向上す
る。
(H) Preparation of Chip Type Thermistor with Surface Electrode for Resistance Value Adjustment of Another Embodiment (Part 3) As shown in FIGS. 17 and 18, in this method, the above-mentioned first conductive material is formed on the upper surface of the green sheet 21. After forming a large number of resistance value adjusting surface electrodes 11 by printing and drying the conductive paste in a cross-shaped spot shape, a first conductive paste is formed on the lower surface of the sheet corresponding to the intermediate position of the plurality of surface electrodes 11 on the upper surface of the sheet. Is printed and dried in the shape of a cross in the same manner as the upper surface to form a large number of resistance value adjusting surface electrodes 11. After forming the surface electrodes 11 on both sides of the sheet, the chip-shaped green body 23 is obtained in the same manner as in (g) above. By processing the chip-shaped green body 23 in the same manner as in the method shown in FIG. 4, the chip-type thermistor 50 shown in FIG. 16 is obtained. 16, the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same components. Since the surface electrode does not appear on both sides and the surface electrode 11 has a convex shape, the risk of polishing the resistance adjusting surface electrode during barrel polishing is reduced, and the variation in the resistance value of the thermistor is further reduced. . Furthermore, due to the convex shape, when a current is applied to the thermistor element, the electric current concentrates on the tip of the convex part, making it difficult for the thermistor element surface to flow, and the reliability when left in a high temperature environment is reduced. improves.

【0022】(i) 別の形態の抵抗値調整用表面電極付き
チップ型サーミスタの作製(その4) 図20及び図21に示すように、この方法ではグリーン
シート21の上面に上述した第1導電性ペーストを帯状
に印刷乾燥して多数個の表面電極41を形成した後に、
シート上面の複数の表面電極41の位置より表面電極4
1の幅方向にずらしてシート下面に第1導電性ペースト
を上面と同様に帯状に印刷乾燥して多数個の表面電極4
1を形成する。シート両面の表面電極41は互いに僅か
に重なり合うように形成される。シート両面に表面電極
41を形成した後、矢印Mの箇所で表面電極が重なり合
う部分の中心線である破線に沿ってグリーンシート21
を切断し、更に矢印Nの箇所で破線に沿って前記切断面
に直交する方向に切断され、これにより、チップ状グリ
ーン体23の相対向する両端面以外の相対向するグリー
ン体両表面のそれぞれの一方の端縁に抵抗値調整用表面
電極11が、他方の端縁に外包電極係止用表面電極17
が1つずつ形成される。1対の表面電極11はグリーン
体の異なる両端面に隣接するグリーン体表面の端縁に形
成される。1対の表面電極17も同様に形成される。表
面電極17は外包電極16により包込まれる面積に形成
される。このチップ状グリーン体23を図4に示す方法
と同様に処理することにより、図19に示すチップ型サ
ーミスタ60が得られる。図19において図2と同一符
号は同一構成部品を示す。このサーミスタ60はサーミ
スタ素体10に固着した表面電極17に外包電極16が
係止するため、外包電極の接着強度が高まる。
(I) Preparation of Chip Type Thermistor with Surface Electrode for Resistance Value Adjustment of Another Form (Part 4) As shown in FIGS. 20 and 21, in this method, the above-mentioned first conductive material is formed on the upper surface of the green sheet 21. After forming a large number of surface electrodes 41 by printing and drying the conductive paste in a strip shape,
From the positions of the plurality of surface electrodes 41 on the upper surface of the sheet, the surface electrode 4
The first conductive paste is printed on the lower surface of the sheet in the shape of a strip in the same manner as the upper surface by shifting in the width direction of 1 to dry a large number of surface electrodes 4
1 is formed. The surface electrodes 41 on both sides of the sheet are formed so as to slightly overlap each other. After forming the surface electrodes 41 on both sides of the sheet, the green sheet 21 is formed along the broken line which is the center line of the portion where the surface electrodes overlap at the location of arrow M.
Is further cut along the broken line at a position indicated by an arrow N in a direction orthogonal to the cut surface, whereby both surfaces of the green body other than the opposite end surfaces of the chip-shaped green body 23 other than the opposite end surfaces thereof facing each other are cut. The resistance adjusting surface electrode 11 is provided on one end edge, and the outer envelope electrode locking surface electrode 17 is provided on the other end edge.
Are formed one by one. The pair of front surface electrodes 11 are formed on the edges of the surface of the green body adjacent to the opposite end surfaces of the green body. The pair of surface electrodes 17 are also formed in the same manner. The surface electrode 17 is formed in an area covered by the outer electrode 16. By processing the chip-shaped green body 23 in the same manner as in the method shown in FIG. 4, the chip-type thermistor 60 shown in FIG. 19 is obtained. 19, the same reference numerals as those in FIG. 2 indicate the same components. In the thermistor 60, the outer envelope electrode 16 is locked to the surface electrode 17 fixed to the thermistor body 10, so that the adhesive strength of the outer envelope electrode is increased.

【0023】[0023]

【作用】1対の抵抗値調整用表面電極11を有するチッ
プ型サーミスタの抵抗値は、両端子電極12又はそれに
電気的に接続した抵抗値調整用表面電極11の間隔によ
り主に決定される。これらの表面電極11のサーミスタ
素体10に接する面積が印刷により高精度でばらつきが
小さいため、サーミスタの抵抗値のばらつきも小さくす
ることができる。従来、焼結シートを切断してチップ体
に加工していたものを、本発明ではチップ体への加工が
グリーンシートの状態でなされるため、容易にしかも高
精度に行うことができる。
The resistance value of the chip type thermistor having the pair of resistance value adjusting surface electrodes 11 is mainly determined by the distance between the both terminal electrodes 12 or the resistance value adjusting surface electrode 11 electrically connected thereto. Since the areas of the surface electrodes 11 in contact with the thermistor element body 10 are printed with high precision and small variation, the variation in resistance value of the thermistor can also be reduced. In the present invention, the process of cutting the sintered sheet into chips into the chip body is performed in the state of the green sheet, so that the chip body can be easily and accurately processed.

【0024】図6に示すように第2導電性ペースト25
を塗布したサーミスタ素体10を無機物層14の融点又
は軟化点より低い温度で焼成すると、図7に示すように
外包電極16が形成される。即ち、この焼成時にはペー
スト25中に均一に分散した無機結合材25aがペース
トの下地部分の無機物層14の一部と反応してこれを溶
融させる。流動化した層14の無機物は金属が焼結する
際にできる外包電極16内の細孔に侵入する。無機物層
14の厚さは0.1〜10μmに設定されているため、
無機物層14の一部は焼成の過程で上記細孔内に全量吸
収されてサーミスタ素体の端部から消滅する。この結
果、外包電極16とサーミスタ素体10は無機物層14
の消滅した部分を通じて直接接着し、互いに電気的に導
通する。図9に示すようにサーミスタ素体10と無機物
層14の間に内包電極15が介在する場合には、外包電
極16と内包電極15が互いに電気的に導通する。内包
電極15はサーミスタ素体10と導電性を維持するよう
に形成されているから、この場合も外包電極16とサー
ミスタ素体10とは電気的に導通する。一方、第2導電
性ペースト25が塗布されていない無機物層14の部分
はペーストを焼付けても、その無機物層の融点又は軟化
点が焼成温度より高いため、何ら変化を生じることなく
サーミスタ素体10の表面に残留し、その絶縁保護機能
を保持する。
As shown in FIG. 6, the second conductive paste 25
When the thermistor body 10 coated with is baked at a temperature lower than the melting point or the softening point of the inorganic layer 14, the envelope electrode 16 is formed as shown in FIG. That is, during this firing, the inorganic binder 25a uniformly dispersed in the paste 25 reacts with a part of the inorganic material layer 14 in the base portion of the paste to melt it. The fluidized inorganic material of the layer 14 penetrates into the pores in the outer envelope electrode 16 formed when the metal is sintered. Since the thickness of the inorganic layer 14 is set to 0.1 to 10 μm,
A part of the inorganic layer 14 is completely absorbed in the pores during the firing process and disappears from the end of the thermistor body. As a result, the envelope electrode 16 and the thermistor body 10 are separated from each other by the inorganic layer 14
Are directly adhered to each other through the disappeared portion of each of them and are electrically connected to each other. When the inclusion electrode 15 is interposed between the thermistor element body 10 and the inorganic layer 14 as shown in FIG. 9, the inclusion electrode 16 and the inclusion electrode 15 are electrically connected to each other. Since the inner electrode 15 is formed so as to maintain conductivity with the thermistor body 10, the outer electrode 16 and the thermistor body 10 are also electrically connected to each other in this case. On the other hand, in the portion of the inorganic layer 14 to which the second conductive paste 25 is not applied, even if the paste is baked, the melting point or softening point of the inorganic layer is higher than the firing temperature, so that the thermistor body 10 does not change at all. Remains on the surface of and retains its insulation protection function.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上述べたように、従来では焼結シート
を切断してチップ体に加工していたものを、本発明では
チップ体への加工がグリーンシートの状態でなされるた
め、容易にしかも高精度に行うことができる。またチッ
プ状サーミスタ素体の全面に絶縁性無機物層を一度に形
成するため、無機物層の形成が簡便になり、しかも素体
の6面すべてに均一な厚さで均質な無機物層を形成する
ことができる。また簡単な薄膜形成方法である印刷によ
り高精度に抵抗値調整用表面電極を形成できるので、サ
ーミスタの抵抗値を精密に調整できる。これらのことか
ら、抵抗値調整用表面電極の形成コスト及び無機物層の
形成コストを低減することができる。
As described above, in the prior art, a sintered sheet was cut and processed into chips, but in the present invention, the processing into chips is done in the state of a green sheet, so that it is easy to do. Moreover, it can be performed with high accuracy. In addition, since the insulating inorganic material layer is formed on the entire surface of the chip-like thermistor body at one time, the formation of the inorganic material layer is simplified, and moreover, the uniform inorganic material layer having a uniform thickness is formed on all six sides of the body. You can Further, since the resistance value adjusting surface electrode can be formed with high accuracy by printing, which is a simple thin film forming method, the resistance value of the thermistor can be adjusted precisely. For these reasons, it is possible to reduce the formation cost of the surface electrode for adjusting the resistance value and the formation cost of the inorganic layer.

【0026】特に本発明の製造方法によれば、チップ状
グリーン体を焼成してサーミスタ素体を作るため焼結密
度が高く、更にチップ状でバレル研磨処理を施せばチッ
プ体の角の割れ、欠け等がなくなり、機械的強度の高い
チップ型サーミスタを製造できる特長がある。この方法
で作製されたチップ型サーミスタは、電極が接触する部
分を除いてサーミスタ素体が絶縁性無機物層で被覆さ
れ、サーミスタ素体がこの無機物層で保護されているた
め、めっき処理してもめっき液の素体への浸食やめっき
付着による特性の変化がない。焼付け電極層の表面にめ
っき層を形成することにより、はんだ耐熱性とはんだ付
着性に優れた効果を奏する。また内包電極を設けたチッ
プ型サーミスタは、抵抗値のばらつきがより一層小さ
く、外包電極の材料を広く選定できる利点がある。
In particular, according to the manufacturing method of the present invention, since the chip-shaped green body is fired to form a thermistor element body, the sintered density is high, and if the chip-shaped barrel body is subjected to barrel polishing, the corner of the chip body is cracked. It has the feature that chip-type thermistors with high mechanical strength can be manufactured without chipping. The chip-type thermistor manufactured by this method has the thermistor element body covered with an insulating inorganic material layer except for the portion where the electrodes contact, and the thermistor element body is protected by this inorganic material layer, so even if it is plated. There is no change in characteristics due to erosion of the plating solution on the body or adhesion of the plating. By forming the plating layer on the surface of the baking electrode layer, excellent effects can be obtained in solder heat resistance and solder adhesion. Further, the chip-type thermistor provided with the internal electrode has an advantage that the variation of the resistance value is further smaller and the material of the external electrode can be widely selected.

【0027】[0027]

【実施例】次に本発明の具体的態様を示すために、本発
明を実施例に基づいて説明する。以下に述べる実施例は
本発明の技術的範囲を限定するものではない。 <実施例1>図12及び図13に示す方法によりチップ
型サーミスタを作製した。先ず市販の酸化マンガン及び
酸化ニッケルを出発原料とし、これらをMnO2:Ni
Oに換算して金属原子比が所定の割合になるようにそれ
ぞれ秤量した。秤量物をボールミルで16時間均一に混
合した後に脱水乾燥した。次いでこの混合物を900℃
で2時間仮焼し、この仮焼物を再びボールミルで粉砕し
て脱水乾燥した。粉砕物にポリビニルブチラールを6重
量%、エタノールを30重量%、ブタノールを30重量
%加え、均一に混合してスラリーを調製した。このスラ
リーを用いてドクタブレード法により厚さ0.8mmの
グリーンシートを作製し、このシートをたて70mm、
よこ70mmの大きさに打ち抜いた。次にこのシートの
両面に帯状に銀/パラジウム合金ペーストをスクリーン
印刷した。このとき、グリーンシートの両面の帯状の銀
ペーストがシートを挟んで互いに中間位置にくるように
印刷し乾燥して、厚さ約20μmの多数列の抵抗値調整
用表面電極を得た。
EXAMPLES The present invention will now be described based on examples in order to show specific embodiments of the present invention. The examples described below do not limit the technical scope of the present invention. Example 1 A chip type thermistor was manufactured by the method shown in FIGS. First, commercially available manganese oxide and nickel oxide were used as starting materials, and these were used as MnO 2 : Ni.
Each was weighed so that the metal atomic ratio was converted to O so that the metal atomic ratio became a predetermined ratio. The weighed materials were uniformly mixed with a ball mill for 16 hours and then dehydrated and dried. This mixture is then brought to 900 ° C.
It was calcined for 2 hours, and the calcined product was pulverized again with a ball mill and dehydrated and dried. To the pulverized product, 6% by weight of polyvinyl butyral, 30% by weight of ethanol and 30% by weight of butanol were added and uniformly mixed to prepare a slurry. Using this slurry, a doctor blade method was used to produce a green sheet having a thickness of 0.8 mm.
It was punched out to a size of 70 mm wide. Then, a silver / palladium alloy paste was screen-printed in a strip shape on both sides of this sheet. At this time, the strip-shaped silver pastes on both sides of the green sheet were printed so as to come to intermediate positions with the sheet sandwiched and dried to obtain resistance value adjusting surface electrodes in multiple rows having a thickness of about 20 μm.

【0028】続いて厚さ0.10mmのダイヤモンドブ
レードを有するダイシングソーを用いて図12に示す矢
印Mの箇所でグリーンシート21を表面電極11の中心
線である破線に沿って切断して短冊状のグリーン体22
を形成し、更に矢印Nの箇所で破線に沿って前記切断面
に直交する方向に切断して、チップ状グリーン体23を
得た。このチップ状グリーン体23を約1200℃で約
4時間焼成して焼結体であるチップ状サーミスタ素体に
した後、バレル研磨処理して焼結体の角取りをした。バ
レル研磨処理したサーミスタ素体は長さ約2.0mm、
幅約1.25mm、厚さ約0.75mmであった。この
サーミスタ素体を図5に示すスパッタリング装置を用い
てその表面全体に厚さ2μmのSiO2膜からなる絶縁
性無機物層を形成した。
Subsequently, the green sheet 21 is cut along the broken line which is the center line of the front surface electrode 11 at a position of an arrow M shown in FIG. 12 by using a dicing saw having a diamond blade having a thickness of 0.10 mm and has a strip shape. Green body 22
Was formed and further cut along the broken line at a position indicated by an arrow N in a direction orthogonal to the cut surface to obtain a chip-shaped green body 23. The chip-shaped green body 23 was fired at about 1200 ° C. for about 4 hours to obtain a chip-shaped thermistor element body which was a sintered body, and then barrel-polished to cut the sintered body. Barrel-polished thermistor body is about 2.0mm long,
The width was about 1.25 mm and the thickness was about 0.75 mm. An insulating inorganic material layer made of a SiO 2 film having a thickness of 2 μm was formed on the entire surface of this thermistor element using the sputtering apparatus shown in FIG.

【0029】SiO2膜で被覆したサーミスタ素体の両
端部表面に銀ペーストをディッピング法により抵抗値調
整用表面電極より小さい面積でサーミスタ素体の両端部
を包込むように塗布した。銀ペーストは、 Ag粉末
と、SiO2,TiO2,B23,Na2O及びK2Oから
なるガラス微粒子と、有機ビヒクルとからなる。銀ペー
ストを塗布したサーミスタ素体を大気圧下、乾燥した
後、30℃/分の速度で、820℃まで昇温しそこで1
0分間保持し、30℃/分の速度で室温まで降温してA
gからなる外包電極を得た。次いで電解バレルめっき法
で外包電極の表面に厚さ2〜3μmのNiめっき層を形
成し、続いて厚さ1〜2μmのSnめっき層を形成し、
図13に示すチップ型サーミスタを得た。
A silver paste was applied to the surfaces of both ends of the thermistor body covered with the SiO 2 film by a dipping method so as to cover both ends of the thermistor body in an area smaller than the surface electrode for resistance value adjustment. The silver paste is composed of Ag powder, glass particles made of SiO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 , Na 2 O and K 2 O, and an organic vehicle. After drying the thermistor body coated with the silver paste under atmospheric pressure, the temperature is raised to 820 ° C. at a rate of 30 ° C./minute, and then 1
Hold for 0 minutes, cool to room temperature at a rate of 30 ° C / minute, and
An outer envelope electrode composed of g was obtained. Next, a Ni plating layer having a thickness of 2 to 3 μm is formed on the surface of the envelope electrode by electrolytic barrel plating, and subsequently a Sn plating layer having a thickness of 1 to 2 μm is formed.
The chip type thermistor shown in FIG. 13 was obtained.

【0030】<比較例1>実施例1で得られた厚さ0.
8mm、たて70mm、よこ70mmのグリーンシート
を約1200℃で約4時間焼成して厚さ約0.75m
m、たて約50mm、横約50mmの焼結シートを得
た。この焼結シートの両面に実施例1と同様に実施例1
と同一のAgペーストを帯状にスクリーン印刷し乾燥し
て、厚さ約20μmの多数列の抵抗値調整用表面電極を
形成した。ガラス転移点が約650℃で結晶化温度が約
750℃であるSiO2,ZnO及びBaOを主成分と
する原料ガラス粉末を含むガラスペーストを調製した。
ペースト中でガラス成分は均一に混じり合った。このガ
ラスペーストを抵抗値調整用表面電極が形成された焼結
シートの両面に印刷し乾燥した。ガラスペーストが乾燥
した焼結シートを室温から約30℃/分の速度で850
℃まで昇温し、そこで約10分間保持し、約30℃/分
の速度で室温まで降温して、厚さ約30μmのガラス層
をシート表面に形成した。
<Comparative Example 1> The thickness obtained in Example 1 was 0.
A green sheet of 8 mm, 70 mm in width and 70 mm in width is fired at about 1200 ° C. for about 4 hours to have a thickness of about 0.75 m.
m, vertical length of about 50 mm, and width of about 50 mm were obtained. Example 1 was applied to both sides of this sintered sheet in the same manner as in Example 1.
The same Ag paste as the above was screen-printed in a band shape and dried to form resistance value adjusting surface electrodes in multiple rows having a thickness of about 20 μm. A glass paste containing a raw material glass powder having SiO2, ZnO and BaO as main components and having a glass transition point of about 650 ° C and a crystallization temperature of about 750 ° C was prepared.
The glass components were uniformly mixed in the paste. This glass paste was printed on both surfaces of the sintered sheet on which the surface electrode for adjusting the resistance value was formed and dried. Sinter the dried sheet of glass paste from room temperature to 850 at a rate of about 30 ° C / min.
The temperature was raised to 0 ° C., held there for about 10 minutes, and then lowered to room temperature at a rate of about 30 ° C./min to form a glass layer having a thickness of about 30 μm on the surface of the sheet.

【0031】次に、これを実施例1と同じダイヤモンド
ブレードを用いて、幅約1.25mmの短冊状に切断
し、この短冊状体の両側の切断面に前記と同様の方法で
ガラスペーストを印刷焼成して同じ構成のガラス層を形
成し、短冊状体の4面をガラス層で被覆した。続いて前
記切断により得られた切断面と垂直な方向に短冊状体を
長さ約2.0mmのチップ状に細かく切断した。この切
断面及びその周囲のガラス層に実施例1と同じAgペー
ストを実施例1と同様に塗布し焼成して外包電極を形成
し、更に実施例1と同様にして外包電極の表面に厚さ2
〜3μmのNiめっき層を形成し、続いて厚さ1〜2μ
mのSnめっき層を形成し、チップ型サーミスタを得
た。
Next, this was cut into strips having a width of about 1.25 mm using the same diamond blade as in Example 1, and the glass paste was applied to the cut surfaces on both sides of this strip by the same method as described above. By printing and baking, a glass layer having the same structure was formed, and four surfaces of the strip-shaped body were covered with the glass layer. Subsequently, the strip-shaped body was finely cut into chips each having a length of about 2.0 mm in a direction perpendicular to the cut surface obtained by the above cutting. The same Ag paste as in Example 1 was applied to the cut surface and the glass layer around the cut surface in the same manner as in Example 1 and fired to form an envelope electrode. Further, in the same manner as in Example 1, the thickness of the envelope electrode surface was obtained. Two
~ 3μm Ni plating layer is formed, followed by a thickness of 1-2μ
An Sn plating layer of m was formed to obtain a chip type thermistor.

【0032】<比較試験と結果>実施例1と比較例1の
それぞれのチップ型サーミスタについて、100個ずつ
採取し、25℃におけるゼロ負荷抵抗値のばらつき及び
目標抵抗値に対するずれを測定した。更にそれぞれのチ
ップ型サーミスタについて、次の内容の抗折強度試験、
温度サイクル試験及び限界たわみ試験を行った。これら
の結果を表1に示す。括弧内の数値nは試験した試料数
である。 抗折強度試験(n=50) 試料となるチップ型サーミスタの長さ方向の両端部を間
隔1.2mmで配置された2つの台にそれぞれ載せ、2
つの台の中間の位置に押し下げ速度20mm/分で荷重
を加え、試料が破壊するときの荷重を測定した。 温度サイクル試験(n=100) 厚さ0.635mmのアルミナ基板に試料となるチップ
型サーミスタをはんだペースト(SPT55-2062、千住金属
(株)製)を用いて温度230℃でリフローはんだ付けし
た。気相式温度衝撃試験機を用いて、はんだ付けした試
料を−25℃で30分間維持し、そこから昇温して室温
で3分間維持し、更に昇温して85℃で30分間維持し
た。その後維持時間を同一にして反対に降温させるサイ
クル試験を500サイクル行い、破壊した試料数を数え
た。 限界たわみ試験(n=20) 厚み1.6mm、幅40mmのガラスエポキシ基板に試
料となるチップ型サーミスタを上記と同様の方法でリ
フローはんだ付けして実装した。このはんだ付けした基
板をスパン90mmの支持台に載せた。強度試験機を用
いて基板のスパン中心部に押し下げ速度10mm/分で
荷重を加え、抵抗値が10%以上低下したときの限界た
わみ量を測定した。
<Comparison Test and Results> 100 chip thermistors of each of Example 1 and Comparative Example 1 were sampled, and the dispersion of zero load resistance value at 25 ° C. and the deviation from the target resistance value were measured. Furthermore, for each chip type thermistor, the bending strength test of the following contents,
A temperature cycle test and a limit deflection test were performed. The results are shown in Table 1. The number n in parentheses is the number of samples tested. Bending strength test (n = 50) Place both ends of a sample chip thermistor in the lengthwise direction on two tables arranged at an interval of 1.2 mm. 2
A load was applied to the middle position between the two tables at a pressing speed of 20 mm / min, and the load at which the sample broke was measured. Temperature cycle test (n = 100) Solder paste (SPT55-2062, Senju Metal) with sample type thermistor on alumina substrate 0.635mm thick
Reflow soldering at a temperature of 230 ° C. Using the vapor phase temperature impact tester, the soldered sample was maintained at -25 ° C for 30 minutes, heated from there and maintained at room temperature for 3 minutes, and further heated at 85 ° C for 30 minutes. . After that, 500 cycles of a cycle test in which the maintaining time was made the same and the temperature was decreased in the opposite direction were performed, and the number of broken samples was counted. Limit deflection test (n = 20) A chip type thermistor as a sample was mounted on a glass epoxy substrate having a thickness of 1.6 mm and a width of 40 mm by reflow soldering in the same manner as above. The soldered substrate was placed on a support base having a span of 90 mm. Using a strength tester, a load was applied to the center of the span of the substrate at a pushing speed of 10 mm / min, and the limit amount of deflection when the resistance value decreased by 10% or more was measured.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】表1から明らかなように、 比較例1のチ
ップ型サーミスタに比べて、実施例1のチップ型サーミ
スタはその抵抗値を少ないばらつきで、かつ所望の値に
精度良く調整することが判明した。また焼結シートをチ
ップ体に切断する比較例1と比べて、チップ体で焼成す
る実施例1は抗折強度及び限界たわみ量が高く、温度サ
イクル試験でも良好な結果が得られることが判明した。
As is clear from Table 1, the chip-type thermistor of Example 1 was found to adjust its resistance value to a desired value with a small variation as compared with the chip-type thermistor of Comparative Example 1. did. Further, in comparison with Comparative Example 1 in which the sintered sheet is cut into chips, Example 1 in which the chips are fired has a higher bending strength and a limit deflection amount, and it has been found that good results can be obtained even in the temperature cycle test. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の抵抗値調整用表面電極付きチップ型サ
ーミスタの要部破断斜視図。
FIG. 1 is a fragmentary perspective view of a chip type thermistor with a surface electrode for resistance value adjustment of the present invention.

【図2】図1の中央縦断面図。FIG. 2 is a central longitudinal sectional view of FIG.

【図3】そのサーミスタ素体用グリーンシートからチッ
プ状グリーン体を作るまでの工程におけるグリーンシー
ト及びグリーン体の斜視図。
FIG. 3 is a perspective view of the green sheet and the green body in the steps from the thermistor element green sheet to the chip-shaped green body.

【図4】そのチップ状グリーン体からチップ型サーミス
タを作るまでのチップ体の斜視図。
FIG. 4 is a perspective view of a chip body from the chip-shaped green body to a chip-type thermistor.

【図5】そのサーミスタ素体の表面に絶縁性無機物層を
形成するためのスパッタリング装置の概略斜視図。
FIG. 5 is a schematic perspective view of a sputtering apparatus for forming an insulating inorganic material layer on the surface of the thermistor body.

【図6】そのサーミスタ素体に導電性ペーストを塗布し
た状態の要部拡大断面図。
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the thermistor element body in which a conductive paste is applied.

【図7】その導電性ペーストを焼付けた状態の要部拡大
断面図。
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of an essential part in a state where the conductive paste is baked.

【図8】本発明の抵抗値調整用表面電極及び内包電極付
きチップ型サーミスタの要部破断斜視図。
FIG. 8 is a fragmentary perspective view of a chip type thermistor having a resistance adjusting surface electrode and an internal electrode according to the present invention.

【図9】図8の中央縦断面図。9 is a central vertical cross-sectional view of FIG.

【図10】そのチップ状グリーン体からチップ型サーミ
スタを作るまでのチップ体の斜視図。
FIG. 10 is a perspective view of a chip body from the chip-shaped green body to a chip-type thermistor.

【図11】そのサーミスタ素体端面に内包電極用の銀ペ
ーストを塗布する状況を示すサーミスタ素体の保持プレ
ートの断面図。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a holding plate of the thermistor element body showing a situation in which a silver paste for an internal electrode is applied to the end surface of the thermistor element body.

【図12】本発明の別の抵抗値調整用表面電極付きチッ
プ型サーミスタのサーミスタ素体用グリーンシートから
チップ状グリーン体を作るまでの工程におけるグリーン
シート及びグリーン体の斜視図。
FIG. 12 is a perspective view of a green sheet and a green body in a process from a green sheet for a thermistor element body of a chip type thermistor with another surface electrode for resistance value adjustment to a chip-shaped green body according to the present invention.

【図13】そのチップ型サーミスタの中央縦断面図。FIG. 13 is a central vertical sectional view of the chip type thermistor.

【図14】本発明の別の抵抗値調整用表面電極付きチッ
プ型サーミスタのサーミスタ素体用グリーンシートに抵
抗値調整用表面電極を形成した斜視図。
FIG. 14 is a perspective view in which a resistance-adjusting surface electrode is formed on a thermistor element green sheet of another chip-type thermistor with a resistance-adjusting surface electrode of the present invention.

【図15】図14のグリーンシートをダイシングして得
られたチップ状グリーン体の斜視図。
15 is a perspective view of a chip-shaped green body obtained by dicing the green sheet shown in FIG.

【図16】本発明の別の抵抗値調整用表面電極付きチッ
プ型サーミスタの中央縦断面図。
FIG. 16 is a central longitudinal sectional view of another chip-type thermistor with a surface electrode for resistance value adjustment of the present invention.

【図17】そのサーミスタ素体用グリーンシートに抵抗
値調整用表面電極を形成した斜視図。
FIG. 17 is a perspective view in which a resistance adjusting surface electrode is formed on the thermistor element green sheet.

【図18】図17のグリーンシートをダイシングして得
られたチップ状グリーン体の斜視図。
FIG. 18 is a perspective view of a chip-shaped green body obtained by dicing the green sheet of FIG.

【図19】本発明の更に別の抵抗値調整用表面電極付き
チップ型サーミスタの中央縦断面図。
FIG. 19 is a central longitudinal cross-sectional view of still another chip type thermistor with a surface electrode for resistance value adjustment of the present invention.

【図20】そのサーミスタ素体用グリーンシートに表面
電極を形成した斜視図。
FIG. 20 is a perspective view in which a surface electrode is formed on the thermistor element green sheet.

【図21】図20のグリーンシートをダイシングして得
られたチップ状グリーン体の斜視図。
21 is a perspective view of a chip-shaped green body obtained by dicing the green sheet shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 チップ状サーミスタ素体 11 抵抗値調整用表面電極 12 端子電極 14 絶縁性無機物層 15 内包電極 16 外包電極 17 外包電極係止用表面電極 18 Niめっき層 19 Snめっき層 20,30,40,50,60 チップ型サーミスタ 21 サーミスタ素体用グリーンシート 22 短冊状グリーン体 23 チップ状グリーン体 25 導電性ペースト 25a 無機結合材 10 Chip Thermistor Element 11 Surface Electrode for Resistance Value Adjustment 12 Terminal Electrode 14 Insulating Inorganic Material Layer 15 Internal Electrode 16 External Electrode 17 External Electrode Locking Surface Electrode 18 Ni Plating Layer 19 Sn Plating Layer 20, 30, 40, 50 , 60 Chip type thermistor 21 Green sheet for thermistor body 22 Strip green body 23 Chip green body 25 Conductive paste 25a Inorganic binder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤本 義典 埼玉県秩父郡横瀬町大字横瀬2270番地 三 菱マテリアル株式会社セラミックス研究所 内 (72)発明者 石川 良彦 埼玉県秩父郡横瀬町大字横瀬2270番地 三 菱マテリアル株式会社セラミックス研究所 内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshinori Fujimoto, 2270 Yokoze, Chichibu-gun, Saitama Prefecture, Yokose, Sanritsu Materials Co., Ltd. Sanryo Materials Co., Ltd. Ceramics Laboratory

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 チップ状サーミスタ素体(10)と、前記サ
ーミスタ素体(10)の相対向する両端面以外の素体端部表
面に形成された抵抗値調整用表面電極(11)と、前記表面
電極(11)が形成されたサーミスタ素体(10)の全面を被覆
する絶縁性無機物層(14)と、前記無機物層(14)を被覆し
たサーミスタ素体(10)の両端部に形成された外包電極(1
6)と、前記外包電極(16)の表面に形成されためっき層(1
8,19)とを備えたチップ型サーミスタであって、 前記外包電極(16)は金属粉末と無機結合材を含む導電性
ペーストを前記表面電極(11)より小さい面積で前記サー
ミスタ素体(10)の両端部を包込むように塗布して焼付け
ることにより形成され、 前記無機物層(14)は厚さが0.1〜10μmであって、
前記外包電極(16)を形成する時の焼成温度より高い融点
又は軟化点を有し、かつ前記ペーストの下地部分の前記
無機物層(14)の一部が前記外包電極(16)の形成時に前記
無機結合材に反応溶融して前記外包電極(16)に吸収され
消滅するように構成されたことを特徴とするチップ型サ
ーミスタ。
1. A chip-like thermistor element body (10), a resistance value adjusting surface electrode (11) formed on the end surface of the element body other than opposite end surfaces of the thermistor element body (10), An insulating inorganic material layer (14) covering the entire surface of the thermistor element body (10) on which the surface electrode (11) is formed, and formed on both ends of the thermistor element body (10) covered with the inorganic material layer (14) Outer envelope electrode (1
6) and the plating layer (1
8, 19) is a chip-type thermistor, wherein the outer electrode (16) is a conductive paste containing a metal powder and an inorganic binder in a smaller area than the surface electrode (11) the thermistor body (10). ) Is formed by coating and baking so that both ends of the inorganic substance layer (14) have a thickness of 0.1 to 10 μm,
It has a melting point or a softening point higher than the firing temperature when forming the envelope electrode (16), and a part of the inorganic layer (14) of the base portion of the paste is formed at the time of forming the envelope electrode (16). A chip type thermistor, characterized in that the chip type thermistor is configured to react with an inorganic binder to be melted and absorbed by the outer envelope electrode (16) to disappear.
【請求項2】 チップ状サーミスタ素体(10)の両端面に
抵抗値調整用表面電極(11)に電気的に接続する内包電極
(15)が形成され、前記表面電極(11)及び内包電極(15)が
形成されたサーミスタ素体(10)の全面が絶縁性無機物層
(14)により被覆された請求項1記載のチップ型サーミス
タ。
2. An internal electrode electrically connected to a resistance adjusting surface electrode (11) on both end faces of a chip-like thermistor element body (10).
(15) is formed, and the entire surface of the thermistor element body (10) on which the surface electrode (11) and the inclusion electrode (15) are formed is an insulating inorganic material layer.
The chip type thermistor according to claim 1, which is covered with (14).
【請求項3】 抵抗値調整用表面電極(11)がチップ状サ
ーミスタ素体(10)の相対向する両端面以外の相対向する
素体両表面の前記両端面に隣接する端縁に1対ずつ形成
された請求項1又は2記載のチップ型サーミスタ。
3. A pair of resistance-value-adjusting surface electrodes (11), which are adjacent to both end surfaces of the opposing element bodies other than the opposite end surfaces of the chip-like thermistor element body (10). The chip type thermistor according to claim 1 or 2, which is formed separately.
【請求項4】 抵抗値調整用表面電極(11)がチップ状サ
ーミスタ素体(10)の相対向する両端面以外の相対向する
素体両表面の前記両端面に隣接する異なる端縁にそれぞ
れ1つずつ形成された請求項1又は2記載のチップ型サ
ーミスタ。
4. The resistance-adjusting surface electrode (11) is provided on each of different edges of the chip-like thermistor element body (10) adjacent to the opposite end surfaces of the element body except the opposite end surfaces thereof. The chip type thermistor according to claim 1, wherein the chip thermistor is formed one by one.
【請求項5】 チップ状サーミスタ素体(10)の相対向す
る両端面以外の相対向する素体両表面の抵抗値調整用表
面電極(11)が形成されない前記両端面に隣接する異なる
端縁に外包電極(16)により包込まれる外包電極係止用表
面電極(17)が1つずつ形成された請求項4記載のチップ
型サーミスタ。
5. A different edge adjacent to both end surfaces of the chip-like thermistor element body (10) on which the resistance value adjusting surface electrodes (11) are not formed on both surfaces of the element body opposite to each other except the opposite end surfaces. 5. The chip type thermistor according to claim 4, wherein each of the surface electrodes (17) for locking the outer package electrode is formed on the outer surface of the outer electrode (16).
【請求項6】 サーミスタ素体用グリーンシート(21)の
両面に複数の帯状又はスポット状に第1導電性ペースト
を印刷して抵抗値調整用表面電極(11)を形成する工程
と、 前記表面電極(11)が形成されたグリーンシート(21)を前
記表面電極(11)が両端縁に位置するようにチップ状に切
断する工程と、 前記チップ状グリーン体(23)を焼成してチップ状サーミ
スタ素体(10)を形成する工程と、 前記チップ状サーミスタ素体(10)の全面に厚さ0.1〜
10μmの絶縁性無機物層(14)を被覆する工程と、 前記無機物層(14)を被覆したチップ状サーミスタ素体(1
0)の両端部に金属粉末と無機結合材(25a)を含む第2導
電性ペースト(25)を前記表面電極(11)より小さい面積で
前記サーミスタ素体(10)の両端部を包込むように塗布す
る工程と、 前記ペースト(25)を塗布したサーミスタ素体(10)を前記
無機物層(14)の融点又は軟化点より低い温度で焼成し、
前記塗布したペーストの無機結合材(25a)にそのペース
トの下地部分の前記無機物層(14)の一部を反応溶融させ
ることにより前記無機物層(14)の一部を消滅させて外包
電極(16)を形成する工程と、 前記外包電極(16)の表面にめっき層(18,19)を形成する
工程とを含むチップ型サーミスタの製造方法。
6. A step of forming a resistance value adjusting surface electrode (11) by printing a plurality of strip-shaped or spot-shaped first conductive pastes on both surfaces of a thermistor element green sheet (21); A step of cutting the green sheet (21) on which the electrodes (11) are formed into chips so that the surface electrodes (11) are located at both edges, and the chip-shaped green body (23) is baked to form chips. A step of forming the thermistor element body (10);
A step of coating an insulating inorganic layer (14) having a thickness of 10 μm, and a chip-like thermistor element body (1) coated with the inorganic layer (14)
The second conductive paste (25) containing the metal powder and the inorganic binder (25a) is wrapped around the both ends of the thermistor body (10) in an area smaller than that of the surface electrode (11). And a step of applying the paste (25) to the thermistor element body (10) is baked at a temperature lower than the melting point or softening point of the inorganic layer (14),
A part of the inorganic material layer (14) disappears by reacting and melting a part of the inorganic material layer (14) of the underlying portion of the paste in the inorganic binder (25a) of the applied paste, and the external electrode (16) ) And a step of forming the plating layers (18, 19) on the surface of the envelope electrode (16).
【請求項7】 チップ状サーミスタ素体(10)を形成する
工程と絶縁性無機物層(14)を被覆する工程との間に前記
チップ状サーミスタ素体(10)の両端面に第3導電性ペー
ストを塗布し焼成することにより抵抗値調整用表面電極
(11)に電気的に接続する内包電極(15)を形成する工程を
備えた請求項6記載のチップ型サーミスタの製造方法。
7. The third conductive material is provided on both end surfaces of the chip-like thermistor element body (10) between the step of forming the chip-like thermistor element body (10) and the step of coating the insulating inorganic material layer (14). Surface electrode for resistance adjustment by applying paste and baking
The method for manufacturing a chip type thermistor according to claim 6, further comprising the step of forming an internal electrode (15) electrically connected to (11).
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109406001A (en) * 2017-08-16 2019-03-01 深圳市刷新智能电子有限公司 A kind of manufacturing method and temperature sensor of extra-thin temperature sensor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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