JPH0721046B2 - Resist composition for producing printed wiring board - Google Patents

Resist composition for producing printed wiring board

Info

Publication number
JPH0721046B2
JPH0721046B2 JP63021942A JP2194288A JPH0721046B2 JP H0721046 B2 JPH0721046 B2 JP H0721046B2 JP 63021942 A JP63021942 A JP 63021942A JP 2194288 A JP2194288 A JP 2194288A JP H0721046 B2 JPH0721046 B2 JP H0721046B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
printed wiring
resin composition
prepolymer
resist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63021942A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH01197520A (en
Inventor
真貴雄 渡部
勇 田中
廣 菊池
齋 岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63021942A priority Critical patent/JPH0721046B2/en
Publication of JPH01197520A publication Critical patent/JPH01197520A/en
Publication of JPH0721046B2 publication Critical patent/JPH0721046B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性樹脂組成物と熱硬化性樹脂組成物とか
らなる樹脂組成物に係り、特に、アルカリ性のめっき条
件に耐え、作業性に優れ、かつ、優れた解像度を示すプ
リント配線板製造用樹脂組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin composition comprising a photosensitive resin composition and a thermosetting resin composition, and in particular, it withstands alkaline plating conditions and has good workability. And a resin composition for producing a printed wiring board, which exhibits excellent resolution.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

印刷配線板用ソルダレジストなどのレジスト材料として
熱硬化型のエポキシ樹脂系インクが使用できることは、
すでによく知られている。一方、レジスト材料としてソ
ルダレジストを考えた場合、配線の高密度化にともなっ
て回路上に形成するソルダレジストのパターン精度の向
上が強く要求されている。
The fact that thermosetting epoxy resin-based ink can be used as a resist material such as solder resist for printed wiring boards
It is already well known. On the other hand, when a solder resist is used as the resist material, it is strongly required to improve the pattern accuracy of the solder resist formed on the circuit as the wiring density increases.

この要求に応えるために、熱硬化性レジストに代り、感
光性のソルダレジストを用いて、露光、現像して、高精
度のレジストパターンを得る試みが提案されており、こ
の種レジスト材料の提案として、例えば、特開昭第54−
94595号、特開昭第58−62636号、特開昭第59−22047号
などの記載を挙げることができる。
In order to meet this demand, an attempt to obtain a highly accurate resist pattern by exposing and developing using a photosensitive solder resist instead of a thermosetting resist has been proposed. , For example, JP-A-54-
94595, JP-A-58-62636, JP-A-59-22047 and the like can be mentioned.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

しかしながら、上記従来技術は、露光、現像によるレジ
ストパターンの形成は可能であるものの、高密度多層配
線板製造において重要な要素となる低コスト性、作業
性、信頼性などの点について十分な考慮がなされていな
かった。
However, although the above-mentioned conventional technique can form a resist pattern by exposure and development, sufficient consideration must be given to low cost, workability, reliability, etc., which are important factors in the production of high-density multilayer wiring boards. It wasn't done.

まず、配線板上に露光、現像したレジストパターンを形
成するためには、少くとも、配線板全面にレジスト膜を
形成する工程と、ネガマスク等を用いて露光を行う工程
と、現像液等により現像を行う工程とを経る必要があ
る。配線板全面にレジスト膜を形成するには、レジスト
をフィルム化してラミネートするか、あるいは、レジス
トを液状化して塗布すればよいが、フィルム化した場合
には、作業性は良く、かつ、露光の際にネガマスクと密
着して露光できるという利点があるものの、フィルム化
すること自体の困難さに加え、フィルム化に要する費用
が多額になるという問題があり、一方、液状レジストを
用いる場合には、安価にはなるが、レジストが液状であ
るために、ネガマスクと密着して露光することができな
いという致命的な欠点を有していた。
First, in order to form an exposed and developed resist pattern on a wiring board, at least a step of forming a resist film on the entire surface of the wiring board, a step of exposing using a negative mask or the like, and a step of developing with a developing solution or the like. It is necessary to go through the process of performing. In order to form a resist film on the entire surface of the wiring board, the resist may be formed into a film and laminated, or the resist may be liquefied and applied. When the film is formed, workability is good and exposure is performed. Although there is an advantage that it can be exposed in close contact with a negative mask, in addition to the difficulty of forming a film itself, there is a problem that the cost required for forming a film becomes large, on the other hand, when using a liquid resist, Although the cost is low, the liquid resist has a fatal drawback that it cannot be exposed in close contact with the negative mask.

また、レジスト組成上の制約から、塗布方法も作業性の
よいスクリーン印刷が使用できないために、溶剤に希釈
したレジストをスプレーするか、あるいは、カーテンコ
ーティングにより塗布するなど、作業性の悪い方法をと
らざるを得ないという問題があった。
Also, due to the restrictions on the resist composition, screen printing, which has good workability, cannot be used as a coating method.Therefore, methods with poor workability, such as spraying a resist diluted with a solvent or applying by curtain coating, have been adopted. There was a problem that I had no choice.

さらに、現像処理においても、引火性の大きな有機溶剤
を用いるため、火災安全上の危険性があり、1、1、1
−トリクロルエタンのような塩素系溶剤による現像が望
ましいものとされていた。
In addition, since a highly flammable organic solvent is used in the development process, there is a fire safety risk.
Development with a chlorine-based solvent such as trichloroethane has been desired.

また、上記作業性の問題に加え、従来のレジストには、
レジストパターンを形成した配線板に化学銅めっきを施
す際に、高温、高アルカリ性のめっき液中に長時間浸漬
することによりレジストが剥離してしまうという極めて
重大な欠陥があった。このようなレジストの耐めっき液
性の問題は、近年特に認識が深まってきた問題である
が、露光・現像できるレジスト組成物でこの問題を解決
する方法はこれまで知られていなかった。
In addition to the above workability problem, conventional resists have
When chemical copper plating is applied to a wiring board on which a resist pattern is formed, there is a very serious defect that the resist is peeled off by being immersed in a high-temperature, highly alkaline plating solution for a long time. Such a problem of resist plating solution resistance has been particularly recognized in recent years, but a method for solving this problem with a resist composition that can be exposed and developed has not been known so far.

本発明の目的は、上記従来技術にみられた種々の問題点
を解決して、安価な塗布用レジストでありながら、フィ
ルム化したレジストの優れた作業性を兼ねそなえ、か
つ、耐めっき液性の問題をも解消した、解像度の高い樹
脂組成物を提供することにある。
The object of the present invention is to solve the various problems found in the above-mentioned prior art, while being an inexpensive coating resist, it also has the excellent workability of a filmized resist, and is resistant to plating solutions. Another object of the present invention is to provide a resin composition having a high resolution that solves the above problem.

〔課題を解決するための手段〕[Means for Solving the Problems]

上記目的は、樹脂組成物を、ジアリルフタレートのプレ
ポリマーと、多官能不飽和化合物と、光ラジカル重合開
始剤と、エポキシ樹脂と、光カチオン重合開始剤および
所定の硬化剤とからなる樹脂組成物とすることによって
達成することができる。
The above-mentioned object is a resin composition comprising a prepolymer of diallyl phthalate, a polyfunctional unsaturated compound, a photoradical polymerization initiator, an epoxy resin, a photocationic polymerization initiator and a predetermined curing agent. Can be achieved by

上記組成中のジアリルフタレートのプレポリマーはβ−
ポリマーとも称されるので、例えば、吉見直喜著「ジア
リルフタレート樹脂」日刊工業新聞社刊(昭44)にその
詳細な性質および製造方法の記載があり、また、例え
ば、大阪曹達(株)から入手することができる。本発明
に用いるジアリルフタレートのプレポリマーは、分子量
が3,000乃至30,000のものが望ましいが、必ずしもこの
範囲に制限されるものではない。また、本明細中におけ
る該プレポリマーを含むという表現は、該プレポリマー
合成にともなって残留あるいは生成するジアリルフタレ
ートモノマーあるいは三次元網状構造のいわゆるγ−ポ
リマーの少量が含まれることを妨げるものではない。
The prepolymer of diallyl phthalate in the above composition is β-
Since it is also called a polymer, for example, "Diallyl phthalate resin" written by Naoki Yoshimi, published by Nikkan Kogyo Shimbun (sho 44), describes its detailed properties and production method, and is obtained from Osaka Soda Co., Ltd., for example. can do. The prepolymer of diallyl phthalate used in the present invention preferably has a molecular weight of 3,000 to 30,000, but is not necessarily limited to this range. In addition, the expression including the prepolymer in the present specification does not prevent inclusion of a small amount of a diallyl phthalate monomer or a so-called γ-polymer having a three-dimensional network structure, which remains or is formed with the synthesis of the prepolymer. .

また、上記樹脂組成物中の多官能不飽和化合物は、分子
内に少くとも2個以上のエチレン結合を有する多官能不
飽和化合物を示すもので、このような化合物の1例とし
て、不飽和カルボン酸と2価以上のポリヒドロキシ化合
物とのエステル化反応によって得られる化合物を挙げる
ことができる。ここで、不飽和カルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マ
レイン酸などを、また、2価以上のポリヒドロキシ化合
物としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ヒドロキシノン、ピロガ
ロールなどを、また、これら不飽和カルボン酸とポリヒ
ドロキシ化合物とのエステル化反応によって得られる化
合物としては、ジエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチル
グリコールジアクリレート、1,5ペンタンジオールジア
クリレート、1,6ヘキサンジオールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、1,3ブタンジオールジメタクリレートなどに代表
されるジアクリレート、ジメタクリレート化合物やジペ
ンタエリスリトールのトリー、テトラー、ペンタ−アク
リレートもしくは−メタクリレート、ソルビトールのト
リー、テトラー、ペンター、ヘキサ−アクリレートもし
くは−メタクリレートなどに代表される多価アクリレー
トあるいはメタクリレート化合物や、オリゴエステルア
クリレート、オリゴエステルメタクリレートなど、ま
た、エポキシ樹脂とアクリル酸あるいはメタクリル酸と
の反応によって生成されるエポキシアクリレートあるい
はエポキシメタクリレートを挙げることができる。な
お、以上の例は、単官能不飽和化合物の添加を制限する
ものではなく、また、必要によって、多官能不飽和化合
物の混合物を用いることもできる。また、上記樹脂組成
物中の光ラジカル重合開始剤は、アセトフェノンおよび
その誘導体、ベンゾフェノンおよびその誘導体、ミヒラ
−ケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインアルキル
エーテル、ベンジルアルキルケタール、チオキサントン
およびその誘導体、テトラメチルチウラムモノサルファ
イド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2
−モルフオリ−1−プロペン−1に代表されるα−アミ
ノケトン化合物などである。なお、必要により、上記化
合物の混合物も使用でき、また、必要によって、光ラジ
カル重合開始剤の作用を増減する目的でアミン化合物添
加することもできる。
The polyfunctional unsaturated compound in the resin composition is a polyfunctional unsaturated compound having at least two ethylene bonds in the molecule, and as one example of such a compound, an unsaturated carboxylic acid is used. A compound obtained by an esterification reaction of an acid and a polyhydroxy compound having a valence of 2 or more can be mentioned. Here, as the unsaturated carboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, etc., and as the polyhydroxy compound having two or more valences, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, hydroxy, etc. Non, pyrogallol, and the like, and as the compound obtained by the esterification reaction of these unsaturated carboxylic acid and polyhydroxy compound, diethylene glycol diacrylate,
Polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,5 pentanediol diacrylate, 1,6 hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 1, 3 Butanediol Dimethacrylate and other diacrylate, dimethacrylate compounds and dipentaerythritol tree, tetra-, penta-acrylate or -methacrylate, sorbitol tree, tetra-, pentar, hexa-acrylate or -methacrylate, etc. Polyvalent acrylate or methacrylate compounds, oligoester acrylates, oligos Such as methacrylate, also, and epoxy acrylates or epoxy methacrylates are produced by the reaction of epoxy resin with acrylic acid or methacrylic acid. Note that the above examples do not limit the addition of the monofunctional unsaturated compound, and if necessary, a mixture of polyfunctional unsaturated compounds can be used. The photoradical polymerization initiator in the resin composition is acetophenone and its derivative, benzophenone and its derivative, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin alkyl ether, benzyl alkyl ketal, thioxanthone and its derivative, tetramethyl thiuram mono. Sulfide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone,
2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2
And α-aminoketone compounds represented by morphol-1-propene-1. If necessary, a mixture of the above compounds can be used, and if necessary, an amine compound can be added for the purpose of increasing or decreasing the action of the photoradical polymerization initiator.

また、上記樹脂組成物中のエポキシ樹脂および所定の硬
化剤は、アルカリ性めっき液中浸漬時に銅箔上のソルダ
レジストが剥離するのを防ぐために添加するもので、エ
ポキシ樹脂としては、平均して1分子当り2個以上のエ
ポキシ基を有するもので、例えば、ビスフェノールA、
ハロゲン化ビスフェノールA、カテコール、レゾルシノ
ールなどのような多価フェノールまたはグリセリンのよ
うな多価アルコールとエピクロールヒドリンとを塩基性
触媒の存在下で反応させて得られるポリクリシジルエー
テルあるいはポリクリシジルエステル、ノボラック型フ
ェノール樹脂とエピクロールヒドリンとを縮合させて得
られるエポキシノボラック、過酸化法でエポキシ化した
エポキシ化ポリオレフィン、エポキシ化ポリブタジエ
ン、ジシクロペンタジエン化オキサイドあるいはエポキ
シ化植物油などを用いることができる。また、硬化剤と
しては、ジアミノトリアジン変性イミダゾール化合物と
ジシアンジアミドとの混合物がソルダレジストの剥離防
止に対して好適である。ここで、ジアミノトリアジン変
性イミダゾール化合物としては、エポキサイド化合物に
対して潜在硬化性を有する、下記の一般式で示される化
合物を用いることができる。
Further, the epoxy resin and the predetermined curing agent in the resin composition are added to prevent the solder resist on the copper foil from peeling off when immersed in the alkaline plating solution. Those having two or more epoxy groups per molecule, such as bisphenol A,
Polychrysidyl ethers or polychrysidyl esters obtained by reacting polyhydric phenols such as halogenated bisphenol A, catechol, resorcinol, etc. or polyhydric alcohols such as glycerin with epichlorhydrin in the presence of a basic catalyst, Epoxy novolac obtained by condensing a novolak type phenolic resin and epichlorhydrin, an epoxidized polyolefin epoxidized by a peroxide method, an epoxidized polybutadiene, a dicyclopentadiene oxide, an epoxidized vegetable oil, or the like can be used. Further, as the curing agent, a mixture of a diaminotriazine-modified imidazole compound and dicyandiamide is suitable for preventing peeling of the solder resist. Here, as the diaminotriazine-modified imidazole compound, a compound having a latent curability with respect to an epoxide compound and represented by the following general formula can be used.

(Rはイミダゾール化合物を示す。) 例えば、2,4−ジアミノ−6{2′−メチルイミダゾー
ル−(1′)}エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミ
ノ−6{2′−エチル−4′−メチルイミダゾール−
(1′)}エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−
6{2′−ウンテシルイミダゾール−(1′)}エチル
−S−トリアジンあるいは2,4−ジアミノ6{2′−メ
チルイミダゾール−(1′)}エチル−S−トリアジン
・イソシアヌール酸付加物などである。
(R represents an imidazole compound.) For example, 2,4-diamino-6 {2'-methylimidazole- (1 ')} ethyl-S-triazine, 2,4-diamino-6 {2'-ethyl-4 ′ -Methylimidazole-
(1 ′)} Ethyl-S-triazine, 2,4-diamino-
6 {2'-untecylimidazole- (1 ')} ethyl-S-triazine or 2,4-diamino6 {2'-methylimidazole- (1')} ethyl-S-triazine / isocyanuric acid adduct Is.

また、上記樹脂組成物中の光カチオン重合開始剤はクロ
ロセン現像時のエポキシ溶出とその他の添加物の脱落を
防止するために添加するもので、芳香族ジアゾニウム
塩、芳香族ハロニウム塩、芳香族スルフォニウム塩を用
いることができる。特に、芳香族スルフォニウム塩は、
反応性が速く、熱安定性が良いことで、好ましい。芳香
族スルフォニウム塩の一般式は下記の通りである。
Further, the photocationic polymerization initiator in the resin composition is added in order to prevent the elution of epoxy during chlorocene development and the omission of other additives, such as aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts, and aromatic sulfonium salts. Salts can be used. In particular, the aromatic sulfonium salt is
It is preferable because it has high reactivity and good thermal stability. The general formula of the aromatic sulfonium salt is as follows.

さらに、本発明の樹脂組成物には、必要であれば、希釈
剤としての有機溶剤および着色剤、消泡剤、充てん剤、
揺変剤を含むことができる。ただし、これらを含むこと
は本発明を特徴づける要素ではない。
Furthermore, the resin composition of the present invention, if necessary, an organic solvent and a colorant as a diluent, a defoaming agent, a filler,
A thixotropic agent can be included. However, inclusion of these is not a feature of the present invention.

この中、有機溶剤の適切な例としては、セロソルブ、セ
ロソルブアセテート、メチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカル
ビトール、テルピネオールなどの高沸点溶剤を、好まし
いものとして、挙げることができる。ただし、アセト
ン、メチルエチルケトン、エタノールなども使用し得な
いわけではない。
Among them, suitable examples of the organic solvent include high boiling point solvents such as cellosolve, cellosolve acetate, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, and terpineol as preferable examples. However, acetone, methyl ethyl ketone, ethanol, etc. are not to be excluded.

また、着色剤は、フタロシアニングリーン、フタロシア
ニンブルーなどの着色材料を適宜用いればよい。
As the coloring agent, a coloring material such as phthalocyanine green or phthalocyanine blue may be used as appropriate.

消泡剤には、シリコーンオイルに代表される、シロキサ
ン結合を含む有機けい素化合物を用いる。
As the defoaming agent, an organic silicon compound having a siloxane bond, which is represented by silicone oil, is used.

充填剤は、無機フィラーとして樹脂組成物に添加するも
ので、シリカ、アルミナ、タルク等の微粉末を使用す
る。
The filler is added to the resin composition as an inorganic filler, and fine powder of silica, alumina, talc or the like is used.

また、揺変剤は、樹脂組成物の粘度、特に、チキソトロ
ピー性の改善のために使用するもので、超微末シリカを
用いることが好ましい。
The thixotropic agent is used for improving the viscosity of the resin composition, particularly thixotropic property, and it is preferable to use ultrafine silica.

以上、本発明の樹脂組成物の成分内容について説明した
が、その好ましい組成比は、ジアリルフタレートプレポ
リマー100重量部に対して、多官能不飽和化合物1〜30
重量部、光ラジカル重合開始剤0.5〜20重量部、エポキ
シ樹脂5〜30重量部である。また、エポキシ樹脂の硬化
剤として用いるジアミノトリアジン変性イミダゾール化
合物、ジシアンアミドおよび光カチオン重合開始剤の配
合は、エポキシ樹脂100重量部に対して、それぞれ、1
〜2重量部、0.5〜15重量部、0.5〜20重量部である。
The content of the components of the resin composition of the present invention has been described above, but the preferable composition ratio is 100 parts by weight of the diallylphthalate prepolymer, and the polyfunctional unsaturated compound 1 to 30.
Parts by weight, 0.5 to 20 parts by weight of a radical photopolymerization initiator, and 5 to 30 parts by weight of an epoxy resin. Further, the diaminotriazine-modified imidazole compound used as a curing agent for the epoxy resin, dicyanamide, and a cationic photopolymerization initiator are mixed in an amount of 1 part with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, respectively.
2 to 0.5 parts by weight, 0.5 to 15 parts by weight, and 0.5 to 20 parts by weight.

なお、上記組成の下限および上限は、それぞれ、樹脂組
成物の感光感度が不足しないことおよび樹脂組成物の密
着露光性、耐めっき性、耐熱性が確保できることを条件
として求めて得た値である。
Incidentally, the lower limit and the upper limit of the above composition are the values obtained under the conditions that the photosensitivity of the resin composition is not insufficient and the contact exposure property, plating resistance, and heat resistance of the resin composition can be secured. .

〔作用〕[Action]

本発明による樹脂組成物は、状態で固体であるジアリル
フタレートプレポリマーを多量に含んでなるものである
ため、溶剤添加によって組成物に流動性を付与すること
ができ、また、スクリーン印刷法による基板上への塗布
も容易に行うことができる。また、塗布後、露光前の予
備乾燥によって容易に固化するため、その表面にネガマ
スクを密着して露光することが可能である。
Since the resin composition according to the present invention contains a large amount of diallyl phthalate prepolymer which is solid in the state, it is possible to impart fluidity to the composition by adding a solvent, and a substrate by a screen printing method. It can be easily applied to the top. In addition, after application, the film is easily solidified by predrying before exposure, so that a negative mask can be closely attached to the surface for exposure.

また、本発明樹脂組成物中の多官能不飽和化合物および
光ラジカル重合開始剤はジアリルフタレートプレポリマ
ーとの光硬化反応が実用的な時間内に終了するように添
加するもので、露光後の現像工程で光硬化部が現像液に
溶解したり、膨潤したりすることを防ぐ作用をする。ま
た、光カチオン重合開始剤は、露光時にエポキシ樹脂を
重合させ、後工程の現像の際にエポキシ樹脂が溶出した
り、他の添加物が脱落したりすることを防ぐ作用を示
す。なお、適量のエポキシ樹脂および所定の硬化剤の添
加は、アルカリ性めっき液中浸漬の際に銅箔上の硬化樹
脂層の剥離を防ぐ効果があるため、めっき不要の部分に
本発明樹脂組成物を塗布しておくことにより、その後に
必要な部分のみにめっきを施すことが可能となる。
Further, the polyfunctional unsaturated compound and the photoradical polymerization initiator in the resin composition of the present invention are added so that the photocuring reaction with the diallylphthalate prepolymer is completed within a practical time. It acts to prevent the photo-cured part from being dissolved or swelled in the developing solution in the process. Further, the cationic photopolymerization initiator has a function of polymerizing the epoxy resin at the time of exposure and preventing the epoxy resin from being eluted and other additives from being dropped off during the development in the subsequent step. The addition of an appropriate amount of epoxy resin and a predetermined curing agent has the effect of preventing peeling of the cured resin layer on the copper foil during immersion in an alkaline plating solution, so that the resin composition of the present invention is applied to a portion not requiring plating. By coating, it becomes possible to plate only the necessary portions thereafter.

また、現像に関しては、ジアリルフタレートプレポリマ
ー、多官能不飽和化合物およびエポキシ樹脂の組合せの
組成においてのみ1,1,1−トリクロルエタンのような塩
素系溶剤に可溶となることを見出し、かつ、光カチオン
重合開始剤の添加により露光硬化物表面が溶解しないこ
とも合わせて見出し、このことによって、塩素系溶剤に
よる現像が可能となった。
Further, regarding the development, it was found that only in a composition of a combination of a diallyl phthalate prepolymer, a polyfunctional unsaturated compound and an epoxy resin, it becomes soluble in a chlorine-based solvent such as 1,1,1-trichloroethane, and, It was also found that the surface of the exposed cured product was not dissolved by the addition of the photocationic polymerization initiator, and this enabled development with a chlorine-based solvent.

本発明樹脂組成物は、上記したような作用、特性を有す
るため、高密度、低価格の印刷配線板製造に特に好適な
ものであるが、他の用途に対しても有効性を失うもので
はない。
Since the resin composition of the present invention has the above-described actions and characteristics, it is particularly suitable for high-density, low-cost printed wiring board production, but it does not lose its effectiveness for other applications. Absent.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明樹脂組成物の実施例について比較例ととも
に説明する。
Hereinafter, examples of the resin composition of the present invention will be described together with comparative examples.

実施例 1 まず、下記(イ)〜(ト)からなる樹脂組成物を調整し
た。各成分の配合比は第1表に示す通りである。
Example 1 First, a resin composition consisting of the following (A) to (G) was prepared. The compounding ratio of each component is as shown in Table 1.

(イ) ジアリルフタレートプレポリマー (ロ) トリメチロールプロパントリメタクリレート
(3官能メタクリレート) (ハ) エポキシ樹脂 (ニ) 2−メチル−1〔4−(メチル)フェニル〕−
2−モルフォリノ−プロパン−1(光重合開始剤) (ホ) ジシアンジアミド(硬化剤) (ヘ) 2,4−ジアミノ−6〔2′−メチルイミダゾー
ル−(1′)〕エチル−S−トリアジン(硬化剤) (ト) ビス−〔4−(ジフェニルスルフォニオ)フェ
ニル〕スルフィド−ビス−ヘキサフルオロフォスフェー
ト(光カチオン重合開始剤) ここで、ジアリルフタレートアプレポリマーとしては、
平均分子量約7,000の該プレポリマー(大阪曹達(株)
製、商品名イソダップ)を、エポキシ樹脂としては、フ
ェノールノボラック型エポキシ(油化シェルエポキシ
(株)製、商品名エピコート142)を用いた。
(A) diallyl phthalate prepolymer (b) trimethylolpropane trimethacrylate (trifunctional methacrylate) (c) epoxy resin (d) 2-methyl-1 [4- (methyl) phenyl]-
2-morpholino-propane-1 (photopolymerization initiator) (e) dicyandiamide (curing agent) (f) 2,4-diamino-6 [2'-methylimidazole- (1 ')] ethyl-S-triazine (curing Agent) (to) Bis- [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluorophosphate (photocationic polymerization initiator) Here, as the diallyl phthalate aprepolymer,
The prepolymer having an average molecular weight of about 7,000 (Osaka Soda Co., Ltd.)
Manufactured by Isodap), and the epoxy resin used was phenol novolac epoxy (trade name: Epicoat 142, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.).

樹脂組成物の調整は下記の手順により行った。The resin composition was prepared by the following procedure.

すなわち、まず(イ)〜(ニ)を混合し、約80℃で30分
間加熱撹拌した。このとき、組成物の塗布特性を一層良
好なものとするため、溶剤(エチルセロソルブ)、着色
剤(フタロシアニングリーン)、消泡剤(シリコーンオ
イル)を適量添加して上記主成分に分散、溶解した。次
いで、上記組成物を常温まで冷却した後、(ホ)、
(ヘ)、(ト)を適量添加、混合して、最終樹脂組成物
を得た。
That is, first, (a) to (d) were mixed and heated and stirred at about 80 ° C. for 30 minutes. At this time, in order to further improve the coating characteristics of the composition, an appropriate amount of a solvent (ethyl cellosolve), a colorant (phthalocyanine green), and an antifoaming agent (silicone oil) was added and dispersed and dissolved in the above main component. . Then, after cooling the above composition to room temperature, (e),
(F) and (G) were added in appropriate amounts and mixed to obtain a final resin composition.

上記樹脂組成物を、180メッシュステンレススクリーン
版使用のスクリーン印刷機を用いて、回路を形成した印
刷配線板上に全面に印刷した後、約80℃で30分間の予備
乾燥を施した。この状態において、樹脂表面が固化し、
ネガマスクを密着して露光できる場合をもって密着露光
性良と判定することとした。
The above resin composition was printed on the entire surface of a printed wiring board on which a circuit was formed using a screen printing machine using a 180 mesh stainless screen plate, and then pre-dried at about 80 ° C. for 30 minutes. In this state, the resin surface solidifies,
It was decided that the contact exposure property was good if the exposure was possible by closely contacting the negative mask.

次いで、ネガマスクを通し、400W高圧水銀ランプを用い
て0.5〜2分の範囲で、紫外線露光を行った後、1,1,1−
トリクロルエタンを用いてスプレー現像を行った。現像
による樹脂パターンの形成後、樹脂層表面の顕微鏡観察
を行い、この状態で、表面が荒れていない場合をもっ
て、表面硬化性が良であると判定し、エポキシ樹脂の溶
出および他の添加剤の脱落がないものと判定することと
した。
Then, after passing through a negative mask and exposing to ultraviolet light for 0.5 to 2 minutes using a 400W high-pressure mercury lamp, 1,1,1-
Spray development was performed using trichloroethane. After forming the resin pattern by development, the resin layer surface is observed with a microscope, and in this state, the surface is determined to be good even if the surface is not rough, and the elution of the epoxy resin and the addition of other additives It was decided that it would not fall out.

上記現像後の試料について、さらに、150℃30分間の熱
硬化処理を施し、印刷配線板を製造した。この時、0.1m
m間隔のパターンの現像が可能であるか否かによって、
現像性の良否を判定することとした。
The sample after the development was further subjected to thermosetting treatment at 150 ° C. for 30 minutes to manufacture a printed wiring board. At this time, 0.1m
Depending on whether it is possible to develop patterns with m intervals,
It was decided to judge whether the developability was good or bad.

次いで、上記印刷配線板を下記組成のめっき液に30時間
浸漬した後、銅箔上の樹脂層の剥離の有無を検査し、耐
めっき液性の判定を行った。
Then, the printed wiring board was immersed in a plating solution having the following composition for 30 hours, and then the presence or absence of peeling of the resin layer on the copper foil was inspected to determine the resistance to the plating solution.

めっき液組成 CuSO4・5H2O ……13g/ EDTA・2Na ……40g/ NaOH ……11.5g/ ポリエチレングリコールステアリルアミン ……0.1g/ α−α′−ジピリジル ……5mg/ ホルマリン(37%) ……3ml/ 水 ……全体を1とする量 液温度 ……70℃ PH=12.3 さらに、上記印刷配線板を260℃のはんだ液に10秒間浸
漬し、樹脂層の剥離の有無によって耐熱性の判定を行っ
た。
Plating solution composition CuSO 4・ 5H 2 O …… 13g / EDTA ・ 2Na …… 40g / NaOH …… 11.5g / Polyethylene glycol stearylamine …… 0.1g / α-α′-dipyridyl …… 5mg / formalin (37%) …… 3ml / water ・ ・ ・ Total volume is 1 Liquid temperature ・ ・ ・ 70 ℃ PH = 12.3 Furthermore, the printed wiring board is immersed in the solder solution at 260 ℃ for 10 seconds, and heat resistance depends on whether the resin layer is peeled or not. A judgment was made.

以上の判定方法によって得られた樹脂層の特性を第1表
に示した。
The characteristics of the resin layer obtained by the above determination method are shown in Table 1.

比較例 1 実施例1の場合と同一の成分で、成分の配合比が前記し
た本発明配合比の範囲からはずれている場合について、
実施例1と同様にして印刷配線板を製造し、得られた樹
脂層について、実施例1の場合と同一条件により、評価
を行った。結果は第1表に示す通りである。
Comparative Example 1 In the case of the same components as in Example 1 but the compounding ratio of the components deviates from the range of the compounding ratio of the present invention described above,
A printed wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1, and the obtained resin layer was evaluated under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1.

第1表の結果から、実施例1の場合には、いずれも、優
れた特性を示すのに対して、比較例1については、多官
能不飽和化合物を含まない場合には光硬化が十分でない
ために現像が不可能であること、エポキシ樹脂、ジシア
ンジアミド、ジアミノトリアジン変性イミダゾール、光
カチオン重合開始剤のいずれを適量含まない系では、ア
ルカリ性めっき液中浸漬で剥離を生ずること、エポキシ
樹脂の量が多すぎる場合には現象時に膨潤を生じてパタ
ーン形成が不可能であること、光ラジカル重合開始剤量
が0.5重量部よりも少い場合には光 硬化が十分でないこと、また、20重量部よりも多い場合
には紫外線の吸収が過大となるために精細なパターン形
成ができないこと、光カチオン重合開始剤についても光
ラジカル重合開始剤と同様の結果が得られること、など
が知られる。
From the results shown in Table 1, in the case of Example 1, all show excellent characteristics, while in Comparative Example 1, the photocuring is not sufficient when the polyfunctional unsaturated compound is not contained. Because it is impossible to develop, epoxy resin, dicyandiamide, diaminotriazine modified imidazole, in a system that does not contain an appropriate amount of any of the photocationic polymerization initiator, peeling occurs by immersion in an alkaline plating solution, the amount of the epoxy resin If the amount is too large, swelling occurs during the phenomenon and pattern formation is impossible, and if the amount of the radical photopolymerization initiator is less than 0.5 parts by weight, the light Insufficient curing, and when it is more than 20 parts by weight, it is impossible to form a fine pattern due to excessive absorption of ultraviolet rays, and the same results as the photo radical polymerization initiator for the photocationic polymerization initiator. Is known, and so on.

実施例 2 下記(イ)〜(ト)からなる樹脂組成物を実施例1の場
合と同様にし調整した。また、各成分の配合比は実施例
1の場合を参考にして決めたものである。
Example 2 A resin composition consisting of the following (a) to (g) was prepared in the same manner as in Example 1. Further, the compounding ratio of each component is determined with reference to the case of Example 1.

(イ) ジアリルフタレートプレポリマー(平均分子量
3,500、大阪曹達(株)製、商品名ダイソーダップ) (ロ) 多官能不飽和化合物(第2表に示したアクリレ
ートおよびメタクリレート計5種) (ハ) エポキシ樹脂(エピビス型エポキシ樹脂、油化
シェルエポキシ(株)製、商品名エピコート828) (ニ) ベンゾインイソプロピルエーテル (ホ) ジシアンジアミド (ヘ) 2,4−ジアミノ−6{2′−エチル−4′−メ
チルイミダゾール−(1′)}エチル−S−トリアジン (ト) ビス−〔4−(ジフェニルスルフォニオ)フェ
ニル〕スルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネー
ト 得られた樹脂層の特性を第2表に示す。
(A) Diallyl phthalate prepolymer (average molecular weight
3,500, manufactured by Osaka Soda Co., Ltd., trade name Daiso Dup) (b) Polyfunctional unsaturated compounds (total of 5 acrylates and methacrylates shown in Table 2) (c) Epoxy resin (epibis type epoxy resin, oil-based shell) Epoxy Co., Ltd., trade name Epikote 828) (d) Benzoin isopropyl ether (e) Dicyandiamide (f) 2,4-Diamino-6 {2'-ethyl-4'-methylimidazole- (1 ')} ethyl- S-triazine (to) bis- [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluoroantimonate The properties of the resulting resin layer are shown in Table 2.

表の結果から、ジアリルフタレートプレポリマー100重
量部に対する多官能不飽和化合物の配合比を最適量であ
る4重量部に固定した場合、エポキシ樹脂の配合比は5
〜30重量部が好ましいことジアリルフタレートプレポリ
マー100重量部に対するエポキシ樹脂の配合比を最適量
である15重量部に固定した場合に、多官能不飽和化合物
の配合比は1〜30重量部が好ましいこと、光ラジカル重
合開始剤の配合比はジアリルフタレートプレポリマー10
0重量部に対して0.5〜20重量部が好ましいこと、また、
硬化剤の配合比は、エポキシ樹脂100重量部に対してジ
アミノトリアジン変性イミダゾール化合物が1〜20重量
部、ジシアンジアミドが0.5〜15重量部、光カチオン重
合開始剤は0.5〜20重量部の範囲が好ましいことが知ら
れる。
From the results shown in the table, when the compounding ratio of the polyfunctional unsaturated compound to 100 parts by weight of the diallyl phthalate prepolymer was fixed to the optimum amount of 4 parts by weight, the compounding ratio of the epoxy resin was 5
It is preferable that the blending ratio of the epoxy resin to 100 parts by weight of the diallyl phthalate prepolymer is 15 parts by weight, which is the optimum amount, and the blending ratio of the polyfunctional unsaturated compound is preferably 1 to 30 parts by weight. That is, the compounding ratio of the radical photopolymerization initiator is diallyl phthalate prepolymer 10
0.5 to 20 parts by weight is preferable with respect to 0 parts by weight, and
The compounding ratio of the curing agent is preferably 1 to 20 parts by weight of the diaminotriazine-modified imidazole compound, 0.5 to 15 parts by weight of dicyandiamide, and 0.5 to 20 parts by weight of the photocationic polymerization initiator with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. Is known.

また、これら組成比の樹脂組成物に優れた解像度を有す
る鮮鋭な光学像を示し、かつ、アルカリ性めっき液中浸
漬においても剥離のない膜を形成し得ることが知られ
た。
Further, it has been known that a resin composition having these composition ratios can form a film that exhibits a sharp optical image having excellent resolution and that does not peel even when immersed in an alkaline plating solution.

比較例 2 実施例2と同一成分で配合比が前記本発明の範囲からず
れた場合について樹脂組成物を調整し、実施例2の場合
と同様にして印刷配線板を製造して、特性の評価を行っ
た。
Comparative Example 2 A resin composition was prepared in the case where the compounding ratio was the same as in Example 2 but the composition ratio deviated from the range of the present invention, a printed wiring board was produced in the same manner as in Example 2, and the characteristics were evaluated. I went.

結果は第2表に示した通りで、比較例1の場合と同じ
く、満足な特性を確保することができなかった。
The results are as shown in Table 2, and like the case of Comparative Example 1, satisfactory characteristics could not be secured.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上述べてきたように、樹脂組成物を本発明の組成とす
ることによって、スクリーン印刷が可能で、露光時に十
分な固化を示し、かつ、塩素系溶剤で容易に現像するこ
とが可能であり、さらに、アルカリ性のめっき液に対し
て十分な耐性を示し、また、現像工程において添加物の
溶出、脱落がな いため、めっき液の浸透による膜の剥離のない、高解像
度の樹脂組成物を得ることができた。
As described above, by using the resin composition of the present invention, it is possible to screen-print, exhibit sufficient solidification upon exposure, and can be easily developed with a chlorine-based solvent, Furthermore, it shows sufficient resistance to alkaline plating solutions, and does not elute or drop additives during the development process. Therefore, it was possible to obtain a high-resolution resin composition without peeling of the film due to penetration of the plating solution.

これらの特性を有することは、従来技術にみられた問題
点を解決して、高精度のレジストパターンを形成し得る
こと、印刷配線板製造において作業性を著しく向上し、
低コスト化し得ることを示すものである。
Having these characteristics can solve the problems found in the prior art, form a highly accurate resist pattern, and significantly improve workability in printed wiring board manufacturing,
This shows that the cost can be reduced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/027 512 7/032 501 H05K 1/02 A 8824−4E (72)発明者 岡 齋 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−265321(JP,A) 特開 昭60−206823(JP,A) 特開 昭60−199025(JP,A) 特開 昭59−166526(JP,A) 特開 昭58−8723(JP,A) 特開 昭62−253613(JP,A) 特開 昭56−100817(JP,A)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G03F 7/027 512 7/032 501 H05K 1/02 A 8824-4E (72) Inventor Sai Oka Kanagawa No. 292, Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama, Japan (56) References JP-A-62-265321 (JP, A) JP-A-60-206823 (JP, A) JP-A-60- 199025 (JP, A) JP 59-166526 (JP, A) JP 58-8723 (JP, A) JP 62-253613 (JP, A) JP 56-100817 (JP, A)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ジアリルフタレートのプレポリマーと、多
官能不飽和化合物と、光ラジカル重合開始剤と、エポキ
シ樹脂と、光カチオン重合開始剤と、ジシアンジアミド
及びジアミノトリアジン変性イミダゾールの混合物であ
る硬化剤とかるなることを特徴とするプリント配線板製
造用レジスト組成物。
1. A prepolymer of diallyl phthalate, a polyfunctional unsaturated compound, a photoradical polymerization initiator, an epoxy resin, a photocationic polymerization initiator, and a curing agent which is a mixture of dicyandiamide and diaminotriazine modified imidazole. A resist composition for producing a printed wiring board, comprising:
【請求項2】上記ジアリルフタレートのプレポリマーが
分子量3,000ないし30,000のジアリルフタレートのプレ
ポリマーであり、また、上記多官能不飽和化合物がヒド
ロキシ化合物のアクリレートあるいはメタクリレート、
オリゴエステル−アクリレートあるいは−メタクリレー
ト、エポキシ−アクリレートあるいは−メタクリレート
の中から選ばれる少くとも1種類の多官能不飽和化合物
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のプ
リント配線板製造用レジスト組成物。
2. The prepolymer of diallyl phthalate is a prepolymer of diallyl phthalate having a molecular weight of 3,000 to 30,000, and the polyfunctional unsaturated compound is an acrylate or methacrylate of a hydroxy compound.
The printed wiring board according to claim 1, which is at least one polyfunctional unsaturated compound selected from oligoester-acrylate or -methacrylate, epoxy-acrylate or -methacrylate. Resist composition.
JP63021942A 1988-02-03 1988-02-03 Resist composition for producing printed wiring board Expired - Lifetime JPH0721046B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63021942A JPH0721046B2 (en) 1988-02-03 1988-02-03 Resist composition for producing printed wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63021942A JPH0721046B2 (en) 1988-02-03 1988-02-03 Resist composition for producing printed wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01197520A JPH01197520A (en) 1989-08-09
JPH0721046B2 true JPH0721046B2 (en) 1995-03-08

Family

ID=12069100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63021942A Expired - Lifetime JPH0721046B2 (en) 1988-02-03 1988-02-03 Resist composition for producing printed wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0721046B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5928839A (en) * 1992-05-15 1999-07-27 Morton International, Inc. Method of forming a multilayer printed circuit board and product thereof
JP4753336B2 (en) * 2001-09-04 2011-08-24 日本化薬株式会社 Novel allyl compound and process for producing the same
JP3937996B2 (en) * 2002-10-08 2007-06-27 Jsr株式会社 Radiation sensitive resin composition
JP5002261B2 (en) * 2004-03-26 2012-08-15 株式会社カネカ Photo radical curing / photo cationic curing combined curable composition

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56100817A (en) * 1980-01-16 1981-08-13 Hitachi Chem Co Ltd Photosetting resin composition
JPS588723A (en) * 1981-07-08 1983-01-18 Mitsubishi Electric Corp Photo-curable resin composition for prepreg
JPS59166526A (en) * 1983-03-14 1984-09-19 Mitsui Toatsu Chem Inc Photo-setting composition
JPS60199025A (en) * 1984-03-22 1985-10-08 Toshiba Corp Photo-setting resin composition
JPS60206823A (en) * 1984-03-30 1985-10-18 Toshiba Corp Photocurable resin composition
JPH07103217B2 (en) * 1986-05-14 1995-11-08 株式会社日立製作所 Resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JPH01197520A (en) 1989-08-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3190251B2 (en) Photocurable and thermosetting resin composition for alkali-developed flexible printed wiring boards
JP2003105061A (en) Photo-thermally curable resin composition, production method for hole-filled printed circuit board, and hole- filled printed circuit board
JP2000029212A (en) Photosetting-thermosetting resin composition and resinous insulation pattern forming method
JP4309225B2 (en) Curable composition, cured product thereof and printed wiring board using the same
JP3686699B2 (en) Alkali-developable photocurable / thermosetting resin composition
JPH07103217B2 (en) Resin composition
JPH0721046B2 (en) Resist composition for producing printed wiring board
JP2007506137A (en) Liquid photo solder resist composition and photo solder resist film prepared from the composition
US5091283A (en) Photocurable diallyl phthalate resin composition and printed circuit board using the same
JP2003048932A (en) Resin composition, solder-resist resin composition and cured materials thereof
JPH04170481A (en) Liquid resist ink composition
JPH0767008B2 (en) Solder resist pattern forming method
JPH11184087A (en) Photosensitive additive adhesive composition
JP2000104034A (en) Photosensitive additive adhesive composition
JPH03281622A (en) Photocurable diallyl phthalate resin composition and printed circuit board prepared by using the same
JPH10301278A (en) Resin composition and permanent resist resin composition and these hardened product
JPH06263832A (en) Resin composition curable with active energy ray
JPH11184086A (en) Resin composition, permanent resist and cured matter
JPS63200593A (en) Manufacture of printed circuit board
JP2000235260A (en) Photosensitive additive adhesive composition
JP2002275238A (en) Resin composition, solder resist resin composition and cured material of them
JPH01197738A (en) Resin composition
JPH02135350A (en) Photosensitive resin composition
JP2005105006A (en) Photo-curing and heat-curing composition and its cured product and printed wiring board using the same
JP2003149807A (en) Flame-retardant photosensitive resin composition having flexibility and cured body thereof