JPS59166526A - Photo-setting composition - Google Patents

Photo-setting composition

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Publication number
JPS59166526A
JPS59166526A JP4062183A JP4062183A JPS59166526A JP S59166526 A JPS59166526 A JP S59166526A JP 4062183 A JP4062183 A JP 4062183A JP 4062183 A JP4062183 A JP 4062183A JP S59166526 A JPS59166526 A JP S59166526A
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JP
Japan
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weight
parts
epoxy resin
double bond
unsaturated double
Prior art date
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Pending
Application number
JP4062183A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Ozawa
小沢 宏
Yoshiaki Obara
小原 芳昭
Sumio Hirose
純夫 広瀬
Isao Naruse
功 成瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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Publication of JPS59166526A publication Critical patent/JPS59166526A/en
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Abstract

PURPOSE:To prepare the titled composition having high rate of photosetting and excellent impact resistance and nail scratch resistance, by compounding a polyvalent epoxy resin with specific amount of a compound containing unsaturated double bond and hydroxyl group, and adding a specific component such as triaryl sulfonium complex, etc. CONSTITUTION:The objective composition is prepared by compounding (A) 40- 90wt%, preferably 50-80wt% of a polyvalent epoxy resin (e.g. bisphenol A diglycidyl ether) with (B) 60-10wt%, preferably 20-50wt% (A+B is 100wt%) of a compound containing unsaturated double bond and hydroxyl group (e.g. acrylic acid ester of trifunctional polypropylene glycol), (C) a triaryl sulfonium complex salt (preferably triaryl sulfonium hexafluoroantimonate, and its amount is 1- 3wt% of A+B) and (D) a polymerization initiator generating radicals with light or heat (e.g. benzoin).

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光硬化速度の改良された耐衝撃性及び耐ツメ
キズ性にすぐれた光硬化性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a photocurable composition with improved photocuring speed and excellent impact resistance and scratch resistance.

光を用いた樹脂の硬化反応は、省力化、省エネルギー化
或いは有機溶剤の削減による安全衛生上の観点から広(
実用され始めている。
The curing reaction of resins using light is widely used from the viewpoint of safety and health due to labor saving, energy saving, and reduction of organic solvents.
It is starting to be put into practice.

光、特に紫外線を照射して樹脂の硬化を行う方法として
は、一つは不飽和基を有する低分子樹脂とフォトラジカ
ルを発生する光増感剤とを用い光を照射してラジカル重
合的に樹脂を硬化させる方法および光照射時にルイス酸
を発生する開始剤をエポキシ樹脂に配合してカチオン開
環重合によって樹脂を硬化する方法がある。
One method of curing resin by irradiating it with light, especially ultraviolet rays, is to use a low-molecular-weight resin with unsaturated groups and a photosensitizer that generates photoradicals, and then irradiate it with light to cause radical polymerization. There is a method of curing the resin and a method of curing the resin by cationic ring-opening polymerization by blending an initiator that generates a Lewis acid when irradiated with light into an epoxy resin.

上記のラジカル重合的光硬化においては、耐衝撃性およ
び金属密着性が劣る他、薄膜の硬化塗膜の形成では、空
気中の酸素の影響によってツメキズが入りやすいという
欠点があり、又上記のカチオン重合的光硬化においては
、光硬化速度が遅く、特に顔料等によって着色した場合
には、深部の硬度が不十分となる欠点がある。
In addition to poor impact resistance and metal adhesion, the above-mentioned radical polymerization photocuring has the disadvantage of being susceptible to scratches due to the influence of oxygen in the air when forming a thin cured coating film. Polymerization photocuring has the disadvantage that the photocuring speed is slow and, especially when colored with pigments, the hardness in deep parts is insufficient.

本発明は、このような従来技術の欠点を克服し、光硬化
速度が速く、併せて耐衝撃性及び耐ツメキズ性の良好な
光硬化性組成物を提供するものである。
The present invention overcomes these drawbacks of the prior art and provides a photocurable composition that has a fast photocuring rate and also has good impact resistance and scratch resistance.

すなわち本発明は、 (A)多価エポキシ樹脂 40〜90重量%、(B)不
飽和二重結合とヒドロキシル基の両方を含有する化合物
 60〜10重量%(但し、(A)及び(B)の合計量
を100重量%とする。)、(C) )リアリールスル
フオニウム錯塩及び(D)光又は熱によってラジカルを
発生ずる開始剤からなる光硬化性組成物である。
That is, the present invention comprises (A) 40 to 90% by weight of a polyvalent epoxy resin, (B) 60 to 10% by weight of a compound containing both an unsaturated double bond and a hydroxyl group (However, (A) and (B) 100% by weight), (C)) a realylsulfonium complex salt, and (D) an initiator that generates radicals when exposed to light or heat.

本発明に用いられる上記の(A)多価エポキシ樹脂とし
ては、例えばビスフェノールA1テトラブロモビスフエ
ノールA1フエノールノボラツク、クレゾールノボラッ
ク、ビスフェノールS等の多価フェノール類のジグリシ
ジルエーテル類、例えばフリンジオール、ヘキザンジオ
ール、水添ビスフェノールA1ジメチロールベンゼンの
如き多価アルコールの多価グリシジルエーテル類、例エ
バテレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、アジ
ピン酸等の多塩基酸のグリシジルエステル類、例えばパ
ラオキシ安息香酸、メタヒドロキシ安息香酸等のオキシ
カルボン酸類のグリシジルエーテルエステル類、例えば
ポリブタジエンポリエボキサイド、エポキシ化油の如き
スケルタルポリエボキシド類、または例えば3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロ
ヘキサン力3− ルボキシレ−)、3.4−エポキシ−2−メチルシクロ
ヘキシルメチル−3,4−工ぜキシ−2−メチルシクロ
ヘギサンカルボキシレートおよびビス(3,4−エポキ
シ−シクロヘキシル)アジベルトの如キシクロヘキセン
オキシド基を含有する脂環族多価エポキシ樹脂が用いら
れる。上記(A)のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、光
硬化性の観点から500以下、更には100〜250の
範囲であることが好ましく、又2種以上の多価エポキシ
樹脂を混合使用してもよい。
Examples of the polyhydric epoxy resin (A) used in the present invention include diglycidyl ethers of polyhydric phenols such as bisphenol A1 tetrabromobisphenol A1 phenol novolak, cresol novolac, and bisphenol S, such as frindiol, Polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols such as hexanediol, hydrogenated bisphenol A1 dimethylolbenzene, e.g. glycidyl esters of polybasic acids such as evaterephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, adipic acid, e.g. paraoxybenzoic acid , glycidyl ether esters of oxycarboxylic acids such as metahydroxybenzoic acid, skeletal polyeboxides such as polybutadiene polyeboxide, epoxidized oils, or e.g. 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane. 3,4-epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2-methylcyclohegysancarboxylate and bis(3,4-epoxy-cyclohexyl)aziberto. An alicyclic polyepoxy resin containing a cyclohexene oxide group is used. The epoxy equivalent of the epoxy resin (A) above is preferably 500 or less, more preferably in the range of 100 to 250 from the viewpoint of photocurability, and two or more types of polyhydric epoxy resins may be used in combination. .

本発明に用いられる上記の(B)不飽和二重結合および
ヒドロキシル基を含有する化合物としては、(I)例え
ばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、またはこれらのヒドロキシアルキル
基含有単量体とε−カプロラクトンの付加物の如きヒド
ロキシル基含有単量体類、 QT)例えばポリエチレンオキサイド、ポリプロピレン
オキサイド、ポリテトラメチレンオキサイ  − ドトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペ
ンタエリスリトール、ソルビトール、シヘンタエリスリ
トールの如き多価アルコール類と例えばアクリル酸、メ
タクリル酸、フマール酸、イタコン酸等の不飽和カルボ
ン酸類とのエステル類でヒドロキシル基を含有する化合
物類、 (財)多価アルコールと多塩基酸とのヒドロキシル基末
端ポリエステルまたはポリカプロラクトンの如きポリエ
ステル類と不飽和カルボン酸類とのエステル類でヒドロ
キシル基を含有する化合物、 ω例えば無水マレイン酸、フマール酸の如き不飽和二塩
基酸を多塩基酸の一部として用い、多価アルコールと縮
合せしめたヒドロキシル末端の不飽和ポリエステル樹脂
、 Mカルボキシル基およびヒドロキシル基を含有するポリ
エステル樹脂のカルボキシル基にグリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、β−メチルグリシジル
メタクリレートまた 9− はアリルグリシジルエーテルの如きグリシジル基含有不
飽和単量体を反応させて得られるヒドロキシル基及び不
飽和二重結合を含有する樹脂、(2)前記(1)のヒド
ロキシル基含有単量体および不飽和カルボン酸を共重合
成分とするビニル系共重合体のカルボキシル基に、前記
(ト)のグリシジル基含有不飽和単量体を反応させて得
られるヒドロキシル基及び不飽和二重結合を含有する樹
脂、 ■前記(I)のヒドロキシル基含有単量体及び前記(2
)のグリシジル基含有不飽和単量体を共重合成分とする
ビニル系共重合体に、不飽和カルボン酸を反応させて得
られるヒドロキシル基および不飽和二重結合を含有する
樹脂 等が用いられる。
Examples of the above-mentioned (B) compounds containing an unsaturated double bond and a hydroxyl group used in the present invention include (I) hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, or hydroxyl group-containing monomers such as adducts of these hydroxyalkyl group-containing monomers and ε-caprolactone; , compounds containing hydroxyl groups, which are esters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol, sorbitol, and cichentaerythritol and unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, and itaconic acid. Hydroxyl group-terminated polyesters of polyhydric alcohols and polybasic acids, or esters of polyesters such as polycaprolactone and unsaturated carboxylic acids, containing hydroxyl groups, such as maleic anhydride, fumaric acid, etc. A hydroxyl-terminated unsaturated polyester resin using a basic acid as a part of a polybasic acid and condensed with a polyhydric alcohol, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, β- Methyl glycidyl methacrylate or 9- is a resin containing a hydroxyl group and an unsaturated double bond obtained by reacting a glycidyl group-containing unsaturated monomer such as allyl glycidyl ether, (2) the hydroxyl group-containing resin of (1) above. A hydroxyl group and an unsaturated double compound obtained by reacting the glycidyl group-containing unsaturated monomer of (g) above with the carboxyl group of a vinyl copolymer containing a monomer and an unsaturated carboxylic acid as copolymerization components. a resin containing a bond, (1) the hydroxyl group-containing monomer of (I) and (2)
A resin containing a hydroxyl group and an unsaturated double bond obtained by reacting a vinyl copolymer containing an unsaturated monomer containing a glycidyl group as a copolymerization component with an unsaturated carboxylic acid is used.

上記の但)〜(至)のヒドロキシル基および不飽和二重
結合を含有する樹脂は、1分子中のヒドロキシル基及び
不飽和二重結合の相が、3当量以上であることが好まし
く、ヒドロキシル基と不飽和二重結合の当量比は、0.
2−0.8:0.8→、2であることが好ましい。
In the above resins containing hydroxyl groups and unsaturated double bonds, it is preferable that the phase of hydroxyl groups and unsaturated double bonds in one molecule is 3 equivalents or more, and The equivalent ratio of the unsaturated double bond and the unsaturated double bond is 0.
2-0.8: 0.8→, 2 is preferable.

但し、ヒドロキシル基のみを含有し、不飽和二重結合を
含有しない分子または不飽和二重結合のみを含有しヒド
ロキシル基を含有しない分子が一部混在しても差し支え
ない。
However, there is no problem even if some molecules containing only hydroxyl groups and no unsaturated double bonds or molecules containing only unsaturated double bonds and no hydroxyl groups are mixed.

上記(B)の不飽和二重結合およびヒドロキシル基を含
有する化合物は、不飽和二重結合が光又は熱によってラ
ジカル的に硬化する一方、ヒドロキシル基が上記(A)
の多価エポキシ樹脂のカチオン的重合の停止に関与し、
−1=記の2つの反応によってち密な網状化が起り、耐
衝撃性及び耐ツメキズ性にすぐれた膜が形成される。
In the above (B) compound containing an unsaturated double bond and a hydroxyl group, the unsaturated double bond is radically hardened by light or heat, while the hydroxyl group is the above (A).
involved in the termination of cationic polymerization of polyvalent epoxy resins,
-1 = A dense network is formed by the two reactions described below, and a film with excellent impact resistance and scratch resistance is formed.

一ト記(A)の多価エポキシ樹脂と(B)の不飽和二重
結合およびヒドロキシル基を含有する化合物の配合割合
は、(A)及び(B)の合計量を100重量%として、
(A)が40〜90重量%に対しくB)が60〜10重
量%の範囲であり、更に好ましくは(A)が50〜80
重量%に対し、(B)が20〜50重量%の範囲である
。而して(A)が40重量%未満では、耐ツメキズ性が
低下し、又、90重量%をこえる場合は光硬化性及び耐
衝撃性が不十分となるので本発明には不適である。
The blending ratio of the polyvalent epoxy resin (A) and the compound containing an unsaturated double bond and hydroxyl group (B) is based on the total amount of (A) and (B) as 100% by weight.
(A) is in the range of 40 to 90% by weight and B) is in the range of 60 to 10% by weight, more preferably (A) is in the range of 50 to 80% by weight.
(B) is in the range of 20 to 50% by weight. If (A) is less than 40% by weight, the scratch resistance will decrease, and if it exceeds 90% by weight, the photocurability and impact resistance will be insufficient, which is not suitable for the present invention.

又上記(A)及び(B)の成分の他に、例えばスチレン
、パラメチルスチレン、メタクリル酸エステル、アクリ
ル酸エステル類等のビニル単量体や、フェニルグリシジ
ルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等のモノエポキ
シドを本発明の効果を阻害しない範囲で使用してもよい
In addition to the above components (A) and (B), vinyl monomers such as styrene, paramethylstyrene, methacrylic esters, and acrylic esters, and monoepoxides such as phenyl glycidyl ether and butyl glycidyl ether may also be used. It may be used within a range that does not impede the effects of the present invention.

本発明に用いる上記(C)のドリアリールスルフオニウ
ム錯塩ば、光カチオン重合の開始剤であり、紫外線等の
光の照射によってルイス酸を発生し光硬化に関与する。
The doryarylsulfonium complex salt (C) used in the present invention is an initiator for photocationic polymerization, and is involved in photocuring by generating a Lewis acid upon irradiation with light such as ultraviolet rays.

上記(C)のトリアリールスルフオニウム錯塩としては
、例えばl・リフェニルスルフオニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、トリノエニルスルフオニウムテトラフ
ルオロボレート、トリフェニルスルフオニウムへギサフ
ルオロフオスフエート、トリス(4−チオメトキシフェ
ニル)スルフオニウムヘキサフルオロフォスフェート等
があり、特に光硬化性と可使時間の観点からはドリアリ
ールスルフオニウムへキサフルオロアン=7− チモネートが好ましい。上記(C)の上記(A)及び(
B)の合計量に対する配合割合は、通常n、2〜5重量
%、好ましくは1〜3重量%の範囲である。
Examples of the triarylsulfonium complex salt (C) include l-liphenylsulfonium hexafluoroantimonate, trinoenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium hegisafluorophosphate, tris(4- thiomethoxyphenyl)sulfonium hexafluorophosphate, etc., and doryarylsulfonium hexafluoroane 7-thimonate is particularly preferred from the viewpoint of photocurability and pot life. (A) and ((C) above)
The blending ratio of B) to the total amount is usually n, 2 to 5% by weight, preferably 1 to 3% by weight.

又、(C)のトリアリールスルフオニウム錯塩ハ、不飽
和二重結合の開始剤としても作用するといわれるが、十
分な光硬化速度を有しないので、上記(D)の光又は熱
によってラジカルを発生する開始剤を用いる。
In addition, the triarylsulfonium complex salt (C) is said to act as an initiator for unsaturated double bonds, but since it does not have a sufficient photocuring speed, the radicals cannot be removed by light or heat as described in (D) above. Using generated initiator.

本発明に用いる上記(D)の光又は熱によってラジカル
を発生する開始剤としては、例えばベンゾン イ×、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテル、等のベンゾイン類、ベンゾフェノン、2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1
−オン、1=(4−1ソプロピルフエニル)−2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ベンジルジメ
チルケタール、2.2−ジェトキシアセトフェノン、パ
ラターシャリ−ブチルトリクロロアセトフェノン等のフ
ェノン類、メチルアントラキノン、エチルアントラキノ
ン等のアントラキノン類、ジメチルチオキサン8− トン、ジイソプロビルチオキザントン等のチオキサント
ン類、ミヒラーケトン等の光の照射によってラジカルを
発生する開始剤または例えば過酸化ベンゾイル、過酸化
ラウロイル、ターシャリ−ブチルパーオキシベンゾエー
ト、タージャリフチルハイドロパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の
過酸化物、或いは例えばアゾイソブチロニトリル、アゾ
ビスバレロニトリルの如きアゾ化合物等の熱によってラ
ジカルを発生する開始剤が用いられる。光の照射によっ
てラジカルを発生する開始剤は、紫外線等の光の照射に
よって、上記(C)の光分解と平行してラジカルを発生
し、また熱によって分解する開始剤は、紫外線照射時に
発生する熱およびカチオン重合によって発生する重合熱
によって分解し、上記(B)成分中の不飽和基の架橋を
ひきおこす。
Examples of the initiator (D) that generates radicals by light or heat used in the present invention include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzophenone, 2-
Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1
phenones such as -one, 1=(4-1sopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2,2-jetoxyacetophenone, paratertiary-butyltrichloroacetophenone, Anthraquinones such as methylanthraquinone and ethylanthraquinone, thioxanthones such as dimethylthioxane and diisopropylthioxanthone, initiators that generate radicals upon irradiation with light such as Michler's ketone, or for example benzoyl peroxide and lauroyl peroxide. , tertiary-butyl peroxybenzoate, tertiary riftyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide, or azo compounds such as azoisobutyronitrile, azobisvaleronitrile, etc. An initiator that generates radicals is used. An initiator that generates radicals when irradiated with light will generate radicals when irradiated with light such as ultraviolet rays in parallel with the photodecomposition described in (C) above, and an initiator that is decomposed by heat will generate radicals when irradiated with ultraviolet rays. It is decomposed by heat and polymerization heat generated by cationic polymerization, causing crosslinking of the unsaturated groups in the component (B).

又、100〜200°Cの温度で光照射後に加熱し、硬
化反応をより完全に完結させてもよい。
Alternatively, the curing reaction may be completed more completely by heating after light irradiation at a temperature of 100 to 200°C.

本発明の光硬化性組成物の実用に際しては、照射する光
をしやへいして硬化反応を阻害しない範囲において、例
えば酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、クロム酸亜鉛、ク
ロム酸ストロンチウム、フタロシアニンブルー、フタロ
シアニンクIJ −7、炭酸カルシウム、タルク、硫酸
バリウム、マイカ粉、ガラスフレーク等の充填剤を併用
してもよい。
In the practical use of the photocurable composition of the present invention, for example, titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, zinc chromate, strontium chromate, phthalocyanine blue, Fillers such as phthalocyanine IJ-7, calcium carbonate, talc, barium sulfate, mica powder, and glass flakes may be used in combination.

上記した本発明の光硬化性組成物は、通常金属等の被塗
物に1μ〜100μ 程度の厚さに塗布し、例えば水銀
灯、メタルハライドランプ、カーボンアークランプ等の
紫外部の波長を発生する光源により光照射することによ
り容易に硬化せしめることが可能であり有用である。
The above-mentioned photocurable composition of the present invention is usually applied to a coated object such as metal to a thickness of about 1 μm to 100 μm, and is applied to a light source that emits wavelengths in the ultraviolet region, such as a mercury lamp, a metal halide lamp, or a carbon arc lamp. It is useful because it can be easily cured by irradiation with light.

以下、実施例を示し本発明を具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

実施例1 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル社製、商
品名エピコート828)60重量部と三官能型ポリプロ
ピレングリコール(平均分子量672)1モルとアクリ
ル酸2モルのエステル化物(OH含有量1.28当量/
′1000L二重結合金有量2.56当量/1000g
100O重量部、トリノエニルスルフオニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート2重量部およびベンゾインイソブ
チルエーテル2重量部を混合し、本発明の光硬化性組成
物(I)を得た。
Example 1 An esterified product of 60 parts by weight of bisphenol A epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name Epicote 828), 1 mol of trifunctional polypropylene glycol (average molecular weight 672), and 2 mols of acrylic acid (OH content 1. 28 equivalent/
'1000L double bond gold content 2.56 equivalent/1000g
100 parts by weight of trinoenyl sulfonium hexafluoroantimonate and 2 parts by weight of benzoin isobutyl ether were mixed to obtain a photocurable composition (I) of the present invention.

実施例2 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル社製、商
品名エピコート828)40重量部と1.5ベンタンジ
オ一ルジグリシジルエーテル30重量部とジペンタエリ
スリトールトリアクリレート(OH含有量7.21当t
/10 G Og、二重結合含有量7.21当量/’1
000q)30重量部、トリノエニルスルフオニウムヘ
キサフルオロアンチモネート2重量部およびメチルアン
トラキノン2重量部を混合し、本発明の光硬化性組成物
(T’I)を得た。
Example 2 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name Epicote 828), 30 parts by weight of 1.5-bentanediyl diglycidyl ether, and dipentaerythritol triacrylate (OH content: 7.21 equivalents)
/10 G Og, double bond content 7.21 equivalents/'1
000q), 2 parts by weight of trinoenylsulfonium hexafluoroantimonate, and 2 parts by weight of methylanthraquinone were mixed to obtain a photocurable composition (T'I) of the present invention.

実施例3 脂環族エポキシ樹脂である3、4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルホキ
シレー) (UCC社製商品名、ERL−4221)5
5重量部と、トリメチロールプロパン3モルとアジピン
酸2モルとを縮合してなるヒドロキシ末端ポリエステル
樹脂にアクリル酸3モルを反応させて得た樹脂(01(
含有量2.55当量/1000り、二重結合含有量3.
82当量/゛1000100O重量部及びテトラエチレ
ングリコールモノアクリレート 10重量部とトリフェ
ニルスルフオニウムヘキサフルオロアンチモネー) 2
itit部、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニ
ル−プロパン−1−オン2重量部を混合し本発明の光硬
化性組成物(TII)を得た。
Example 3 Alicyclic epoxy resin 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (trade name manufactured by UCC, ERL-4221) 5
A resin (01 (
Content: 2.55 equivalents/1000 ml, double bond content: 3.
82 equivalents/1000100 O parts by weight and 10 parts by weight of tetraethylene glycol monoacrylate and triphenylsulfonium hexafluoroantimone) 2
Itit part and 2 parts by weight of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one were mixed to obtain a photocurable composition (TII) of the present invention.

実施例4 指環族エポキシ樹脂である3、4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート(UCC社m、H品名E RL−4221)7
0重量部と、フマール酸1モル、セバシン酸1モル、フ
ロピレンゲリコール2.5モルを縮合してなるポリエス
テル樹脂(OH含有量2.4当量/’10 (’) 0
9、二重結合含有量2.3当量/’1000!7)20
 it t 部とヒドロキシエチルメタクリレート10
重量部、トリノエニルスルフオニウムヘキサフルオロア
ンチモネート2重量部、ターシャリ−ブチルパーオキシ
ベンゾエート2重量部を混合し、本発明の光硬化性組成
物(TV)を得た。
Example 4 Ring group epoxy resin 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate (UCC company m, H product name E RL-4221) 7
0 parts by weight, 1 mole of fumaric acid, 1 mole of sebacic acid, and 2.5 moles of furopylene gellicol (OH content 2.4 equivalents/'10 (') 0
9. Double bond content 2.3 equivalents/'1000! 7) 20
it t part and hydroxyethyl methacrylate 10
parts by weight, 2 parts by weight of trinoenyl sulfonium hexafluoroantimonate, and 2 parts by weight of tertiary-butyl peroxybenzoate were mixed to obtain a photocurable composition (TV) of the present invention.

実施例5 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル社製、商
品名工ピコ−)815)27.5重量部、脂環族エポキ
シ樹脂であるビス(3,4−エポキシ−シクロヘキシル
)アジペ−) 27.5重量部、無水コハク酸1モル、
無水トリメット酸0.6モル、ヘキサンジオール1.8
モルを縮合して得たヒドロキシル基、カルボキシル基含
有ポリエステルにグリシジルメタクリレート0.8モル
を付加反応させて得た化合物(OH含有量3.2当量/
′10009、二重結合含有量1.8当i/1000!
l1l)45重量部及びトリフェニルスルフオニウムヘ
キサフルオロアンデモネート2重量部及びベンジルジメ
チルケタール2重量部を混合して本発明の光硬化性組成
物(v)を得た。
Example 5 27.5 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name: Pico 815), bis(3,4-epoxy-cyclohexyl) adipe) which is an alicyclic epoxy resin 27. 5 parts by weight, 1 mol of succinic anhydride,
Trimetic anhydride 0.6 mol, hexanediol 1.8
A compound obtained by adding 0.8 moles of glycidyl methacrylate to a polyester containing hydroxyl and carboxyl groups obtained by condensing 2 moles (OH content: 3.2 equivalents/
'10009, double bond content 1.8 equivalent i/1000!
111), 2 parts by weight of triphenylsulfonium hexafluoroandemonate, and 2 parts by weight of benzyl dimethyl ketal were mixed to obtain a photocurable composition (v) of the present invention.

実施例6 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル社製、商
品名エピコート828)40重量部と脂環族エポキシ樹
脂である3、4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシカルボキシレート(UCC社製、商品名E
RL−4221)40重量部、アクリル酸ブチル63.
6重量%、ヒドロキシエチルメタクリレート13重量%
及びアクリル酸14.4重量%からなる共重合体に、ア
クリル酸と等量のグリシジルアクリレートを反応させて
得た化合物(01−1含有量2.5g当量/’1000
g、二重結合含有量1.5g当量/”1000!7)2
0重量部、 トリフェニルスルフオニウムヘキサフルオ
ロアンチモネ−ト2重量部およびベンジルジメチルケタ
ール2重量部を混合して本発明の光硬化性組成物(VT
)を得た。
Example 6 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name Epicote 828) and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3, which is an alicyclic epoxy resin.
4-Epoxycarboxylate (manufactured by UCC, trade name E
RL-4221) 40 parts by weight, butyl acrylate 63.
6% by weight, 13% by weight of hydroxyethyl methacrylate
A compound obtained by reacting an equivalent amount of glycidyl acrylate with acrylic acid and a copolymer consisting of 14.4% by weight of acrylic acid (01-1 content: 2.5g equivalent/'1000
g, double bond content 1.5g equivalent/”1000!7)2
The photocurable composition of the present invention (VT
) was obtained.

実施例7 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル社製、商
品名エピコート828)40重量部および脂環族エポキ
シ樹脂である3、4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシシクロヘキザン力ルポキシレー) (
UCC社製、商品名ERL−4221)40重量部とア
クリル酸エチル64.4重量%、グリシジルメタクリレ
ート28.4重量%及びヒドロキシプロピルメタクリレ
ート7.2重量%からなる共重合体にグリシジル基の1
/′2当量に相当するアクリル酸を反応させて得た化合
物(OH含有量1.4当量/’1000り、二重結合含
有量0.93当iH/’1000!l’)20Iit部
、)リフェニルスルフォニウムへキザフルオロアンチモ
ネート2重量部及びベンジルジメチルケタール2重量部
を混合し本発明の光硬化組成物(■)を得た。
Example 7 40 parts by weight of bisphenol A epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name Epicote 828) and alicyclic epoxy resin 3,4-epoxycyclohexylmethyl-
3,4-epoxycyclohexane (3,4-epoxycyclohexane) (
A copolymer consisting of 40 parts by weight of ERL-4221 (manufactured by UCC, trade name), 64.4% by weight of ethyl acrylate, 28.4% by weight of glycidyl methacrylate, and 7.2% by weight of hydroxypropyl methacrylate, and 1% of the glycidyl group
A compound obtained by reacting acrylic acid equivalent to /'2 equivalents (OH content 1.4 equivalents/'1000, double bond content 0.93 equivalents iH/'1000! l') 20 Iit parts,) 2 parts by weight of liphenylsulfonium hexafluoroantimonate and 2 parts by weight of benzyl dimethyl ketal were mixed to obtain a photocurable composition (■) of the present invention.

実施例8 実施例1〜7で得た、本発明の光硬化組成物(I)〜(
■)を各々、0.5mmの厚さの亜鉛メッキ鋼板に膜厚
が 25μになるように塗布し、高圧水銀燈(8ow/
=)4灯の下、(ランプと被塗物の距離は15c/rL
)を、通過せしめ、表面のベタツキが完全に消える時の
通過速度(m7分)を硬化性として表Iに示した。
Example 8 Photocurable compositions (I) to (I) of the present invention obtained in Examples 1 to 7
■) was applied to a 0.5 mm thick galvanized steel plate to a film thickness of 25 μm, and a high-pressure mercury lamp (8 OW/W) was applied.
=) Under 4 lamps (distance between lamp and object is 15c/rL)
), and the passing speed (m7 minutes) at which the stickiness on the surface completely disappears is shown in Table I as the curability.

通過速度5m/分の時の耐衝撃性及び耐ツメキズ性を表
■に併せて表示した。
The impact resistance and scratch resistance at a passing speed of 5 m/min are also shown in Table 3.

比較例】 実施例6で用いたビスフェノールA型エポキシ樹脂(油
化シェル社製、商品名エピコート828)50重量部、
3,4−エポキシシクロへキシルメチル−3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート50重量部及びト
リフェニルスルフオニウムへキサフルオロアンデモネー
ト2重量部を混合し、比較例である光硬化組成物(■)
を得た。
Comparative Example] 50 parts by weight of the bisphenol A epoxy resin used in Example 6 (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name Epicote 828),
50 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate and 2 parts by weight of triphenylsulfonium hexafluoroandemonate were mixed to prepare a photocurable composition (■) as a comparative example.
I got it.

比較例2 実施例1に示す三官能型ポリプロピレングリコール(平
均分子量672)1モルとアクリル酸3モルのエステル
化物 100重量部にベンゾインイソブチルエーテル2
重量部を混合し、比較例である光硬化組成物(rX)を
得た。
Comparative Example 2 Esterified product of 1 mole of trifunctional polypropylene glycol (average molecular weight 672) shown in Example 1 and 3 moles of acrylic acid 2 parts by weight of benzoin isobutyl ether
Parts by weight were mixed to obtain a photocurable composition (rX) as a comparative example.

比較例3 実施例1で用いたビスフェノールA型エポキシ樹脂(油
化シェル社製、商品名エピコート828)60重量部と
三官能型ポリプロピレングリコール(平均分子量672
)40重量部及びトリフェニルスルフオニウムヘキサフ
ルオロアンチ上ネート2重量部を混合し、比較例の光硬
化組成物(X)を得た。
Comparative Example 3 60 parts by weight of the bisphenol A epoxy resin used in Example 1 (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name Epicote 828) and trifunctional polypropylene glycol (average molecular weight 672)
) and 2 parts by weight of triphenylsulfonium hexafluoroantisupernate were mixed to obtain a photocurable composition (X) of a comparative example.

比較例4 比較例1〜3によって得た光硬化性組成物(Vlll)
〜(X)  を各々実施例1と全く同様にして、塗布、
光硬化せしめた。その評価結果を表Iに記載する。
Comparative Example 4 Photocurable compositions obtained in Comparative Examples 1 to 3 (Vllll)
~(X) were applied in exactly the same manner as in Example 1,
Light-cured. The evaluation results are listed in Table I.

(註) ※1:硬化性は、実施例8に示した条件で光硬化を行い
、ベタツキが完全に消える時の塗板のランプ下の通過速
度(m/分)で表示した。
(Note) *1: Curability was expressed as the passing speed (m/min) of the coated plate under the lamp when the stickiness completely disappeared after photocuring was carried out under the conditions shown in Example 8.

※2:実施例8の条件で光硬化した塗膜をツメでひつか
き表面にキズが発生するか否かを判定した。
*2: The coating film photocured under the conditions of Example 8 was scratched with a fingernail to determine whether or not scratches were generated on the surface.

※3:耐衝撃性は、デュポン式衝撃試験機で500りの
荷重を落下させ(撃芯径1/2インチ)、塗面のワレを
発生する落下距離で表示した。
*3: Impact resistance was measured by dropping a load of 500 kg using a DuPont impact tester (striking core diameter 1/2 inch) and expressing the drop distance at which cracks occurred on the painted surface.

特許出願人 三井東圧化学株式会社 19−patent applicant Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. 19-

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1) (A)多価エポキシ樹脂40〜90重量%、(B
)不飽和二重結合およびヒドロキシル基を含有する化合
物60〜10重量%(但し、(A)及び(B)の合計量
を100重量%とする。)、(C) ) IJアリール
スルホニウム錯塩及び(D)光又は熱によってラジカル
を発生する開始剤からなる光硬化性組成物。
1) (A) 40 to 90% by weight of polyvalent epoxy resin, (B
) 60 to 10% by weight of a compound containing an unsaturated double bond and a hydroxyl group (however, the total amount of (A) and (B) is 100% by weight), (C) ) IJ arylsulfonium complex salt and ( D) A photocurable composition comprising an initiator that generates radicals when exposed to light or heat.
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